JP3610808B2 - 薄膜製造装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は薄膜製造装置に関し、特に搬送される可撓性基板を成膜室で停止させ、その可撓性基板の面上にＣＶＤ（化学蒸着）法あるいはスパッタリング法などにより成膜処理し、この可撓性基板の搬送、停止および成膜処理を繰り返すことにより長尺の可撓性基板にたとえば薄膜太陽電池のような薄膜光電変換素子を連続して製造することができる薄膜製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜光電変換素子を連続して成膜する薄膜製造装置では、一般に、送出しロールに巻かれた可撓性基板をステップ搬送し、真空中で複数の成膜処理工程を経て再度巻取りロールに巻き取るロールツーロール方式が用いられている。このように薄膜光電変換素子を連続的に成膜する装置として、たとえば特開昭５９−８４５８５号公報に記載の製造装置が知られている。
【０００３】
図１０は従来の可撓性基板のロールツーロール方式の薄膜製造装置の概略構造を示す図である。薄膜製造装置１００は、その両端部に、可撓性基板１０１を送り出すための送出しロール１０２を設置した送出室１０３と光電変換素子が成膜された可撓性基板１０１を巻き取るための巻取りロール１０４を設置した巻取室１０５とを備えている。送出室１０３と巻取室１０５との間には、複数の、ここでは三つの成膜室１０６，１０７，１０８が設置され、さらに成膜室１０６と成膜室１０７との間および成膜室１０７と成膜室１０８との間には、それぞれ予備真空室１０９，１１０が設置されている。送出室１０３、巻取室１０５、成膜室１０６，１０７，１０８および予備真空室１０９，１１０は、それぞれ各部屋を独立して減圧するための真空ポンプ１１１〜１１７が設置されている。また、成膜室１０６，１０７，１０８の各壁面には、それぞれ狭小スリット１１８〜１２３が開設されており、これらの狭小スリット１１８〜１２３を介して、送出室１０３に設置された送出しロール１０２と巻取室１０５に設置された巻取りロール１０４との間で可撓性基板１０１が搬送されるようにしている。
【０００４】
可撓性基板１０１に薄膜光電変換素子を成膜する場合、各成膜室１０６，１０７，１０８は、真空ポンプ１１３，１１４，１１５により所定の圧力まで減圧されるとともに必要な成膜ガスがそれぞれ導入される。一方、成膜室１０６，１０７，１０８の間に隣接配置された予備真空室１０９，１１０においても、それぞれ真空ポンプ１１６，１１７による減圧が行われ、各成膜室１０６，１０７，１０８に導入された成膜ガスが狭小スリット１１９〜１２２を通じて他の成膜室へ流入しないようにし、さらに狭小スリット１１８，１２３を介して成膜室１０６，１０８と連通している送出室１０３および巻取室１０５においても成膜室１０６，１０８との圧力のバランスを取るため、真空ポンプ１１１，１１２により所定の圧力まで減圧される。この状態で、可撓性基板１０１は、成膜室１０６，１０７，１０８の狭小スリット１１８〜１２３を介してステップ搬送され、停止した成膜室でスパッタリング法あるいは蒸着法による成膜処理が行われる。たとえば成膜室１０６では透光性かつ絶縁性の可撓性基板１０１に透明電極が形成され、成膜室１０７ではその透明電極にｐ型、ｉ型、ｎ型の非晶質シリコンを順次積層することで太陽電池が形成され、成膜室１０８ではその非晶質太陽電池に対向電極が形成される。
【０００５】
以上のように成膜室間に予備真空室を設け、狭小スリットおよび真空ポンプによる排気構成にて他の成膜室への成膜ガスの流入を防止する構造では、成膜圧力を決定する際に成膜室と予備真空室との間の圧力をコントロールする必要がある。そのため、２台の真空ポンプ系統の圧力を調整することになるが、その調整のために多くの時間を要していた。また、成膜ガスは、ガス体ゆえにガスの拡散による漏洩は完全に防止することができず、成膜に他室のガス種が混入し、目的の膜品質を損なうことがあった。そこで、各ステップでの成膜処理のときに、成膜室壁面の狭小スリットを機械的にシールして室間の成膜ガスの漏れを防止することが提案されている。
【０００６】
図１１は狭小スリットにおけるシール部の構成例を示す図である。図示のシール部は、図１０に示した薄膜製造装置のたとえば狭小スリット１１８，１１９，１２１，１２３において、成膜室１０６，１０７，１０８の外側に設置される。ここでは、一例として、送出室１０３と成膜室１０６とを連通している狭小スリット１１８に設置した場合を示す。
【０００７】
シール部は、弾性体で形成された弾性シール材１３１と、昇降機構を成すハンドル１３２および押圧部１３３と、受圧部１３４とから構成される。弾性シール材１３１は、狭小スリット１１８の開口部回りを囲うように搬送方向下流側端部が送出室１０３の壁面に嵌合され、その壁面から突出した部分が狭小スリット１１８を貫通する可撓性基板１０１を囲うようほぼ断面長方形の形に一体に成形されている。ハンドル１３２は、そのシャフトが壁面に固定された保持部１３５に螺合されており、送出室１０３の外からハンドル１３２を回動させることによりシャフトの下端部に設けられた押圧部１３３を上下運動するようにしている。
【０００８】
可撓性基板１０１を搬送するときには、押圧部１３３は図示の上部位置にあって、弾性シール材１３１は、狭小スリット１１８と連通するよう中央部が開口して可撓性基板１０１を接触させることなく搬送させることができる。成膜時は、ハンドル１３２によって押圧部１３３を降下させ、弾性シール材１３１を受圧部１３４との間で弾性変形させることにより、弾性シール材１３１の中央開口部が押しつぶされ、弾性シール材１３１を挾持する。これにより、狭小スリット１１８は密閉状態にされ、成膜室１０６の成膜ガスが送出室１０３へ漏れることがなくなる。
【０００９】
このシール部をさらに各成膜室１０６，１０７，１０８の下流側壁面の外側に設けることにより、成膜室間、成膜室１０６と送出室１０３との間および成膜室１０８と巻取室１０５との間を機械的にシールすることができ、成膜ガスの他室への漏れを防止することができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の薄膜製造装置では、成膜室間に予備真空室を配置した構成であるため、成膜用の真空ポンプの他に予備真空室用のポンプが必要となるが、これらは高価格であるため装置コストが高くなってしまうという問題点があった。
【００１１】
また、可撓性基板が通過する空間を有するよう一体に成形された弾性シール材を可撓性基板が通過する成膜室の狭小スリットに設置し、弾性シール材を押しつぶして可撓性基板を挾持して密着シールすることにより成膜室間の成膜ガスの漏れを防止しているが、この弾性シール材の可動部は機械的寿命が短く、交換する頻度が高くなる。しかも、弾性シール材が取り付けられるシール部の構造が複雑であるため、取り付けに際しての作業性が悪く、確認試験にも時間がかかってしまう。さらに、一体で製作された弾性シール材の可撓性基板を通過させる空間を広く形成することは難しく、どうしても弾性シール材と可撓性基板との隙間が狭少となるが、この狭少空間のため、実際の可撓性基板の搬送では可撓性基板の上下振動もあり、可撓性基板と弾性シール材とが接して発塵し、可撓性基板を汚染してしまうという問題点があった。
【００１２】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、低コストでメンテナンス性がよく、不純物の影響がなくて成膜品質の高い薄膜製造装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記の問題点を解決するために、ロールに巻かれた可撓性基板をステップ搬送し、真空中で複数の成膜処理を経て再度ロールに巻取ることで前記可撓性基板への成膜を連続的に行う薄膜製造装置において、ロール状に巻かれた可撓性基板を出し入れ可能な扉を有し、前記可撓性基板をセットして送り出す送り用予備真空室と、成膜処理が終了した前記可撓性基板を巻取り、巻取られた前記可撓性基板を出し入れ可能な扉を有する巻取り用予備真空室と、前記送り用予備真空室と前記巻取り用予備真空室との間に一列に配置された複数の成膜室と、前記送り用予備真空室および前記巻取り用予備真空室の中にそれぞれ設置されて隣接する前記成膜室との連通穴に前記可撓性基板を挿通した状態で前記連通穴を真空シールする側壁シール手段と、隣接する前記成膜室の間に密着配置され、前記隣接する成膜室を連通させる連通穴を有し、該連通穴に前記可撓性基板を挿通した状態で前記連通穴を真空シールする室間シール手段と、を備えたことを特徴とする薄膜製造装置が提供される。なお、好ましくは、前記送り用予備真空室に設置されて新たにセットされた可撓性基板をセット済みの可撓性基板の後縁部に接続する基板接続手段をさらに備えるとよい。
【００１４】
このような薄膜製造装置によれば、可撓性基板を各成膜室に順次ステップ搬送するときには、送り用予備真空室および巻取り用予備真空室に設置された側壁シール手段および各成膜室間に配置された室間シール手段は開放状態にされて、各連通穴を可撓性基板が自由に搬送されるようにする。また、成膜処理のときには、側壁シール手段および室間シール手段はそれぞれ密閉状態にされて、各連通穴を真空シールし、各室を独立させ、各成膜室を個々の成膜条件にすることができる。また、送り用予備真空室および巻取り用予備真空室に設置された扉は、各成膜室を真空状態に保持した状態で開閉可能であり、成膜処理中に新しい可撓性基板をセットしたり巻取られた可撓性基板を取り出したりすることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明による薄膜製造装置の断面を示す構成図である。この薄膜製造装置は、送り用予備真空室１と、第１の成膜室２と、室間シール部３と、第２の成膜室４と、巻取り用予備真空室５とを一列に配置して構成されている。なお、ここでは、説明を簡単にするために、成膜室が二つの場合について説明するが、三つ以上の成膜室を備える場合においても同様に、成膜室間にそれぞれ室間シール部が設置され、室間の真空シールを行っている。
【００１６】
送り用予備真空室１には、成膜処理前の可撓性基板６がロール状に巻回された送り出しロール７がセットされている。送り用予備真空室１と第１の成膜室２との境界を成す側壁８には、可撓性基板６を挿通させる連通穴９が開設されており、この連通穴９を開閉するための側壁シール部１０が送り用予備真空室１内に設けられている。送り用予備真空室１および側壁８の連通穴９には、送り出しロール７から送り出された可撓性基板６を第１の成膜室２に導くためのガイドロール１１，１２が設けられ、送り出しロール７とガイドロール１１との間には基板接続部１３が設けられている。また、送り用予備真空室１の側面側には、送り出しロール７を補給するための扉１４が開閉可能に設けられている。そして、この送り用予備真空室１は、室内を排気する真空ポンプ１５が接続されている。
【００１７】
第１の成膜室２および第２の成膜室４は、送り用予備真空室１から搬送されてきた可撓性基板６にＣＶＤ法にて成膜処理を行うためのヒータ２１，２２および電極部２３，２４を備え、ヒータ２１，２２にはヒータ電源２５，２６が接続され、電極部２３，２４にはプラズマ放電を生じさせるための高周波電源２７，２８と図示しない成膜ガス源とが接続されている。また、第１の成膜室２および第２の成膜室４は、それぞれ室内を排気するための真空ポンプ２９，３０が接続されている。
【００１８】
室間シール部３は、第１の成膜室２から送り出された可撓性基板６を第２の成膜室４へ搬送するための連通穴３１と、この連通穴３１を密閉または開放する機構とを備えている。この室間シール部３の詳細な説明は後述する。
【００１９】
巻取り用予備真空室５は、送り用予備真空室１と同様に、第２の成膜室４との間の側壁４１に開設された連通穴４２を開閉するための側壁シール部４３と、第２の成膜室４から搬送された可撓性基板６を巻取りロール４４まで案内するガイドロール４５，４６と、可撓性基板６の巻き取りが済んだ巻取りロール４４を取り出すための扉４７とを備え、さらに、室内を排気する真空ポンプ４８が接続されている。
【００２０】
図示の薄膜製造装置は、第１の成膜室２および第２の成膜室４にて、可撓性基板６に成膜処理を行っているときの状態を示すもので、側壁シール部１０は第１の成膜室２との連通穴９を可撓性基板６を介してシールし、室間シール部３は第１の成膜室２と第２の成膜室４との間の連通穴３１を可撓性基板６を介してシールし、側壁シール部４３は第２の成膜室４との連通穴４２を可撓性基板６を介してシールしている。これにより、送り用予備真空室１、第１の成膜室２、第２の成膜室４および巻取り用予備真空室５は、独立した真空室を形成している。
【００２１】
なお、送り出しロール７の基板搬送上に設置された基板接続部１３は、可撓性基板６が送り出しロール７になくなったとき、次の送り出しロールをセットし、その可撓性基板の前縁部を先の可撓性基板６の後縁部と接続するためのもので、これにより可撓性基板の搬送切れをなくすことを可能にしている。また、送り出しロール７および巻取りロール４４の取り付け、取り外しは、側壁シール部１０，４３を閉じた状態、すなわち第１の成膜室２および第２の成膜室４の真空状態を保持した状態で、扉１４，４７を開放し、送り用予備真空室１および巻取り用予備真空室５を大気圧に復帰して行うことができる。
【００２２】
この薄膜製造装置による成膜処理は、側壁シール部１０，４３および室間シール部３を図示のように閉じた状態で行われる。すなわち、真空ポンプ２９，４８により第１の成膜室２および第２の成膜室４を真空引きし、第１の成膜室２および第２の成膜室４に成膜ガスを導入し、ヒータ２１，２２には加熱用電力を、電極部２３，２４には高周波電力を印加して成膜処理をする。
【００２３】
図２は可撓性基板を搬送している時の薄膜製造装置の断面を示す構成図である。第１の成膜室２および第２の成膜室４における各成膜プロセスの終了後、可撓性基板６はステップ搬送されるが、その際、送り用予備真空室１の側壁シール部１０、室間シール部３、および巻取り用予備真空室５の側壁シール部４３は、それぞれ開放動作が行われ、真空シールしていた連通穴９，３１，４２を開放状態にし、可撓性基板６を自由に搬送することができるようにする。
【００２４】
次に、側壁シール部１０，４３および室間シール部３の構造について詳細に説明する。なお、側壁シール部１０，４３は同じ構造を有しているので、ここでは、送り用予備真空室１に設置された側壁シール部１０について説明する。
【００２５】
図３は側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。側壁シール部１０は、側壁８の送り用予備真空室１内の壁面において連通穴９の外周に所定間隔を置いて一部埋設状態で設けられた弾性体の固定シール５１と、支軸５２を中心として揺動可能に軸支された、たとえばステンレス材料などによって製作されたシートプレート５３と、このシートプレート５３に固定シール５１と対向するように保持された弾性体の可動シール５４とから構成されている。支軸５２は、送り用予備真空室１の外部に設置されてシートプレート５３を開閉動作させるアクチュエータに接続されている。また、送り用予備真空室１内に設置されたガイドロール１１および連通穴９に設置されたガイドロール１２は、可撓性基板６が送り出しロール７から送り出されて固定シール５１と可動シール５４との間を通る際に、その可撓性基板６を側壁８の面とほぼ平行になるような位置に配置されている。
【００２６】
ここで、送り出しロール７に巻回された可撓性基板６を第１の成膜室２に搬送するときには、支軸５２に接続されたアクチュエータが支軸５２を図の時計回りに回転駆動することで、図示のように、シートプレート５３を開動作される。このとき、送り出しロール７から送られた可撓性基板６は、まず、ガイドロール１１によって鉛直方向に方向転換され、側壁８の面と平行に搬送され、次に、ガイドロール１２によって水平方向に方向転換され、連通穴９を通って第１の成膜室２に導かれる。このとき、可撓性基板６は、ガイドロール１１，１２以外に接触されることなく、搬送される。
【００２７】
成膜処理のときには、アクチュエータが支軸５２を図の反時計回りに回転駆動することで、シートプレート５３に設けられた可動シール５４が側壁８に設けられた固定シール５１と可撓性基板６を挟んで密着される。これにより、可撓性基板６を連通穴９に挿通した状態のまま、送り用予備真空室１と第１の成膜室２との間の真空シールが行われる。
【００２８】
図４は別の側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。この側壁シール部１０は、支軸５２を中心として揺動可能に軸支されたシートプレート５３と、側壁８に開設された連通穴９の外周部を囲うようにシートプレート５３に保持された弾性体の可動シール５４とから構成され、可動シール５４と対向する送り用予備真空室１側の側壁８の壁面８ａを平滑に研磨処理されている。
【００２９】
以上の構成により、成膜処理のためにシートプレート５３が図の反時計回りに回転駆動されて連通穴９を閉止したときには、可動シール５４が側壁８に押し付けられることにより、可撓性基板６を挟んで側壁８の平滑面と密着状態にされる。この可動シール５４による押し付けシールにより、可撓性基板６を連通穴９に挿通した状態のまま、送り用予備真空室１と第１の成膜室２との間を真空シールすることができる。
【００３０】
図５は開放位置にある室間シール部を示す断面図、図６は開放位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図、図７は閉止位置にある室間シール部を示す断面図、図８は閉止位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図である。室間シール部３は、弾性シール３２と、この弾性シール３２を保持するシートプレート３３と、これらを収容する筐体３４と、この筐体３４内で弾性シール３２が内壁面と接触しないよう上下方向に直動させるガイドローラ３５と、シートプレート３３をたとえば空気圧により上下方向に駆動する開閉アクチュエータ３６とから構成される。シートプレート３３は、たとえばステンレス材料などで製作されている。筐体３４の下部には、可撓性基板６を挿通させる連通穴３１が形成されている。図６および図８に示したように、シートプレート３３に保持された弾性シール３２の幅は、連通穴３１の開口幅より大きく形成されている。また、弾性シール３２が往復運動する筐体３４の内部において、連通穴３１よりも外側の下部形状は、図５および図７に見られるように、略Ｕ字状に形成され、弾性シール３２はこの形状に合わせた外部形状に形成されている。筐体３４の内部形状において、連通穴３１と連絡される垂直の内壁部分および曲面部分は側面シール３７および曲面シール３８を構成し、連通穴３１の底面は下部シール３９を構成している。また、側面シール３７、曲面シール３８および下部シール３９の面は、それぞれ平滑に研磨処理されている。
【００３１】
可撓性基板６を搬送するときには、図５および図６に示したように、室間シール部３は、開閉アクチュエータ３６がシートプレート３３を上方に駆動させることにより、弾性シール３２が連通穴３１の空間から待避され、可撓性基板６は連通穴３１を自由に動くことができるようになる。この状態で、可撓性基板６のステップ搬送が行うことができる。
【００３２】
第１の成膜室２および第２の成膜室４にて成膜処理を行うときには、開閉アクチュエータ３６はシートプレート３３を下方に駆動する。すると、弾性シール３２はガイドローラ３５に案内されて筐体３４の内壁面に接触することなく降下され、可撓性基板６を介して下部シール３９を押し付ける。これにより、弾性シール３２は弾性変形され、ガイドローラ３５が設置された側の端部は、側面シール３７および曲面シール３８の形状に合わせて変形されることにより連通穴３１の開口両側面がガスシールされる。また、連通穴３１に位置する弾性シール３２の中央部分は、図７の断面図に示したように、筐体３４の内壁面よりも外側にはみ出た形に弾性変形され、可撓性基板６を介して下部シール３９と密着され、連通穴３１の開口上下面がガスシールされる。この弾性シール３２の下部シール３９への押し付け動作により、連通穴３１が塞がれ、第１の成膜室２および第２の成膜室４は完全に仕切られる。
【００３３】
図９は室間シール部の別の構成例を示す断面図である。この室間シール部３によれば、弾性シール３２と対向する連通穴３１の底面に弾性シール体４０を設置して下部シールを構成している。これにより、連通穴３１の底面を平滑に研磨処理する必要がなく、室間シール部３の閉動作により、弾性シール体４０はシートプレート３３に保持された弾性シール３２と協働して連通穴３１を完全に密閉することができる。
【００３４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、各部屋間に設けられた連通穴を可撓性基板を挿通した状態で真空シールできるようにして、従来の装置で必要であった成膜室間の予備真空室および予備真空室を真空引きする真空ポンプおよび成膜室と予備真空室間の圧力コントロールが不要な構成にした。これにより、低コストで不純物の影響のない成膜品質の高い薄膜製造装置を提供することができる。
【００３５】
また、シール部はステンレス材料などで製作されたシートプレートに弾性シールを形成しているため、従来よりもシール寿命が延長され、また、シール機構の構造もシンプルであるため、取り付けおよびメンテナンス作業を短時間に容易に行なうことができる。
【００３６】
さらに、可撓性基板の搬送時に可撓性基板と弾性シールとが接触しない空間を維持できる構造であるため、発塵のないクリーンなプロセスを実現することができる。
【００３７】
また、可撓性基板の交換を成膜室の真空を保持したまま送り用予備真空室および巻取り用予備真空室のみを大気に復帰し行なうことができるため、装置稼動の信頼性が高く、スループットの向上を図った量産用としての薄膜製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による薄膜製造装置の断面を示す構成図である。
【図２】可撓性基板を搬送している時の薄膜製造装置の断面を示す構成図である。
【図３】側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。
【図４】別の側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。
【図５】開放位置にある室間シール部を示す断面図である。
【図６】開放位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図である。
【図７】閉止位置にある室間シール部を示す断面図である。
【図８】閉止位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図である。
【図９】室間シール部の別の構成例を示す断面図である。
【図１０】従来の可撓性基板のロールツーロール方式の薄膜製造装置の概略構造を示す図である。
【図１１】狭小スリットにおけるシール部の構成例を示す図である。
【符号の説明】
１ 送り用予備真空室
２ 第１の成膜室
３ 室間シール部
４ 第２の成膜室
５ 巻取り用予備真空室
６ 可撓性基板
７ 送り出しロール
８ 側壁
９ 連通穴
１０ 側壁シール部
１１ ガイドロール
１２ ガイドロール
１３ 基板接続部
１４ 扉
１５ 真空ポンプ
２１，２２ ヒータ
２３，２４ 電極部
２５，２６ ヒータ電源
２７，２８ 高周波電源
２９，３０ 真空ポンプ
３１ 連通穴
３２ 弾性シール
３３ シートプレート
３４ 筐体
３５ ガイドローラ
３６ 開閉アクチュエータ
３７ 側面シール
３８ 曲面シール
３９ 下部シール
４０ 弾性シール体
４１ 側壁
４２ 連通穴
４３ 側壁シール部
４４ ロール
４５，４６ ガイドロール
４７ 扉
４８ 真空ポンプ
５１ 固定シール
５２ 支軸
５３ シートプレート
５４ 可動シール
【発明の属する技術分野】
本発明は薄膜製造装置に関し、特に搬送される可撓性基板を成膜室で停止させ、その可撓性基板の面上にＣＶＤ（化学蒸着）法あるいはスパッタリング法などにより成膜処理し、この可撓性基板の搬送、停止および成膜処理を繰り返すことにより長尺の可撓性基板にたとえば薄膜太陽電池のような薄膜光電変換素子を連続して製造することができる薄膜製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
薄膜光電変換素子を連続して成膜する薄膜製造装置では、一般に、送出しロールに巻かれた可撓性基板をステップ搬送し、真空中で複数の成膜処理工程を経て再度巻取りロールに巻き取るロールツーロール方式が用いられている。このように薄膜光電変換素子を連続的に成膜する装置として、たとえば特開昭５９−８４５８５号公報に記載の製造装置が知られている。
【０００３】
図１０は従来の可撓性基板のロールツーロール方式の薄膜製造装置の概略構造を示す図である。薄膜製造装置１００は、その両端部に、可撓性基板１０１を送り出すための送出しロール１０２を設置した送出室１０３と光電変換素子が成膜された可撓性基板１０１を巻き取るための巻取りロール１０４を設置した巻取室１０５とを備えている。送出室１０３と巻取室１０５との間には、複数の、ここでは三つの成膜室１０６，１０７，１０８が設置され、さらに成膜室１０６と成膜室１０７との間および成膜室１０７と成膜室１０８との間には、それぞれ予備真空室１０９，１１０が設置されている。送出室１０３、巻取室１０５、成膜室１０６，１０７，１０８および予備真空室１０９，１１０は、それぞれ各部屋を独立して減圧するための真空ポンプ１１１〜１１７が設置されている。また、成膜室１０６，１０７，１０８の各壁面には、それぞれ狭小スリット１１８〜１２３が開設されており、これらの狭小スリット１１８〜１２３を介して、送出室１０３に設置された送出しロール１０２と巻取室１０５に設置された巻取りロール１０４との間で可撓性基板１０１が搬送されるようにしている。
【０００４】
可撓性基板１０１に薄膜光電変換素子を成膜する場合、各成膜室１０６，１０７，１０８は、真空ポンプ１１３，１１４，１１５により所定の圧力まで減圧されるとともに必要な成膜ガスがそれぞれ導入される。一方、成膜室１０６，１０７，１０８の間に隣接配置された予備真空室１０９，１１０においても、それぞれ真空ポンプ１１６，１１７による減圧が行われ、各成膜室１０６，１０７，１０８に導入された成膜ガスが狭小スリット１１９〜１２２を通じて他の成膜室へ流入しないようにし、さらに狭小スリット１１８，１２３を介して成膜室１０６，１０８と連通している送出室１０３および巻取室１０５においても成膜室１０６，１０８との圧力のバランスを取るため、真空ポンプ１１１，１１２により所定の圧力まで減圧される。この状態で、可撓性基板１０１は、成膜室１０６，１０７，１０８の狭小スリット１１８〜１２３を介してステップ搬送され、停止した成膜室でスパッタリング法あるいは蒸着法による成膜処理が行われる。たとえば成膜室１０６では透光性かつ絶縁性の可撓性基板１０１に透明電極が形成され、成膜室１０７ではその透明電極にｐ型、ｉ型、ｎ型の非晶質シリコンを順次積層することで太陽電池が形成され、成膜室１０８ではその非晶質太陽電池に対向電極が形成される。
【０００５】
以上のように成膜室間に予備真空室を設け、狭小スリットおよび真空ポンプによる排気構成にて他の成膜室への成膜ガスの流入を防止する構造では、成膜圧力を決定する際に成膜室と予備真空室との間の圧力をコントロールする必要がある。そのため、２台の真空ポンプ系統の圧力を調整することになるが、その調整のために多くの時間を要していた。また、成膜ガスは、ガス体ゆえにガスの拡散による漏洩は完全に防止することができず、成膜に他室のガス種が混入し、目的の膜品質を損なうことがあった。そこで、各ステップでの成膜処理のときに、成膜室壁面の狭小スリットを機械的にシールして室間の成膜ガスの漏れを防止することが提案されている。
【０００６】
図１１は狭小スリットにおけるシール部の構成例を示す図である。図示のシール部は、図１０に示した薄膜製造装置のたとえば狭小スリット１１８，１１９，１２１，１２３において、成膜室１０６，１０７，１０８の外側に設置される。ここでは、一例として、送出室１０３と成膜室１０６とを連通している狭小スリット１１８に設置した場合を示す。
【０００７】
シール部は、弾性体で形成された弾性シール材１３１と、昇降機構を成すハンドル１３２および押圧部１３３と、受圧部１３４とから構成される。弾性シール材１３１は、狭小スリット１１８の開口部回りを囲うように搬送方向下流側端部が送出室１０３の壁面に嵌合され、その壁面から突出した部分が狭小スリット１１８を貫通する可撓性基板１０１を囲うようほぼ断面長方形の形に一体に成形されている。ハンドル１３２は、そのシャフトが壁面に固定された保持部１３５に螺合されており、送出室１０３の外からハンドル１３２を回動させることによりシャフトの下端部に設けられた押圧部１３３を上下運動するようにしている。
【０００８】
可撓性基板１０１を搬送するときには、押圧部１３３は図示の上部位置にあって、弾性シール材１３１は、狭小スリット１１８と連通するよう中央部が開口して可撓性基板１０１を接触させることなく搬送させることができる。成膜時は、ハンドル１３２によって押圧部１３３を降下させ、弾性シール材１３１を受圧部１３４との間で弾性変形させることにより、弾性シール材１３１の中央開口部が押しつぶされ、弾性シール材１３１を挾持する。これにより、狭小スリット１１８は密閉状態にされ、成膜室１０６の成膜ガスが送出室１０３へ漏れることがなくなる。
【０００９】
このシール部をさらに各成膜室１０６，１０７，１０８の下流側壁面の外側に設けることにより、成膜室間、成膜室１０６と送出室１０３との間および成膜室１０８と巻取室１０５との間を機械的にシールすることができ、成膜ガスの他室への漏れを防止することができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の薄膜製造装置では、成膜室間に予備真空室を配置した構成であるため、成膜用の真空ポンプの他に予備真空室用のポンプが必要となるが、これらは高価格であるため装置コストが高くなってしまうという問題点があった。
【００１１】
また、可撓性基板が通過する空間を有するよう一体に成形された弾性シール材を可撓性基板が通過する成膜室の狭小スリットに設置し、弾性シール材を押しつぶして可撓性基板を挾持して密着シールすることにより成膜室間の成膜ガスの漏れを防止しているが、この弾性シール材の可動部は機械的寿命が短く、交換する頻度が高くなる。しかも、弾性シール材が取り付けられるシール部の構造が複雑であるため、取り付けに際しての作業性が悪く、確認試験にも時間がかかってしまう。さらに、一体で製作された弾性シール材の可撓性基板を通過させる空間を広く形成することは難しく、どうしても弾性シール材と可撓性基板との隙間が狭少となるが、この狭少空間のため、実際の可撓性基板の搬送では可撓性基板の上下振動もあり、可撓性基板と弾性シール材とが接して発塵し、可撓性基板を汚染してしまうという問題点があった。
【００１２】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、低コストでメンテナンス性がよく、不純物の影響がなくて成膜品質の高い薄膜製造装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記の問題点を解決するために、ロールに巻かれた可撓性基板をステップ搬送し、真空中で複数の成膜処理を経て再度ロールに巻取ることで前記可撓性基板への成膜を連続的に行う薄膜製造装置において、ロール状に巻かれた可撓性基板を出し入れ可能な扉を有し、前記可撓性基板をセットして送り出す送り用予備真空室と、成膜処理が終了した前記可撓性基板を巻取り、巻取られた前記可撓性基板を出し入れ可能な扉を有する巻取り用予備真空室と、前記送り用予備真空室と前記巻取り用予備真空室との間に一列に配置された複数の成膜室と、前記送り用予備真空室および前記巻取り用予備真空室の中にそれぞれ設置されて隣接する前記成膜室との連通穴に前記可撓性基板を挿通した状態で前記連通穴を真空シールする側壁シール手段と、隣接する前記成膜室の間に密着配置され、前記隣接する成膜室を連通させる連通穴を有し、該連通穴に前記可撓性基板を挿通した状態で前記連通穴を真空シールする室間シール手段と、を備えたことを特徴とする薄膜製造装置が提供される。なお、好ましくは、前記送り用予備真空室に設置されて新たにセットされた可撓性基板をセット済みの可撓性基板の後縁部に接続する基板接続手段をさらに備えるとよい。
【００１４】
このような薄膜製造装置によれば、可撓性基板を各成膜室に順次ステップ搬送するときには、送り用予備真空室および巻取り用予備真空室に設置された側壁シール手段および各成膜室間に配置された室間シール手段は開放状態にされて、各連通穴を可撓性基板が自由に搬送されるようにする。また、成膜処理のときには、側壁シール手段および室間シール手段はそれぞれ密閉状態にされて、各連通穴を真空シールし、各室を独立させ、各成膜室を個々の成膜条件にすることができる。また、送り用予備真空室および巻取り用予備真空室に設置された扉は、各成膜室を真空状態に保持した状態で開閉可能であり、成膜処理中に新しい可撓性基板をセットしたり巻取られた可撓性基板を取り出したりすることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明による薄膜製造装置の断面を示す構成図である。この薄膜製造装置は、送り用予備真空室１と、第１の成膜室２と、室間シール部３と、第２の成膜室４と、巻取り用予備真空室５とを一列に配置して構成されている。なお、ここでは、説明を簡単にするために、成膜室が二つの場合について説明するが、三つ以上の成膜室を備える場合においても同様に、成膜室間にそれぞれ室間シール部が設置され、室間の真空シールを行っている。
【００１６】
送り用予備真空室１には、成膜処理前の可撓性基板６がロール状に巻回された送り出しロール７がセットされている。送り用予備真空室１と第１の成膜室２との境界を成す側壁８には、可撓性基板６を挿通させる連通穴９が開設されており、この連通穴９を開閉するための側壁シール部１０が送り用予備真空室１内に設けられている。送り用予備真空室１および側壁８の連通穴９には、送り出しロール７から送り出された可撓性基板６を第１の成膜室２に導くためのガイドロール１１，１２が設けられ、送り出しロール７とガイドロール１１との間には基板接続部１３が設けられている。また、送り用予備真空室１の側面側には、送り出しロール７を補給するための扉１４が開閉可能に設けられている。そして、この送り用予備真空室１は、室内を排気する真空ポンプ１５が接続されている。
【００１７】
第１の成膜室２および第２の成膜室４は、送り用予備真空室１から搬送されてきた可撓性基板６にＣＶＤ法にて成膜処理を行うためのヒータ２１，２２および電極部２３，２４を備え、ヒータ２１，２２にはヒータ電源２５，２６が接続され、電極部２３，２４にはプラズマ放電を生じさせるための高周波電源２７，２８と図示しない成膜ガス源とが接続されている。また、第１の成膜室２および第２の成膜室４は、それぞれ室内を排気するための真空ポンプ２９，３０が接続されている。
【００１８】
室間シール部３は、第１の成膜室２から送り出された可撓性基板６を第２の成膜室４へ搬送するための連通穴３１と、この連通穴３１を密閉または開放する機構とを備えている。この室間シール部３の詳細な説明は後述する。
【００１９】
巻取り用予備真空室５は、送り用予備真空室１と同様に、第２の成膜室４との間の側壁４１に開設された連通穴４２を開閉するための側壁シール部４３と、第２の成膜室４から搬送された可撓性基板６を巻取りロール４４まで案内するガイドロール４５，４６と、可撓性基板６の巻き取りが済んだ巻取りロール４４を取り出すための扉４７とを備え、さらに、室内を排気する真空ポンプ４８が接続されている。
【００２０】
図示の薄膜製造装置は、第１の成膜室２および第２の成膜室４にて、可撓性基板６に成膜処理を行っているときの状態を示すもので、側壁シール部１０は第１の成膜室２との連通穴９を可撓性基板６を介してシールし、室間シール部３は第１の成膜室２と第２の成膜室４との間の連通穴３１を可撓性基板６を介してシールし、側壁シール部４３は第２の成膜室４との連通穴４２を可撓性基板６を介してシールしている。これにより、送り用予備真空室１、第１の成膜室２、第２の成膜室４および巻取り用予備真空室５は、独立した真空室を形成している。
【００２１】
なお、送り出しロール７の基板搬送上に設置された基板接続部１３は、可撓性基板６が送り出しロール７になくなったとき、次の送り出しロールをセットし、その可撓性基板の前縁部を先の可撓性基板６の後縁部と接続するためのもので、これにより可撓性基板の搬送切れをなくすことを可能にしている。また、送り出しロール７および巻取りロール４４の取り付け、取り外しは、側壁シール部１０，４３を閉じた状態、すなわち第１の成膜室２および第２の成膜室４の真空状態を保持した状態で、扉１４，４７を開放し、送り用予備真空室１および巻取り用予備真空室５を大気圧に復帰して行うことができる。
【００２２】
この薄膜製造装置による成膜処理は、側壁シール部１０，４３および室間シール部３を図示のように閉じた状態で行われる。すなわち、真空ポンプ２９，４８により第１の成膜室２および第２の成膜室４を真空引きし、第１の成膜室２および第２の成膜室４に成膜ガスを導入し、ヒータ２１，２２には加熱用電力を、電極部２３，２４には高周波電力を印加して成膜処理をする。
【００２３】
図２は可撓性基板を搬送している時の薄膜製造装置の断面を示す構成図である。第１の成膜室２および第２の成膜室４における各成膜プロセスの終了後、可撓性基板６はステップ搬送されるが、その際、送り用予備真空室１の側壁シール部１０、室間シール部３、および巻取り用予備真空室５の側壁シール部４３は、それぞれ開放動作が行われ、真空シールしていた連通穴９，３１，４２を開放状態にし、可撓性基板６を自由に搬送することができるようにする。
【００２４】
次に、側壁シール部１０，４３および室間シール部３の構造について詳細に説明する。なお、側壁シール部１０，４３は同じ構造を有しているので、ここでは、送り用予備真空室１に設置された側壁シール部１０について説明する。
【００２５】
図３は側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。側壁シール部１０は、側壁８の送り用予備真空室１内の壁面において連通穴９の外周に所定間隔を置いて一部埋設状態で設けられた弾性体の固定シール５１と、支軸５２を中心として揺動可能に軸支された、たとえばステンレス材料などによって製作されたシートプレート５３と、このシートプレート５３に固定シール５１と対向するように保持された弾性体の可動シール５４とから構成されている。支軸５２は、送り用予備真空室１の外部に設置されてシートプレート５３を開閉動作させるアクチュエータに接続されている。また、送り用予備真空室１内に設置されたガイドロール１１および連通穴９に設置されたガイドロール１２は、可撓性基板６が送り出しロール７から送り出されて固定シール５１と可動シール５４との間を通る際に、その可撓性基板６を側壁８の面とほぼ平行になるような位置に配置されている。
【００２６】
ここで、送り出しロール７に巻回された可撓性基板６を第１の成膜室２に搬送するときには、支軸５２に接続されたアクチュエータが支軸５２を図の時計回りに回転駆動することで、図示のように、シートプレート５３を開動作される。このとき、送り出しロール７から送られた可撓性基板６は、まず、ガイドロール１１によって鉛直方向に方向転換され、側壁８の面と平行に搬送され、次に、ガイドロール１２によって水平方向に方向転換され、連通穴９を通って第１の成膜室２に導かれる。このとき、可撓性基板６は、ガイドロール１１，１２以外に接触されることなく、搬送される。
【００２７】
成膜処理のときには、アクチュエータが支軸５２を図の反時計回りに回転駆動することで、シートプレート５３に設けられた可動シール５４が側壁８に設けられた固定シール５１と可撓性基板６を挟んで密着される。これにより、可撓性基板６を連通穴９に挿通した状態のまま、送り用予備真空室１と第１の成膜室２との間の真空シールが行われる。
【００２８】
図４は別の側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。この側壁シール部１０は、支軸５２を中心として揺動可能に軸支されたシートプレート５３と、側壁８に開設された連通穴９の外周部を囲うようにシートプレート５３に保持された弾性体の可動シール５４とから構成され、可動シール５４と対向する送り用予備真空室１側の側壁８の壁面８ａを平滑に研磨処理されている。
【００２９】
以上の構成により、成膜処理のためにシートプレート５３が図の反時計回りに回転駆動されて連通穴９を閉止したときには、可動シール５４が側壁８に押し付けられることにより、可撓性基板６を挟んで側壁８の平滑面と密着状態にされる。この可動シール５４による押し付けシールにより、可撓性基板６を連通穴９に挿通した状態のまま、送り用予備真空室１と第１の成膜室２との間を真空シールすることができる。
【００３０】
図５は開放位置にある室間シール部を示す断面図、図６は開放位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図、図７は閉止位置にある室間シール部を示す断面図、図８は閉止位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図である。室間シール部３は、弾性シール３２と、この弾性シール３２を保持するシートプレート３３と、これらを収容する筐体３４と、この筐体３４内で弾性シール３２が内壁面と接触しないよう上下方向に直動させるガイドローラ３５と、シートプレート３３をたとえば空気圧により上下方向に駆動する開閉アクチュエータ３６とから構成される。シートプレート３３は、たとえばステンレス材料などで製作されている。筐体３４の下部には、可撓性基板６を挿通させる連通穴３１が形成されている。図６および図８に示したように、シートプレート３３に保持された弾性シール３２の幅は、連通穴３１の開口幅より大きく形成されている。また、弾性シール３２が往復運動する筐体３４の内部において、連通穴３１よりも外側の下部形状は、図５および図７に見られるように、略Ｕ字状に形成され、弾性シール３２はこの形状に合わせた外部形状に形成されている。筐体３４の内部形状において、連通穴３１と連絡される垂直の内壁部分および曲面部分は側面シール３７および曲面シール３８を構成し、連通穴３１の底面は下部シール３９を構成している。また、側面シール３７、曲面シール３８および下部シール３９の面は、それぞれ平滑に研磨処理されている。
【００３１】
可撓性基板６を搬送するときには、図５および図６に示したように、室間シール部３は、開閉アクチュエータ３６がシートプレート３３を上方に駆動させることにより、弾性シール３２が連通穴３１の空間から待避され、可撓性基板６は連通穴３１を自由に動くことができるようになる。この状態で、可撓性基板６のステップ搬送が行うことができる。
【００３２】
第１の成膜室２および第２の成膜室４にて成膜処理を行うときには、開閉アクチュエータ３６はシートプレート３３を下方に駆動する。すると、弾性シール３２はガイドローラ３５に案内されて筐体３４の内壁面に接触することなく降下され、可撓性基板６を介して下部シール３９を押し付ける。これにより、弾性シール３２は弾性変形され、ガイドローラ３５が設置された側の端部は、側面シール３７および曲面シール３８の形状に合わせて変形されることにより連通穴３１の開口両側面がガスシールされる。また、連通穴３１に位置する弾性シール３２の中央部分は、図７の断面図に示したように、筐体３４の内壁面よりも外側にはみ出た形に弾性変形され、可撓性基板６を介して下部シール３９と密着され、連通穴３１の開口上下面がガスシールされる。この弾性シール３２の下部シール３９への押し付け動作により、連通穴３１が塞がれ、第１の成膜室２および第２の成膜室４は完全に仕切られる。
【００３３】
図９は室間シール部の別の構成例を示す断面図である。この室間シール部３によれば、弾性シール３２と対向する連通穴３１の底面に弾性シール体４０を設置して下部シールを構成している。これにより、連通穴３１の底面を平滑に研磨処理する必要がなく、室間シール部３の閉動作により、弾性シール体４０はシートプレート３３に保持された弾性シール３２と協働して連通穴３１を完全に密閉することができる。
【００３４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、各部屋間に設けられた連通穴を可撓性基板を挿通した状態で真空シールできるようにして、従来の装置で必要であった成膜室間の予備真空室および予備真空室を真空引きする真空ポンプおよび成膜室と予備真空室間の圧力コントロールが不要な構成にした。これにより、低コストで不純物の影響のない成膜品質の高い薄膜製造装置を提供することができる。
【００３５】
また、シール部はステンレス材料などで製作されたシートプレートに弾性シールを形成しているため、従来よりもシール寿命が延長され、また、シール機構の構造もシンプルであるため、取り付けおよびメンテナンス作業を短時間に容易に行なうことができる。
【００３６】
さらに、可撓性基板の搬送時に可撓性基板と弾性シールとが接触しない空間を維持できる構造であるため、発塵のないクリーンなプロセスを実現することができる。
【００３７】
また、可撓性基板の交換を成膜室の真空を保持したまま送り用予備真空室および巻取り用予備真空室のみを大気に復帰し行なうことができるため、装置稼動の信頼性が高く、スループットの向上を図った量産用としての薄膜製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による薄膜製造装置の断面を示す構成図である。
【図２】可撓性基板を搬送している時の薄膜製造装置の断面を示す構成図である。
【図３】側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。
【図４】別の側壁シール部を備えた送り用予備真空室を示す図である。
【図５】開放位置にある室間シール部を示す断面図である。
【図６】開放位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図である。
【図７】閉止位置にある室間シール部を示す断面図である。
【図８】閉止位置にある室間シール部を可撓性基板の搬送方向から見た図である。
【図９】室間シール部の別の構成例を示す断面図である。
【図１０】従来の可撓性基板のロールツーロール方式の薄膜製造装置の概略構造を示す図である。
【図１１】狭小スリットにおけるシール部の構成例を示す図である。
【符号の説明】
１ 送り用予備真空室
２ 第１の成膜室
３ 室間シール部
４ 第２の成膜室
５ 巻取り用予備真空室
６ 可撓性基板
７ 送り出しロール
８ 側壁
９ 連通穴
１０ 側壁シール部
１１ ガイドロール
１２ ガイドロール
１３ 基板接続部
１４ 扉
１５ 真空ポンプ
２１，２２ ヒータ
２３，２４ 電極部
２５，２６ ヒータ電源
２７，２８ 高周波電源
２９，３０ 真空ポンプ
３１ 連通穴
３２ 弾性シール
３３ シートプレート
３４ 筐体
３５ ガイドローラ
３６ 開閉アクチュエータ
３７ 側面シール
３８ 曲面シール
３９ 下部シール
４０ 弾性シール体
４１ 側壁
４２ 連通穴
４３ 側壁シール部
４４ ロール
４５，４６ ガイドロール
４７ 扉
４８ 真空ポンプ
５１ 固定シール
５２ 支軸
５３ シートプレート
５４ 可動シール
Claims (11)
- ロールに巻かれた可撓性基板をステップ搬送し、真空中で複数の成膜処理を経て再度ロールに巻取ることで前記可撓性基板への成膜を連続的に行う薄膜製造装置において、
ロール状に巻かれた可撓性基板を出し入れ可能な扉を有し、前記可撓性基板をセットして送り出す送り用予備真空室と、
成膜処理が終了した前記可撓性基板を巻取り、巻取られた前記可撓性基板を出し入れ可能な扉を有する巻取り用予備真空室と、
前記送り用予備真空室と前記巻取り用予備真空室との間に一列に配置された複数の成膜室と、
前記送り用予備真空室および前記巻取り用予備真空室の中にそれぞれ設置されて隣接する前記成膜室との連通穴に前記可撓性基板を挿通した状態で前記連通穴を真空シールする側壁シール手段と、
隣接する前記成膜室の間に密着配置され、前記隣接する成膜室を連通させる連通穴を有し、該連通穴に前記可撓性基板を挿通した状態で前記連通穴を真空シールする室間シール手段と、
を備えたことを特徴とする薄膜製造装置。 - 前記送り用予備真空室および巻取り用予備真空室は、隣接する成膜室との間の側壁に開設された矩形の連通穴と、該連通穴の中および該連通穴より離れた前記側壁の対向空間に配置されて前記連通穴に入るまたは該連通穴から出る前記可撓性基板を前記連通穴の外周近傍では前記側壁とほぼ平行に搬送されるよう搬送方向を転換するガイドロールとを有することを特徴とする請求項１記載の薄膜製造装置。
- 前記側壁シール手段は、前記送り用予備真空室または巻取り用予備真空室の外部に設置されたアクチュエータにより駆動されて前記連通穴を開閉するシートプレートと、前記側壁に対向する前記シートプレートの面に設けられ、前記シートプレートの閉止駆動時に前記ガイドロールによって前記側壁にほぼ平行に置かれた前記可撓性基板を含む前記連通穴の外周部に押し付けられる可動弾性シールとを有することを特徴とする請求項２記載の薄膜製造装置。
- 前記可動弾性シールが押し付けられる前記側壁の面は、平滑に表面仕上げされていることを特徴とする請求項３記載の薄膜製造装置。
- 前記側壁シール手段は、前記可動弾性シールが押し付けられる前記側壁の面に前記可動弾性シールと対向するように設けられた固定弾性シールを有することを特徴とする請求項３記載の薄膜製造装置。
- 前記室間シール手段は、隣接する前記成膜室を各連通穴が整列するように接続する筐体と、該筐体内に往復動可能に収容されたシートプレートと、該シートプレートの端部に保持された弾性シールと、前記弾性シールが連通穴内に位置する閉止位置と連通穴から待避した開放位置とをとるように前記シートプレートを駆動する開閉アクチュエータとを有することを特徴とする請求項１記載の薄膜製造装置。
- 前記弾性シールは、前記可撓性基板を挿通させる矩形の連通穴の幅より広い幅を有し、前記連通穴の下面に押し付けられる前記閉止位置において前記連通穴を介して幅方向外側に連続する前記筐体内の内部空間の下面と前記連通穴の幅方向外側に位置する前記内部空間の搬送方向前後を規定する側面とに面接する大きさを有することを特徴とする請求項６記載の薄膜製造装置。
- 前記筐体内の内部空間の下面および前記側面は、平滑に表面仕上げされて下部シール部および側面シール部を形成することを特徴とする請求項７記載の薄膜製造装置。
- 前記筐体内の内部空間の下面と前記側面との境界部を曲面として曲面シール部を形成し、前記弾性シールは前記下部シール部、側面シール部および曲面シール部からなる曲面形状に近似した外部形状を有することを特徴とする請求項８記載の薄膜製造装置。
- 前記連通穴の下面に弾性シール体を設置して下部シール部を形成することを特徴とする請求項９記載の薄膜製造装置。
- 前記シートプレートは、前記弾性シールが前記筐体内の内壁面に接触することなく内部空間の中心部を往復動させるガイド手段を有することを特徴とする請求項６記載の薄膜製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01846299A JP3610808B2 (ja) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | 薄膜製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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