JPS61228028A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JPS61228028A JPS61228028A JP6902785A JP6902785A JPS61228028A JP S61228028 A JPS61228028 A JP S61228028A JP 6902785 A JP6902785 A JP 6902785A JP 6902785 A JP6902785 A JP 6902785A JP S61228028 A JPS61228028 A JP S61228028A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- rod
- positive electrode
- treated
- cathode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Standing Axle, Rod, Or Tube Structures Coupled By Welding, Adhesion, Or Deposition (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
不発明は合成繊維やプラスチック成形品、たとえば塩化
ビニール系樹脂など可撓性の被処理物を連続的に真空状
態でプラズマ処理する装置に−するものである。
ビニール系樹脂など可撓性の被処理物を連続的に真空状
態でプラズマ処理する装置に−するものである。
この楓の真空連続処理装置は、本願出願人にょシすでに
特開ＩＩｓ ５７−１９５７５１号公報などで出願され
ている。この装置は、プラスチック成形品など可撓性の
被処理物に真空処理室内のドラム状ｐｉｉｌＬ極と棒状
陽電極間でプラズマ放電させながら表面ｌ＆塩を施すよ
うになっている。
特開ＩＩｓ ５７−１９５７５１号公報などで出願され
ている。この装置は、プラスチック成形品など可撓性の
被処理物に真空処理室内のドラム状ｐｉｉｌＬ極と棒状
陽電極間でプラズマ放電させながら表面ｌ＆塩を施すよ
うになっている。
ところで、前記棒状の陽電極は真空処理室内の側壁に片
持支持されているため、特に被処理物の幅か大きい場合
にはそれだけ陽電極も長くなシ自ｌによってたわみが発
生する。″Ｕｔ、支持部材のカタなどによってもたわみ
が発生する。この結果、両電極間においては、プラズマ
放電強さか一様でなくなシ、シたがって処理ムラなどに
よシ被処理物に均一なプラズマ処理が得られない。
持支持されているため、特に被処理物の幅か大きい場合
にはそれだけ陽電極も長くなシ自ｌによってたわみが発
生する。″Ｕｔ、支持部材のカタなどによってもたわみ
が発生する。この結果、両電極間においては、プラズマ
放電強さか一様でなくなシ、シたがって処理ムラなどに
よシ被処理物に均一なプラズマ処理が得られない。
さらに、陽電極は非導電材の絶縁ブツシュを介して支持
されているが、このブツシュには長時間の使用によって
クリープ現象か発生する。このブツシュの変形によって
真空処理室内のシール効果か損われる。
されているが、このブツシュには長時間の使用によって
クリープ現象か発生する。このブツシュの変形によって
真空処理室内のシール効果か損われる。
本発明の目的は、被処理物の輪の大きさに関係なく被処
理物に均一な表面処理を施すようにした真空連続処理装
［ｔ−提供することにある。
理物に均一な表面処理を施すようにした真空連続処理装
［ｔ−提供することにある。
本発明は上記目的を達成するために、棒状の陽電極を球
ｒｊＩｉ座を介して支持することによシ、陰電極と陽電
極を常に一定の間隔に調節可能としｍことを特徴とする
。
ｒｊＩｉ座を介して支持することによシ、陰電極と陽電
極を常に一定の間隔に調節可能としｍことを特徴とする
。
以下本発明の一実施例を図面によシ説明する。
第１図および第２図において、１はプラスナックフィル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室、２は真空処ｍ塞１の前方側に複数個配置される
予備真空家、３は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空家で、前記真空処理室１内はこれに接続す
る真空ポンプ４によｆｉ １０−” ）−ル程度の真空
圧力に保持するように排気管５を介して真空排気される
。
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の
被処理物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室、２は真空処ｍ塞１の前方側に複数個配置される
予備真空家、３は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空家で、前記真空処理室１内はこれに接続す
る真空ポンプ４によｆｉ １０−” ）−ル程度の真空
圧力に保持するように排気管５を介して真空排気される
。
前記予備真空家２，３内：はこれに接続する真空ポンプ
６によシ前記真空処３１宣１内の真空圧力により−ｉ干
高く、かつ大気圧よ多段階的に減じる真空圧力に保持す
るように排気管７を介して真空排気される。
６によシ前記真空処３１宣１内の真空圧力により−ｉ干
高く、かつ大気圧よ多段階的に減じる真空圧力に保持す
るように排気管７を介して真空排気される。
処理される被処理物Ｆは巻出装置８よシ前方側の予備真
空室２を虹て＾空処理呈１へ送られ、そこでプラズマ処
理され九後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取ｔ
ｃ置９で巻取られる。１ｏは駆動用モータで、この駆動
用モータ１０はラインシャフト１１および無段変速機１
２，１３，１４゜１５を介して真空飽塩呈１、予備真空
室２，３、巻取装置９へ電動力を伝達し、真空処理室１
１予備真空宣２，３および巻取装［９の各電動系の回転
速度は前記無段変速機１２，１３．１４．１５により適
宜調整される。
空室２を虹て＾空処理呈１へ送られ、そこでプラズマ処
理され九後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取ｔ
ｃ置９で巻取られる。１ｏは駆動用モータで、この駆動
用モータ１０はラインシャフト１１および無段変速機１
２，１３，１４゜１５を介して真空飽塩呈１、予備真空
室２，３、巻取装置９へ電動力を伝達し、真空処理室１
１予備真空宣２，３および巻取装［９の各電動系の回転
速度は前記無段変速機１２，１３．１４．１５により適
宜調整される。
論３図は前記真空飽塩室１の概要を示すもので、真空処
塩意１はドラム状の陰電極１６と、との陰電極１６と、
この陰電極１６の外周側に配列された少なくとも１本の
棒状の陽電憔１７と、被処理物Ｆｆｔ案内する少なくと
も１本のガイドロー２１８とから成っておシ、これら両
電極およびガイドローラ１８は一方の側板１９に片持支
持され、他方の側板２０は開閉扉になっている。
塩意１はドラム状の陰電極１６と、との陰電極１６と、
この陰電極１６の外周側に配列された少なくとも１本の
棒状の陽電憔１７と、被処理物Ｆｆｔ案内する少なくと
も１本のガイドロー２１８とから成っておシ、これら両
電極およびガイドローラ１８は一方の側板１９に片持支
持され、他方の側板２０は開閉扉になっている。
亀４図および第５図は本発明の棒状の陽電極１７の取付
構造を示すもので、２１は後述する絶縁ブツシュなどを
介して陽電極を任意に回動可能に支持する一方の球面座
で、この球面座２１は側板１９に取付けられている。２
２はフッソ樹脂などによシ形成された絶縁ブツシュで、
ブツシュ２２と球面座２１は互いに球面で接触している
。
構造を示すもので、２１は後述する絶縁ブツシュなどを
介して陽電極を任意に回動可能に支持する一方の球面座
で、この球面座２１は側板１９に取付けられている。２
２はフッソ樹脂などによシ形成された絶縁ブツシュで、
ブツシュ２２と球面座２１は互いに球面で接触している
。
２３．２４は大気側と真空処理室１内のシールを施す０
リング、２５はテーバホルダーで、このテーバホルダー
２５の内面にはこのテーバと嵌合するテーバ外向を有す
る絶縁用のテーバブツシュ２６か挿入されておシ、この
テーバブツシュ２６は押付ボルト２７を軸方向に締付け
ることによって陰電極１７を固定する九めに、半径方向
にスリン）２６ａか形成されている。２８は他方の球面
座、２９は絶縁ブツシュで、このブツシュ２９と球面座
２８は互いに球面で接触している。３０は絶縁ブツシュ
２２．２６の外周側に挿入されるスリーブで、このスリ
ーブ３０は陽電極１７をボルト３３によシ固定する。３
１はボルト３５によってホルダー３２に支持されるプレ
ート、３４は球面Ｊ！ｉ！＋２８内に介在されるばねで
、このはね３４は球面座２８、絶縁ブツシュ２９、テー
バホルダー２５を介して絶縁ブツシュ２６を球面座２１
に押付ける作用を有している。前記ホルダー３２はボル
ト３６ＦＫ−よシ側板１９に支持される。
リング、２５はテーバホルダーで、このテーバホルダー
２５の内面にはこのテーバと嵌合するテーバ外向を有す
る絶縁用のテーバブツシュ２６か挿入されておシ、この
テーバブツシュ２６は押付ボルト２７を軸方向に締付け
ることによって陰電極１７を固定する九めに、半径方向
にスリン）２６ａか形成されている。２８は他方の球面
座、２９は絶縁ブツシュで、このブツシュ２９と球面座
２８は互いに球面で接触している。３０は絶縁ブツシュ
２２．２６の外周側に挿入されるスリーブで、このスリ
ーブ３０は陽電極１７をボルト３３によシ固定する。３
１はボルト３５によってホルダー３２に支持されるプレ
ート、３４は球面Ｊ！ｉ！＋２８内に介在されるばねで
、このはね３４は球面座２８、絶縁ブツシュ２９、テー
バホルダー２５を介して絶縁ブツシュ２６を球面座２１
に押付ける作用を有している。前記ホルダー３２はボル
ト３６ＦＫ−よシ側板１９に支持される。
上記の構成において、被処理物Ｆに対し均一なプラズマ
処理を施すために、ドラム状の陰電極１６と棒状の陽電
極１７の間隔を一定にする場合について説明する。
処理を施すために、ドラム状の陰電極１６と棒状の陽電
極１７の間隔を一定にする場合について説明する。
餓４図に示す状態からボルト３３を緩めることによシ陽
電極１７とスリーブ２９の固定が解放される。この状態
で棒状の陽電極１７か自重あるいは部品のガタによシ先
端部分か次わんだ場合、陽電＆１７および陽電極１７を
支持する絶縁ブツシュ２２、テーバホルダー２５、テー
バブツシュ２６などを球面座２１．２８で回動させるこ
とによシ、棒状の陽電極１７の先端を若干持ち上げるよ
うにすれば、陰電極１６と陽電極１７との間隔をはぼ一
様にできる。次に陽電極１７の位置が決足し次状態でボ
ルト３３を締付けることによシ、陽電極１７の位置はス
リーブ３０を介してホルダー３２に確実に固定される。
電極１７とスリーブ２９の固定が解放される。この状態
で棒状の陽電極１７か自重あるいは部品のガタによシ先
端部分か次わんだ場合、陽電＆１７および陽電極１７を
支持する絶縁ブツシュ２２、テーバホルダー２５、テー
バブツシュ２６などを球面座２１．２８で回動させるこ
とによシ、棒状の陽電極１７の先端を若干持ち上げるよ
うにすれば、陰電極１６と陽電極１７との間隔をはぼ一
様にできる。次に陽電極１７の位置が決足し次状態でボ
ルト３３を締付けることによシ、陽電極１７の位置はス
リーブ３０を介してホルダー３２に確実に固定される。
また、絶縁ブツシュ２６がクリープ現象などによシ長時
間のま用において変化したとしても、ばね３４によシ球
面座２８、絶縁ブツシュ２９、テーバホルダー２５を介
して絶縁ブツシュ２２を常に球面座２１に押付けている
ので、真空処理室１内のシール性が損われることはない
。
間のま用において変化したとしても、ばね３４によシ球
面座２８、絶縁ブツシュ２９、テーバホルダー２５を介
して絶縁ブツシュ２２を常に球面座２１に押付けている
ので、真空処理室１内のシール性が損われることはない
。
本発明装置によれば、陽電極を球面座を介して支持する
ようにしたので、陽電極と陰１＆間を一定の間隔に調整
することができるため、被処理物の幅の大きさに関係な
く熟埋ムラのない均一な表面処理が施される。
ようにしたので、陽電極と陰１＆間を一定の間隔に調整
することができるため、被処理物の幅の大きさに関係な
く熟埋ムラのない均一な表面処理が施される。
第１図は本発明の真空連続処理装置の概略縦断面図、第
２図は第１図の概略平面図、第３図は本発明装置におけ
る真空処理室の縦断面図、第４図は本発明装置における
棒状陽電極の取付状態を説明する九めの図、第５図は第
４図のＶ−Ｖ＊矢視図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、１６・
・・陽電極、１７・・・陽電極、２１．２８・・・球面
座、２２゜２９、・・・絶縁ブツシュ、２５・・・テー
パホルダー、遁 １ 口
２図は第１図の概略平面図、第３図は本発明装置におけ
る真空処理室の縦断面図、第４図は本発明装置における
棒状陽電極の取付状態を説明する九めの図、第５図は第
４図のＶ−Ｖ＊矢視図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、１６・
・・陽電極、１７・・・陽電極、２１．２８・・・球面
座、２２゜２９、・・・絶縁ブツシュ、２５・・・テー
パホルダー、遁 １ 口
Claims (1)
- 真空処理室内に陰電極と陰電極に対向する棒状の陽電極
とを備え、これら両電極の間に可撓性の被処理物を送り
込むことにより被処理物の表面を処理する真空連続処理
装置において、前記棒状の陽電極を、両電極が常に一定
の間隔に調整可能なように球面座を介して支持すること
を特徴とする真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6902785A JPH062832B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6902785A JPH062832B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61228028A true JPS61228028A (ja) | 1986-10-11 |
| JPH062832B2 JPH062832B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=13390686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6902785A Expired - Lifetime JPH062832B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062832B2 (ja) |
-
1985
- 1985-04-03 JP JP6902785A patent/JPH062832B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH062832B2 (ja) | 1994-01-12 |
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