CN220827458U - 连续式真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了连续式真空镀膜设备。该设备包括进片室、出片室、搬送室和成膜室。进片室内设有第一载置机构，第一载置机构用于放置未镀膜的基板，第一载置机构能带动未镀膜的基板升降；出片室内设有第二载置机构，第二载置机构用于放置已镀膜的基板，第二载置机构能带动已镀膜的基板升降；搬送室内设有搬送组件，搬送组件能将未镀膜的基板由第一载置机构搬送至伞架的安装位或将安装位上的已镀膜的基板由伞架搬送至第二载置机构，搬送室设于进片室和出片室的上方；成膜室内设有伞架和镀膜源，伞架用于承载基板，且能自转。通过本实用新型，能在不破坏真空环境下，连续镀膜生产，提升效率。

Description

连续式真空镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及连续式真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得沉积薄膜的一种技术，真空镀膜可使物体表面具有独特性能，例如，真空镀膜能够大幅度提高材料的光学、电学和机械等方面的性能，从而显著提高产品质量和获得明显经济效益。

为了提高镀膜效率，一般需要进行连续式真空镀膜。

但是，现有的连续式真空镀膜设备往往难以在真空状态下对成膜室镀膜伞架上的镀膜基板进行上下片切换，进而造成镀膜效率低下，降低了镀膜生产连续性，且不利于提高镀膜品质。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供连续式真空镀膜设备，在不破坏真空环境下，连续进行上下片切换，提升镀膜生产效率。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

连续式真空镀膜设备，包括：

进片室，所述进片室内设有第一载置机构，所述第一载置机构上放置有未镀膜的基板，所述第一载置机构能带动所述未镀膜的基板升降；

出片室，所述出片室内设有第二载置机构，所述第二载置机构上放置有已镀膜的基板，所述第二载置机构能带动所述已镀膜的基板升降；

搬送室，所述搬送室内设有搬送组件和伞架，所述伞架能自转，所述搬送组件能将所述未镀膜的基板由所述第一载置机构搬送至所述伞架的安装位或将所述安装位上的所述已镀膜的基板由所述伞架搬送至所述第二载置机构；

成膜室，设于所述搬送室的下方，所述成膜室内设有第一挡板机构、第二挡板机构、电子枪发射器和用于盛放镀膜材料的坩埚台，所述第一挡板机构和第二挡板机构均能转动切换工作状态，所述第一挡板机构用于阻挡所述电子枪发射器激发的电子束附着在所述坩埚台上，所述第二挡板机构用于阻挡所述镀膜材料蒸发至所述伞架的基板上。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，所述第一载置机构包括多个第一载台，所述第一载台上设有未镀膜的基板，所述第一载台倾斜叠放，所述第一载台相对于水平面的倾斜角度与所述伞架的倾斜角度相同。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，第一驱动机构与所述第一载置机构驱动连接，所述第一驱动机构能带动所述第一载置机构沿竖直方向升降。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，所述第二载置机构包括多个第二载台，所述第二载台上设有未镀膜的基板，所述第二载台倾斜叠放，所述第二载台相对于水平面的倾斜角度与所述伞架的倾斜角度相同。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，第二驱动机构与所述第二载置机构驱动连接，所述第二驱动机构能带动所述第二载置机构沿竖直方向升降。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，所述搬送组件包括机械臂与所述机械臂驱动连接的第三驱动机构和第四驱动机构，所述第三驱动机构驱动所述机械臂转动，所述第四驱动机构能驱动所述机械臂沿竖直方向移动。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，所述伞架包括第五驱动机构和第六驱动机构和伞架主体，所述伞架主体用于放置所述基板，所述第五驱动机构能带动所述伞架主体转动，所述第六驱动机构能驱动所述伞架主体沿竖直方向移动。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，第七驱动机构与所述坩埚台连接，所述第七驱动机构能驱动所述坩埚台转动。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，第八驱动机构与所述第一挡板机构驱动连接，所述第八驱动机构能带动所述第一挡板机构沿竖直方向移动。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，第九驱动机构与所述第一挡板机构驱动连接，所述第九驱动机构能带动所述第一挡板机构转动，并选择性盖设在所述坩埚台上。

作为一种连续式真空镀膜设备的可选方案，第十驱动机构与所述第二挡板机构驱动连接，所述第十驱动机构能带动所述第二挡板机构转动并选择性盖设在所述镀膜材料上。

有益效果：

在本实用新型中，伞架上放置有基板，通过伞架的自转，能够提升基板镀膜的均匀性，当伞架上某一基板完成镀膜后，此时搬送室的搬送组件将已镀膜的基板从伞架的安装位取下，出片室与搬送室之间连通，搬送室和成膜室直接连通或选择性连通，都保持较高的真空状态，第二载置机构从出片室向上移动，搬送组件将已镀膜的基板放置在第二载置机构上，第二载置机构回退至出片室，此时，搬送组件归位，进片室内的第一载置机构带着未镀膜的基板上升靠近搬送室，搬送组件将未镀膜的基板由第一载置机构搬送至伞架的安装位，至此完成了基板的自动化取送过程；通过本设备能实现已镀膜基板和未镀膜基板之间的快速切换，同时在切换过程中，不会破腔，保证基板镀膜生产的连续性，提升镀膜效率。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的进片室和出片室的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的搬送室和成膜室的结构示意图。

图中：

1、进片室；11、第一载置机构；111、第一载台；12、第一驱动机构；

2、出片室；21、第二载置机构；211、第二载台；22、第二驱动机构；

3、搬送室；31、搬送组件；311、机械臂；312、第三驱动机构；313、第四驱动机构；32、伞架；321、第五驱动机构；322、第六驱动机构；323、伞架主体；

4、成膜室；41、第一挡板机构；42、第二挡板机构；43、电子枪发射器；44、坩埚台；45、第七驱动机构；46、第八驱动机构；47、第九驱动机构；48、第十驱动机构。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。

请参阅附图1-附图2，本实施例涉及一种连续式真空镀膜设备(以下简称“设备”)，设备包括进片室1、出片室2、搬送室3和成膜室4。进片室1内设有第一载置机构11，第一载置机构11上放置有未镀膜的基板，第一载置机构11能带动未镀膜的基板升降；出片室2内设有第二载置机构21，第二载置机构21上放置有已镀膜的基板，第二载置机构21能带动已镀膜的基板升降；搬送室3内设有搬送组件31和伞架32，伞架32能自转，搬送组件31能将未镀膜的基板由第一载置机构11搬送至伞架32的安装位或将安装位上的已镀膜的基板由伞架32搬送至第二载置机构21；搬送室3设于进片室1和出片室2的上方，成膜室4内设有成膜室4内设有伞架32和镀膜源，伞架32用于承载基板，且能自转。

在本实施例中，伞架32上放置有基板，通过伞架32的自转，能够提升基板镀膜的均匀性，当伞架32上某一基板完成镀膜后，此时搬送室3的搬送组件31将已镀膜的基板从伞架32的安装位取下，第二载置机构21从出片室2向上移动，搬送组件31将已镀膜的基板放置在第二载置机构21上，第二载置机构21回退至出片室2，此时，搬送组件31归位，进片室1内的第一载置机构11带着未镀膜的基板上升靠近搬送室3，搬送组件31将未镀膜的基板由第一载置机构11搬送至伞架32的安装位，至此完成了基板的自动化取送过程，在本实施例中出片室2与搬送室3之间连通，搬送室3和成膜室4直接连通或选择性连通，通过设置能够控制开关阀门来实现选择性连通，能保持较高的真空状态；通过本设备能实现已镀膜基板和未镀膜基板之间的快速切换，同时在切换过程中，不会破腔，保证基板镀膜生产的连续性，提升镀膜效率。

可选地，第一载置机构11包括多个第一载台111，第一载台111用于放置未镀膜的基板，第一载台111切斜叠放，第一载台111相对于水平面的倾斜角度与伞架32的倾斜角度相同。

可选地，第二载置机构21包括多个第二载台211，第二载台211用于放置已镀膜的基板，第二载台211倾斜叠放，第二载台211相对于水平面的倾斜角度与伞架32的倾斜角度相同。

在本实施例中，第一载台111用于叠放未镀膜的基板，第二载台211用于叠放已镀膜的基板，为了适应伞架32的倾斜结构，使第一载台111和第二载台211放置的角度与伞架32的倾斜角度相同，避免搬送过程中，还需要进一步通过搬送组件31来调整角度，在搬送的过程中，第一载台111和第二载台211作为基板的装载治具，随着基板被一同搬送。

进一步地，第一驱动机构12与第一载置机构11驱动连接，第一驱动机构12能带动第一载置机构11沿竖直方向升降；第二驱动机构22与第二载置机构21驱动连接，第二驱动机构22能带动第二载置机构21沿竖直方向升降。

在本实施例中，第一驱动机构12的驱动源设置在进片室1的外侧，防止对进片室1内部的真空环境产生影响，同理，第二驱动机构22的驱动源设置在出片室2的外侧，同时第一驱动机构12能直接驱动第一载置机构11沿竖直方向升降；第二驱动机构22能直接驱动第二载置机构21沿竖直方向升降，第一驱动机构12和第二驱动机构22的驱动源可以选用常规的驱动电机，传动机构可以选用涡轮蜗杆或者丝杠螺母，当然，第一驱动机构12和第二驱动机构22也可以直接采用直线电机。

可选地，搬送组件31包括机械臂311与机械臂311驱动连接的第三驱动机构312和第四驱动机构313，第三驱动机构312驱动机械臂311转动，第四驱动机构313能驱动机械臂311沿竖直方向移动。

在本实施例中，第三驱动机构312通过传动轴与机械臂311转动连接，第三驱动机构312的驱动源采用转动电机，第四驱动机构313可以直接采用直线电机或者通过转动电机和涡轮蜗杆配合传动，其中第三驱动机构312和第四驱动机构313的驱动源设置在搬送室3的外部，防止对搬送室3内部的真空环境产生影响。

可选地，伞架32包括第五驱动机构321和第六驱动机构322和伞架主体323，伞架主体323用于放置基板，第五驱动机构321能带动伞架主体323转动，第六驱动机构322能驱动伞架主体323沿竖直方向移动。

在本实施例中，第五驱动机构321通过传动轴带动伞架主体323转动，第五驱动机构321可以采用转动电机，第六驱动机构322可以直接采用直线电机或者通过转动电机和涡轮蜗杆配合传动，其中，第五驱动机构321和第六驱动机构322的驱动源置于搬送室3的外部，防止对搬送室3内部的真空环境产生影响。

可选地，成膜室4包括用于盛放镀膜材料的坩埚台44和第七驱动机构45，第七驱动机构45与坩埚台44连接，第七驱动机构45能驱动坩埚台44转动。在一些实施例中，坩埚台44整体呈圆盘形，在坩埚台44的周向上依次设有能够盛放镀膜材料的圆形放置槽，当某一放置槽内的镀膜材料消耗完全后，通过第七驱动机构45带动坩埚台44转动一定的角度，使下一个放置槽正对基板。第七驱动机构45的驱动源设于成膜室4的外部，防止对成膜室4内部的真空环境产生影响。第七驱动机构45直接通过传动轴与坩埚台44的轴心连接，从而带动坩埚台44转动。

可选地，成膜室4还包括第一挡板机构41、第八驱动机构46和第九驱动机构47，第一挡板机构41能转动切换工作状态，第一挡板机构41用于阻挡电子枪发射器43激发的电子束轰击到坩埚台44；第八驱动机构46能带动第一挡板机构41沿竖直方向移动，第九驱动机构47能带动第一挡板机构41转动，并选择性盖设在坩埚台44上。

可选地，成膜室4还包括第二挡板机构42和第十驱动机构48，第十驱动机构48能带动第二挡板机构42转动并选择性盖设在坩埚台44的镀膜材料上。

在本实施例中，第一挡板机构41和第二挡板机构42均能转动切换工作状态，第一挡板机构41用于阻挡电子枪发射器43激发的电子束附着在坩埚台44上，第二挡板机构42用于阻挡镀膜材料蒸发至伞架32的基板上。镀膜所用的材料位于成膜室4内，通过电子枪发射器43产生电子束轰击坩埚台44内的镀膜材料，使镀膜材料蒸发附着在基板表面，其中，第一挡板机构41位于电子枪发射器43上方，所产生的有效电子束能通过第一挡板机构41轰击在镀膜材料上，无效的电子束被第一挡板机构41阻挡，防止附着在坩埚台44上，使坩埚台44的寿命下降；在伞架32上的基板已达到要求的镀膜厚度后，为了快速切断镀膜材料向上的蒸发路径，将第二挡板机构42直接设置在镀膜材料于伞架32的基板之间，由于在连续镀膜过程中，当基板上镀膜厚度达到要求时，尽管操作人员可以立即关闭电子枪发射器43，但是镀膜材料的蒸发作用具有一定延迟性，仍然会向上蒸发继续附着在基板表面，为了避免由于镀膜材料的蒸发作用的延迟性而造成基板镀膜厚度超出要求，在第二挡板机构42可以在第十驱动机构48的作用下直接盖设在镀膜材料上，达到立刻切断镀膜材料的向上蒸发路径的作用，提升镀膜的质量。

第八驱动机构46的驱动源可以为直线电机或转动电机配合涡轮蜗杆带动第一挡板机构41沿竖直方向移动；第九驱动机构47可以选用转动电机通过传动轴带动，当第一挡板机构41长时间工作脏污后，可以转动切换并重新盖设在坩埚台44上。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.连续式真空镀膜设备，其特征在于，包括：

进片室(1)，所述进片室(1)内设有第一载置机构(11)，所述第一载置机构(11)用于放置未镀膜的基板，所述第一载置机构(11)能带动所述未镀膜的基板升降；

出片室(2)，所述出片室(2)内设有第二载置机构(21)，所述第二载置机构(21)用于放置已镀膜的基板，所述第二载置机构(21)能带动所述已镀膜的基板升降；

搬送室(3)，所述搬送室(3)内设有搬送组件(31)，所述搬送组件(31)能将所述未镀膜的基板由所述第一载置机构(11)搬送至伞架(32)的安装位或将所述安装位上的所述已镀膜的基板由所述伞架(32)搬送至所述第二载置机构(21)，所述搬送室(3)设于所述进片室(1)和所述出片室(2)的上方；

成膜室(4)，所述成膜室(4)内设有所述伞架(32)和镀膜源，所述伞架(32)用于承载基板，且能自转。

2.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述第一载置机构(11)包括多个第一载台(111)，所述第一载台(111)用于放置未镀膜的基板，所述第一载台(111)倾斜叠放，所述第一载台(111)相对于水平面的倾斜角度与所述伞架(32)的倾斜角度相同。

3.根据权利要求2所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，第一驱动机构(12)与所述第一载置机构(11)驱动连接，所述第一驱动机构(12)能带动所述第一载置机构(11)沿竖直方向升降。

4.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述第二载置机构(21)包括多个第二载台(211)，所述第二载台(211)用于放置已镀膜的基板，所述第二载台(211)倾斜叠放，所述第二载台(211)相对于水平面的倾斜角度与所述伞架(32)的倾斜角度相同。

5.根据权利要求4所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，第二驱动机构(22)与所述第二载置机构(21)驱动连接，所述第二驱动机构(22)能带动所述第二载置机构(21)沿竖直方向升降。

6.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述搬送组件(31)包括机械臂(311)与所述机械臂(311)能驱动连接的第三驱动机构(312)和第四驱动机构(313)，所述第三驱动机构(312)驱动所述机械臂(311)转动，所述第四驱动机构(313)能驱动所述机械臂(311)沿竖直方向移动。

7.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述伞架(32)包括第五驱动机构(321)和第六驱动机构(322)和伞架主体(323)，所述伞架主体(323)用于放置所述基板，所述第五驱动机构(321)能带动所述伞架主体(323)转动，所述第六驱动机构(322)能驱动所述伞架主体(323)沿竖直方向移动。

8.根据权利要求1所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述成膜室(4)包括用于盛放镀膜材料的坩埚台(44)和第七驱动机构(45)，所述第七驱动机构(45)与所述坩埚台(44)连接，所述第七驱动机构(45)能驱动所述坩埚台(44)转动。

9.根据权利要求8所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述成膜室(4)包括第一挡板机构(41)、第八驱动机构(46)和第九驱动机构(47)，所述第一挡板机构(41)能转动切换工作状态，所述第一挡板机构(41)用于阻挡电子枪发射器(43)激发的电子束轰击到所述坩埚台(44)；所述第八驱动机构(46)能带动所述第一挡板机构(41)沿竖直方向移动，所述第九驱动机构(47)能带动所述第一挡板机构(41)转动，并选择性盖设在所述坩埚台(44)上。

10.根据权利要求8所述的连续式真空镀膜设备，其特征在于，所述成膜室(4)还包括第二挡板机构(42)和第十驱动机构(48)，所述第十驱动机构(48)能带动所述第二挡板机构(42)转动并选择性盖设在所述坩埚台(44)的镀膜材料上。