JP3071517B2 - ゲートバルブ - Google Patents
ゲートバルブInfo
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- JP3071517B2 JP3071517B2 JP3252022A JP25202291A JP3071517B2 JP 3071517 B2 JP3071517 B2 JP 3071517B2 JP 3252022 A JP3252022 A JP 3252022A JP 25202291 A JP25202291 A JP 25202291A JP 3071517 B2 JP3071517 B2 JP 3071517B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- chamber
- load lock
- gate valve
- lock chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はゲートバルブに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、半導体ウェハ製造工程やＬＣ
Ｄ基板製造工程において真空内で半導体ウェハの処理を
行うものが種々ある。例えば、真空チャンバ内に供給さ
れた反応ガスをプラズマによりラジカルにして、半導体
ウェハ上に薄膜を形成するＣＶＤ装置、ラジカルにより
半導体ウェハの薄膜上に所望のパターンに形成されたレ
ジスト膜により薄膜を所望のパターンに形成するエッチ
ング装置、またはエッチング後のレジスト膜を除去する
アッシング装置等がある。
Ｄ基板製造工程において真空内で半導体ウェハの処理を
行うものが種々ある。例えば、真空チャンバ内に供給さ
れた反応ガスをプラズマによりラジカルにして、半導体
ウェハ上に薄膜を形成するＣＶＤ装置、ラジカルにより
半導体ウェハの薄膜上に所望のパターンに形成されたレ
ジスト膜により薄膜を所望のパターンに形成するエッチ
ング装置、またはエッチング後のレジスト膜を除去する
アッシング装置等がある。
【０００３】これらの装置では、図４に示すように、半
導体ウェハが収納されたカセットから半導体ウェハを搬
出するセンダ１により開かれたゲートバルブＶ1から、
半導体ウェハを一旦ロードロック室２に搬送し、ゲート
バルブＶ1を閉じて、ロードロック室２を真空にする。
その後、真空処理の行われるチャンバ３との間のゲート
バルブＶ2を開いて、半導体ウェハをチャンバ３内に搬
送し、ゲートバルブＶ2を閉じて真空処理を行う。処理
後、チャンバ３に隣接されるロードロック室４を真空に
して、チャンバ３との間に設けられるゲートバルブＶ3
を開きロードロック室４に処理済の半導体ウェハを搬送
する。ゲートバルブＶ3を閉じ、半導体ウェハを収納す
るカセットを備えたレシーバ５にゲートバルブＶ4を通
って搬出するようになっている。このように、チャンバ
３は、２つのロードロック室２、４を真空状態にしてゲ
ートバルブＶ2、Ｖ3を開閉するため、常時真空を維持で
き、効率的な処理が行えるようになっている。このよう
な装置には、複数のチャンバを備えて、ロードロック室
を共有したいわゆるマルチチャンバがある。
導体ウェハが収納されたカセットから半導体ウェハを搬
出するセンダ１により開かれたゲートバルブＶ1から、
半導体ウェハを一旦ロードロック室２に搬送し、ゲート
バルブＶ1を閉じて、ロードロック室２を真空にする。
その後、真空処理の行われるチャンバ３との間のゲート
バルブＶ2を開いて、半導体ウェハをチャンバ３内に搬
送し、ゲートバルブＶ2を閉じて真空処理を行う。処理
後、チャンバ３に隣接されるロードロック室４を真空に
して、チャンバ３との間に設けられるゲートバルブＶ3
を開きロードロック室４に処理済の半導体ウェハを搬送
する。ゲートバルブＶ3を閉じ、半導体ウェハを収納す
るカセットを備えたレシーバ５にゲートバルブＶ4を通
って搬出するようになっている。このように、チャンバ
３は、２つのロードロック室２、４を真空状態にしてゲ
ートバルブＶ2、Ｖ3を開閉するため、常時真空を維持で
き、効率的な処理が行えるようになっている。このよう
な装置には、複数のチャンバを備えて、ロードロック室
を共有したいわゆるマルチチャンバがある。
【０００４】
【発明が解決すべき課題】このような装置のゲートバル
ブは、図５に示すように接続部材６で接続される処理室
３１及び３２の側壁のそれぞれの開口部７１と７２間に
設けられ、上下動機構例えば油圧シリンダ８に接続され
て上下動するゲートベース９と、ゲートベース９にリン
ク１０で接続されるゲートフランジ１１を備える。ゲー
トフランジ１１は、図示しないスプリングでリンクが元
に戻るようゲートベース９に引寄せられるよう負荷され
て接続されている。更に、ゲートフランジ１１の先端１
２にはローラ１４が設けられ、油圧シリンダ８によりゲ
ートベース９が上方に上昇し、ゲートフランジ１１の先
端１２がゲートベース９より先に接続部材６に到達す
る。まだ先端が接続部材６に到達せずに上昇を続けるゲ
ートベース９によりリンク１０が回転してゲートフラン
ジ１１が処理室３２の方向に押され、ローラ１４が接続
部材６に沿って回転して開口部７２に誘導する。開口部
７２の周囲に設けられたＯリング１５にゲートフランジ
１１が密着し、処理室３１及び３２のゲートが閉じられ
るようになっている。
ブは、図５に示すように接続部材６で接続される処理室
３１及び３２の側壁のそれぞれの開口部７１と７２間に
設けられ、上下動機構例えば油圧シリンダ８に接続され
て上下動するゲートベース９と、ゲートベース９にリン
ク１０で接続されるゲートフランジ１１を備える。ゲー
トフランジ１１は、図示しないスプリングでリンクが元
に戻るようゲートベース９に引寄せられるよう負荷され
て接続されている。更に、ゲートフランジ１１の先端１
２にはローラ１４が設けられ、油圧シリンダ８によりゲ
ートベース９が上方に上昇し、ゲートフランジ１１の先
端１２がゲートベース９より先に接続部材６に到達す
る。まだ先端が接続部材６に到達せずに上昇を続けるゲ
ートベース９によりリンク１０が回転してゲートフラン
ジ１１が処理室３２の方向に押され、ローラ１４が接続
部材６に沿って回転して開口部７２に誘導する。開口部
７２の周囲に設けられたＯリング１５にゲートフランジ
１１が密着し、処理室３１及び３２のゲートが閉じられ
るようになっている。
【０００５】処理室３１及び３２を連結する場合は、油
圧シリンダ８が下降すると、まずゲートベース９が下降
し、スプリングとリンク１０により引戻されたゲートフ
ランジ１１が伴に下降してゲートが開かれる。このよう
なゲートバルブは大口径化したＬＣＤの処理装置では、
当然開口部も大きくなりゲートベース９及びゲートフラ
ンジ１１も大型化している。そのため、リンク１０及び
スプリングで開口部７２の開閉をするゲートフランジ１
１の動きがスムーズに行われず、ゲートベース９とゲー
トフランジ１１が平行状態で上下動しないこともあり、
チャンバを密封できず高い真空度を要求される処理装置
に対応できなかった。
圧シリンダ８が下降すると、まずゲートベース９が下降
し、スプリングとリンク１０により引戻されたゲートフ
ランジ１１が伴に下降してゲートが開かれる。このよう
なゲートバルブは大口径化したＬＣＤの処理装置では、
当然開口部も大きくなりゲートベース９及びゲートフラ
ンジ１１も大型化している。そのため、リンク１０及び
スプリングで開口部７２の開閉をするゲートフランジ１
１の動きがスムーズに行われず、ゲートベース９とゲー
トフランジ１１が平行状態で上下動しないこともあり、
チャンバを密封できず高い真空度を要求される処理装置
に対応できなかった。
【０００６】また、摩耗のためＯリング１５の交換を行
う等のメンテナンスの場合は、チャンバあるいはロード
ロック室を移動した上で接続部を外しＯリング交換を行
わなければならず、チャンバあるいはロードロック室を
再度組立てる時に、精度よく位置合わせを行うのは、非
常に時間を要し作業効率が悪かった。本発明は、上記の
欠点を解消するためになされたものであって、大型のＬ
ＣＤ用基板にも対応でき、しかもメンテナンスが非常に
簡単に行え、マルチチャンバにおいてはゲートバルブの
メンテナンス中でも一方の処理室は使用でき、コスト低
減を図ることができるゲートバルブを提供することを目
的とする。
う等のメンテナンスの場合は、チャンバあるいはロード
ロック室を移動した上で接続部を外しＯリング交換を行
わなければならず、チャンバあるいはロードロック室を
再度組立てる時に、精度よく位置合わせを行うのは、非
常に時間を要し作業効率が悪かった。本発明は、上記の
欠点を解消するためになされたものであって、大型のＬ
ＣＤ用基板にも対応でき、しかもメンテナンスが非常に
簡単に行え、マルチチャンバにおいてはゲートバルブの
メンテナンス中でも一方の処理室は使用でき、コスト低
減を図ることができるゲートバルブを提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のゲートバルブは、上下動機構に接続され、
その上下動により２つの処理室の開口部を連結・閉成す
るゲート板、ゲート板を内蔵し、且つゲート板を出し入
れするための出入口を有するゲートチャンバ及びゲート
チャンバに着脱自在に取り付けられて、出入口を閉塞す
る閉塞部材を備えたものである。
め、本発明のゲートバルブは、上下動機構に接続され、
その上下動により２つの処理室の開口部を連結・閉成す
るゲート板、ゲート板を内蔵し、且つゲート板を出し入
れするための出入口を有するゲートチャンバ及びゲート
チャンバに着脱自在に取り付けられて、出入口を閉塞す
る閉塞部材を備えたものである。
【０００８】
【作用】２つの処理室の開口部間に設けられるゲートバ
ルブは、上下動して２つの処理室を連結したり、閉成し
たりするゲート板を備え、ゲート板をゲートチャンバ内
に設置して成る。ゲートチャンバは、２つの処理室の開
口部を包囲密閉して設けられるため、処理室及びゲート
チャンバ内の真空は維持できるようになっている。Ｏリ
ング交換等のメンテナンスを行う場合は、処理室を移動
することなく、ゲート板をゲートチャンバから引出して
簡単に行うことができる。
ルブは、上下動して２つの処理室を連結したり、閉成し
たりするゲート板を備え、ゲート板をゲートチャンバ内
に設置して成る。ゲートチャンバは、２つの処理室の開
口部を包囲密閉して設けられるため、処理室及びゲート
チャンバ内の真空は維持できるようになっている。Ｏリ
ング交換等のメンテナンスを行う場合は、処理室を移動
することなく、ゲート板をゲートチャンバから引出して
簡単に行うことができる。
【０００９】
【実施例】本発明のゲートバルブをＬＣＤ用ガラス基板
の製造装置のマルチチャンバに適用した一実施例を図面
を参照して説明する。図１に示すマルチチャンバは、主
として中央に設けられるロードロック室１７と、ロード
ロック室１７を包囲するように隣接してそれぞれ設けら
れるセンダ１８と、チャンバ（処理室）１９及び２０
と、レシーバ２１とから成る。
の製造装置のマルチチャンバに適用した一実施例を図面
を参照して説明する。図１に示すマルチチャンバは、主
として中央に設けられるロードロック室１７と、ロード
ロック室１７を包囲するように隣接してそれぞれ設けら
れるセンダ１８と、チャンバ（処理室）１９及び２０
と、レシーバ２１とから成る。
【００１０】センダ１８は未処理のＬＣＤ用ガラス基板
が収納されるカセットの載置台を備え、一段毎に上昇あ
るいは下降してＬＣＤ用ガラス基板が搬出できるように
なっている。ロードロック室１７は３６０゜回転可能
で、水平方向に伸長する搬送アームを備え、図示しない
真空排気装置に接続されている。チャンバ１９及び２０
はＬＣＤ用ガラス基板を一枚ずつ処理する枚葉処理装置
であり、図示はしないが平行して設けられる平行平板電
極を備え、この電極間にＬＣＤ用ガラス基板が搬入され
ると高周波を印加する高周波電源装置や、高周波により
プラズマ化されるガスの供給装置や、プラズマ化される
ガスを検出するエンドポイント検出器、あるいはチャン
バ内の温度をコントロールする温度制御装置等が接続さ
れ、ロードロック室１７と同様に真空排気装置に接続さ
れる。これらのチャンバにおいては、プラズマ化された
ガスによりＬＣＤ用ガラス基板上の薄膜を所望のパター
ンに形成するエッチング、またはエッチング後のレジス
ト膜を除去するアッシング、あるいは薄膜の積層等がな
される。
が収納されるカセットの載置台を備え、一段毎に上昇あ
るいは下降してＬＣＤ用ガラス基板が搬出できるように
なっている。ロードロック室１７は３６０゜回転可能
で、水平方向に伸長する搬送アームを備え、図示しない
真空排気装置に接続されている。チャンバ１９及び２０
はＬＣＤ用ガラス基板を一枚ずつ処理する枚葉処理装置
であり、図示はしないが平行して設けられる平行平板電
極を備え、この電極間にＬＣＤ用ガラス基板が搬入され
ると高周波を印加する高周波電源装置や、高周波により
プラズマ化されるガスの供給装置や、プラズマ化される
ガスを検出するエンドポイント検出器、あるいはチャン
バ内の温度をコントロールする温度制御装置等が接続さ
れ、ロードロック室１７と同様に真空排気装置に接続さ
れる。これらのチャンバにおいては、プラズマ化された
ガスによりＬＣＤ用ガラス基板上の薄膜を所望のパター
ンに形成するエッチング、またはエッチング後のレジス
ト膜を除去するアッシング、あるいは薄膜の積層等がな
される。
【００１１】レシーバ２１は、処理済のＬＣＤ用ガラス
基板を収納する（図示しない）カセットの載置台を備
え、センダ１８と同様の機能を有し、ロードロック室１
７から搬送される処理済のＬＣＤ用ガラス基板を搬入す
るようになっている。このような構成のマルチチャンバ
１６のロードロック室１７と、センダ１８間、チャンバ
１９及び２０間、レシーバ２１間には、ゲートバルブ２
２が設けられる。ゲートバルブ２２は、それぞれセンダ
１８とロードロック室１７間に設けられるものは２
２1、ロードロック室１７とチャンバ１９間に設けられ
るものは２２2、ロードロック室１７とチャンバ２０間
に設けられるものは２２3、ロードロック室１７とレシ
ーバ２１間に設けられるものは２２4と称し、全て同様
の機構を有するものである。更に同様の機構を備えたゲ
ートバルブ９９1及び９９2がそれぞれセンダ１８及びレ
シーバ２１に設けられる。図２に示すように、例えばロ
ードロック室１７とチャンバ１９間に設けられるゲート
バルブ２２2は、ロードロック室１７の開口部１７ａ
と、チャンバ１９の開口部１９ａとを包囲してなるゲー
トチャンバ２３を備える。ゲートチャンバ２３は、ロー
ドロック室１７の開口部１７ａ及びチャンバ１９の開口
部１９ａ部分にそれぞれ開口部２３ａ及び２３ｂを有
し、ロードロック室１７及びチャンバ１９の側壁にそれ
ぞれＯリング２４を介してねじ２５で固定される。ゲー
トチャンバ２３の下方には、ゲートベース２６が接続さ
れて上下動するための上下動機構例えばエアシリンダあ
るいは油圧シリンダ２７等が設けられる。油圧シリンダ
２７は、ゲートチャンバ２３の下方の出入口２９ａをＯ
リング２８を介してねじ２９で気密に閉塞する閉塞部材
２９ｂに固定される。油圧シリンダ２７に接続されるゲ
ートベース２６には、２つのリンク３０により相互に側
壁同志が連結されるゲート板であるゲートフランジ３１
が設けられる。図では、手前の側壁のみが示されるが、
紙面に対して反対側の側壁も同様になっている。更に、
ゲートフランジ３１とゲートベース２６間にはスプリン
グ３２が掛止され、ゲートフランジ３１がゲートベース
２６に引き付けられるように支持する。また、ゲートフ
ランジ３１の上面にはローラ３３が備えられ、ゲートフ
ランジ３１がチャンバ１９の開口部１９ａに押圧される
際の動作がスムーズに行くようになっている。また、油
圧シリンダ２７は図示されないリニアガイドに導かれた
ゲートベース２６をロードロック室１７の方向に押しつ
け密着させているので、ロードロック室１７が大気開放
されチャンバ１９が図示されない真空排気装置で負圧に
された時、圧力差によりチャンバ１９方向へ押返される
時も耐えることができる。また、チャンバ１９をメンテ
ナンスで大気開放中もロードロック室１７の気密を保持
することができる。
基板を収納する（図示しない）カセットの載置台を備
え、センダ１８と同様の機能を有し、ロードロック室１
７から搬送される処理済のＬＣＤ用ガラス基板を搬入す
るようになっている。このような構成のマルチチャンバ
１６のロードロック室１７と、センダ１８間、チャンバ
１９及び２０間、レシーバ２１間には、ゲートバルブ２
２が設けられる。ゲートバルブ２２は、それぞれセンダ
１８とロードロック室１７間に設けられるものは２
２1、ロードロック室１７とチャンバ１９間に設けられ
るものは２２2、ロードロック室１７とチャンバ２０間
に設けられるものは２２3、ロードロック室１７とレシ
ーバ２１間に設けられるものは２２4と称し、全て同様
の機構を有するものである。更に同様の機構を備えたゲ
ートバルブ９９1及び９９2がそれぞれセンダ１８及びレ
シーバ２１に設けられる。図２に示すように、例えばロ
ードロック室１７とチャンバ１９間に設けられるゲート
バルブ２２2は、ロードロック室１７の開口部１７ａ
と、チャンバ１９の開口部１９ａとを包囲してなるゲー
トチャンバ２３を備える。ゲートチャンバ２３は、ロー
ドロック室１７の開口部１７ａ及びチャンバ１９の開口
部１９ａ部分にそれぞれ開口部２３ａ及び２３ｂを有
し、ロードロック室１７及びチャンバ１９の側壁にそれ
ぞれＯリング２４を介してねじ２５で固定される。ゲー
トチャンバ２３の下方には、ゲートベース２６が接続さ
れて上下動するための上下動機構例えばエアシリンダあ
るいは油圧シリンダ２７等が設けられる。油圧シリンダ
２７は、ゲートチャンバ２３の下方の出入口２９ａをＯ
リング２８を介してねじ２９で気密に閉塞する閉塞部材
２９ｂに固定される。油圧シリンダ２７に接続されるゲ
ートベース２６には、２つのリンク３０により相互に側
壁同志が連結されるゲート板であるゲートフランジ３１
が設けられる。図では、手前の側壁のみが示されるが、
紙面に対して反対側の側壁も同様になっている。更に、
ゲートフランジ３１とゲートベース２６間にはスプリン
グ３２が掛止され、ゲートフランジ３１がゲートベース
２６に引き付けられるように支持する。また、ゲートフ
ランジ３１の上面にはローラ３３が備えられ、ゲートフ
ランジ３１がチャンバ１９の開口部１９ａに押圧される
際の動作がスムーズに行くようになっている。また、油
圧シリンダ２７は図示されないリニアガイドに導かれた
ゲートベース２６をロードロック室１７の方向に押しつ
け密着させているので、ロードロック室１７が大気開放
されチャンバ１９が図示されない真空排気装置で負圧に
された時、圧力差によりチャンバ１９方向へ押返される
時も耐えることができる。また、チャンバ１９をメンテ
ナンスで大気開放中もロードロック室１７の気密を保持
することができる。
【００１２】このような機構のゲートバルブ２２によ
り、チャンバ１９とロードロック室１７の開閉動作を説
明する。まず、閉成するには、油圧シリンダ２７の上昇
によりゲートベース２６が上昇される。ゲートベース２
６に連結されたゲートフランジ３１も同様に上昇され、
ゲートベース２６より先に上面がゲートチャンバ２３の
上面に到達する。ゲートフランジ３１がゲートチャンバ
２３の上面に達してもゲートベース２６は尚も上昇を続
けることにより、ゲートフランジ３１は上昇せずに留る
ため、リンク３０が回転され、ゲートフランジ３１をチ
ャンバ１９側に押し出す。ゲートフランジ３１は上面に
設けられるローラ３３に導かれ、図３に示すようにチャ
ンバ１９の開口部１９ａの周囲に設けられるＯリング３
４に押圧される。そしてチャンバ１９内は密封される。
り、チャンバ１９とロードロック室１７の開閉動作を説
明する。まず、閉成するには、油圧シリンダ２７の上昇
によりゲートベース２６が上昇される。ゲートベース２
６に連結されたゲートフランジ３１も同様に上昇され、
ゲートベース２６より先に上面がゲートチャンバ２３の
上面に到達する。ゲートフランジ３１がゲートチャンバ
２３の上面に達してもゲートベース２６は尚も上昇を続
けることにより、ゲートフランジ３１は上昇せずに留る
ため、リンク３０が回転され、ゲートフランジ３１をチ
ャンバ１９側に押し出す。ゲートフランジ３１は上面に
設けられるローラ３３に導かれ、図３に示すようにチャ
ンバ１９の開口部１９ａの周囲に設けられるＯリング３
４に押圧される。そしてチャンバ１９内は密封される。
【００１３】また、この状態からゲートバルブ２２を開
成してチャンバ１９とロードロック室１７を連結するに
は、まず油圧シリンダ２７が下降を始めるとゲートベー
ス２６が下降する。リンク３０が回転し、スプリング３
２がゲートフランジ３１を牽引する。ゲートフランジ３
１はリンク３０とスプリング３２の３点で牽引されロー
ラ３３の回転により、ゲートベース２６と平行に引寄せ
られながらスムーズに下降する。そしてロードロック室
１７とチャンバ１９が連結される。
成してチャンバ１９とロードロック室１７を連結するに
は、まず油圧シリンダ２７が下降を始めるとゲートベー
ス２６が下降する。リンク３０が回転し、スプリング３
２がゲートフランジ３１を牽引する。ゲートフランジ３
１はリンク３０とスプリング３２の３点で牽引されロー
ラ３３の回転により、ゲートベース２６と平行に引寄せ
られながらスムーズに下降する。そしてロードロック室
１７とチャンバ１９が連結される。
【００１４】このようなゲートバルブ２２を備えるマル
チチャンバにより処理を行なうには、予めゲートバルブ
２２1、２２2、２２3、２２4、９９1、９９2を閉じて真
空排気装置によりロードロック室１７、センダ１８、チ
ャンバ１９、２０、レシーバ２１を真空にする。センダ
１８のＬＣＤ用ガラス基板が収納されたカセットからＬ
ＣＤ用ガラス基板を搬出する。ゲートバルブ２２1を開
き、ＬＣＤ用ガラス基板をロードロック室１７に搬送す
る。ゲートバルブ２２1を閉じる。その後、真空処理の
行われるチャンバ１９との間のゲートバルブ２２2を開
いて、ＬＣＤ用ガラス基板をチャンバ１９内に搬送し、
ゲートバルブ２２2を閉じて真空処理、例えばプラズマ
化されたガスによりＬＣＤ用ガラス基板上の薄膜を所望
のパターンに形成するエッチング、またはエッチング後
のレジスト膜を除去するアッシング、あるいは薄膜の積
層等がなされる。チャンバ１９で処理が行なわれている
間に、再び同様な方法でセンダ１８からＬＣＤ用ガラス
基板を搬出し、ゲートバルブ２２3を開いて、ＬＣＤ用
ガラス基板をチャンバ２０内に搬送し、真空処理する。
チャンバ１９の処理後、真空に保持されているロードロ
ック室１７との間のゲートバルブ２２2を開きロードロ
ック室１７に処理済のＬＣＤ用ガラス基板を搬送する。
ゲートバルブ２２2を閉じ、ゲートバルブ２２4を開いて
レシーバ２１にＬＣＤ用ガラス基板を搬出し、カセット
に収納する。さらに、チャンバ２０で処理が終了する
と、ゲートバルブ２２3を開いてロードロック室１７に
搬送し、ゲートバルブ２２3を閉じた後、ゲートバルブ
２２4を開けてレシーバ２１に搬送して処理を終了す
る。このようにそれぞれのチャンバ内を常時真空を維持
して順次処理を反復して行なうため、効率的な処理が行
えるようになっている。
チチャンバにより処理を行なうには、予めゲートバルブ
２２1、２２2、２２3、２２4、９９1、９９2を閉じて真
空排気装置によりロードロック室１７、センダ１８、チ
ャンバ１９、２０、レシーバ２１を真空にする。センダ
１８のＬＣＤ用ガラス基板が収納されたカセットからＬ
ＣＤ用ガラス基板を搬出する。ゲートバルブ２２1を開
き、ＬＣＤ用ガラス基板をロードロック室１７に搬送す
る。ゲートバルブ２２1を閉じる。その後、真空処理の
行われるチャンバ１９との間のゲートバルブ２２2を開
いて、ＬＣＤ用ガラス基板をチャンバ１９内に搬送し、
ゲートバルブ２２2を閉じて真空処理、例えばプラズマ
化されたガスによりＬＣＤ用ガラス基板上の薄膜を所望
のパターンに形成するエッチング、またはエッチング後
のレジスト膜を除去するアッシング、あるいは薄膜の積
層等がなされる。チャンバ１９で処理が行なわれている
間に、再び同様な方法でセンダ１８からＬＣＤ用ガラス
基板を搬出し、ゲートバルブ２２3を開いて、ＬＣＤ用
ガラス基板をチャンバ２０内に搬送し、真空処理する。
チャンバ１９の処理後、真空に保持されているロードロ
ック室１７との間のゲートバルブ２２2を開きロードロ
ック室１７に処理済のＬＣＤ用ガラス基板を搬送する。
ゲートバルブ２２2を閉じ、ゲートバルブ２２4を開いて
レシーバ２１にＬＣＤ用ガラス基板を搬出し、カセット
に収納する。さらに、チャンバ２０で処理が終了する
と、ゲートバルブ２２3を開いてロードロック室１７に
搬送し、ゲートバルブ２２3を閉じた後、ゲートバルブ
２２4を開けてレシーバ２１に搬送して処理を終了す
る。このようにそれぞれのチャンバ内を常時真空を維持
して順次処理を反復して行なうため、効率的な処理が行
えるようになっている。
【００１５】このようなゲートバルブ２２のメンテナン
スを行なう場合、ゲートチャンバ２３の下方のねじ２９
を外し、閉塞部材２９ｂをゲートチャンバ２３の出入口
２９ａから取り外し、油圧シリンダ２７、ゲートベース
２６及びゲートフランジ３１をゲートチャンバ２３から
抜脱する。このようにすることでロードロック室１７ま
たはチャンバ１９を移動させずに、簡単にゲートベース
２６及びゲートフランジ３１の付着物のクリーニング
や、機構のメンテナンスを行なうことができる。また、
摩耗しやすいチャンバ１９の開口部１９ａ周囲のＯリン
グ３４も交換でき、従来のようにチャンバ１９やロード
ロック室１７の移動することなく行なうことができる。
チャンバ１９やロードロック室１７を移動せずに行なえ
ることは、メンテナンスの終了後に大変な作業である装
置の位置合わせを行なわずに済むため、非常に効率的で
ある。
スを行なう場合、ゲートチャンバ２３の下方のねじ２９
を外し、閉塞部材２９ｂをゲートチャンバ２３の出入口
２９ａから取り外し、油圧シリンダ２７、ゲートベース
２６及びゲートフランジ３１をゲートチャンバ２３から
抜脱する。このようにすることでロードロック室１７ま
たはチャンバ１９を移動させずに、簡単にゲートベース
２６及びゲートフランジ３１の付着物のクリーニング
や、機構のメンテナンスを行なうことができる。また、
摩耗しやすいチャンバ１９の開口部１９ａ周囲のＯリン
グ３４も交換でき、従来のようにチャンバ１９やロード
ロック室１７の移動することなく行なうことができる。
チャンバ１９やロードロック室１７を移動せずに行なえ
ることは、メンテナンスの終了後に大変な作業である装
置の位置合わせを行なわずに済むため、非常に効率的で
ある。
【００１６】また、本発明のゲートバルブはロードロッ
ク室を共有するマルチチャンバに適用した場合、一方の
チャンバのメンテナンスのため、チャンバの一方が大気
圧になっている場合においても、負圧になっているロー
ドロック室１７方向に吸着されても、ロードロック室１
７内を気密に保持し、ロードロック室１７方向に押圧さ
れる力に対して耐久性を有する。そのため一方のみのチ
ャンバのメンテナンス時には、他方のチャンバを稼働さ
せることができる。
ク室を共有するマルチチャンバに適用した場合、一方の
チャンバのメンテナンスのため、チャンバの一方が大気
圧になっている場合においても、負圧になっているロー
ドロック室１７方向に吸着されても、ロードロック室１
７内を気密に保持し、ロードロック室１７方向に押圧さ
れる力に対して耐久性を有する。そのため一方のみのチ
ャンバのメンテナンス時には、他方のチャンバを稼働さ
せることができる。
【００１７】上記説明は本発明の一実施例であって、本
発明はこれに限定されない。即ち、マルチチャンバのみ
でなくチャンバの１のものであってもよく、また半導体
製造に限らず、液晶基板製造等、ゲートバルブを用いる
処理を行なうものであれば何れのものにも適用すること
ができる。また、ゲートの開閉も垂直方向のみに限定さ
れず水平方向の移動により開閉を行なうようにしてもよ
い。
発明はこれに限定されない。即ち、マルチチャンバのみ
でなくチャンバの１のものであってもよく、また半導体
製造に限らず、液晶基板製造等、ゲートバルブを用いる
処理を行なうものであれば何れのものにも適用すること
ができる。また、ゲートの開閉も垂直方向のみに限定さ
れず水平方向の移動により開閉を行なうようにしてもよ
い。
【００１８】本実施例ではＬＣＤガラス基板の製造を行
なう処理装置について述べたが半導体ウェハの製造装置
に本発明のゲートバルブを適用できることは言うまでも
ない。
なう処理装置について述べたが半導体ウェハの製造装置
に本発明のゲートバルブを適用できることは言うまでも
ない。
【００１９】
【発明の効果】上記説明からも明らかなように、本発明
のゲートバルブによれば、処理室を移動させずにゲート
板をゲートチャンバより取外し可能としたため、メンテ
ナンスも簡単に行うことができ、しかもメンテナンス後
の処理室の位置合せを行わずに済むため、効率よく行う
ことができる。
のゲートバルブによれば、処理室を移動させずにゲート
板をゲートチャンバより取外し可能としたため、メンテ
ナンスも簡単に行うことができ、しかもメンテナンス後
の処理室の位置合せを行わずに済むため、効率よく行う
ことができる。
【００２０】また、マルチチャンバの場合は、ゲートバ
ルブはロードロック室より常に負圧になっているチャン
バに吸着される場合のみでなく、ロードロック室方向に
押圧される力に対しても耐久性を有し、チャンバの一方
のメンテナンスを行っている場合でも、他方のチャンバ
を使用することができる。
ルブはロードロック室より常に負圧になっているチャン
バに吸着される場合のみでなく、ロードロック室方向に
押圧される力に対しても耐久性を有し、チャンバの一方
のメンテナンスを行っている場合でも、他方のチャンバ
を使用することができる。
【図１】本発明のゲートバルブを適用した一実施例の構
成図。
成図。
【図２】図１に示す一実施例の要部を示す断面図。
【図３】図１に示す一実施例の要部を示す断面図。
【図４】従来例を示す構成図。
【図５】従来例を示す断面図。
１７…………ロードロック室（処理室） １７ａ…………ロードロック室の開口部 １８…………センダ １９、２０…………チャンバ（処理室） １９ａ…………チャンバの開口部 ２１…………レシーバ ２２、２２1、２２2、２２3、２２4…………ゲートバル
ブ ２３…………ゲートベース ２７…………油圧シリンダ（上下動機構）２８ａ…………出入口 ２８ｂ…………閉塞部材 ３１…………ゲートフランジ（ゲート板）
ブ ２３…………ゲートベース ２７…………油圧シリンダ（上下動機構）２８ａ…………出入口 ２８ｂ…………閉塞部材 ３１…………ゲートフランジ（ゲート板）
Claims (1)
- 【請求項１】上下動機構に接続され、その上下動により
２つの前記処理室の開口部を連結・閉成するゲート板、
前記ゲート板を内蔵し、且つ前記ゲート板を出し入れす
るための出入口を有するゲートチャンバ及び前記ゲート
チャンバに着脱自在に取り付けられて、前記出入口を閉
塞する閉塞部材を備えたことを特徴とするゲートバル
ブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3252022A JP3071517B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | ゲートバルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3252022A JP3071517B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | ゲートバルブ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0587258A JPH0587258A (ja) | 1993-04-06 |
| JP3071517B2 true JP3071517B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=17231499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3252022A Expired - Lifetime JP3071517B2 (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | ゲートバルブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3071517B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6390448B1 (en) * | 2000-03-30 | 2002-05-21 | Lam Research Corporation | Single shaft dual cradle vacuum slot valve |
| KR101375280B1 (ko) | 2012-04-06 | 2014-03-17 | 프리시스 주식회사 | 게이트 밸브 |
| EP3239567A1 (de) * | 2016-04-27 | 2017-11-01 | VAT Holding AG | Torventil mit kurvenführung |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP3252022A patent/JP3071517B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0587258A (ja) | 1993-04-06 |
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