CN107810288A - 用于基板的自锁保持器 - Google Patents

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CN107810288A CN201580081234.6A CN201580081234A CN107810288A CN 107810288 A CN107810288 A CN 107810288A CN 201580081234 A CN201580081234 A CN 201580081234A CN 107810288 A CN107810288 A CN 107810288A
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安德烈·布鲁宁
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Abstract

描述了经构造以附接到载体主体(160)以用于保持基板(101)的保持器(200)。保持器(200)包括具有第一倾斜表面(212)的第一部分(210),所述第一部分(210)经构造以附接到载体主体(160);第二部分(220),所述第二部分(220)经构造而在至少一个方向(X)上相对于第一部分(210)是可移动的。第一倾斜表面(212)相对于待加载的基板(101)以第一角度(α)倾斜。

Description

用于基板的自锁保持器
技术领域
本公开的实施方式涉及用于在处理(例如,用于层沉积)期间保持基板的保持器。本公开的实施方式具体涉及经构造而附接到载体的载体主体以用于在真空层沉积期间保持基板的保持器。
背景技术
已知用于在基板上沉积材料的若干种方法。例如,可以通过物理气相沉积(PVD)工艺、化学气相沉积(CVD)工艺、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺等来涂布基板。通常,所述工艺在处理设备或处理腔室中进行,待涂布的基板位于所述处理设备或处理腔室中。在所述设备中提供沉积材料。多种材料,也可以是所述多种材料的氧化物、氮化物或碳化物,可以用于沉积在基板上。此外,可以在处理腔室中进行其它处理动作,例如蚀刻、结构化、退火或类似处理动作。
涂布的材料可以用于若干应用中和若干技术领域中。例如,在微电子领域的应用中,诸如生成半导体器件。此外,用于显示器的基板通常通过PVD工艺涂布。另外的应用包括绝缘板、有机发光二极管(OLED)面板、具有TET的基板、滤色器或类似应用。
通常,玻璃基板可以在玻璃基板处理期间被支撑在载体上。载体支撑玻璃或基板并经由处理机器被驱动。也就是说,载体驱动玻璃或基板。载体通常形成框架或板,所述框架或板沿着其周边支撑基板的表面,或者在后一种情况下,如此支撑表面。具体地,也可以使用框架形的载体来掩蔽玻璃基板,其中由框架围绕的载体中的孔隙提供以下孔隙:用于在被该孔隙暴露的基板部分上涂布待沉积的材料的孔隙,或用于在由该孔隙暴露的基板部分的作用其它处理步骤的孔隙。
为了将基板固定在载体中,可以使用不同的保持布置,例如玻璃保持器。最简单的保持器是适当弯曲的板簧(flat spring)。这种类型的弹簧需要从载体/玻璃的前侧作用以打开它的推动器。因此,需要在载体主体中的孔。在处理期间,涂层材料穿过所述孔,这产生了弯曲的板簧的涂层。当插入推动器以打开保持器时,涂层被从弯曲的板簧上刮掉,从而产生妨碍涂层品质的颗粒。避免微粒产生是针对顾客的考虑。从载体的背侧操作的其它已知的保持器在制造和维护方面是非常昂贵的。
鉴于上述,提供一种保持器,特别是一种经构造而附接到载体主体以用于保持基板并克服本领域中的至少一些问题的保持器是有益的。
发明内容
鉴于上述情况,提供了分别根据独立权利要求1和11所述的经构造而附接到载体主体以用于保持基板的保持器,根据权利要求12所述的载体,以及根据权利要求14所述的用于将基板固定在具有载体主体的载体中的方法。本公开内容的其它方面、优点和特征从从属权利要求、描述和附图中显而易见。
根据一个实施方式,提供了一种经构造而附接到载体主体以用于保持基板的保持器。保持器包括具有第一倾斜表面的第一部分,所述第一部分经构造而附接到载体主体;以及第二部分,所述第二部分经构造在至少一个方向上相对于第一部分是可移动的,其中第一倾斜表面相对于待加载的基板以第一角度倾斜。
根据另一实施方式,提供了一种经构造而附接到载体主体以用于保持基板的保持器。所述保持器包括具有第一倾斜表面和阶梯表面的U形第一部分,所述U形第一部分经构造而附接到载体主体,所述阶梯表面面向第一倾斜表面并且经构造以用于支撑待加载的基板;以及第二部分,所述第二部分具有第二倾斜表面和接触表面,所述第二部分在从打开位置到夹持位置的一个方向上相对于第一部分是可移动的,所述第二倾斜表面面向第一倾斜表面,所述接触表面面向阶梯表面,其中所述第一倾斜表面和所述第二倾斜表面相对于所述接触表面以某一角度倾斜,所述角度等于7°,并且其中所述保持器经构造用于将基板自锁在夹紧位置。
根据另一方面,提供了一种包括至少一个保持器的载体。所述至少一个保持器包括具有第一倾斜表面的第一部分,所述第一部分经构造而附接到载体主体;以及第二部分,所述第二部分经构造在至少一个方向上相对于第一部分是可移动的,其中所述第一倾斜表面相对于待加载的基板以第一角度倾斜。
根据又一个方面,提供了一种用于将基板固定在具有载体主体的载体中的方法。所述方法包括:将基板加载到载体上;相对于载体主体朝向所加载的基板移动至少一个保持器,所述至少一个保持器包括第一部分和第二部分;以及通过在至少一个方向上朝向基板移动至少一个保持器的第二部分,来用所述至少一个保持器夹持基板。
附图说明
因此,以可以详细地理解本公开内容的上述特征的方式,可以通过参考实施方式提供对简要概述于上的本公开内容的更具体描述。附图涉及本公开的实施方式,并描述如下:
图1A、图1B、图1C和图1D示出了根据本文所述的实施方式的载体,每一个载体具有至少一个保持器;
图2示出了根据本文所述的实施方式的保持器;
图3A、图3B和图3C示出了根据本文所述的实施方式的保持器,具体而言所述保持器位于夹持基板的处理过程中的不同位置处;
图4示出了根据本文所述的实施方式的保持器200;
图5A、图5B和图5C示出了根据本文所述的实施方式的保持器,具体而言所述保持器位于夹持基板的处理过程中的不同位置处;
图6示出了根据本文所述的实施方式用于将基板固定在具有载体主体的载体中的方法的流程图;以及
图7示出了根据本文所述的实施方式的沉积腔室的示意图。
具体实施方式
现在将详细参考本公开内容的各种实施方式,所述实施方式的一个或多个示例在附图中示出。在附图的以下描述中,相同的附图标记表示相同的部件。通常,仅描述个别实施方式的差异。各示例是通过对本公开内容进行说明的方式提供的,并且并非意味着对本公开内容的限制。此外,作为一个实施方式的一部分示出或描述的特征可以在其它实施方式上使用或与其它实施方式结合使用以产生另一实施方式。描述旨在包括这样的修改和变化。
根据本文描述的实施方式,提供了包括至少一个保持器的载体。所述至少一个保持器经构造以通过自锁机构保持或夹持基板。通过自锁机构,可以在小夹持表面上实现高夹持力,同时将相对较小的力施加至保持器。保持器提供具有第一部分和第二部分的两部分主体,所述第二部分经构造而相对于第一部分是可移动的。所述两部分主体提供了在相对较低的施加力下的高夹持能力。
根据在此描述的实施方式,载体包括至少一个保持器。每个保持器包括具有第一倾斜表面的第一部分,所述第一部分经构造而附接到载体主体;第二部分,所述第二部分经构造在至少一个方向上相对于第一部分是可移动的,其中所述第一倾斜表面相对于待加载的基板以第一角度α1倾斜。此外,力布置(force arrangement),例如至少一个弹簧元件或至少一个气缸或类似元件,被提供并且经构造以沿着至少一个方向推动第二部分。力布置和第二部分相对于第一部分的相对运动结合第一倾斜表面来提供用于夹持基板的高夹持力。
根据可与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,基板厚度可为0.1mm至1.8mm,并且保持器可适用于这种基板厚度。虽然当基板厚度为约0.9mm或更小(诸如0.7mm或0.5mm或0.3mm)并且保持器特别适用于这种基板厚度时可能是特别有利的,但是本领域的技术人员将会理解,保持器也可以适用于更小或更大的基板厚度。
根据可与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,大面积基板可具有至少0.174m2的尺寸。典型地,所述尺寸可以是约1.4m2至约8m2,更典型地约2m2至约9m2或甚至高达12m2。典型地,用于根据本文所述的实施方式的掩模结构、设备和方法而提供的矩形基板是如本文所述的大面积基板。例如,大面积基板可以是GEN 5,对应于约1.4m2基板(1.1m×1.3m);GEN 7.5,对应于约4.39m2基板(1.95m×2.25m);GEN 8.5,对应于约5.5m2基板(2.2m×2.5m);或者甚至GEN 10,对应于约8.7m2基板(2.85m×3.05m)。可以类似地实施甚至更大的世代(诸如GEN 11和GEN 12)以及相应的基板面积。然而,本领域技术人员可以理解,保持器可以用于任何基板尺寸,即甚至是比如上所述的更小或更大的基板尺寸。
通常,基板可以由适合于材料沉积的任何材料制成。例如,基板可由从以下项组成的组中选择的材料制成:玻璃(例如钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃等)、金属、聚合物、陶瓷、复合材料、碳纤维材料或任何其它材料或上述材料的组合,这些材料可以通过沉积工艺进行涂布。
图1A至图1D示出了根据本文所述的实施方式的载体100,每个载体具有至少一个保持器200。
图1A示出了载体100。载体100经构造以用于支撑基板101。如图1A所示,在载体100内的某一位置处提供基板101,特别是在处理腔室中被处理时。载体100包括界定窗口或孔隙的框架或载体主体160。根据典型的实现方式,载体主体160提供基板接收表面。通常,基板接收表面经构造以在操作期间(即当基板101被加载时)与基板的周边部分接触。
根据可以与在此所述的其它实施方式组合的一些实施方式,载体主体160可以由铝、铝合金、钛、钛合金、不锈钢或类似材料制成。对于比较小的大面积基板,例如GEN 5或更低世代,载体160可由单件制成,即框架是整体形成的。然而,根据可与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,载体主体160可包括两个或更多个元件,诸如顶槛、侧槛和底槛。具体地对于非常大面积的基板,载体或载体主体可以被制造成具有若干个部分。载体的这些部分被组装以提供用于支撑基板101的载体主体160。载体主体160经特别构造以用于在基板区域中接收基板101。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,载体100包括至少一个保持器200。如图1A中的箭头所示,至少一个保持器200可以可基本上平行于基板区域(即基本上平行于基板101的表面)并且沿着载体主体160移动的方式附接或联接到载体主体160。此附接方式允许根据例如工艺条件、待涂布的面积等,将保持器200定位在载体主体160的不同位置处,例如在基板101的任何边缘位置处。
在图1A所示的示例中,可以在载体主体160的上侧或顶侧(框架元件)处提供两个保持器200。虽然在图1中示出了两个保持器200,但是本案实施方式不限于此。可以在载体主体160的不同位置处提供两个以上的保持器200。例如,可以在载体主体160的角落区域中提供两个或更多个保持器200中的至少一个。此外,可以在载体主体160的一侧上,即在基板101的每一侧上,提供多于一个保持器200。
图1B示出了其中在载体主体160的左侧提供两个保持器200并且在载体主体160的右侧提供两个保持器200的示例。通过在载体主体160的一侧提供多于一个保持器200和/或在载体主体160的多于一侧处提供至少一个保持器200,可以增加基板101被保持在载体100中的稳定性。
在图1C所示的示例中,沿着载体主体160的每侧提供和/或分布有至少一个保持器200。具体地,在载体主体160处提供有保持器200的位置可以围绕基板101的周边分布。此外,可以沿着基板101的周边均匀地分布至少两个保持器200。例如,可以沿基板101的周边每300mm至每1000mm提供一个保持器200,例如围绕基板101的边缘每300mm至800mm。此外,保持器200可以在成对的位置中提供。具体地,一对保持器200可以在一个位置处彼此相邻地提供,而这对保持器200之间的距离小于到不是这对的组成部分的另一个保持器200的距离。此外,这对保持器200可以以使得这对保持器200相对于载体主体160可一起移动的方式附接或固定到载体主体160。
图1D示出了其中在载体主体160的上侧处提供至少一个保持器200的示例。此外,基板101可以放置在载体主体160的下侧处,即,基板101的下侧可以与载体主体160的下侧接触。根据可与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,载体主体160包括第一侧、第二侧、第三侧和第四侧。至少一个保持器200可以布置在载体主体160的第一侧处。当载体100和/或载体主体160被布置在加载位置时,第一侧(本文也被称为上侧或顶侧)可以相对于重力而被布置在比第二侧、第三侧和第四侧更高的位置。此外,基板101的边缘可以被放置在载体主体160的第四侧上,所述第四侧(本文也被称为下侧或底侧)可以相对于重力而被布置在比第一侧、第二侧和第三侧更低的位置。
图2示出了根据本文所述的实施方式的保持器200。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,保持器200经构造而附接到载体主体160以用于保持基板101。保持器200包括第一部分210和第二部分220。第一部分210经构造而附接到载体主体160,具体地如上所述。第一部分210包括倾斜表面212或第一倾斜表面212。第一倾斜表面212相对于待加载的基板101以第一角度α1倾斜。第二部分220经构造在至少一个方向X上相对于第一部分210是可移动的。
具体地,第二部分220可以经构造以朝向待加载的基板101移动(参见下面的图3A至图3C)。通常,第二部分220可经构造以在垂直于待加载的基板101的边缘(参见下面的图3A至图3C)或载体主体160的方向上相对于第一部分210是可移动的。
在本申请的上下文中,本领域的技术人员可以将“垂直于......的方向”或“与......平行的方向”可理解为包括垂直于、分别平行于参照对象的方向分量或主方向。因此,横向或者逼近(oblige)此对象的方向也可以被理解为被这样的术语所包含,具体地只要横向和/或倾斜方向包括这样的方向分量和/或主方向即可。
根据可与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,第二部分220可在至少一个方向X上移动,直到第二部分220抵靠第一倾斜表面212。也就是说,第二部分220可以以下方式形成:第二部分220可以相对于第一部分210移动,直到第二部分220的表面与第一倾斜表面212接触。
根据可以与本文描述的其它实施方式组合的一些实施方式,第二部分220包括第二倾斜表面222。第二倾斜表面222可以面向第一倾斜表面212。此外,第二倾斜表面222可以相对于待加载的基板101以第二角度α2倾斜。在这种情况下,第二部分220可在至少一个方向X上移动,直到第二倾斜表面222抵靠第一倾斜表面212。因此在第一部分210和第二部分220之间提供接触的表面积可被增加,从而当第二部分220相对于第一部分210移动直到第二部分220抵靠第一部分210时,在第一部分210与第二部分220之间提供增加的接触面积。通过以相同的角度提供第一倾斜表面212和第二倾斜表面222,可以进一步提高这种效果。根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,第一角度α1和第二角度α2彼此相等。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,第一角度α1等于或小于10°,典型地等于或小于8°,和/或等于或大于4°,典型地等于或大于6°。具体地,第一角度α1等于7°。根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,第二角度α2等于或小于10°,典型地等于或小于8°,和/或等于或大于4°,典型地等于或大于6°。具体地,第二角度α2等于7°。
如图2的示例中所示,第一部分210可以经构造以提供用于接纳第二部分220的至少一部分的接纳空间。接纳空间可以形成为具有大致u形形状。在此上下文中,“大致U形的”或具有“大致U形形状”可以被理解为由具有开口的三个内表面或边界表面形成。例如,第一部分210可以包括面向第一倾斜表面212的阶梯表面214。此外,第一部分210可以包括连接第一倾斜表面212与阶梯表面214的第一连接表面216。第一倾斜表面212、阶梯表面214和第一连接表面216可以提供第一部分210的接纳空间的边界表面或内表面。此外,与连接表面216相对的接纳空间或第一部分210的一部分可以配置有开口,通过所述开口,第二部分220或第二部分220的一部分可以被接纳进或插入进入第一部分210中,具体地是被接纳进或插入进入第一部分210的接纳空间中。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,阶梯表面214经构造以用于支撑待加载的基板101。根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,阶梯表面214包括具有高度h的阶梯部分,所述高度h等于待加载的基板101的厚度d。阶梯表面可以因此包括布置在不同高度处并由阶梯部分分开的两个表面区段。这两个表面区段中的一个可以连接到第一连接表面216。这两个表面区段中的另一个可以为基板101提供支撑。通过提供具有与基板10的厚度d相同的高度h的阶梯部分,基板101的与阶梯表面214相对的表面和连接到连接表面216的阶梯表面216的表面区段可以在相同的高度处被提供。根据本文所述的实施方式,阶梯表面214可以与加载的基板101一起为第二部分220提供滑移(gliding)表面,所述滑移表面将进一步在下文中描述。
如图2的示例中所示,第二部分220可以具有铅笔形的横截面。例如,第二部分220可以包括与第一倾斜表面212相对的接触表面224。具体地,接触表面224可以被提供为与第二倾斜表面222相对。此外,第二部分220可以包括连接第二倾斜表面222与接触表面224的第二连接表面226。第二倾斜表面222、接触表面224和第二连接表面226可以提供第二部分220的一部分的边界表面或周边,具体地,是可以至少部分地容纳在第一部分210的接纳空间中的第二部分220的部分的边界表面或周边。
如图2的示例所示,接触表面224可以面向第一部分210的阶梯表面214。此外,第二连接表面226可以面向第一连接表面216。如将在下文进一步详细描述的,当第二部分220相对于第一部分210移动时,第一连接表面216和第二连接表面226之间的间隙的尺寸可以变化。具体地,当第二部分220在方向X上朝向基板101移动时,即离开第一部分210的接纳空间时,第一连接表面216与第二连接表面226之间的间隙可能变大。
将保持器200的第二部分220的位置作为参考点,第二部分220相对于第一部分210朝向基板101的移动可以被等同地或替代地理解为第二部分220相对于第一部分210远离保持器200的第一部分210附接到载体主体160那一部分的移动。
此外,在本申请的上下文中,“倾斜表面”可被理解为包括至少一个倾斜表面区段的表面,所述倾斜表面区段相对于参照对象以某一角度倾斜。也就是说,“倾斜表面”可以相对于参照对象如此倾斜,如例如在图2的示例中关于第一倾斜表面212所示。然而,“倾斜表面”也可以被理解为包括至少两个表面区段的表面,其中,在这些区段中只有一个区段相对于参照对象倾斜,如例如在图2的示例中关于第二倾斜表面222所示。其中,第二倾斜表面222可以包括第一表面区段222a和第二倾斜表面区段222b,第一表面区段222a可以相对于待加载的基板101没有倾斜,第二倾斜表面区段222b可以相对于待加载的基板101以第二角度α2倾斜。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,保持器200还包括基板接纳空间230。基板接纳空间230可以有利于基板加载。基板接纳空间230可以由第一部分210和第二部分220形成。具体地,基板接纳空间230可以由第一部分210的阶梯表面214(特别是阶梯表面214的未连接到第一连接表面216的表面区段)以及第二部分220的延伸表面225形成。所述延伸表面可以是接触表面的延伸部,具有原理阶梯表面214而突出的以打开基板接纳空间230的表面区段以及将基板接纳空间230朝向第二部分220限定的另一个表面区段。
基板接纳空间230的宽度w可大于基板101的厚度d。宽度w可以被理解为阶梯表面214和如上所述的另一表面区段之间的距离。具体地,取决于基板101的厚度d,宽度w可以在从0.4mm到8mm的范围内。具体地,宽度w可以是基板101的厚度d的2至8倍,特别地是3至5倍,典型地是4倍。例如,对于厚度d为约0.3mm的基板101,宽度w可为约1.2mm。
图3A至图3C示出了根据本文所述的实施方式的保持器200,具体地图3A至图3C示出了根据本文所述的实施方式在夹持基板101的处理过程中处于不同位置的保持器200。
上述保持器200可以包括第一部分210,所述第一部分210经构造以用于提供用于接纳第二部分220的至少一部分的接纳空间。所述接纳空间可以配置有至少一个倾斜表面212。第一部分210和第二部分220中的至少一个可以经构造而相对于彼此是可移动的。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,第一部分210和第二部分220经构造以通过自锁机构来保持基板101。术语“自锁”或“自锁机构”可以由本领域的技术人员理解为在关闭时自动锁定的机构。因此,当第二部分220已经相对于第一部分210移动到第二部分220抵靠第一部分210,特别是抵靠第一部分210的第一倾斜表面212时的位置可以被称为闭合位置或夹持位置(更多细节请参见图3C和图5C)。
具体地,本领域技术人员可以认识到,“自锁”可以描述由于两个相邻物体的滑动或滑移摩擦阻力引起的这两个相邻物体的锁定效果。一旦超过静摩擦,物体不再是自锁的。自锁可以被认为受到例如接触表面的倾斜角度和表面粗糙度的影响。具体地,为了实现自锁,可以使倾斜角度小于静摩擦系数的反正切。
如图3A的示例所示,保持器200的第一部分210可以进一步包括外表面218。外表面218可以邻近用于接纳第二部分220的接纳空间而被布置。也就是说,外表面218可以不布置在接纳空间中。具体地,外表面218可以连接到第一倾斜表面212。此外,外表面218可以面向第二部分220的相对表面228。第二部分的相对表面228可以通过以下方式连接到第二倾斜表面222:使得第二部分220的由相对表面228约束的部分和第二部分220的由第二倾斜表面222、接触表面224和第二连接表面226约束的部分可以是L形的。此外,保持器200可以通过连接构件250联接(couple)或连接(connect)到载体100的载体主体160。
图3A的示例示出了处于加载位置或打开位置的保持器200,即当保持器200不夹持基板101时。在此位置,第二部分220被插入或容纳在第一部分210的接纳空间中。在图3A的示例中,第一连接表面216与第二连接表面226之间的间隙相当小。此外,接触表面224可以面向阶梯表面214的连接到第一连接表面216的表面区段。具体地,连接表面可以被提供或布置在阶梯部分的与第一连接表面216连接的一侧,即在接纳空间中比阶梯部分更深。
图3A的示例进一步示出了基板101。如上所述,基板101可能已经被加载到载体100上。在图3A所示的示例中,基板101处于远离保持器200的远端位置,即不与保持器200接触。
图3B的示例示出了处于保持器200已经朝向基板101接近的状态下的保持器200,即当保持器200已经朝向基板101移动时。具体地,保持器200可以朝向基板101移动,直到基板101抵靠第一部分210的阶梯表面214的阶梯部分。此外,基板101可以通过以下方式由阶梯表面支撑:使得基板101的表面和阶梯表面214的面向第二部分220的接触表面224的表面区段形成了用于第二部分220的滑移表面。具体地,阶梯表面214的面向接触表面224的表面区段和基板101的上述表面可以处于相同的高度。例如,当阶梯部分的高度h等于基板101的厚度d时,可以实现所述整平(leveling)。
在保持器200朝向基板101移动期间,在基板101抵靠阶梯表面214的阶梯部分之前,基板101可被接纳或插入到基板接纳空间230中。通过提供具有比阶梯部分的高度h更大的宽度w的基板接纳空间,保持器200可经构造而具有用于插入基板101的间隙或容限空间。根据一些实施方式,可以补偿保持器200相对于基板101的位置偏差。
图3C的示例示出了处于夹持位置的保持器200,即当保持器200夹持基板101时。为了夹持可能已经事先加载到载体100或载体主体160上的基板101,第二部分220可以至少在X方向上相对于第一部分210移动,特别地朝向基板101移动。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,保持器200进一步包括力布置240。例如,力布置240可以包括至少一个弹簧元件或至少一个气缸。根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,力布置240经构造以在第一部分210和第二部分220之间施加力来相对于第一部分210将第二部分220从如图3A和图3B所示的加载位置移动到如图3C所示的夹持位置。
具体地,力布置240可以相对于第一部分210的接纳空间在向外的方向上移动或推动第二部分220。例如,力布置240可以在至少一个方向X上移动第二部分220,直到第二部分220抵靠第一倾斜表面212。在图3C所示的示例中,力布置240在至少一个方向X上移动或推动第二部分220,直到第二部分220的第二倾斜表面222与第一部分210的第一倾斜表面212接触。
在第二部分220在至少一个方向X上相对于第一部分210的上述移动期间,第二部分220的接触表面224从如图3B所示的面向阶梯表面214的连接到第一连接表面216的表面区段的位置移动到面向阶梯表面214的另一个表面区段的位置。具体地,通过将阶梯表面214的阶梯部分提供为具有与基板101的厚度d相同的高度h,接触表面224可以平滑地从阶梯表面214滑移到基板101。
力布置240在第一部分210和第二部分220之间施加力以在方向X上相对于第一部分210移动第二部分220。在所述移动期间,第二部分220与第一部分210的第一倾斜表面212接触。由于第一倾斜表面212以角度α1倾斜,所以沿着方向X施加的力被传递到沿着方向Y作用的力,方向Y可以与方向X正交。因此,第二部分220,具体是第二部分220的接触表面224,可以被推抵在基板101上以将基板101夹持在保持器200中。具体地,方向Y可以垂直于基板101的表面。
根据可与本文所述的其它实施方式结合的一些实施方式,在操作期间,即当基板101由载体100承载时,基板101插置或夹在第一部分210的阶梯表面214与第二部分的接触表面224之间。基板101的边缘(例如侧面)可以接触阶梯表面214的阶梯部分。基板101可以被夹持在限定的位置中。根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,第二部分220的移动方向是在至少一个方向X上,即朝向基板101。根据一些实施方式,第二部分220相对于第一部分210的移动方向可以替代地或另外地也垂直于基板101的抵靠阶梯表面214的阶梯部分的边缘,和/或平行于基板的平面。
如上所述,保持器200可以使用或应用自锁机构来夹持或保持基板101。根据本文所述的一些实施方式,可以使用适度的弹簧力在小夹持表面上(即对应于接触表面224)实现高夹持力。也就是说,可以实现与由力布置240施加的力相比较高的夹持力。
在图3A至图3C的示例中,力布置240被示出为布置在第一部分210的外表面218和第二部分的相对表面228之间。本领域的技术人员将会理解,本公开不限于此。例如,力布置240可以提供在第一部分210或第二部分220中以施加力,例如在第一连接表面216和第二连接表面226之间。因此,本公开涵盖力布置240的任何这种变型。
图4示出了根据本文所述的实施方式的保持器200。
根据图4所示的示例,保持器200可以进一步包括引导装置260。引导装置260可以为第二部分220相对于第一部分210的移动提供引导。具体地,引导装置260可确定第二部分220可相对于第一部分210移动所沿的方向。根据在此所述的实施方式,可以提供第二部分220相对于第一部分210的平滑移动。
图4的示例进一步示出了加载装置300。根据可以与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式,加载装置300经构造用于在加载期间将保持器200保持在加载位置。具体地,保持装置300可将第一部分210和第二部分220保持在一起,即可以将第二部分220保持在使第一连接表面216与第二连接表面226之间的间隙相对较小的位置。也就是说,加载装置300可以抵抗由力布置240施加的力。
图5A至图5C示出了根据本文所述的实施方式的保持器200,具体地,图5A至图5C示出了根据本文所述的实施方式在夹持基板101的处理过程中处于不同位置的保持器200。
图5A的示例示出了处于打开位置或加载位置的保持器200,在该位置中基板101被加载在载体100或载体主体160中。此外,保持器200被布置在远离基板101的远端位置。如从图5中可以看到的,加载装置300连接到保持器200以将第一部分210和第二部分220保持在一起,即,加载装置300将保持器200保持在使第二部分220被插入或接纳在第一部分210的接纳空间中的状态下。
图5B的示例示出了在保持器200已经接近基板101或朝向基板101移动之后的保持器200。具体地,如上所述,基板101可以位于第一部分210的阶梯表面214上。此外,加载装置300可以仍然将保持器200保持在加载位置。
图5C的示例示出了处于夹持位置的保持器200。对抗力布置240的加载装置300已被移除或释放。力布置240可以朝向基板101推动或移动第二部分220。第一部分210,具体地是基板101的接触表面214,可以接触基板101。由于第一倾斜表面212的倾斜,力布置朝向基板101推动接触表面224。基板101可以因此夹在第一部分210与第二部分220之间。第二部分220相对于第一部分210的移动可以被引导装置260引导,从而提供第二部分220相对于第一部分210的平滑移动。
虽然加载装置300被描绘为将保持器200机械地保持在加载位置,但是本领域的普通技术人员将会理解,加载装置300可以通过其它机构将保持器200保持在加载位置。例如,加载装置300可以通过例如由电磁装置施加的磁力将保持器200保持在加载位置。
虽然阶梯表面214和第一连接表面216已被描述为保持器200的第一局部或第一部分210的组成部分,但本领域普通技术人员将理解的是,阶梯表面214和/或连接表面216也可以是载体100的组成部分。例如,阶梯表面可以是载体100的突出构件的表面,例如所述表面可以连接到载体主体160。在这种情况下,基板101可以由载体100支撑。具体地,基板101可以被夹在或夹持在保持器的第二部分220与处于夹持位置的载体100的突出构件之间。此外,当阶梯表面214由载体100提供时,连接表面216可以被省略。
根据不同的实施方式,载体100可以用于PVD沉积工艺、CVD沉积工艺、基板结构化边缘化(substrate structuring edging)、加热(例如退火)或任何类型的基板处理。如本文所述的载体和利用这种载体的方法的实施方式对于非静止的,即连续的基板处理特别有用。通常,载体被提供用于处理垂直取向的大面积玻璃基板。非静止处理通常包括载体也为处理提供掩蔽元件。
图6示出了根据本文所述的实施方式的用于将基板101固定在具有载体主体160的载体100中的方法80的流程图。
在框81中,将基板101加载到载体100上。在框82中,使至少一个保持器200相对于载体主体160朝向加载的基板101移动。至少一个保持器200包括第一部分210和第二部分220。在框83中,通过使至少一个保持器200的第二部分220在至少一个方向X上朝向基板101移动,来用所述至少一个保持器200夹持基板101。具体地,至少一个方向X可以平行于基板101的平面。也就是说,可以首先将至少一个保持器200朝向基板101移动,直到保持器200支撑基板101。然后,当第一部分210相对于基板101保持其位置时,保持器200的第二部分220可以朝着基板101进一步移动,即在至少一个方向X上移动。
具体地,第二部分220可以被力布置240朝向基板101移动或推动,当保持器200已经相对于载体主体160朝着加载的基板101移动时,基板101可以被释放。由力布置240施加的力可以用于通过自锁机构将基板101保持或夹持在保持器200中。例如,保持器200的第一部分210可以包括第一倾斜表面212,第一倾斜表面212相对于基板101以第一角度α1倾斜。第一倾斜表面212可以将由力布置施加的力传递,例如将沿着方向X的力传递成沿着可以垂直于基板101的表面的方向Y的力。
图7示出了根据本文所述的实施方式的沉积腔室600的示意图。沉积腔室600适用于沉积工艺,诸如PVD或CVD工艺。基板101被示出为被定位在位于基板传送装置620上的载体100内或载体100上。沉积材料源630被提供在面向待涂布的基板101的侧面的腔室612中。沉积材料源630提供待沉积在基板101上的沉积材料。
在图7中,源630可以是在上方沉积材料的靶或允许材料释放以沉积在基板101上的任何其它布置。通常,材料源630可以是可旋转的靶。根据一些实施方式,材料源630可以是可移动的以便定位和/或更换源。根据其它实施方式,材料源可以是平面靶。
根据一些实施方式,沉积材料可以根据沉积工艺和涂布基板的后期应用来选择。例如,源的沉积材料可以是从由以下项组成的组中选择的材料:金属(诸如铝、钼、钛、铜或类似金属)、硅、氧化铟锡,以及其它透明导电氧化物。通常,可以包括这种材料的氧化物层、氮化物层或碳化物层可以通过提供来自源的材料或通过反应性沉积(即来自源的材料与来自处理气体的元素(如氧、氮或碳)反应)来沉积。
通常,将基板101提供在载体100内或载体100处,载体100也可以用作边缘排除掩模,特别是用于非静止沉积工艺。虚线665示例性地示出了腔室600的操作期间沉积材料的路径。根据可以与本文所述的其它实施方式组合的其它实施方式,可以由在腔室612中提供的单独的边缘排除掩模来提供遮蔽。根据本文所述的实施方式的载体可以对于静止过程以及对于非静态过程都是有益的。
根据可与本文所述的其它实施方式组合的实施方式,保持器200牢固地保持基板101的边缘,特别是在沉积过程期间。实施方式可以提供基板破损的减少,特别是鉴于基板的长度和高度变大,而基板的厚度减小的事实。在图7的示例中,一个保持器200被示出为提供在基板的两侧。如上所述,例如参照图1A至图1D,本公开不限于这种布置。例如,相对于重力,可以在载体100的上侧处提供至少一个保持器,而将基板101放置于载体100的下侧处。
术语“垂直方向”或“垂直取向”被理解为与“水平方向”或“水平取向”加以区分。也就是说,“垂直方向”或“垂直取向”涉及例如载体和基板的基本上垂直的取向,其中从精确垂直方向或垂直取向偏离几度,例如至多10°或甚至至多15°,仍被视为是“基本上垂直的方向”或“基本上垂直的取向”。垂直方向可以基本上平行于重力。
根据可以与本文所述的其它实施方式组合的本文所述的实施方式,基本上垂直地被特别地理解为当提及基板取向时,允许从垂直方向偏离20°或更低,例如10°或更低。可以提供这种偏差,例如因为与垂直取向具有一定偏离的基板支撑可以产生更稳定的基板位置。然而,在有机材料沉积期间的基板取向被视为是基本上垂直的,基本上垂直的被视为不同于水平基板取向。
术语“基本上垂直”涉及例如基板表面的旋转轴线和支撑表面的基本上垂直的取向,其中从精确的垂直取向偏离几度,例如至多10°或甚至至多15°,仍被视为是“基本上垂直”。
虽然前述内容针对本公开内容的实施方式,但是可以在不脱离本公开内容的基本范围的情况下,设计本公开内容的其它和进一步的实施方式,并且本公开内容的保护范围由所附权利要求书来确定。

Claims (15)

1.一种保持器(200),经构造而附接到载体主体(160)以用于保持基板(101),所述保持器(200)包括:
第一部分(210),所述第一部分(210)具有第一倾斜表面(212),所述第一部分(210)经构造而被附接到所述载体主体(160);以及
第二部分(220),所述第二部分(220)经构造而在至少一个方向(X)上相对于所述第一部分(210)是可移动的,
其中所述第一倾斜表面(212)相对于待加载的基板(101)以第一角度(α1)倾斜。
2.根据权利要求1所述的保持器,其中所述第二部分(210)包括第二倾斜表面(222),所述第二倾斜表面(222)面向所述第一倾斜表面(212),所述第二倾斜表面(222)相对于待加载的基板(101)以第二角度α2倾斜。
3.根据权利要求2所述的保持器,其中所述第一角度(α1)和所述第二角度(α2)彼此相等。
4.根据权利要求2或3所述的保持器,其中所述第一角度(α1)和/或所述第二角度(α2)等于或小于10°,典型地等于或小于8°,和/或等于或大于4°,典型地等于或大于6°,具体地,其中所述第一角度(α1)和/或所述第二角度(α2)等于7°。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的保持器,进一步包括力布置(240)。
6.根据权利要求5所述的保持器,其中所述力布置从由以下组成的组中选择:至少一个弹簧元件或至少一个气缸。
7.根据权利要求5或6所述的保持器,其中所述力布置(240)经构造以用于在所述第一部分(210)和所述第二部分(220)之间施加力,以相对于所述第一部分(210)将所述第二部分(220)从加载位置移动到夹持位置。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的保持器,其中所述第一部分(210)进一步包括阶梯表面(214),所述阶梯表面(214)面向所述第一倾斜表面(212)并且经构造以用于支撑待加载的基板(101)。
9.根据权利要求8所述的保持器,其中所述阶梯表面(214)包括具有高度(h)的阶梯部分,所述高度(h)等于所述待加载的基板(101)的厚度(d)。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的保持器,其中所述第二部分(220)进一步包括接触表面(224),所述接触表面(224)与所述第一倾斜表面(212)相对。
11.一种保持器(200),经构造而附接到载体主体(160)以用于保持基板(101),所述保持器(200)包括:
U形第一部分(210),所述U形第一部分(210)具有第一倾斜表面(212)和阶梯表面(214),所述U形第一部分(210)经构造而附接到所述载体本体(160),所述阶梯表面(214)面向所述第一倾斜表面(212)并经构造以用于支撑待加载的基板(101);以及
第二部分(220),所述第二部分(220)具有第二倾斜表面(222)和接触表面(214),所述第二部分(220)相对于所述第一部分(210)在至少一个方向(X)上从打开位置到夹持位置是可移动的,所述第二倾斜表面(222)面向所述第一倾斜表面(212),所述接触表面(224)面向所述阶梯表面(214),其中所述第一倾斜表面(212)和所述第二倾斜表面(222)相对于所述接触表面(224)以角度(α)倾斜,所述角度(α)等于7°,
并且其中所述保持器(200)经构造以用于将所述基板(101)自锁在所述夹持位置中。
12.一种载体(100),包括根据前述权利要求中任一项所述的至少一个保持器(200)。
13.根据权利要求12所述的载体,进一步包括载体主体(160),所述载体主体(160)包括第一侧、第二侧、第三侧和第四侧,其中当所述载体(100)被布置在加载位置时,所述至少一个保持器(200)被布置在所述载体(160)的所述第一侧处,所述第一侧被布置在相对于重力的比所述第二侧、所述第三侧和所述第四侧更高的位置处。
14.一种用于将基板(101)固定在具有载体主体(160)的载体(100)中的方法(80),包括:
将基板(101)加载(81)到所述载体(100)上;
相对于所述载体主体(160)朝向所述基板(101)移动(82)至少一个保持器(200),所述至少一个保持器(200)包括第一部分(210)和第二部分(220);以及
通过在至少一个方向(X)上朝向所述基板(101)移动所述至少一个保持器(200)的所述第二部分(220),来用所述至少一个保持器(200)夹持所述基板(101)。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述至少一个方向(X)平行于所述基板(101)的平面。
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