JPS6153377B2 - - Google Patents
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- JPS6153377B2 JPS6153377B2 JP55149461A JP14946180A JPS6153377B2 JP S6153377 B2 JPS6153377 B2 JP S6153377B2 JP 55149461 A JP55149461 A JP 55149461A JP 14946180 A JP14946180 A JP 14946180A JP S6153377 B2 JPS6153377 B2 JP S6153377B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- processing chamber
- preliminary
- chamber
- vacuum processing
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Links
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は可撓性の被処理物、例えばプラスチツ
ク成形品を真空処理室内で連続的にプラズマ処理
する連続式真空処理装置に関するものである。
ク成形品を真空処理室内で連続的にプラズマ処理
する連続式真空処理装置に関するものである。
この種の連続式真空処理装置は、本願出願人に
よりすでに特願昭55−103630号公報などにより特
許出願されている。この特許はプラスチツク成形
品など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的
にプラズマ処理するものである。そしてこの真空
処理室の前後側には複数の予備真空室が段階的に
真空度を下げるために設けられており、これら予
備真空室は、上下方向に対接する一対のシールロ
ールと、このシールロールの一部に軸方向に沿つ
て連続的に対接するリツプル部材と、シールロー
ルの端面をシールするサイドピースなどを備えて
いる。
よりすでに特願昭55−103630号公報などにより特
許出願されている。この特許はプラスチツク成形
品など可撓性の被処理物を真空処理室内で連続的
にプラズマ処理するものである。そしてこの真空
処理室の前後側には複数の予備真空室が段階的に
真空度を下げるために設けられており、これら予
備真空室は、上下方向に対接する一対のシールロ
ールと、このシールロールの一部に軸方向に沿つ
て連続的に対接するリツプル部材と、シールロー
ルの端面をシールするサイドピースなどを備えて
いる。
ところで、前記予備真空室の一部を構成するリ
ツプル部材は、大気側と真空側の差圧力を考慮せ
ずに配設されているため、以下の問題点を有して
いる。
ツプル部材は、大気側と真空側の差圧力を考慮せ
ずに配設されているため、以下の問題点を有して
いる。
すなわち、前記リツプル部材は特に大気側の予
備真空室ではその圧力差が真空処理室側に比較し
て大きいため、前記圧力差を利用してリツプル部
材をシールロールに押付ける方向に配設した場合
には、シールロールの駆動トルクが非常に大き
く、このために発熱も大きくなり、シールロール
とリツプル部材の摩耗が大となる。
備真空室ではその圧力差が真空処理室側に比較し
て大きいため、前記圧力差を利用してリツプル部
材をシールロールに押付ける方向に配設した場合
には、シールロールの駆動トルクが非常に大き
く、このために発熱も大きくなり、シールロール
とリツプル部材の摩耗が大となる。
このため、複数の予備真空室の一部を構成する
リツプル部材の全てを大気側と真空側の圧力差に
よりシールロールから離れるように配設すること
も考えられるが、特に大気側の予備真空室のリツ
プル部材にたわみが生じてシール効果が充分でな
く予備真空室内の真空度を保持することが困難で
ある。このように、複数の予備真空室内の真空度
を保持できない場合には、真空処理室内を高真空
度に保持するために長時間費やしたり、大容量の
真空ポンプが必要となる。
リツプル部材の全てを大気側と真空側の圧力差に
よりシールロールから離れるように配設すること
も考えられるが、特に大気側の予備真空室のリツ
プル部材にたわみが生じてシール効果が充分でな
く予備真空室内の真空度を保持することが困難で
ある。このように、複数の予備真空室内の真空度
を保持できない場合には、真空処理室内を高真空
度に保持するために長時間費やしたり、大容量の
真空ポンプが必要となる。
本発明の目的は、真空処理室側の予備真空室の
シール効果の向上を図るようにした連続式真空処
理装置を提供することにある。
シール効果の向上を図るようにした連続式真空処
理装置を提供することにある。
上記目的は、被処理物を連続的に処理する真空
処理室およびこの真空処理室の前後に複数の予備
真空室とを備え、これら予備真空室を、一対のシ
ールロールと、シールロールの軸方向に沿つて対
接するリツプル部材と、前記シールロールの端面
をシールするサイドピースとから構成した連続式
真空処理装置において、前記複数の予備真空室の
うち、真空処理室側の予備真空室のリツプル部材
を、大気側と真空側の圧力差によりシールロール
に押付けられるように配設したことにより達成さ
れる。
処理室およびこの真空処理室の前後に複数の予備
真空室とを備え、これら予備真空室を、一対のシ
ールロールと、シールロールの軸方向に沿つて対
接するリツプル部材と、前記シールロールの端面
をシールするサイドピースとから構成した連続式
真空処理装置において、前記複数の予備真空室の
うち、真空処理室側の予備真空室のリツプル部材
を、大気側と真空側の圧力差によりシールロール
に押付けられるように配設したことにより達成さ
れる。
真空処理室側に設けられる予備真空室のリツプ
ル部材は、大気側と真空側の圧力差によつてシー
ルロールに押付けられる。それによつて、予備真
空室を構成するシールロールとリツプル部材間の
シール性が向上され、真空処理室内の高真空度を
得るのに長時間を費やすことがなく、大容量の真
空ポンプも必要としない。
ル部材は、大気側と真空側の圧力差によつてシー
ルロールに押付けられる。それによつて、予備真
空室を構成するシールロールとリツプル部材間の
シール性が向上され、真空処理室内の高真空度を
得るのに長時間を費やすことがなく、大容量の真
空ポンプも必要としない。
以下本発明装置の一実施例を図面により説明す
る。
る。
第１図および第２図において、１はプラスチツ
ク成形品などの可撓性の被処理物Ｆを真空状態で
連続的に例えばプラズマ処理する真空処理室で、
この真空処理室１内はこれに接続する真空ポンプ
４により10-2トール程度の真空圧力に保持するよ
うに排気管５を介して真空排気される。
ク成形品などの可撓性の被処理物Ｆを真空状態で
連続的に例えばプラズマ処理する真空処理室で、
この真空処理室１内はこれに接続する真空ポンプ
４により10-2トール程度の真空圧力に保持するよ
うに排気管５を介して真空排気される。
また、この処理室１には図示していないが、プ
ラズマ処理を施すための陽極、陰極、ガス導入口
などが内蔵されている。２は真空処理室１の前方
側に複数個配置される予備真空室、３は真空処理
室１の後方側に配置される複数個の予備真空室
で、これら予備真空室２，３内は、これに接続す
る真空ポンプ６により前記真空処理室１内の真空
圧力より若干高い程度の真空圧力に保持するよう
に排気管７を介して真空排気される。第３図およ
び第４図は前記予備真空室２，３を形成するロー
ルの詳細を示すもので、８は両端側がサイドピー
ス９に回転自在に軸支される上ロールで、この上
ロール８の表面にはゴムなどの弾性材１０が一体
的に焼着されている。１１は上ロール８と対接す
るように配設され、かつ表面に硬質のクロムニツ
ケル層１２を施した下ロールで、この下ロール１
１は両端側がサイドピース９に回転自在に軸支さ
れている。１３は上ケース１４に固定され、かつ
上ロール８の外周面の一部と軸方向に沿つて連続
的に対接するリツプル部材で、このリツプル部材
１３はウレタンゴムのような耐摩耗性が大で、か
つシヨア硬さ90゜程度のものを使用する。１５は
同じく下ケース１６に固定され、下ロール１１の
外周面の一部と軸方向に沿つて連続的に対接する
リツプル部材で、このリツプル部材１５も前記リ
ツプル部材１３と同様にウレタンゴムを使用す
る。このリツプル部材１３，１５の断面形状は第
５図および第６図に示す如く上、下ロール８，１
１と対接する先端側で弾力性を有するように折れ
曲つている。そしてリツプル部材１３，１５は第
７図に示す如く大気側と真空側の圧力差により、
上、下ロール８，１１に押付けられるように真空
処理室１側の予備真空室２と予備真空室３では逆
方向に取付けられる。すなわち、第７図におい
て、大気側の圧力をＡ、真空側の圧力をＢ、大気
側と真空側の中間の圧力をＣとすると、予備真空
室２の大気側では圧力Ａが圧力Ｃより高くなるた
め、リツプル部材１３，１５とも上、下ロール
８，１１の回転方向（図示矢印方向）に対して押
付力が作用する。また、予備真空室２の真空側で
は圧力Ｃが圧力Ｂより高くなるため、前記と同様
に押付力が作用する。また、予備真空室３では同
様の原理で予備真空室２とは逆方向に取り付けら
れる。
ラズマ処理を施すための陽極、陰極、ガス導入口
などが内蔵されている。２は真空処理室１の前方
側に複数個配置される予備真空室、３は真空処理
室１の後方側に配置される複数個の予備真空室
で、これら予備真空室２，３内は、これに接続す
る真空ポンプ６により前記真空処理室１内の真空
圧力より若干高い程度の真空圧力に保持するよう
に排気管７を介して真空排気される。第３図およ
び第４図は前記予備真空室２，３を形成するロー
ルの詳細を示すもので、８は両端側がサイドピー
ス９に回転自在に軸支される上ロールで、この上
ロール８の表面にはゴムなどの弾性材１０が一体
的に焼着されている。１１は上ロール８と対接す
るように配設され、かつ表面に硬質のクロムニツ
ケル層１２を施した下ロールで、この下ロール１
１は両端側がサイドピース９に回転自在に軸支さ
れている。１３は上ケース１４に固定され、かつ
上ロール８の外周面の一部と軸方向に沿つて連続
的に対接するリツプル部材で、このリツプル部材
１３はウレタンゴムのような耐摩耗性が大で、か
つシヨア硬さ90゜程度のものを使用する。１５は
同じく下ケース１６に固定され、下ロール１１の
外周面の一部と軸方向に沿つて連続的に対接する
リツプル部材で、このリツプル部材１５も前記リ
ツプル部材１３と同様にウレタンゴムを使用す
る。このリツプル部材１３，１５の断面形状は第
５図および第６図に示す如く上、下ロール８，１
１と対接する先端側で弾力性を有するように折れ
曲つている。そしてリツプル部材１３，１５は第
７図に示す如く大気側と真空側の圧力差により、
上、下ロール８，１１に押付けられるように真空
処理室１側の予備真空室２と予備真空室３では逆
方向に取付けられる。すなわち、第７図におい
て、大気側の圧力をＡ、真空側の圧力をＢ、大気
側と真空側の中間の圧力をＣとすると、予備真空
室２の大気側では圧力Ａが圧力Ｃより高くなるた
め、リツプル部材１３，１５とも上、下ロール
８，１１の回転方向（図示矢印方向）に対して押
付力が作用する。また、予備真空室２の真空側で
は圧力Ｃが圧力Ｂより高くなるため、前記と同様
に押付力が作用する。また、予備真空室３では同
様の原理で予備真空室２とは逆方向に取り付けら
れる。
このように真空処理室１側の予備真空室２，３
に設けられるリツプル部材１３，１５は、大気側
と真空側の圧力差により上、下ロール８，１１に
対して常に押付力が作用するので、リツプル部材
１３，１５と上、下ロール８，１１との間のシー
ル効果が向上する。
に設けられるリツプル部材１３，１５は、大気側
と真空側の圧力差により上、下ロール８，１１に
対して常に押付力が作用するので、リツプル部材
１３，１５と上、下ロール８，１１との間のシー
ル効果が向上する。
次に本発明の連続式真空処理装置の作動を説明
する。
する。
先ず、真空ポンプ４，６を作動させることによ
り、真空処理室１内および複数の予備真空室２，
３内を真空排気する。このとき、真空処理室１内
の圧力は予備真空室２，３の圧力より低く保持さ
れる。次に予備真空室２，３の上ロール８、下ロ
ール１１を回転させると共に真空処理室１のプラ
ズマ処理を操作する。この状態で被処理物Ｆは予
備真空室２の上ロール８と下ロール１１との間を
経て真空処理室１内へ連続的に導入される。真空
処理室１内では、陽極と陰極間で発生するプラズ
マ放電により被処理物Ｆの表面にプラズマ処理が
施される。また、プラズマ表面処理された被処理
物Ｆは、直ちに予備真空室３の上ロール８と下ロ
ール１１との間を経て外部へ巻き取られる。
り、真空処理室１内および複数の予備真空室２，
３内を真空排気する。このとき、真空処理室１内
の圧力は予備真空室２，３の圧力より低く保持さ
れる。次に予備真空室２，３の上ロール８、下ロ
ール１１を回転させると共に真空処理室１のプラ
ズマ処理を操作する。この状態で被処理物Ｆは予
備真空室２の上ロール８と下ロール１１との間を
経て真空処理室１内へ連続的に導入される。真空
処理室１内では、陽極と陰極間で発生するプラズ
マ放電により被処理物Ｆの表面にプラズマ処理が
施される。また、プラズマ表面処理された被処理
物Ｆは、直ちに予備真空室３の上ロール８と下ロ
ール１１との間を経て外部へ巻き取られる。
このとき、真空処理室１側に設けられた予備真
空室２，３の一部を構成するリツプル部材１３，
１５は、真空側（真空処理室側）と大気側（大気
側の予備真空室側）の圧力差によりシールロール
８，１１に対して押付けられるように配設されて
いるので、予備真空室内のシール効果が向上す
る。したがつて、真空処理室１内の高真空度も容
易に短時間で得られる。
空室２，３の一部を構成するリツプル部材１３，
１５は、真空側（真空処理室側）と大気側（大気
側の予備真空室側）の圧力差によりシールロール
８，１１に対して押付けられるように配設されて
いるので、予備真空室内のシール効果が向上す
る。したがつて、真空処理室１内の高真空度も容
易に短時間で得られる。
本発明装置によれば、真空処理室の前後側に設
けられる複数の予備真空室のうち、真空処理室側
の予備真空室のリツプル部材を、大気側と真空側
の圧力差によりシールロールに押付けられるよう
に配設したので、特に真空処理室側の予備真空室
の大幅なシール効果が図れる。したがつて、真空
処理室内の高真空度が短時間で得られると共に、
真空ポンプも小容量のものが可能となるなどの効
果を有する。
けられる複数の予備真空室のうち、真空処理室側
の予備真空室のリツプル部材を、大気側と真空側
の圧力差によりシールロールに押付けられるよう
に配設したので、特に真空処理室側の予備真空室
の大幅なシール効果が図れる。したがつて、真空
処理室内の高真空度が短時間で得られると共に、
真空ポンプも小容量のものが可能となるなどの効
果を有する。
第１図は本発明の連続式真空処理装置を示す正
面図、第２図は第１図の平面図、第３図および第
４図は本発明の連続式真空処理装置における予備
真空室のロールとケースおよびロール間のシール
手段を説明するための要部拡大図で、第３図は側
面断面図、第４図は第３図の−線矢視図、第
５図および第６図は本発明の連続式真空処理装置
における予備真空室のリツプル部材を示すもの
で、第５図は正面図、第６図は第５図の−線
矢視図、第７図はリツプル部材の取付状態を説明
するための図である。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、８
……上ロール、９……サイドピース、１１……下
ロール、１３，１５……リツプル部材、Ｆ……被
処理物。
面図、第２図は第１図の平面図、第３図および第
４図は本発明の連続式真空処理装置における予備
真空室のロールとケースおよびロール間のシール
手段を説明するための要部拡大図で、第３図は側
面断面図、第４図は第３図の−線矢視図、第
５図および第６図は本発明の連続式真空処理装置
における予備真空室のリツプル部材を示すもの
で、第５図は正面図、第６図は第５図の−線
矢視図、第７図はリツプル部材の取付状態を説明
するための図である。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、８
……上ロール、９……サイドピース、１１……下
ロール、１３，１５……リツプル部材、Ｆ……被
処理物。
Claims (1)
- １ 被処理物を連続的に処理する真空処理室およ
びこの真空処理室の前後に複数の予備真空室とを
備え、これら予備真空室を、一対のシールロール
と、シールロールの軸方向に沿つて対接するリツ
プル部材と、前記シールロールの端面をシールす
るサイドピースとから構成した連続式真空処理装
置において、前記複数の予備真空室のうち、真空
処理室側の予備真空室のリツプル部材を、大気側
と真空側の圧力差によりシールロールに押付けら
れるように配設したことを特徴とする連続式真空
処理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14946180A JPS5773025A (en) | 1980-10-27 | 1980-10-27 | Apparatus for continuous vacuum treatment |
| GB8122981A GB2084264B (en) | 1980-07-30 | 1981-07-24 | Continuous vacuum treating apparatus |
| NL8103566A NL8103566A (nl) | 1980-07-30 | 1981-07-28 | Doorlopende vacuumbehandelingsinrichting. |
| FR818114782A FR2487696B1 (fr) | 1980-07-30 | 1981-07-29 | Appareil de traitement continu sous vide |
| DE3129997A DE3129997C2 (de) | 1980-07-30 | 1981-07-29 | Kontinuierlich arbeitende Plasma-Vakuumbehandlungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14946180A JPS5773025A (en) | 1980-10-27 | 1980-10-27 | Apparatus for continuous vacuum treatment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5773025A JPS5773025A (en) | 1982-05-07 |
| JPS6153377B2 true JPS6153377B2 (ja) | 1986-11-17 |
Family
ID=15475625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14946180A Granted JPS5773025A (en) | 1980-07-30 | 1980-10-27 | Apparatus for continuous vacuum treatment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5773025A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04135461U (ja) * | 1991-06-12 | 1992-12-16 | 積水化成品工業株式会社 | 切り花等の輸送ケース |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57195754A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Continuous vacuum treatment apparatus |
| JPS60944A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-07 | Hitachi Ltd | 真空連続処理装置 |
| JPS6112867A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-21 | Hitachi Ltd | ロール式シール装置 |
| JPS62169830A (ja) * | 1986-01-22 | 1987-07-27 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空シ−ル装置 |
| US4812101A (en) * | 1987-04-27 | 1989-03-14 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Method and apparatus for continuous throughput in a vacuum environment |
| JPH0735581B2 (ja) * | 1988-03-18 | 1995-04-19 | 川崎製鉄株式会社 | 差圧シール装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
-
1980
- 1980-10-27 JP JP14946180A patent/JPS5773025A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04135461U (ja) * | 1991-06-12 | 1992-12-16 | 積水化成品工業株式会社 | 切り花等の輸送ケース |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5773025A (en) | 1982-05-07 |
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