CN107873062B - 用于固持基板的方法和支撑件 - Google Patents

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Abstract

一种用于固持基板的方法和支撑件，其中支撑件包括在运输系统中，运输系统被构造以运输基板。所述方法包括将粘合剂附接至支撑件并且将所述粘合剂附接至基板，其中粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中粘合剂被构造以将基板附接至支撑件。另外，基板的厚度为约0.3mm或更小，和/或其中基板具有1.4m2或更大的尺寸。支撑件包括支撑件主体和粘合剂，其中粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中粘合剂被构造以将支撑件主体附接至基板，其中支撑件包括在运输系统中，运输系统被构造以运输基板。

Description

用于固持基板的方法和支撑件
技术领域
本发明的实施方式涉及用于基板处理(例如，用于层沉积)的方法和支撑件以及用于实施所公开的方法的设备。本发明的实施方式尤其涉及用于在基板处理机器中支撑具有狭窄厚度的大面积基板的方法和支撑件以及用于处理大面积基板的设备。特定来说，实施方式涉及用于将基板固持在一个支撑件、多个支撑件和多个基板上的方法。
背景技术
用于在基板上沉积材料的若干方法是已知。例如，基板可通过物理气相沉积(PVD)工艺、化学气相沉积(CVD)工艺、等离子体增强的化学气相沉积 (PECVD)工艺等涂覆。通常，工艺在待涂覆的基板所位于的处理设备或处理腔室中进行。沉积材料提供在设备中。多种材料及其氧化物、氮化物或碳化物可用于在基板上的沉积。此外，其他处理动作如蚀刻、结构化、退火等等可在处理腔室中进行。
已涂覆的材料可用于若干应用和多个技术领域中。例如，已涂覆的材料可用于微电子领域中，诸如用于产生半导体装置。此外，用于显示器的基板经常通过PVD工艺涂覆。另外应用包括绝缘板、有机发光二极管(OLED)板、具有 TFT的基板、滤色片等等。
具体来说，针对领域诸如显示器生产、薄膜太阳能电池的制造和相似应用，处理了大面积玻璃基板。过去，基板尺寸持续增加，此增加仍在持续。玻璃基板的增加尺寸使得在不通过玻璃破裂牺牲产量的情况下处置、支撑和处理所述玻璃基板日益具有挑战性。
通常，在处理玻璃基板期间，所述玻璃基板可支撑在载体上。载体驱使玻璃或基板穿过处理机器。载体通常形成沿着基板周边支撑基板表面的框架或板，或在板的情形中，所述载体支撑表面本身。特定来说，框架形状的载体也可用于掩蔽玻璃基板，其中在由所述框架围绕的所述载体中的孔提供了用于涂覆待在已暴露的基板部分上沉积的材料的孔或用于在由孔暴露的基板部分上作用的其他处理动作的孔。
归因于在沉积工艺期间施加至基板的应力，朝向更大且更薄的基板的趋势可导致基板凸起(bulging)。通常，例如，归因于朝向基板中心推动基板边缘的力，在沉积工艺期间固持基板的支撑系统将凸起引入基板上。归因于增加的破裂可能性，凸起可继而又导致问题。由此，存在对减少凸起并使包括在运输系统中的支撑件能够不破裂地运输更大且更薄的基板，以及改进已涂覆的材料层的质量的需求。
另外，通常，严格限制在沉积腔室内可用于固持基板的空间。由此，也存在有对减少用于在沉积腔室内固持基板的支撑系统所采用的空间的需求。
鉴于上述，有利地提供了克服本领域中的至少一些问题的用于固持基板的方法和支撑件。
发明内容
鉴于上述，提供了一种根据独立权利要求的用于将基板固持在支撑件上的方法，其中支撑件包括在运输系统中，运输系统被构造以运输基板。根据另一实施方式，提供了一种根据另一独立权利要求的支撑件。根据另一实施方式，提供了一种根据另一独立权利要求的包括粘合剂的基板。进一步的方面、优点和特征从从属权利要求、描述和附图中显而易见。
根据一个实施方式，提供了一种用于将基板固持在支撑件上的方法，其中支撑件包括在运输系统中，运输系统被构造以在基板处理腔室中运输基板。所述方法包括：将粘合剂附接至支撑件并且将粘合剂附接至基板，其中粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中粘合剂被构造以将基板附接至支撑件。
根据另一方面，提供了一种包括在运输系统中的支撑件，运输系统被构造以运输基板。支撑件包括支撑件主体和粘合剂，其中粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中粘合剂被构造以将支撑件主体附接至基板。
根据另一方面，提供了一种包括粘合剂的基板，其中粘合剂的材料是合成刚毛材料并且其中粘合剂被构造以将基板附接至包括在运输系统中的支撑件，运输系统被构造以运输基板。
根据另一方面，提供了一种用于在大面积玻璃基板上沉积层的设备，设备包括：真空腔室，适于在真空腔室中层沉积；运输系统，适于运输支撑件，其中支撑件包括被构造以将基板附接至支撑件的粘合剂，其中粘合剂的材料是合成刚毛材料。设备进一步包括用于沉积形成层的材料的沉积源。
本公开内容也涉及一种用于实施所公开的方法的设备并且包括用于进行每个所描述的方法特征的设备部件。这些方法特征可通过硬件部件、由适当软件编程的电脑、这两者的任何组合的方式或以任何其他方式进行。另外，本公开内容也涉及用于实施所描述的设备的每个操作的方法。它包括了用于设备的每个功能实施的方法特征。
附图说明
以上简要概述的本公开内容的实施方式的上述详述特征能够被具体理解的方式、以及本公开内容的更特定描述，可以通过参照实施方式获得。附图涉及本公开内容的实施方式，并且在下文中进行描述：
图1A、图1B、图1C、图1D示出了根据本文所述的实施方式的用于固持基板的支撑件的示例，其中支撑件包括载体主体；
图2示出了根据本文所述的实施方式的用于固持基板的支撑件的另一示例；
图3示出了根据本文所述的实施方式的用于利用支撑件在基板上沉积材料层的设备的视图。
具体实施方式
现将详细参考本公开内容的各实施方式，这些实施方式的一个或多个示例在附图中示出。在以下对附图的描述中，相同附图符号指示相同部件。一般来说，仅描述了相对于个别实施方式的差异。每个示例以解释本公开内容的方式提供，而不意欲限制本公开内容。此外，作为一个实施方式的部分予以说明或描述的特征可用于其他实施方式或与其结合，从而产生另一实施方式。描述意在包括这样的修改和变型。
根据本文所述的实施方式，提供了一种用于将基板固持在支撑件上的方法。所述方法包括将粘合剂附接至支撑件并且将粘合剂附接至基板，其中粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中粘合剂被构造以将基板附接至支撑件。根据实施方式，在将粘合剂附接至支撑件之前将粘合剂附接至基板。根据可与本文的其他实施方式相结合的其他实施方式，在附接至基板之前将粘合剂附接至支撑件。通常，粘合剂被构造以接触基板的第一表面，其中所述第一表面是基板的背侧表面。
注意，根据本文所述的实施方式的粘合剂的粘合能力与壁虎足部的粘合性质相关。壁虎足部的天然粘合性质允许动物在大部分条件下粘附至众多类型的表面。壁虎足部的粘合能力由在壁虎足部上被称为刚毛的多个毛发型延伸部提供。在此注意，术语“合成刚毛材料”被理解为模仿壁虎足部的天然粘合能力并包括与壁虎足部相似的粘合能力的合成材料。另外，术语“合成刚毛材料”可与术语“合成壁虎刚毛材料”或与术语“壁虎胶带材料”同义地使用。
通常，粘合剂是无机的。根据本文所述的实施方式，粘合剂实质上是100％无机的。另外，粘合剂的微结构通常包括纳米管。根据本文所述的常见实施方式，粘合剂的微结构包括碳纳米管。根据一个实施方式，粘合剂的存储弹性模量G’直至600℃的温度实质上是恒定的，具体来说，其中所述存储弹性模量是80-120Pa。根据典型的实施方式，粘合剂的存储弹性模量G’直至500℃实质上是恒定的，特定来说，其中所述存储弹性模量为近似105Pa。根据可与本文所述的进一步实施方式相结合的实施方式，于多达600℃的温度的粘合剂的损失因数实质上是恒定的，特定来说，其中所述损失因数为近似0.01-0.1。根据可与本文所述的进一步实施方式相结合的典型的实施方式，粘合剂的损失因数实质上是恒定的而多达500℃的温度，特定来说，其中所述损失因数为近似0.05。进一步地，根据典型的实施方式，在30分钟内120℃的温度下使用气相色谱法/质谱法测量的粘合剂的排气量为约0.00051。
另外，根据典型的实施方式，粘合剂是粘合胶带。根据典型的实施方式，粘合剂的第一表面包括粘合剂的粘合能力。根据其他实施方式，粘合剂的多于一个表面包括粘合剂的粘合能力。
通常，基板可以由任何适于材料沉积的材料制得。例如，基板可能由选自由下列组成的群组的材料制得：玻璃(例如，钠钙玻璃、硼硅玻璃等)、金属、聚合物、陶瓷、复合材料或可通过沉积工艺涂覆的任何其他材料或材料组合。也可能影响基板处理的凸起可通过根据本文所述的实施方式的支撑件减少。特定来说，针对玻璃基板或陶瓷基板的情形破裂是进一步问题，支撑件也可显著减少基板破裂。
通常，支撑件主体可由铝、铝合金、钛、其合金、不锈钢或类似材料制得。根据可与本文所述的其他实施方式相结合的一些实施方式，支撑件主体是载体主体并且可包括诸如顶杆、侧杆和底杆之类的两个或更多个元件。根据其他实施方式，支撑件主体通常是被构造以固持基板上侧的杆。特定来说，针对非常大面积的基板，可制造具有多个部分的载体或载体主体。支撑件主体被特定地构造以用于在基板面积中接收基板。
另外，根据本文所述的实施方式，提供了一种用于固持基板以实施所公开的方法的支撑件。支撑件包括支撑件主体和粘合剂，其中所述粘合剂的材料是合成刚毛材料。
包括在根据本文所述的实施方式的支撑件中的粘合剂被构造成当固持基板时有效减少或甚至避免凸起，例如，可由朝向基板中心推动基板边缘的力导致的凸起。
另外，包括在根据本文所述的实施方式的支撑件中的粘合剂具有狭窄厚度，通常小于1mm(例如约0.5mm)的厚度。包括在支撑件中的粘合剂随后被构造以有效减少在沉积腔室中固持基板所需的空间。
根据本文所述的实施方式，包括在支撑件中的粘合剂被构造以接触基板的第一表面，其中所述第一表面是所述基板的背侧表面。因此，根据实施方式的包括粘合剂的支撑件被构造以在沉积工艺期间层有效改善均匀性。
根据可与本文所述的其他实施方式相结合的典型的实施方式，基板厚度可以是从0.1至1.8mm并且根据本文所述的实施方式的支撑件可适于此类基板厚度。另外，当基板厚度是0.3mm或更低时是特别有利的，诸如0.2mm或更低时，例如是0.1mm时，并且根据本文所述的实施方式的支撑件适于此类基板厚度。
根据一些实施方式，大面积基板可能具有至少0.174m2的尺寸。通常，尺寸可以为约1.4m2至约8m2、或约2m2至约9m2或甚至多达12m2。通常，根据本文所述的实施方式的设备和方法提供的矩形基板是如本文所述的大面积基板。例如，大面积基板可以是对应于约1.4m2基板(1.1m x 1.3m)的第5 代、对应于约4.39m2基板(1.95m x 2.25m)的第7.5代、对应于约5.5m2基板 (2.2m x 2.5m)的第8.5代、或甚至对应于约8.7m2基板(2.85m x 3.05m)的第10代。可相似地实施甚至更大代诸如第11代和第12代以及对应基板面积。在约0.3mm、约0.2mm或约0.1mm的基板厚度和大面积基板第6代至第8.5 代的情况下，本公开内容的实施方式是特别有利的。
根据可与本文所述的其他实施方式相结合的一些实施方式，本文所述的支撑件和采用本文所述的支撑件的设备是用于垂直基板处理。术语垂直基板处理被理解为与水平基板处理相区分。即，垂直基板处理涉及在基板处理期间基板的基本上垂直定向，并且因此通常也是支撑件，其中与准确垂直定向的数度偏差，例如，多达10°或甚至多达15°，仍被认为是垂直基板处理。具有很小倾斜的垂直基板定向，可导致例如是更稳定基板处置或减少污染已沉积层的颗粒的风险。
图1A示出了附接至支撑件的基板101的背面视图，其中所述支撑件是载体100。载体100被构造以用于支撑具有狭窄厚度的大面积基板101。另外，图1B示出了图1A所示的载体的另一示意图。
如图1A所示，特定地，当在处理腔室中处理时，在载体100内的某个位置处提供基板101。载体100包括限定窗或孔161的框架或载体主体160。根据典型的实施方式，框架提供基板接收表面。通常，基板接收表面被构造以在操作期间(即，当载入基板时)接收基板的周边部分。
针对相对小的大面积基板，例如，第5代或更小代，框架160可由单片制造，即，框架是整体形成的。根据可与本文所述的其他实施方式相结合的一些实施方式，框架160可包括诸如顶杆、侧杆或底杆之类的两个或更多个元件。特定而言，针对非常大面积的基板，可以制造具有多个部分的载体或载体主体。载体主体的这些部分被组装以提供用于支撑基板101的框架160。
图1A所示的载体100进一步包括粘合剂120，其中所述粘合剂的材料是合成刚毛材料并且其中所述粘合剂被构造以将基板101附接至载体主体160。根据典型的实施方式，例如，如图1A所示，粘合剂120是粘合胶带。
根据典型的实施方式，粘合剂120的第一表面包括粘合剂120的粘合能力。根据其他实施方式，粘合剂120的多于一个表面包括粘合剂120的粘合能力。
根据典型的实施方式，粘合剂120的一个表面(例如，上表面)被构造以将基板101附接至支撑件主体，例如，载体主体160。根据其他实施方式，粘合剂120的两个表面(例如，上表面和下表面)被构造以将基板101附接至支撑件主体，例如，载体主体160。
通常，载体100可进一步包括一个或多个附接元件121，所述附接元件被构造以将粘合剂120部分附接至载体主体160。根据典型的实施方式，附接元件121可以是螺钉、铆钉、夹具、或用于将粘合剂120附接至载体主体160 的其他元件。
根据本文所述的实施方式，例如，如图1B所示，附接元件121被构造以将粘合剂120附接至载体主体的上表面160b。根据其他实施方式，附接元件 121被构造以将粘合剂120附接至载体主体的背侧表面160a。
包括在载体100中的粘合剂120提供了基板101至载体主体160的附接，所述附接减少或甚至避免了朝向基板中心推动基板边缘的力。因此，也减少了基板的凸起。另外，粘合剂120提供了用于稳定地支撑基板的固持力或支撑力。
另外，包括在载体100中的粘合剂具有狭窄厚度，通常小于1mm(例如约0.5mm)厚度。包括在载体100中的粘合剂120允许提供支撑系统，所述支撑系统减少了在沉积腔室中支撑基板101所需的空间。
在图1A所示的示例中，在框架160的第一侧面和第二侧面中提供两个粘合剂部分120。根据一些实施方式，于框架或载体主体160的左侧中间处提供一个粘合剂120部分并且于框架或载体主体160的右侧中间处提供一个粘合剂 120部分。
根据一些实施方式，也可于载体主体的上侧和下侧中间处提供两个粘合剂部分120。另外，可调节或固定基板101在由框架160限定的基板面积内的位置。
根据一些实施方式，粘合剂或粘合剂部分120被构造以接触基板的第一表面，其中所述第一表面是基板的背侧表面101a，如图1B所示。减少或甚至避免在基板的上表面或沉积表面101b与载体100之间的接触。因此，可以改善在沉积工艺期间层的均匀性。另外，根据典型的实施方式，例如，如图1B所示，粘合剂的第一表面120a被构造以将基板101附接至载体主体160。
尽管在图1A中图示于框架160的左侧和右侧的两个粘合剂部分120，本公开内容不限于此。也可于框架的一侧(例如，框架的上侧)提供一个粘合剂120部分。另外，可于框架160左侧提供多于两个粘合剂部分120和/或可于框架右侧提供多于两个粘合剂部分120。此外，如关于图1C更详细描述的，可以在框架160的一个或多个侧面上提供多于一个粘合剂120部分。
根据本文的实施方式的包括在支撑件中的粘合剂提供了基板与支撑件主体的附接，所述附接减少或甚至避免了朝向基板中心推动基板边缘的力。因此，也可减少基板凸起。此外，根据本文所述的实施方式的包括粘合剂的支撑件可以提供用于稳定支撑基板的固持力或支撑力。
另外，根据本文所述的实施方式的包括在支撑件中的粘合剂允许提供支撑系统，所述支撑系统减少了用于支撑基板所需的空间。
此外，根据本文所述的实施方式的支撑件提供了被构造以接触基板的第一表面的粘合剂，其中所述第一表面是基板的背侧表面。可减少或避免与基板的上表面或沉积表面的接触。因此，可改善在沉积工艺期间层的均匀性。
图1C示出了根据一些实施方式的附接至载体100的基板101的另一示例。图1C所示的实施方式与图1A所示的实施方式相似。图1C的载体100包括四个粘合剂部分120，其中将每个粘合剂部分定位于载体主体的每个角落。根据一些实施方式，也可于载体或载体主体的每个侧面的中间处提供四个粘合剂部分。
根据可额外或替代地实施的进一步实施方式，围绕基板的周边分布固定至基板的粘合剂部分所在的位置，例如，均匀地分布。例如，可围绕基板的边缘每300mm至每1000mm(诸如每300至800mm)提供粘合剂部分。通常，也可在数对位置中提供粘合剂部分。例如，第8.5代基板的弯曲可能通过分别于6至24个位置或3至12对位置处包括粘合剂部分来减少。
图1D示出了附接至载体100的基板101的另一示例。根据可与本文所述的其他实施方式相结合的一些实施方式，载体100包括用于在基板区域中定位基板101的定位元件151。定位元件151可被固定地附接至框架160。可提供一个或多个第一定位元件151。
例如，定位元件151可包括引导元件。根据一些实施方式，定位元件适于避免基板101的自由移动和/或提供所述定位元件以在支撑件主体的基板接收表面中固持基板重量的50％以上。
载体100进一步包括例如是在框架160的顶侧或上侧上的至少两个粘合剂部分120。另外，根据本文所述的实施方式可调适粘合剂部分的数量。根据一些实施方式，提供了两个或更多个粘合剂部分120。特定来说，例如，如图1C 所示，可在基板的一个或多个侧面上提供两个或更多个粘合剂部分120。
另外，根据典型的实施方式，可提供被构造以将粘合剂120附接至载体主体160的一个或多个附接元件121。例如，如图1D所示，根据典型的实施方式，附接元件121 被构造以将粘合剂120附接至载体主体的背侧表面160a。通常，可提供一个或多个附接元件121以将粘合剂120部分附接至载体主体160。
尽管提供了用于支撑基板101的支撑件，其中所述支撑件例如是如图1A 所示的载体，本公开内容不限于此。例如，如关于图2更详细描述，也提供了用于固持基板的支撑件，其中所述支撑件被构造以固持基板的上侧。
图2示出了根据一些实施方式的附接至基板101的支撑件的背侧视图的另一示例。支撑件200被构造以用于支撑具有狭窄厚度的大面积基板。如图2 所示，特定地，当在处理腔室中处理时，在支撑件200内的一位置中提供基板 101。支撑件200通常包括支撑件主体260，其中支撑件主体260被构造以固持基板的上侧。
通常，支撑件主体260是杆。根据典型的实施方式，支撑件主体260提供了基板接收表面261。通常，基板接收表面261被构造以在操作期间(即，当载入基板时)接收基板的上侧的周边部分。
图2的支撑件进一步包括粘合剂120，其中所述粘合剂被构造以将基板附接至支撑件主体260。通常，例如，如图2所示，粘合剂是粘合胶带。
在图2所示的示例中，支撑件包括定位于支撑件主体的中间处的一个粘合剂120部分。尽管在图2中于支撑件主体处示出了一个粘合剂120部分，本公开内容不限于此。可于支撑件主体260处提供多于一个的粘合剂120部分。根据可与本文所述的其他实施方式相结合的典型的实施方式，沿着支撑件主体 260的长度提供和/或分布多于一个的粘合剂120部分。
如图2所示，支撑件200可进一步包括用于在基板区域中定位基板101 的定位元件151，所述定位元件被构造以提供预定基板位置。定位元件151可被固定地附接至腔室壁或多个腔室壁。根据可与本文所述的其他实施方式相结合的一些实施方式，提供了被固定地附接至腔室壁或多个腔室壁的一个或多个定位元件151。
通常，定位元件151被构造以附接基板下侧。根据可与本文所述的其他实施方式相结合的一些实施方式，如图2所示，提供了两个定位元件151。定位元件可具有用于基板插入的间隙或用于在定位元件中布置基板的其他元件，其中提供了被构造以用于接触基板边缘并限定接触位置的边缘接触表面。接触位置限定了在腔室中的预定基板位置。
另外，如图2所示，粘合剂120被构造以接触基板的第一表面，其中所述第一表面是基板的背侧表面101a。也减少或甚至避免在基板的上表面或沉积表面与支撑件200之间的接触。因此，也可改善在沉积工艺期间层的均匀性。
如图2所示，支撑件可进一步包括一个或多个附接元件121，所述附接元件被构造以将粘合剂120附接至支撑件主体260。根据典型的实施方式，附接元件121可以是螺钉、铆钉、夹具或用于将粘合剂120附接至支撑件主体260 的其他元件。
图2所示的粘合剂120也提供了基板101至支撑件主体260的附接，所述附接避免或减少了朝向基板中心推动基板边缘的力。因此，也减少了基板的凸起。
另外，根据一些实施方式，可选择粘合剂部分120和定位元件151在基板侧面上方的分布以改进基板101凸起的减少。
根据不同实施方式，根据本文所述的实施方式的支撑件和方法可用于 PVD沉积工艺、CVD沉积工艺、基板结构化修边、加热(例如，退火)或任何种类的基板处理。如本文所述的支撑件的实施方式和采用此类支撑件的方法尤其是对非稳定(即，连续)基板处理有用。通常，提供用于处理垂直定向的大面积玻璃基板的支撑件。
图3示出了根据实施方式的沉积腔室600的示意图。沉积腔室600适于沉积工艺，诸如PVD或CVD工艺。示出了在基板运输装置620上位于支撑件内或位于支撑件处的基板101。在腔室612中提供了面对待涂覆的基板的侧面的沉积材料源630。沉积材料源630提供了待在基板上沉积的沉积材料635。通常，在沉积工艺期间，在腔室中的处理温度为约500℃。
在图3中，源630可以是上面具有沉积材料的靶或允许释放材料以用于在基板101上沉积的任何其他布置。通常，材料源630可能是可旋转靶。根据一些实施方式，材料源630可以是可移动的以定位和/或替换所述源。根据其他实施方式，材料源可以是平面靶。
根据一些实施方式，可根据沉积工艺和已涂覆的基板的后续应用选择沉积材料635。例如，源的沉积材料可以是选自由下列组成的群组的材料：诸如铝、钼、钛、铜之类的金属、硅、氧化铟锡、和其他透明导电氧化物。通常，可包括此类材料的氧化物层、氮化物层或碳化物层可通过提供来自源的材料或通过反应性沉积来沉积，即，来自源的材料与来自处理气体的元素如氧、氮化物、或碳反应。
根据本文所述的实施方式的支撑件可有利于稳定工艺并且也有利于非稳定工艺。
根据可与本文所述的其他实施方式相结合的实施方式，固定组件尤其是在沉积工艺期间牢固地固持基板边缘。实施方式可提供基板破裂的减少，尤其是鉴于以下事实：基板的长度和高度变得更大，并且基板厚度减少。可通过根据本文所述的实施方式的载体来减少也可能影响基板处理的凸起。
尽管前述针对本公开内容的实施方式，在不脱离本公开内容的基本范围的情况下可设计本公开内容的其他的和进一步的实施方式，并且本公开内容的范围可由以下权利要求确定。

Claims (20)

1.一种将基板固持在支撑件上的方法，所述基板具有1.4m2或更大的尺寸，其中所述支撑件包括在运输系统中，所述运输系统被构造以运输所述基板，所述方法包括：
将粘合剂的第一表面附接至所述支撑件，其中所述粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中所述粘合剂被构造以将所述基板附接至所述支撑件；
将所述粘合剂的所述第一表面附接至所述基板的背侧表面；
运输基本上垂直定向的所述基板；以及
处理基本上垂直定向的所述基板。
2.如权利要求1所述的方法，其中在附接至所述支撑件之前将所述粘合剂的所述第一表面附接至所述基板的所述背侧表面。
3.如权利要求1所述的方法，其中在附接至所述基板的所述背侧表面之前将所述粘合剂的所述第一表面附接至所述支撑件。
4.如权利要求1所述的方法，其中所述基板的厚度为0.3mm或更小。
5.如权利要求1所述的方法，其中所述基板的厚度为0.2mm或更小。
6.如权利要求1所述的方法，其中所述粘合剂是无机的。
7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述粘合剂的微结构包括碳纳米管。
8.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述粘合剂的存储弹性模量G’直至600℃是恒定的，其中所述存储弹性模量为80-120Pa。
9.如权利要求8所述的方法，其中所述粘合剂的存储弹性模量G’直至500℃是恒定的，其中所述存储弹性模量为105Pa。
10.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述粘合剂的损失因数在多达600℃的温度范围下是恒定的，其中所述损失因数为0.01-0.1。
11.如权利要求10所述的方法，其中所述粘合剂的损失因数在多达500℃的温度范围下是恒定的，其中所述损失因数为0.05。
12.一种支撑件，其中所述支撑件包括支撑件主体和粘合剂，其中所述粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中所述粘合剂被构造以将所述支撑件主体附接至基板，其中所述支撑件包括在运输系统中，所述运输系统被构造以运输基本上垂直定向的所述基板，所述基板具有1.4m2或更大的尺寸，且其中所述粘合剂的第一表面接触所述基板的背侧表面和所述支撑件的表面。
13.一种支撑件，其中所述支撑件包括支撑件主体和粘合剂，其中所述粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中所述粘合剂被构造以将所述支撑件主体附接至基板并在基本上垂直的定向上支撑所述基板，所述基板具有1.4m2或更大的尺寸，且其中所述粘合剂的第一表面接触所述基板的背侧表面和所述支撑件的表面。
14.如权利要求12或13任一项所述的支撑件，其中所述支撑件主体是载体主体，并且其中所述载体主体是具有孔的框架，及所述粘合剂固定所述基板在由所述框架所限定的所述孔内的位置。
15.如权利要求12或13任一项所述的支撑件，其中所述支撑件主体是被构造以固持所述基板的上侧的杆。
16.如权利要求12或13任一项所述的支撑件，其中所述支撑件进一步包括被构造以固定所述基板的位置的至少一个定位元件。
17.如权利要求16所述的支撑件，其中所述定位元件包括引导元件。
18.一种包括粘合剂的基板，其中所述粘合剂的材料是合成刚毛材料，并且其中所述粘合剂被构造以将所述基板附接至包括在运输系统中的支撑件，所述运输系统被构造以运输基本上垂直定向的所述基板，所述基板具有1.4m2或更大的尺寸，且其中所述粘合剂的第一表面接触所述基板的背侧表面和所述支撑件的表面。
19.如权利要求18所述的基板，其中所述基板的厚度为0.3mm或更小，和/或其中所述基板具有2m2至9m2的尺寸。
20.如权利要求18或19任一项所述的基板，其中所述基板的厚度为0.2mm或更小，和/或其中所述基板具有4m2或更大的尺寸。
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