CN210458355U - 一种基板架以及一种镀膜设备 - Google Patents

一种基板架以及一种镀膜设备 Download PDF

Info

Publication number
CN210458355U
CN210458355U CN201921011136.7U CN201921011136U CN210458355U CN 210458355 U CN210458355 U CN 210458355U CN 201921011136 U CN201921011136 U CN 201921011136U CN 210458355 U CN210458355 U CN 210458355U
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
fixing
frame
heat radiation
fixing unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201921011136.7U
Other languages
English (en)
Inventor
朱松山
高裕弟
孙剑
洪耀
李晓波
张民井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zaozhuang Ruinuo Electronic Technology Co., Ltd
Original Assignee
Zaozhuang Visionox Electronic Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zaozhuang Visionox Electronic Technology Co ltd filed Critical Zaozhuang Visionox Electronic Technology Co ltd
Priority to CN201921011136.7U priority Critical patent/CN210458355U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN210458355U publication Critical patent/CN210458355U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型提供的一种基板架,其包括:固定框,包括设于其中部的开口;固定机构,固定连接于所述固定框,包括用于将所述基板固定于所述开口内的基板固定单元,以及用于将热辐射件与所述基板有间隙地固定于所述开口内的热辐射件固定单元;以及传动机构,与所述固定框连接,并传动连接于外部动力机构。通过设置有热辐射件,并将热辐射件与基板间隔地固定,使得热辐射件的温度能均匀的辐射到基板表面,对其提供均匀的温度环境,从而提高基板表面镀膜膜厚的均匀性;同时热辐射件与基板间隔设置,避免热辐射件与基板表面接触,避免其对基板表面造成损伤。

Description

一种基板架以及一种镀膜设备
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域,具体涉及一种基板架以及一种镀膜设备。
背景技术
磁控溅射技术是物理气相沉积技术的一种,具有成膜速率高,膜基粘附性好,可实现大面积镀膜等优点。磁控溅射技术发展出多种类型,广泛应用于半导体微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域。立式磁控溅射镀膜设备常用于在真空环境下利用磁控溅射靶给基板镀上一层或多层膜,悬挂基板的基板架利用传动装置在真空室内移动,而基板架通常是中空设置的,基板固定于中空位置处,基板边缘处由于与基板架固定连接,其会收到基板架的热辐射,而基板的中间位置离基板架较远,受到基板架的热辐射会小于玻璃基板四周,从而导致玻璃基板上的温度不均匀,受温度的影响最终导致基板镀膜的膜厚不均匀。
实用新型内容
因此,本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中的基板受热不均匀的缺陷,从而提供一种基板架以及一种镀膜设备。
为此,本实用新型的技术方案如下:
一种基板架,其包括:
固定框,包括设于其中部的开口;
固定机构,固定连接于所述固定框,包括用于将所述基板固定于所述开口内的基板固定单元,以及用于将热辐射件与所述基板有间隙地固定于所述开口内的热辐射件固定单元;
以及传动机构,与所述固定框连接,并传动连接于外部动力机构。
进一步地,所述基板固定单元和所述热辐射件固定单元被构建为使得基板和热辐射件平行设置。
进一步地,所述基板固定单元、所述热辐射件固定单元中的至少一个为固定设置于所述固定框开口处的固定块,所述固定块上设有允许所述基板或所述热辐射件卡入的凹槽。
进一步地,所述固定机构为固定夹具,所述固定夹具的一端包括与所述固定框连接的夹具固定单元,所述固定夹具的另一端包括所述基板固定单元和所述热辐射件固定单元。
进一步地,所述夹具固定单元为设于所述固定夹具一端面的夹具卡槽,所述基板固定单元和所述热辐射件固定单元分别为设于所述固定夹具另一端面上的基板卡槽和热辐射件卡槽,所述基板卡槽与所述热辐射件卡槽间隔平行设置。
进一步地,所述固定框的内侧设有向所述开口中部延伸的若干凸台,所述凸台包括与所述基板边缘抵接的第一限位面以及与所述热辐射件边缘抵接的第二限位面,所述第一限位面和所述第二限位面位于所述凸台的相对设置的两侧;所述固定框上分别设有将所述基板卡设固定于所述第一限位面上的第一卡扣,以及将所述热辐射件卡设固定于所述第二限位面上的第二卡扣;所述第一卡扣与所述第一限位面构成所述基板固定单元,所述第二卡扣与所述第二限位面构成所述热辐射固定单元。
进一步地,还包括导向机构,所述导向机构与所述传动机构相对地设置于所述固定框的另一侧,并连接于外部防倾机构。
进一步地,还包括连接所述固定框与所述导向机构以及连接所述固定框与所述传动机构的绝缘单元。
一种镀膜设备,其包括:
若干镀膜腔室,所述腔室内设有所述动力机构;
以及基板架,所述基板架的传动机构与所述动力机构传动连接,其中所述基板架为如上述任意一项所述的基板架。
进一步地,基板架中固定的热辐射件为碳板。
本实用新型技术方案,具有如下优点:
1.本实用新型提供的一种基板架,其包括:固定框,包括设于其中部的开口;固定机构,固定连接于所述固定框,包括用于将所述基板固定于所述开口内的基板固定单元,以及用于将热辐射件与所述基板有间隙地固定于所述开口内的热辐射件固定单元;以及传动机构,与所述固定框连接,并传动连接于外部动力机构。通过设置有热辐射件,并将热辐射件与基板间隔地固定,使得热辐射件的温度能均匀的辐射到基板表面,对其提供均匀的温度环境,从而提高基板表面镀膜膜厚的均匀性;同时热辐射件与基板间隔设置,避免热辐射件与基板表面接触,避免其对基板表面造成损伤。
2.本实用新型提供的一种基板架,所述基板固定单元、所述热辐射件固定单元中的至少一个为固定设置于所述固定框开口处的固定块,所述固定块上设有允许所述基板或所述热辐射件卡入的凹槽;通过设置带有凹槽的与固定框固定的固定块,将基板和碳板分别固定于固定块的凹槽中,以实现对基板和热辐射件的固定。
3.本实用新型提供的一种基板架,所述固定机构为固定夹具,所述固定夹具的一端包括与所述固定框连接的夹具固定单元,所述固定夹具的另一端包括所述基板固定单元和所述热辐射件固定单元。通过设置固定夹具,夹具的一端固定于固定框,另一端集成有基板固定单元和热辐射件固定单元,通过一个夹具即可实现对基板和热辐射件的同时固定,同时确保二者间隔设置避免了碳板对基板表面造成损伤。
4.本实用新型提供的一种基板架,所述固定框的内侧设有向所述开口中部延伸的若干凸台,所述凸台包括与所述基板边缘抵接的第一限位面以及与所述热辐射件边缘抵接的第二限位面,所述第一限位面和所述第二限位面位于所述凸台的相对设置的两侧;所述固定框上分别设有将所述基板卡设固定于所述第一限位面上的第一卡扣,以及将所述热辐射件卡设固定于所述第二限位面上的第二卡扣;所述第一卡扣与所述第一限位面构成所述基板固定单元,所述第二卡扣与所述第二限位面构成所述热辐射固定单元。通过在固定框内侧中部形成若干凸台,由此可实现对凸台内外两侧的基板和热辐射件的定位,外部通过卡扣对基板和热辐射件进行锁紧,凸台的两端面既能够分别对基板和热辐射件限位,同时通过将第一限位面和第二限位面位于凸台的相对设置的两侧实现了二者的分隔设置,避免热辐射件与基板表面接触,避免其对基板表面造成损伤。
5.本实用新型提供的一种基板架,导向机构,所述导向机构与所述传动机构相对地设置于所述固定框的另一侧,并连接于外部防倾机构;进一步地,还包括连接所述固定框与所述导向机构以及连接所述固定框与所述传动机构的绝缘单元。通过设置有外部防倾机构配合的导向机构,可实现对基板架的移动导向作用,也实现了对基板架顶部的限位防止其在传输过程中倾倒。
6.本实用新型提供的一种镀膜设备,由于包含上述基板架,因此也就包含上述基板架所带来的一切优点。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的第一种实施方式中提供的基板架的主视图;
图2为图1所示的基板架的后视图;
图3为本实用新型第二种实施方式中提供的基板架的主视图;
图4为图2所示的基板架的后视图;
图5为图2中所示的固定夹具沿前后方向的剖视图;
图6为本实用新型第三种实施方式中提供的基板架的主视图;
图7为图6中的基板架沿前后方向的剖视图;
图8为本实用新型的镀膜腔室的示意图。
附图标记说明:
1-基板架;2-基板;3-导向机构;4-传动轴;5-固定框;6-开口;7-碳板;81-基板固定块;82-碳板固定块;9-弹簧扣;10-固定夹具;11-夹具卡槽;12-基板卡槽;13-碳板卡槽;14-螺栓孔;15-凸台;16-绝缘单元;17-镀膜腔室;18-磁性导轨;19-传输辊。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
此外,下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例1
本实用新型记载了一种镀膜设备,参见附图8,其包括若干镀膜腔室17以及基板架1,其中镀膜腔室17内设有动力机构和防倾机构,基板架1的传动机构与动力机构传动连接,动力机构包括若干设于镀膜腔室底部的传送辊19,传送辊19由电机驱动旋转;防倾机构与基板架1的导向机构配合引导基板架1运动,防倾机构为设于镀膜腔室上部的磁性导轨18。
其中基板架1包括固定框5、固定机构、传动机构和导向机构3,本实施例中的基板2采用竖直传输的方式,因此固定基板2的基板架1也同样竖直设置,传动机构为与固定框5连接的传动轴4,导向机构3为磁性导向杆,导向杆和传动轴4分别设于固定框5的上下两端,其中导向杆和传动轴4分别通过绝缘单元16固定连接于固定框5,绝缘单元16可为例如绝缘陶瓷块;其中传动轴4与传送辊19传动连接,基板架1上的导向杆与磁性导轨18磁性连接,通过传送辊19旋转带动其上的传动轴4水平移动由此带动基板架1移动,磁性导轨18引导并限定了基板架1的水平移动,同时还防止基板架1发生倾倒。其中如图1-2所示,固定框5包括设于其中部的开口6,开口6中固定有基板2和热辐射件,其中本实施例中的热辐射件为碳板7,碳板7与基板1平行且间隔地设置。当然热辐射件也可以由其他导热绝缘材料制成,例如导热硅胶片。通过设置有热辐射件,并将热辐射件与基板间隔地固定,使得热辐射件的温度能均匀的辐射到基板表面,对其提供均匀的温度环境,从而提高基板表面镀膜膜厚的均匀性;同时热辐射件与基板间隔设置,避免热辐射件与基板表面接触,避免其对基板表面造成损伤。
其中基板2和碳板7通过固定机构固定连接于固定框5的开口6中,固定机构包括用于将基板2固定于开口6内的基板固定单元和用于将碳板7与基板2有间隙地固定于开口6内的热辐射件固定单元,且基板固定单元和热辐射件固定单元被构建为使得基板2和辐射件平行设置。
基板固定单元、热辐射件固定单元中的至少一个为固定设置于固定框5开口处的固定块,固定块上设有允许基板2或热辐射件卡入的凹槽。
本实施例中,基板固定单元和热辐射件固定单元分别为固定于固定框5开口6处的基板固定块81和碳板固定块82,基板固定块81上设有允许基板2卡入的凹槽,碳板固定块82上设有允许碳板7卡入的凹槽。固定块的一端通过卡接或者螺钉连接等方式固定于固定框5的开口6处,并使得固定块中的凹槽朝向开口6内。其中固定块可采用不锈钢材料制成。
本实施例中在碳板7的四条边上分别设置有一个或多个碳板固定块82,该固定碳板7的碳板固定块82通过螺钉固定于固定框5的后端面上(本实施例中的后方指图1中垂直于纸面朝里的方向);本实施例中在基板2的底部设置有若干基板固定块81,其中基板固定块81通过螺钉固定于固定框5的前端面上(本实施例中的后方指图1中垂直于纸面朝外的方向),同时在基板2的顶部设置有若干弹簧扣9,弹簧扣9与基板固定块81对应设置以将基板2固定于基板固定块81的凹槽中。
作为可替换的实施方式,也可通过在固定框5的相对边分别设置有固定块和弹簧扣的方式固定碳板7;当然,也可通过在基板2的四周均设置有固定块的方式固定基板2。
当然,也可只设置有一个用于固定基板2的固定块,此时碳板7可通过其他方式,例如卡扣等固定于开口6处;或者也可只设置有一个用于固定碳板7的固定块,此时基板2可通过其他方式,例如卡扣等固定于开口6处。
实施例2
本实施例中,镀膜设备的结构参照图8均与实施例1中相同,基板架1中除固定机构与实施例1中不同,其他结构均与实施例1相同。
本实施例中的固定机构为固定夹具,固定夹具的一端包括与固定框5连接的夹具固定单元,固定夹具的另一端包括基板固定单元和热辐射件固定单元。如图3-4所示,本实施例2中的基板架1中用于固定基板2和碳板7的固定机构为一种固定夹具10。如图5所示固定夹具10的一端包括与固定框5连接的夹具固定单元,固定夹具10的另一端包括基板固定单元和热辐射件固定单元;其中夹具固定单元为设于固定夹具10一端面的夹具卡槽11,基板固定单元和热辐射件固定单元分别为设于固定夹具另一端面上的基板卡槽12和碳板卡槽13,基板卡槽12与碳板卡槽13间隔平行设置。
固定时,将固定夹具10上的夹具卡槽11卡设固定于固定框5的开口处边缘,基板2和碳板7分别卡设于基板卡槽12和碳板卡槽13中。其中本实施例中在固定框5的底边上设置有固定夹具10,在固定框5的顶边上与其分别对应设置有两组弹簧扣9,弹簧扣9与固定夹具10对应设置以将基板2和碳板7固定于固定夹具10的基板卡槽12和碳板卡槽13中。其中固定夹具可采用不锈钢材料制成。
当然,作为可替换的实施方式,也可通过在固定框5的相对边分别设置有若干固定夹具10由此固定基板2和碳板7。
当然,作为可替换的实施方式,在固定夹具10中设有夹具卡槽11的端部还可设置有螺栓孔14,由此通过螺栓螺母进一步固定固定夹具10和固定框5。
实施例3
本实施例中,镀膜设备的结构均与实施例1中相同,基板架1中除固定机构与实施例1中不同,其他结构均与实施例1相同。
如图6-7所示,本实施例3中固定框5的内侧设有向开口6的中部延伸的若干凸台15,其中凸台15可以为若干独立的不连续的凸台,也可以为沿固定框5内侧设置的连续的环形凸台。其中凸台15包括与基板边缘抵接的第一限位面以及与碳板边缘抵接的第二限位面,第一限位面和第二限位面位于凸台15的相对设置的两侧;固定框5上分别设有将基板2卡设固定于第一限位面上的第一卡扣,以及将碳板7卡设固定于第二限位面上的第二卡扣;第一卡扣与第一限位面构成基板固定单元,第二卡扣与第二限位面构成热辐射固定件。
通过在固定框内侧中部形成若干独立或者连续的凸台,由此可实现对凸台内外两侧的基板和碳板的定位,外部通过弹簧扣对基板和碳板进行锁紧,凸台的两端面既能够分别对基板和碳板限位,同时通过将凸台设置有一定厚度通过凸台实现了二者的分隔设置,避免碳板与基板表面接触,避免其对基板表面造成损伤。
其中如图6和7所示,本实施例中的凸台15为一沿固定框5内侧突出的框形连续凸台,凸台15的外侧面(本实施例中的外侧指图6中垂直于纸面朝外的方向,或者图7中的左侧)为与基板2抵接的第一限位面151,凸台的内侧面(本实施例中的内侧指图6中垂直于纸面朝里的方向,或者图7中的右侧)为与碳板7抵接的第二限位面152,本实施例中的第一卡扣和第二卡扣为设于固定框5的内端面和外端面上的若干弹簧扣9,当然其也可以为设置与固定框5内外端面上的转臂,转臂与固定框5枢接,通过旋转转臂可实现对基板2和碳板7的锁紧或解锁。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种基板架,其特征在于,包括:
固定框,包括设于其中部的开口;
固定机构,固定连接于所述固定框,包括用于将所述基板固定于所述开口内的基板固定单元,以及用于将热辐射件与所述基板有间隙地固定于所述开口内的热辐射件固定单元;
以及传动机构,与所述固定框连接,并传动连接于外部动力机构。
2.根据权利要求1所述的一种基板架,其特征在于:所述基板固定单元和所述热辐射件固定单元被构建为使得基板和热辐射件平行设置。
3.根据权利要求1所述的一种基板架,其特征在于:所述基板固定单元、所述热辐射件固定单元中的至少一个为固定设置于所述固定框开口处的固定块,所述固定块上设有允许所述基板或所述热辐射件卡入的凹槽。
4.根据权利要求1所述的一种基板架,其特征在于:所述固定机构为固定夹具,所述固定夹具的一端包括与所述固定框连接的夹具固定单元,所述固定夹具的另一端包括所述基板固定单元和所述热辐射件固定单元。
5.根据权利要求4所述的一种基板架,其特征在于:所述夹具固定单元为设于所述固定夹具一端面的夹具卡槽,所述基板固定单元和所述热辐射件固定单元分别为设于所述固定夹具另一端面上的基板卡槽和热辐射件卡槽,所述基板卡槽与所述热辐射件卡槽间隔平行设置。
6.据权利要求1所述的一种基板架,其特征在于:所述固定框的内侧设有向所述开口中部延伸的若干凸台,所述凸台包括与所述基板边缘抵接的第一限位面以及与所述热辐射件边缘抵接的第二限位面,所述第一限位面和所述第二限位面位于所述凸台的相对设置的两侧;所述固定框上分别设有将所述基板卡设固定于所述第一限位面上的第一卡扣,以及将所述热辐射件卡设固定于所述第二限位面上的第二卡扣;所述第一卡扣与所述第一限位面构成所述基板固定单元,所述第二卡扣与所述第二限位面构成所述热辐射件固定单元。
7.根据权利要求1所述的一种基板架,其特征在于:还包括导向机构,所述导向机构与所述传动机构相对地设置于所述固定框的另一侧,并连接于外部防倾机构。
8.根据权利要求7所述的一种基板架,其特征在于:还包括连接所述固定框与所述导向机构以及连接所述固定框与所述传动机构的绝缘单元。
9.一种镀膜设备,其特征在于,包括:
若干镀膜腔室,所述腔室内设有动力机构;
以及基板架,所述基板架的传动机构与所述动力机构传动连接,其中所述基板架为如权利要求1-8任意一项所述的基板架。
10.根据权利要求9所述的一种镀膜设备,其特征在于,基板架中固定的热辐射件为碳板。
CN201921011136.7U 2019-06-28 2019-06-28 一种基板架以及一种镀膜设备 Active CN210458355U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201921011136.7U CN210458355U (zh) 2019-06-28 2019-06-28 一种基板架以及一种镀膜设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201921011136.7U CN210458355U (zh) 2019-06-28 2019-06-28 一种基板架以及一种镀膜设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN210458355U true CN210458355U (zh) 2020-05-05

Family

ID=70443099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201921011136.7U Active CN210458355U (zh) 2019-06-28 2019-06-28 一种基板架以及一种镀膜设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN210458355U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004527900A (ja) 均一に基板を加熱するためのチャンバー
US20180119278A1 (en) Pecvd boat
TWI293992B (en) Elastomer bonding of large area sputtering target
US6827788B2 (en) Substrate processing device and through-chamber
US8276959B2 (en) Magnetic pad for end-effectors
EP0747505A2 (en) Apparatus and method for depositing a substance with temperature control
WO2005029540A2 (en) Substrate carrier for electroplating solar cells
TW201522719A (zh) 電鍍裝置
KR20100089774A (ko) 플라즈마 처리 시스템에 사용하기 위한 자기 클립 및 기판 홀더
CN210458355U (zh) 一种基板架以及一种镀膜设备
JP6416261B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
US20060237304A1 (en) Electroplating apparatus
CN210765561U (zh) 一种夹持机构及电镀装置
CN210163543U (zh) 一种陶瓷基板镀铜用挂具
KR200493207Y1 (ko) 기판을 지지하기 위한 캐리어 및 이를 위한 장치
US10947640B1 (en) CVD reactor chamber with resistive heating for silicon carbide deposition
WO2017050379A1 (en) Carrier for carrying a substrate in a material deposition process and method for carrying a substrate
US11111600B1 (en) Process chamber with resistive heating
TW202002152A (zh) 基板固持器
JP2607524Y2 (ja) プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置
US20040223751A1 (en) Evaporation apparatus
TW202124789A (zh) 基板固持器及具備該基板固持器之基板鍍覆裝置、及電氣接點
KR20150043144A (ko) 증착용 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 증착 장치
JP3001882B1 (ja) プリント基板の保持装置
KR20120122184A (ko) 기판처리시스템 및 그에 사용되는 트레이

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP03 "change of name, title or address"

Address after: No. 3168, Fuyuan Third Road, high tech Zone, Zaozhuang City, Shandong Province

Patentee after: Zaozhuang Ruinuo Electronic Technology Co., Ltd

Address before: 277000, No. 15, building 322, Internet Town, Zaozhuang hi tech Zone, Shandong

Patentee before: ZAOZHUANG VISIONOX ELECTRONIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

CP03 "change of name, title or address"