JPS63305140A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
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- JPS63305140A JPS63305140A JP62139754A JP13975487A JPS63305140A JP S63305140 A JPS63305140 A JP S63305140A JP 62139754 A JP62139754 A JP 62139754A JP 13975487 A JP13975487 A JP 13975487A JP S63305140 A JPS63305140 A JP S63305140A
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- Japan
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- vacuum
- chamber
- sealing device
- air
- seal
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Links
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 42
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/002—Component parts of these vessels not mentioned in B01J3/004, B01J3/006, B01J3/02 - B01J3/08; Measures taken in conjunction with the process to be carried out, e.g. safety measures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/03—Pressure vessels, or vacuum vessels, having closure members or seals specially adapted therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプラスチック成形品たとえばＰＥＬフィルム、
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
この種の真空連続処理装置は、特公昭４７−３７９７７
に記載のように、シール装置外部に開口部を包囲するノ
ズルを備えたエゼクタ装置を配備している。
に記載のように、シール装置外部に開口部を包囲するノ
ズルを備えたエゼクタ装置を配備している。
上記従来技術は、大気側のシールとしてエゼクタ方式を
用いており、シール部入口そのものではなく、シール部
のわきがらスチームを吹き出している為、被処理物とシ
ールの間にゴミ等の侵入物が入りやすくゴミ等の侵入物
が被処理物と接触することによる被処理物の損傷が配慮
されていない。
用いており、シール部入口そのものではなく、シール部
のわきがらスチームを吹き出している為、被処理物とシ
ールの間にゴミ等の侵入物が入りやすくゴミ等の侵入物
が被処理物と接触することによる被処理物の損傷が配慮
されていない。
また、スリット状シール装置内圧力と大気圧との圧力差
により生じる乱流のための被処理物の振動。
により生じる乱流のための被処理物の振動。
たわみ、しわの発生による被処理物とスリット状シール
装置との接触に起因する被処理物の損傷が配慮されてい
ない、さらに密封系であり真空処理室に近いシール装置
内の除去し難い不純物質堆積によるシール装置の劣化、
あるいは、シール装置内の不純物のシール装置要素への
堆積に起因する被処理物の損傷が考慮されておらず、非
接触式スリット状シール装置の被処理物の搬送の際の被
処理物の損傷が問題となっていた。
装置との接触に起因する被処理物の損傷が配慮されてい
ない、さらに密封系であり真空処理室に近いシール装置
内の除去し難い不純物質堆積によるシール装置の劣化、
あるいは、シール装置内の不純物のシール装置要素への
堆積に起因する被処理物の損傷が考慮されておらず、非
接触式スリット状シール装置の被処理物の搬送の際の被
処理物の損傷が問題となっていた。
本発明の目的は、シール装置外部からのゴミ等の侵入物
のエア噴出による防御手段、また被処理物のしわ、たる
みを防ぐ被処理物のエア浮上、さらにシール装置内の装
置要素へのゴミ等の堆積を防ぐことが可能な真空連続処
理装置を提供することにある。
のエア噴出による防御手段、また被処理物のしわ、たる
みを防ぐ被処理物のエア浮上、さらにシール装置内の装
置要素へのゴミ等の堆積を防ぐことが可能な真空連続処
理装置を提供することにある。
上記目的は、スリット状シールを設けると共に、スリッ
ト状シール装置内のスリット部両面にエア噴出口を設け
ることにより達成される。
ト状シール装置内のスリット部両面にエア噴出口を設け
ることにより達成される。
スリット状シール部分に備えたエア噴出口よす噴出した
エアは、シール装置外部からのゴミ等の侵入物のシール
装置内への侵入を防御する。また。
エアは、シール装置外部からのゴミ等の侵入物のシール
装置内への侵入を防御する。また。
被処理物のシール装置内搬送時にシール装置外圧と、シ
ール装置内圧の差により生じる乱流に起因する被処理物
の振動、たわみ、及びしわによる被処理物の位置の変化
からおきる被処理物のシール装置との接触をエア噴出に
よる被処理物のエア浮動機能によって防御できる。さら
に、シール装置内に存在する不純物の、シール装置内の
装置要素への堆積は被処理物搬送停止時にシール装置内
部のエア噴出口より噴出したエアにより清掃することに
より防御できる。これによって、被処理物のシール装置
内搬送時に生じる損傷を防ぐことが可能となる。
ール装置内圧の差により生じる乱流に起因する被処理物
の振動、たわみ、及びしわによる被処理物の位置の変化
からおきる被処理物のシール装置との接触をエア噴出に
よる被処理物のエア浮動機能によって防御できる。さら
に、シール装置内に存在する不純物の、シール装置内の
装置要素への堆積は被処理物搬送停止時にシール装置内
部のエア噴出口より噴出したエアにより清掃することに
より防御できる。これによって、被処理物のシール装置
内搬送時に生じる損傷を防ぐことが可能となる。
以下１本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図及び第２図において、１はプラスチックフィルム
例えばＰＥＬフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真
空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真
空処理室１の前方側に複数個配置される予備真空室、３
は真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空室
で、前記真空処理室内はこれに接続する真空ポンプ４に
より１０−ａトール程度の真空圧力に保持するように排
気導管５を介して真空排気される。
例えばＰＥＬフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真
空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真
空処理室１の前方側に複数個配置される予備真空室、３
は真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空室
で、前記真空処理室内はこれに接続する真空ポンプ４に
より１０−ａトール程度の真空圧力に保持するように排
気導管５を介して真空排気される。
前記予備真空室２．３は、これに接続する真空ポンプ６
により、前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
により、前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出され、前方
側の予備真空室内の被処理物の張力を制御するガイドロ
ール９を介して前方側の予備真空室２を経て真空処理室
１へ送られ、そこでプラズマ処理される。その後、後方
側の予備真空室３を経て、後方側予備真空室内の張力を
制御するガイドロールエ０を経て１巻取軸１１にて巻き
取られ° る、１２は被処理物を搬送する為の駆動用Ｄ
Ｃモータであり、前記ガイドロール９および１０の張力
検出により、被処理物をしわなく搬送し、かつ搬送速度
を適宜ｍ整する。
側の予備真空室内の被処理物の張力を制御するガイドロ
ール９を介して前方側の予備真空室２を経て真空処理室
１へ送られ、そこでプラズマ処理される。その後、後方
側の予備真空室３を経て、後方側予備真空室内の張力を
制御するガイドロールエ０を経て１巻取軸１１にて巻き
取られ° る、１２は被処理物を搬送する為の駆動用Ｄ
Ｃモータであり、前記ガイドロール９および１０の張力
検出により、被処理物をしわなく搬送し、かつ搬送速度
を適宜ｍ整する。
第３図、第４図、第５図及び第６図は前記予備真空室２
及び３を構成するシール装置の主要部を示すものである
。第３図は第１図のＡ部詳細図であり、第４図は第３図
のＡ−Ａ断面図であり、第５図のＢ−Ｂ断面図であり、
第６図は第３図のＣ−Ｃ断面図である。
及び３を構成するシール装置の主要部を示すものである
。第３図は第１図のＡ部詳細図であり、第４図は第３図
のＡ−Ａ断面図であり、第５図のＢ−Ｂ断面図であり、
第６図は第３図のＣ−Ｃ断面図である。
１３は上ケース、１４は下ケース、１５は上ケース１３
に案内支持されるシールブロックであり、被処理物Ｆは
下ケース１４とシールブロック１５で形成されるスリッ
トの間を接触しないで搬送される。１６はハンドルであ
り、これを回転させることにより減速機１７．歯車１８
．ボールネジ１９及びナツト２０を介してシールブロッ
クと一体的に形成されるコラム２１及びシールブロック
１５を被処理物の厚さに応じて上下方向に動かす。
に案内支持されるシールブロックであり、被処理物Ｆは
下ケース１４とシールブロック１５で形成されるスリッ
トの間を接触しないで搬送される。１６はハンドルであ
り、これを回転させることにより減速機１７．歯車１８
．ボールネジ１９及びナツト２０を介してシールブロッ
クと一体的に形成されるコラム２１及びシールブロック
１５を被処理物の厚さに応じて上下方向に動かす。
２２はＬＭガイドであり、シールブロック１５の上下方
向の動きを案内する。２３はＯリングであり、上ケース
１３とシールブロック１５の間のシールをする。０リン
グ２３はシールブロック１５が上下方向に移１！ＩＩ（
最大２ｍ＋＊）にもかかわらず上ケース１３とシールブ
ロック１５間のシールを施すため十分な弾性体のものを
使用している。上ケース１３とシールブロック１５のサ
イドの間隙２４はシールブロック１５が滑らかに上下し
、かつ空気の漏れ量が小さくなるように、可能な範囲で
小さく（例えば３０ミクロン）している、２５は被処理
物を案内するガイドロールであり、下ケース１４のシー
ル面と被処理物Ｆが接触しないよう、ガイドロール２５
の外周面の高さを下ケース１４より高くしている０通常
の使用でき、被処理物Ｆとシールブロック１５の間隔及
び被処理物Ｆと下ケースの間隔がいずれも０ 、１ ｍ
ｍとなるようにガイドロール２５とシールブロック１５
の位置を決定している。張力付与用ロール２６は、被処
理物のガイドローラ２５に対する巻き付は角度を大きく
シ、シール部分で被処理物が振動し、壁面に接触するの
を防止している。予備真空室２あるいは３は互いに相対
するシール装置で構成されており、排気導管７を介して
真空ポンプ６で排気される。
向の動きを案内する。２３はＯリングであり、上ケース
１３とシールブロック１５の間のシールをする。０リン
グ２３はシールブロック１５が上下方向に移１！ＩＩ（
最大２ｍ＋＊）にもかかわらず上ケース１３とシールブ
ロック１５間のシールを施すため十分な弾性体のものを
使用している。上ケース１３とシールブロック１５のサ
イドの間隙２４はシールブロック１５が滑らかに上下し
、かつ空気の漏れ量が小さくなるように、可能な範囲で
小さく（例えば３０ミクロン）している、２５は被処理
物を案内するガイドロールであり、下ケース１４のシー
ル面と被処理物Ｆが接触しないよう、ガイドロール２５
の外周面の高さを下ケース１４より高くしている０通常
の使用でき、被処理物Ｆとシールブロック１５の間隔及
び被処理物Ｆと下ケースの間隔がいずれも０ 、１ ｍ
ｍとなるようにガイドロール２５とシールブロック１５
の位置を決定している。張力付与用ロール２６は、被処
理物のガイドローラ２５に対する巻き付は角度を大きく
シ、シール部分で被処理物が振動し、壁面に接触するの
を防止している。予備真空室２あるいは３は互いに相対
するシール装置で構成されており、排気導管７を介して
真空ポンプ６で排気される。
被処理物搬送時に、シール装置外部より侵入する物質は
、下ケース１４に備えられたエア圧導入経路３０により
導びかれたエアを１０ｍ１！ピツチのエア噴出口２７ａ
から噴出することにより、またシールブロック１５に仰
えられたエア導入経路２８ａにより導びかれたエアを１
０＋ａｍピッチで６０個備えたエア噴出口２７ａより噴
出し、エア圧を調整することにより、シール装置内部へ
の侵入を防ぐことができる。尚、エア導入経路２８ａの
両端はプラグ２９により閉じており、又、エア噴出口２
７ａは、下ケース１４及びシールブロック１５のシール
面に対し、垂直、あるいは、大気側に対しエアが噴き出
すためにシール面と斜めに角度をなす様にとりつけであ
る。これにより、シール装置内のシール装置外部から内
部への侵入物による損傷はなく、さらに侵入物と被処理
物との接触による損傷は防ぐことが可能となる。又、被
処理物搬送時、シール装置内部と外部の圧力差により生
じる乱流に起因する被処理物の振動、たわみ、及びしわ
などのため被処理物のシール装置内での位置は変化する
。これは、前記と同様の方法により導びかれたエアをエ
ア噴出口２７ａよりエア圧を調整して噴出させ、被処理
物のエア浮動を行なうことにより、被処理物の位置を安
定化させることが可能となる。これにより被処理物のシ
ールブロック１５及び下ケース１４とが接触することな
く被処理物を搬送することが可能となる。さらに。
、下ケース１４に備えられたエア圧導入経路３０により
導びかれたエアを１０ｍ１！ピツチのエア噴出口２７ａ
から噴出することにより、またシールブロック１５に仰
えられたエア導入経路２８ａにより導びかれたエアを１
０＋ａｍピッチで６０個備えたエア噴出口２７ａより噴
出し、エア圧を調整することにより、シール装置内部へ
の侵入を防ぐことができる。尚、エア導入経路２８ａの
両端はプラグ２９により閉じており、又、エア噴出口２
７ａは、下ケース１４及びシールブロック１５のシール
面に対し、垂直、あるいは、大気側に対しエアが噴き出
すためにシール面と斜めに角度をなす様にとりつけであ
る。これにより、シール装置内のシール装置外部から内
部への侵入物による損傷はなく、さらに侵入物と被処理
物との接触による損傷は防ぐことが可能となる。又、被
処理物搬送時、シール装置内部と外部の圧力差により生
じる乱流に起因する被処理物の振動、たわみ、及びしわ
などのため被処理物のシール装置内での位置は変化する
。これは、前記と同様の方法により導びかれたエアをエ
ア噴出口２７ａよりエア圧を調整して噴出させ、被処理
物のエア浮動を行なうことにより、被処理物の位置を安
定化させることが可能となる。これにより被処理物のシ
ールブロック１５及び下ケース１４とが接触することな
く被処理物を搬送することが可能となる。さらに。
被処理物搬送停止時にエア導入経路２８ｂ、及び３０に
より導びかれたエアをＬｏｗ−ピッチのエア噴出口２７
ｂから噴出することにより、微少量存在すると考えられ
る不純物のシール装置内のシールブロック１５及び下ケ
ース１４への堆積を防ぐことができる。尚２８ｂの加工
穴はプラグ２９により閉じており又、エア噴出口２７ｂ
は下ケース１４、及びシールブロック１５のシール面に
対し垂直、あるいは高圧側にエアが噴き出すためにシー
ル面と斜めに角度をなす様にとりつけである。
より導びかれたエアをＬｏｗ−ピッチのエア噴出口２７
ｂから噴出することにより、微少量存在すると考えられ
る不純物のシール装置内のシールブロック１５及び下ケ
ース１４への堆積を防ぐことができる。尚２８ｂの加工
穴はプラグ２９により閉じており又、エア噴出口２７ｂ
は下ケース１４、及びシールブロック１５のシール面に
対し垂直、あるいは高圧側にエアが噴き出すためにシー
ル面と斜めに角度をなす様にとりつけである。
これによりシールブロック１５．下ケース１４の劣化を
防き、劣化により生じる被処理物との接触のためおこる
被処理物の損傷を防止することが可能となる。尚、図に
示すシール装置では、一つのスリット状シール部分に、
１列のエア噴出口を設けたわけであるが、シール装置の
規模などによっては、２．３列とすることも可能である
。
防き、劣化により生じる被処理物との接触のためおこる
被処理物の損傷を防止することが可能となる。尚、図に
示すシール装置では、一つのスリット状シール部分に、
１列のエア噴出口を設けたわけであるが、シール装置の
規模などによっては、２．３列とすることも可能である
。
本発明によれば、シール装置内部へのシール装置外部か
らの侵入物を防ぎ、また被処理物搬送時に生じる。被処
理物の振動、たわみ、しわによる被処理物のシール装置
内の位置の変化を防止し、さらにシール装置内部の不純
物の堆積を防止できる。これにより、被処理物の損傷を
なくす効果がある。
らの侵入物を防ぎ、また被処理物搬送時に生じる。被処
理物の振動、たわみ、しわによる被処理物のシール装置
内の位置の変化を防止し、さらにシール装置内部の不純
物の堆積を防止できる。これにより、被処理物の損傷を
なくす効果がある。
第１図は本発明の真空連続処理装置の一実施例の縦断面
図、第２図は第１図の平面図、第３図はシール装置の第
１図のＡ部詳細図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第
５図は第３図のＢ−Ｂ断面図で、第６図は第３図のＣ−
Ｃ断面である。 Ｆ・・・被処理物、１３・・・上ケース、１４・・・下
ケース、１５・・・シールブロック、２５・・・ガイド
ロール、２６・・・張力付与用ロール、２７ａ、２７ｂ
・・・エア噴出口。
図、第２図は第１図の平面図、第３図はシール装置の第
１図のＡ部詳細図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第
５図は第３図のＢ−Ｂ断面図で、第６図は第３図のＣ−
Ｃ断面である。 Ｆ・・・被処理物、１３・・・上ケース、１４・・・下
ケース、１５・・・シールブロック、２５・・・ガイド
ロール、２６・・・張力付与用ロール、２７ａ、２７ｂ
・・・エア噴出口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理において、前記
予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室を処
理室外からシールするスリット状のシール装置を有し、
当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案内す
る案内部材を設け、前記スリット部内部にエア噴出口を
設けたことを特徴とする真空連続処理装置。 ２、前記噴出口がスリット状シール面と垂直に向いてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空連
続処理装置。 ３、前記噴出口が大気側に対しエアが吹き出す様にスリ
ット状シール面と角度をなしていることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の真空連続処理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62139754A JPS63305140A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
| KR1019880005390A KR910005158B1 (ko) | 1987-06-05 | 1988-05-10 | 진공연속 처리장치 |
| EP88108938A EP0293929B1 (en) | 1987-06-05 | 1988-06-03 | Continuous vacuum processing apparatus |
| DE8888108938T DE3865532D1 (de) | 1987-06-05 | 1988-06-03 | Vorrichtung zum kontinuierlichen behandeln unter vakuum. |
| US07/201,758 US5016561A (en) | 1987-06-05 | 1988-06-03 | Continuous vacuum processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62139754A JPS63305140A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63305140A true JPS63305140A (ja) | 1988-12-13 |
Family
ID=15252610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62139754A Pending JPS63305140A (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63305140A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5088908A (en) * | 1989-03-20 | 1992-02-18 | Hitachi, Ltd. | Continuous vacuum processing apparatus |
| JPH1136069A (ja) * | 1997-07-15 | 1999-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 成膜装置の排気方法 |
| JP2016017182A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | 株式会社Ihi | 真空シール装置及び真空プロセス処理システム |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP62139754A patent/JPS63305140A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5088908A (en) * | 1989-03-20 | 1992-02-18 | Hitachi, Ltd. | Continuous vacuum processing apparatus |
| JPH1136069A (ja) * | 1997-07-15 | 1999-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 成膜装置の排気方法 |
| JP2016017182A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | 株式会社Ihi | 真空シール装置及び真空プロセス処理システム |
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