JPS6128557A - バナジル−フタロシアニンの製造方法 - Google Patents

バナジル−フタロシアニンの製造方法

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JPS6128557A
JPS6128557A JP13390785A JP13390785A JPS6128557A JP S6128557 A JPS6128557 A JP S6128557A JP 13390785 A JP13390785 A JP 13390785A JP 13390785 A JP13390785 A JP 13390785A JP S6128557 A JPS6128557 A JP S6128557A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フタロシアニン組成物の改良製造方法に関す
る。更に詳細には、本発明は、バナジにフタロシアニン
を反応によって生成し、処理することにより、改良され
た電子写真用性質を達成させる方法に関する。
静電的手段によって、光導電性部材の像形成性表面に静
電潜像を生成させ現像することはよく知られている。一
般に、この方法は、当業界において、光受容器と称せら
れている電子写真板の表面上に静電潜像を形成すること
を包含している。通常、この光受容器は、導電性基体、
および光導電絶縁物質の1層またはそれ以上の層から成
っている。望ましくない放電な防ぐために、導電性基体
と光導電性層との間に、遮断層(barrier)を挿
入することができる。
多くの異った光導電性部材、例えばガラス質セレンのよ
うな単一物質の均質層、または光導電性組成物の分散物
を含有する複合層装置、が知られている。複合光導電性
部材の1つのタイプの例は、例えば米国特許第3.12
1.006号に記載されている。この特許の複合光導電
性部材は、電気絶縁性の有機樹脂結合剤中に分散された
光導電性無機化合物の細分粒子を含んでいる。通常、こ
の光導電性無機化合物は、裏紙上に被覆された電気絶縁
性の有機樹脂結合剤中に均質に分散された酸化亜鉛粒子
から成っている。前記特許に記載された結合剤物質は、
光導電性粒子によって生成する放電キャリヤーを、任意
の有意の距離の間、移動させるのが不可能な物質である
。それ故、この光導電性粒子は、サイクル操作のために
要求される消電をするために1層全体にわたって粒子を
接触するように実質的に隣接した粒子にしておかなけれ
ばならない。光導電性粒子の均質な分散物は、急速な放
電用に粒子接触させるのに充分な光導電体粒子を得るた
めに、光導電体物質の比較的高容量濃度、通常約50%
(容量)が必要でおる。前記特許に記載された特定の結
合剤物質には、例えばポリカーギネート樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリアミド樹脂等が包含される。
無機物質または有機物質を含む先受容器材料、その荷電
キャリヤー発生作用および荷電キャリヤーを運ぶ作用は
、別箇の隣接している層によって成就される、先受容器
材料は知られている。分離した発生層および輸送層から
成る装置を有する、層になっている光応答装置は、例え
ば米国特許第4,265.990号に記載されている。
゛また、層になりている光受容器物質は、電気絶縁重合
体物質のオーバーコート層を有する従来技術に記載され
ている。
孔射出層を含むオーバーコートされた光応答性物質、孔
輸送層を有するオーバーコート、次の写真生成性層のオ
ーバーコーテイング、および絶縁性有機樹脂の外部被覆
は、例えば、米国特許。
第4.251.612号に記載されている。これらの特
許に記載された写真生成性層には、例えば、三方晶セレ
ニウム、およびフタロシアニン、およびある種のジアミ
ンを含有する輸送層が包含されている。米国゛特許第4
.265,990号および米国特許第4,251.61
2号の全記載は、本明細書の記載として援用する。
ある種のフタロシアニン組成物は、それを光応答装置に
組込みその装置の可視光線および赤外線を包含する元に
対して光応答性能を拡げるのに有用である。これらの光
応答装置は、例えば従来の電子写真複写機およびレーデ
−印刷機に利用することができる。更に、これらの光応
答装置は、写真生成性層の中に、写真生成性層と孔輸送
層との間に、または、写真生成性層と支持基体との間に
、7タロシアニン組成物を包含する光導電性物質を含む
即一層または多層の部材から成っている。
バナジル−フタロシアニンが、光応答装置のために特に
適当であることが見出された。バナジル−フタロシアニ
ンを製造し処理するだめの多数の方法が知られている。
これ等の方法は、例えば米国特許第2.155.058
号および米国特許第3.825.422号に記載されて
お9、これ等の中には、フタロニトリルと五酸化バチジ
ウムを溶剤の不存在下で反応させることが記載されてい
る。
種々の他の例も米国特許第3,825.422号および
米国特許第4,032,339号に記載されており、こ
れ等の中には、バナジル−フタロシアニンを、種々の溶
剤の存在下で、三塩化バナジルと他の共反応体を使用し
て製造することが記載されている。
バナジル−フタロシアニンを製造するための反応体とし
て三塩化バナジウムの使用は、あまり望ましくない。何
故なら、三塩化バナジウムは、不安定と塩化水素の生成
の一因となる加水分解性の活性金物であるかもである。
7タロシアニンは、例えば米国特許第2,155,06
8号、同第3,717.493号、同第3.825.4
22号、同第4,032,369号、同第4.076,
527号、英国特許第502,625号(完全明細誓は
1969年6月22日に受入れた)、および特願昭49
−46264号(1974年11月20日に公告された
)に記述さ几ている如く、硫酸と反応させることができ
る。
多くの従来技術の方法によって造られた粒子は、比較的
多少の感光性がある。従って、長い露光時間が必要とさ
れるが、これは高速度の電子写真像形成性装置に不適当
な物質を与える。更に、多くの従来技術の方法は、次の
工程で除去することが困難である分解生成物の生成を促
進する工程を含んでおり、これは終局的にはバナジル−
フタロシアニン生成物の電気的性質に影響を与える。酸
処理は小さい粒子サイズの生成を容易にするが、非常に
小さい粒子サイズを得るのは難しい。更に、バナジル−
フタロシアニン粒子は、簡単に、適当な粒子サイズに物
理的に粉砕することはできない。
何故なら、粉砕工程において、比較的大きな粒子を含有
する非常に大きな粒子サイズ範囲分布を有する粒子を生
成する傾向があるからである。粉砕されたバナジル−フ
タロシアニン粒子の分級は、時間の消費になり、かつ収
率はよくない。
ゼログラフィー(Xerography)の技術は進歩
し続ける故に、より厳密な標準に、性能を改良しかつ高
質の像を得るために、電子写真像形成性装置が合うよう
にすることが必要である。また、望ましいことは、可視
光、および/またはレーず一印刷に使うための赤外線照
射に、より多く応答する層化された光応答装置である。
これらの電子写真製品は、更に精巧になり、かつ高速度
において操作されるようになるので、操作の許容度は、
極めて較しくなり、かつ部品類の電気的挙動の予測能力
は特に臨界的となる。
バナジル−フタロシアニンを製造する従来方法は、その
意図する目的のためには適当であるかもしれないが、予
測能力のある電気的性質・を有するバナジル−フタロシ
アニンを製造する改良方法の必要性は存在し続けるであ
ろう。
発明の概要 そし故、本発明の目的は、バナジル−フタロシアニン組
成物を製造する改良された方法を提供することである。
本発明の他の目的は、確実に再現性の卆るバナジル−フ
タロシアニンの改良製造方法を提供することである。
本発明の他の目的は、非常に小さい平均粒子サイズを有
するバナジル−フタロシアニンの改良製造方法を提供す
ることである。
本発明の他の目的は、はとんど不純物のないバナジル−
フタロシアニンの改良製造方法を提供することである。
本発明の他の目的は、高収率でバナジル−フタロシアニ
ンを製造する改良方法を提供することである。
本発明の他の目的は、高感度電子写真性を示すバナジル
−フタロシアニンの改良製造方法を提供することである
本発明の他の目的は、光受容器の低暗減衰を与えるバナ
ジル−フタロシアニンの改良製造方法を提供することで
ある。
本発明の他の目的は、光受容器の低残留電荷を示すバナ
ジル−フタロシアニンの改良製造方法を提供することで
ある。
本発明の前記目的およびその他の目的は、五酸化バナジ
ウムとフタ四ニトリルおよびアルコールとを、少なくと
も発熱湿度において反応させ、得られた反応混合物を濾
過して反応生成物顔料ケーキ(oake)を生成させ、
この反応生成物顔料ケーキな双性中性溶剤(dipol
ar aprotio 5olvent)で少なくとも
一回洗滌して処理された顔料ケーキを生成させ、この処
理された顔料ケーキを乾燥し、該処理された顔料ケーキ
を攪拌しながら水で希釈した強酸で浸出し、得られた混
合物を濾過して浸出された顔料ケーキを生成し、この浸
出された顔料ケーキを水で希釈した強酸で少なくとも1
回洗滌して洗滌された浸出顔料ケーキを生成させ、該浸
出顔料ケーキを水を含む溶剤で少なくとも1回洗滌して
水洗された浸出顔料ケーキを生成させ、この水洗された
浸出顔料ケーキを水で希釈された強塩基と結合して強塩
基スラリーを生成し、この強塩基スラリーを攪拌しなが
ら加熱し、得られた混合物を濾過して強塩基で処理され
た顔料ケーキを生成し、この強塩基で処理された顔料ケ
ーキを双性中性溶剤と結合して溶剤スラリーを生成し、
この溶剤スラリーを攪拌しながら加熱し、該溶剤スラリ
ーを濾過して溶剤で処理された顔料ケーキを得、この溶
剤で処理された水を含む溶剤と結合して水性スラリーを
生成し、この水性スラリーを〆 攪拌しながら加熱し、該水性スラリーを濾過して洗滌さ
れた顔料ケーキを得、この洗滌された顔料ケーキを乾燥
し、この洗滌された顔料ケーキな攪拌しながら冷却した
強酸に増加的に溶解してバナジル−フタロシアニンの冷
却された溶液を生成し、この溶液?:攪拌しながら冷却
水と混合して沈殿したバナジル−フタロシアニン粒子を
含む混合物を生成し、この得られた混合物を濾過して沈
殿したバナジル−フタロシアニン粒子のケーキを得、こ
の沈殿バナジル−フタロシアニン粒子ケーキを水を含む
溶剤と混合してバナジル−フタロシアニン粒子と水のス
ラリーを生成し、このバナジル−フタロ9フ2フ粒子と
水のスラリーを加熱し、得られた混合物を濾過してバナ
ジル−フタロシアニン粒子のケーキを得、この沈殿した
バナジル−フタロシアニン粒子のケーキを水を含む溶剤
と混合してバナジル−フタロシアニン粒子と水のスラリ
ーを生成し、このバナジル−フタロシアニン粒子と°水
のスラリーを加熱し、得られた混合物を濾過してバナジ
ル−フタロシアニン粒子のケーキを得、このバナジル−
フタロシアニン粒子のケーキを水と混合して水のスラリ
ーを生成し、この水のスラリーを濾過してバナジル−フ
タロシアニンの精製された顔料ケーキを生成し、次いで
このバナジル−フタロシアニンの精製された顔料ケーキ
を乾燥させる、方法によって達成される。
本発明の改良製造方法は、説明を容易にするために6つ
の段階に分けられるが、これら諸段階は相互に関係があ
り、個々にかつ共同して最終顔料生成物の重要な再現性
のある電気的特性に貢献する。
最初の段階(段階I)は、粗バナジルーフタロシアニン
の合成に関している。
本発明方法に用いる出発反j心体は、五酸化バナジウム
、フタロニトリル、およびエチレングリコールである。
反応混合物におけるフタロニトリル:五酸化バナジウム
のモル比は、好ましくは約10:1および約14:1の
間である。フタロニトリルのより多くの過剰は、副反応
により次工程で除去しなければならない多くの副反応生
成物である不純物を生成し、フタo二)リルの回収でき
ない損失を招来する。前述のモル比が12.4 : 1
より少ない値に減少するときは、収率は仕込んだバナジ
ウムの当量(6qu1valents)  に基づいて
減少する。
それ故、12.4 : 1およびそれ以上のモル比にお
いて、全ての仕込v205はバナジル−フタ四シアニン
に転化する。
2個以上のヒドロキシル基を有しかつ少なくとも約18
0℃の沸点を有する任意の適当なアルコールを使用する
ことができる。約180℃以下の沸点は通常避けるべき
である。何故なら、反応混合物が発熱温度に達゛する前
に、アルコールが沸騰するからである。発熱最大温度よ
り低い温度で沸騰するアルコールを用いると、粗バナジ
ルーフタpシアニンの収率は有意に減少する。おそらく
低い温度においては圧力容器を使用することができるが
、そのようなより多く費用のかかる装置を必要とするこ
とは、標準の工業用装置が適当な温度および大気圧下で
殆んど定量的な収率な与えるとき、不経済となる”であ
ろう。典型的な多官能性アルコールは、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、エチレングリコール、ク
リ七ロール、および少なくとも約180℃の沸点を有す
る任意の他のモノまたはポリオールである。最適収率は
エチレングリコールで達成される。エチレングリコール
は高価でなく、純粋で、かつ多量に利用されている。反
応を通して容易に攪拌される流体として、フタロニトリ
/L/を溶解しかつ反応混合物を維持するために充分な
アルコールを使用すべきである。好ましくは、この充分
なアルコールは、反応混合物の還流を達成させ、反応混
合物を発熱温度にするのに必要とする熱エネルギー量を
最少にし、かつ発熱温度に達した後の反応混合物の過度
の高温度を防ぐために、存在させるべきである。
反応混合物の過度の高温は、望ましくない不純物の生成
を助長する副反応を促進する。しかし、アルコールの過
剰量は、発熱が始まるのに要する時間およびエネルギー
を最少にし、かつ反応が実質゛  的に完了した後の反
応混合物を冷却するための時間およびエネルギーを最少
にするために、避けるべきである。
アルコール:五酸化バナジウムの割合は、好ましくは約
3:1および約30=1の間にある。反応混合物には、
この混合物が発熱温度に達するように充分な加熱がなさ
れるべきである。発熱温度は、バッチ温度が昇温時間中
においてジャケット温度を越える時に、本方法において
達成された最大温度として定義する。
反応中、反応混合物を攪拌することは重要である。激し
く攪拌することが好ましい。この攪拌は、適当な攪拌手
段、例えばプロペラ式ミキサー、磁気バ一式ミキサー等
、によってなされる。反応混合物の乱流を促進するため
に、反応容器に、じゃま板、不規則な内部表面等を含ま
ぜることができる。典型的な混合装置は,Nじゃま板お
よび6.76馬力のモーターによってI OOrpm回
転する3枚羽根プロペラ式攪拌機を有する一10ガロン
のジノ1ウドラー グラステール(Pfaualer 
Gl&5teel )反応器である。
反応は、減圧、大気圧、または過圧下で行うことができ
る。選ばれた圧力は、使用されるアルコールの沸点、お
よび発熱温度を達成するについての圧力の効果のような
因子に依存する。換言すれば、圧力は、反応混合物が発
熱温度に達する前に、アルコールが還流するような低さ
であるべきではない。更に、過圧は、アミルアルコール
のような低沸点アルコールを用いるとき使用できるが、
しかしこの圧力は反応が逆になるはど高くあるべきでは
ない。一般に、大気圧下の反応は、特別な加圧装置の必
要性を避け、かつ反応を遂行するためのエネルギー消費
を最小にすることが好ましい。
例えば\反応器は、溶剤蒸気を凝縮するのに充分な容量
2有する大気に開放された単純な水冷の還流冷却器を単
に取り付けるだけでよい。
本発明方法および装置のより完全な理解は、本発明方法
における反応混合物(バッチ)および加熱マントルまた
はオイル循環浴(ジャケット)のための典型的な温度対
時間の関係乞グラフで説明している添付図を参照するこ
とによってなされる。
本発明の反応のための典型的な時間対温度の関係は図に
説明されている。一般に、反応は6つの部分に分けるこ
とができる。図において、反応器をとりまいている加熱
ジャケ−ットの温度は点線によって表され、反応混合物
自体の温度は実線によって表されている。反応の第1部
分は、曲線の傾1が急に増加する点あたりで終る。この
点は、発熱の始まる温度であり、その後、短時間で達成
される最大温度が発熱温度である。好ましくは、反応混
合物は、副反応の発生を最小にするために、実際上でき
るだけ急速に発熱温度領域に〃u熱する。
しかし、温度増加率においてかなりの寛容度が観察され
た。図から明らかな如(、ジャケット温度は、最初の時
間零において反応混合物の温度より高い。更に、ジャケ
ット内の加熱媒体の温度は、反応混合物が発熱温度に達
する時点の僅か前に平・らになる。反応混合物の温度は
、ジャケット内の温度を越えて上昇する。これは、発熱
反応の間に反応混合物中に発生した熱に基因する。
反応の次の部分は、反応混合物(バッチ)の温度を発熱
の初めの温度以上に上げなければならない、かつ反応の
実質的完了までまた発熱が静まる(バッチ湿度が減少し
始める)まで発熱温度を維持しなければならない、特別
な臨界的期間である。
反応の実質的完了後(図において約5.55時間)反応
混合物の加熱を止める。反応段階に続くこの第3の部分
は特に臨界的ではなく、冷却を行う方法にはかなりの寛
容度が観察された。反応混合物を加熱するのにオイルジ
ャケットが使用されるが、他の適当な従来の加熱装置を
使用することができる。典型的な加熱手段には、加熱オ
イルジャケット、電気マントル、加熱オイル循環浴等が
ある。
冷却は、単に反応容器に対する加熱を終了させることに
よって行われる。所望により任意の適当な従来の手段を
用いることによって冷却促進させることもできる。
反応の完了後、反応混合物を濾過し顔料ケーキを得る。
濾過は、任意の適当な従来の手段、例えばセラミック製
フィルター等を用いる濾布および濾紙、を用いて行うこ
とができる。所望により、濾過は、適当な真空手段を用
いて促進させることができる。濾過して最初の顔料ケー
キを生成後に、この顔料ケーキな双性中性溶媒を用い℃
洗滌する。
適当な双性中性溶媒を用いることができる。典型的な双
性中性溶媒には、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメ
チルアセトアミド、N−メ′fルー2−ピロリドン、ス
ルホラン、N、N−ジメチルホルムアミド等が含まれる
。一般に、反応混合物中の不純物の除去を高め、かつ不
純物を除去する時間を最小にするために、双性中性溶媒
を予め暖めておくことが好ましい。高温において双性中
性溶媒を使用することは、その溶媒によって不純物のよ
り多くの効果的除去を促進するバナゾルー゛フタロシア
ニンの少しの膨潤の原因となると信んじられている。少
なくとも約80℃の溶媒温度は、不純物の急速除去のた
めには好ましい。N、N−ジメチルホルムアミドは好ま
しい双性中性溶媒である。何故なら、この溶媒は、80
℃およびそれ以上の温度で安定であり、純粋であり、多
量に利用でき、かつ他の双性中性溶媒よりも費用がかか
らないで、しかも膨潤した顔料から不純物を除去する他
の溶媒と同等な溶媒能力を持っているからである。洗滌
は、通常、フィルター上にある顔料ケーキ上に双性中性
溶媒ヲ方口えることによって行われる。洗滌工程は少な
くとも1回行われるが、所望により繰返して行うことも
できる。更に、顔料ケーキを、アルカノールのような適
当な溶媒で追加的に洗滌することもできる。典型的なア
ルカノールには、エタノール、イングロパノール、シタ
ノール等が包含される。この洗滌工程は、アルカノール
と相溶性である若干の顔料を吸収した双性中性溶媒の除
去を高める。アルカノールは、水と相溶性であるかまた
は水と部分的に相溶性であるべきである。何故なら、濾
過された顔料ケーキは、大気中の湿分を吸収しており、
かつ水と相溶性のアルコールは制氷に吸収された水をよ
く除去するからである。1種またはそれ以上のアルカノ
ールを洗滌に使用するときは、洗滌前にアルカノールを
予め暖めておくことは、アルカノールに可溶性の不純物
ン、より効果的にかつより急速に除去するために好まし
い。
洗滌された濾過ケーキは、任意的に、適当な強塩基を用
いて処理する。この塩基は、一般的に希溶液として用い
る。約3%(M量)〜約6%(重量)の希溶液が好まし
い。強塩基を用いる処理は、濾過ケーキ中に残留してい
る五酸化バナジウムまたは他の両性バナジウム種の除去
を助長する。強塩基を用いる処理は、典型的には、機械
的攪拌によって均質なスラリーを生成させることによっ
て行なう。典型的な強塩基処理は、約70’Q〜約75
℃で約1時間道行する。塩基を用いるこの任意的処理が
使用されたときは、得られたスラリーな、適当な手段、
例えば従来の真空濾過システム、によって濾過し、次い
で予め暖められた脱イオン水を用いて洗滌する。経済的
および不純物の溶解性等の理由のために、スラリーを、
スラリーが塩基で処理されてからまだ熱い間に、真空濾
過すべきである。濾過された顔料ケーキの洗滌は、所望
なだけ繰返して行うことができる。しかし、塩基を用い
る処理、次ぎの濾過および洗滌の諸工程は、単に任意的
であって、所望によりこれらを省くこともできる。もし
省いた場合、には、高オープン乾燥温度が、高沸点を有
する双性中性溶媒を蒸発させるのに要求される。
前記諸工程から得られた顔料ケーキ(これは、双性中性
溶媒処理の後で得られたケーキであってよい。何故なら
、次の任意的工程は省くことができるからである)を乾
燥し、粗顔料を洗滌するのに使用した溶媒を除去する。
乾燥は、従来の適当な手段、例えば熱対流エアーオープ
ン、真空オーシン等、によって行なう。典型的乾燥方法
(強塩基スラリーおよび水洗後の)には、湿った顔料ケ
ーキを、熱対流エアーオープン中のオープントレー中に
、約65°C〜約70℃で少なくとも約96時間置くか
、または一定の重量が得られるまで置くことが包含され
る。
部分的に乾燥した顔料を、乳鉢および乳棒、ウオーニン
グ プレンジー(Warning Blondor)等
のような適当な手段を用いて軽く粉々にし、急速な乾燥
を容易にするために部分的に乾燥した顔料の表面積を増
加させる。乾燥は、溶媒含量が乾燥した顔料の全重量に
基づいて約1%(重量)以下になるまで減少させるのに
十分行うべきである。
粉末化した乾燥顔料は、次の加工工程の間直接の露光か
ら保饅することが好ましい。
本発明の第2の段階(段階■)は、ベルムトイド膨潤(
permutoldswelling)を包含する最初
の精製工程である。ベルムトイド膨瀦は、バナジル−フ
タロシアニンのプロトン化された形を表す75%硫酸膨
潤ゼラチン状塊から化学不純物を浸出することである。
乾燥し粉末化した粗顔料を強酸で処理する。バナジル−
フタロシアニン顔料を膨潤することが可能す、かつその
中に存在している不純物を溶解することの可能な適当な
強い有機酸または無機酸を使用することができる。典型
的な強酸には、硫酸、燐酸、メタンスルホン酸等が包含
される。強酸の濃度は、約70%(重量)〜約80%(
重量)であるべきである。約60%(重量)以下の強酸
濃度には、粗顔料から不純物を十分に除去する効果は余
りない。°また、80%(重量)のM濃度では収率が低
くなる。硫酸は、純粋でありかつ高価でないために好ま
しい強酸である。酸によって溶解される不純物には、フ
タルイミド、フタル酸、フタルアミン酸、およびフタル
ジアミドがある。粉末化し乾燥した粗顔料を、室温にお
いて攪拌しながら、冷却した酸に、徐々にかつ増加的に
添加すべきである。顔料を、恐らく加水分解の工程を通
って顔料の小量の分解の原因となる温度の過度の増加を
避けるために、混合物を室温近くに維持するのを助ける
ように、徐々に添加する。酸浴を、添加時間を通して全
ての顔料粒子を膨潤したゼラチン状態を得るように攪拌
し、次いで6時間攪拌する。これは、全溶媒との接触を
確実にし、かつ膨潤をa美にするためであり、これによ
り浸出工程の効率を改良することができる。顔料は、約
20時間までの間、酸スラリー中に置かれる。次いで、
酸で浸出された顔料は、前述の如き従来の濾過方法によ
って濾過する。その結果得られた濾過ケーキを、はぼ室
温において新しい酸を追加して洗滌する。
酸洗滌後の顔料ケーキを、予め暖められた適当な溶媒を
用いて洗滌し酸を除去する。好ましくは、洗滌液は脱イ
オン水である。しかし、所望により、アルコールまたは
アルコール−水混合液のような他の高価な溶媒を室温に
おいて用いることができる。経済的理由から、洗滌は、
前の濾過工程からの顔料ケーキがフィルター上に曇留し
ている間に行うのが好ましい。
顔料を塩基希水溶液と混合し、残留している酸を除去す
る。典型的な塩基水溶液には、水酸化ナトリウム、水酸
化アンモニウム、水酸化カリウム等が包含される。例え
ば、スラリーは、水酸化ナトリウムおよび水の4チ(重
量)溶液を用いて組成する。スラリーを、典型的には、
機械的に攪拌し、約り0℃〜約75℃に加熱し、残留し
ている酸の除去を容易にする。例えば、スラリー混合物
を、約り0℃〜約75℃にて約1時間保持する。攪拌の
程度、加熱の程度、および塩基と顔料の接触時間に関し
ては、かなりの寛容度がある。次いで、スラリーな、前
述の如き適当な従来法によって濾過する。
所望により、濾過した顔料を、脱イオン水のような適当
な液体で洗滌し、顔料中に残留している不純物を除去す
ることができる。しかし、この洗滌工程は任意的であり
、省略することもできる。
次いで、洗滌後の顔料ケーキ、またはスラリーの濾過後
の顔料ケーキを、双性中性溶媒と組合せて゛スラリーに
生成し、歳、処理工程中に除去できなかった不純物を除
去する。このスラリーを、約80℃と双性中性溶媒の沸
点以下の温度との間の温度に加熱するのが好ましい。攪
拌を行い、顔料粒子と双性中性溶媒との間の接触を約1
時間行わせる。次いで、この熱スラリーを濾過する。こ
のスラリー生成および濾過工程は、所望により、1回以
上繰返すことができる。得られた顔料濾過ケーキを、前
述の如ぎ双性中性溶媒で洗滌する。所望により、この顔
料ケーキを、また、脱イオン水、のような溶媒で洗滌す
ることができる。双性中性溶媒または脱イオン水を用い
るこれらの洗滌工程は、1回以上繰返すこともでき、ま
た全て省略することもできる。
その後、双性中性溶媒を除くために、顔料ケーキを、脱
イオン水のような適当な溶媒を用いてスラリーにする。
好ましくは、このスラリーを、約70°C〜約75℃の
温度に加熱する。典型的には、このスラリーを前記高温
において約1時間保持する。次いで、このスラリーを前
述の如き従来方法によって濾過し、乾燥して顔料ケー辱
中の水分含量を約1%(重量)以下の水に減少させる。
低水分含量は、次工程における酸の過度の希釈を防ぐの
に重要である。典型的には、顔料を、例えば65℃〜約
70℃に維持された熱対流エアーオーゾに中のトレー中
に置き、少なくとも約1時間保持に乾゛燥する。部分的
に乾燥後のトレー中の顔料塊を、より急速な乾燥および
次工程の酸による精製工程においてより急速な溶解をな
さしめるために軽く粉々にする。
本発明方法の最終段階(段階I)は、酸によるペースト
化を包含する最後の精製工程である。酸によるペースト
化は、95%以上またはそれと同等の硫酸に顔料を溶解
し、この顔料を沈殿させて、不純物を除去し、粒子サイ
ズを減少させることを要する。溶液および沈殿生成のた
めには高度に調節された条件を必要とする。
次いで、乾燥し粉末化したバナジル−フタロシアニン顔
料を冷却された強酸と混合する。バナジル−フタロシア
ニン顔料を完全に溶解することが可能な、かつその中に
存在している不純物を溶解することの可゛能な適当な強
い有機酸または無機酸を使用することができる。典型的
な強酸には、硫酸、燐酸、メタンスルホン酸等が包含さ
れる。硫酸は、純粋でありかつ高価でないために好まし
い強酸である。強酸の濃度は少なくとも95%(重量)
であるのが好ましい。約93%(重量)またはそれ以下
の強酸の濃度は、その酸で処理されたバナジル−フタロ
シアニン顔料が使用されている光受容器が受は入れられ
ないほど高い暗減衰特性を示す原因となる。酸の温度は
約15℃以下に維持するのが好ましい。ただし、゛例え
ば22℃のような高さの短時間の温度の突出は許容され
る。しかし、はぼ室温(約22°C)において持続して
維持された温度は、酸処理されたバナジル−フタロシア
ニン顔料が使用されている光受容器が受は入れられない
ほど高い、暗減衰特性を示す原因となり、これは明らか
に持続して維持された高温処理から生成され保持された
不純物に基因する。最適の結果は、酸の温度を約5°C
〜約10℃に維持するときに達成される。溶液中に生成
する不純物の量は、温度および滞留時間によって増加す
る。粉末にしかつ乾燥した乾燥顔料は、15℃以下の温
度で、酸を攪拌しながら、ゆっくりとそして量を増加さ
せながら添加すべきである。顔料は、持続して維持され
た時間の間、約15℃を越える温度の過度の温度上昇を
避ける゛ためにゆっくり添加する。酸浴を激しく攪拌し
、溶液温度を更に均一に維持し、かつ酸の中に顔料が急
速に溶解するのを促進させる。顔料は、約2時間以下6
時間、酸浴液中に入れて置く。約6時間以上の滞留時間
は、受は入れ鼎い多量の不純物を生成させる原因となる
。約2時間以下の滞留時間は、顔料の量および溶解速度
との関連において、使用される酸の量によって実行可能
である。未溶解の顔料は、次工程において氷水で冷却す
べきではない。何故なら、それは高暗減衰特性を有する
装置を招来するからである。
次いで顔料−酸溶液は、攪拌しながら、ゆっくりとそし
て量を増加させながら、氷水浴中に添加すべきである。
所望により、水と相溶性でありかつ酸と非反応性の適当
な溶媒、例えばアルコール類、の少量を、氷水浴中に加
えることができる。
しかし、氷水浴中には、酸−顔料溶液から不純物を溶解
するのに充分な水を含有させるべきである。
顔料−酸溶液は“、持続して維持された時間の間、約1
5℃を越える浴温度の有意な温度上昇を避けるため、ま
た、小さい顔料粒子サイズおよび不純物が最も少なく生
成されるのが確保されるように、ゆっくり添加する。過
度の高浴温度は、顔料の不都合な急速な加水分解、生成
された顔料の凝集、および顔料凝集物中への不純物の捕
捉等の原因となる。酸で処理された顔料は、1種以上の
流れの形式における氷水浴中に導入し、熱の急速な消失
を促進させることができる。この導入は、強酸中におけ
る顔料の滞留時間を不都合に延ばすようなほどゆっくり
であってはならない。それによって氷水中に冷却する前
に高水準の不純物量が生成されるからである。典型的な
導入時間は、約1.75〜2時間である。例えば、優秀
な結果は、脱イオン水および氷を含有する浴中に、約1
50〜約200rrLl/’Aの単一の流れ供給速度で
得られる。
好ましくは、顔料を、約15℃以下に維持された浴温度
で、約0.1ミクロン以下の平均粒子サイズを形成する
のに充分な速度で、氷水浴中に導入する。この浴は、均
一な浴温度を保持しかつ氷水浴中に顔料が急速に分散す
るのを促進させるた誌に、激、シく攪拌しなければなら
ない。この′ためには、浴を激しく攪拌することが可能
な、例えば前述した如き従来の適当な攪拌手段を用いる
ことができる。反応混合物中の乱流を促進させるために
、反応容器中に、じゃま板および不規則な内部表面等を
設けることができる。氷の固体片(19611)aの1
部)を、浴が持続して維持された時間約゛15℃以下の
温度に維持されるのを確保するために、浴に週期的に添
加する。しかし、氷片は、浴の適当な攪拌に逆影響を与
えるような量であるべきではない。最適な結果は、浴の
温度が約り℃〜約10℃の温度に維持されるとき達成さ
れる。所望により、他の適当な冷却手段、例えば浴中に
浸した冷却された冷却用コイル、な氷片に置換えまたは
氷片と共に使用することもできる。しかし、内部に加え
られた氷より外の他の適当な冷却源を使用するならば、
冷却水の相応量が氷の代りに用いられるべきである。顔
料は、約5時間まで氷水浴中に入れて置き、次いで前述
した如きまた以下の実施例に記載されている如き従来の
真空濾過手段で濾過する。得られた濾過ケーキは、漏斗
上で、予め温められた脱イオン水で洗滌し、次いで70
〜75℃に加熱された脱イオン水の25ガロン中に1時
間かけてスラリーにする。次いで、この熱い顔料スラリ
ーを真空濾過する。
次いで、この顔料ケーキを、濃い弱塩基または稀薄な強
塩基を用いてスラリーにする。任意の適当な塩基を使用
することができる。典型的な弱塩基には、水酸化アンモ
ニウム、水酸化カルシウム等が包含される。典型的な強
塩基には、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が包含
される。好ましくは、スラリーは、濃い水酸化アンモニ
ウムで生成する。何故なら、この塩基は、有機顔料から
不純物を抽出することが最も可能であるからである。顔
料ケーキは、攪拌しながら稀薄塩基でスラリ・−に生成
しなければならない。その後、最終の光受容器における
受は入れ難い暗減衰を防ぐために、少なくとも1回濾過
しなければならない。典型的には、この最初のスラリー
は、約700C〜約75℃に加熱し、この高温で約1時
間保持する。
次いで、この顔料ケーキを、塩基および不純物を除くた
めに、脱イオン水を用いかつ攪拌しながらスラリーにす
る。顔料ケーキは、水でスラリーにしなければならない
。次いで、最終の光受容器における受は入れ難い暗減衰
を防ぐために、少なくとも1回濾過しなけれはならない
。所望により水と相溶性でありかつ非反応性の溶媒、例
えばアルコール類、の少量を、スラリーに加えることが
できる。好ましくは、スラリーを、約700C〜約75
℃の温度に加熱する。典呈的には、スラリーなこの高温
度で約1時間保持する。次いで、このスラリーを、好ま
しくはまだ熱いうちに、前述の如きまた以下の実′施例
に記載した如き従来の手段を用いて真空濾過する。顔料
ケーキを水でスラリーにする工程、およびその後のスラ
リーを濾過する工程は、濾液の導電率を約10マイクロ
七−(micromhos )以下に減少させるのに充
分な回数行うべきである。もし濾液の導電率が約10マ
イクロモー以上であるならば、最終の光受容器は受は入
れ難い暗減衰を示すことが見出された。
次いで、顔料ケーキを、任意の適当な従来技術を用いて
乾燥1゛る。トレー中の顔料の塊は、好筐しくは、乾燥
中に少なくとも1回粉々にし、顔料粒子の表面株をより
多く露出させる。典型的には顔料を、例えば約65°C
〜約70℃に維持された熱対流エアーオープン中のトレ
ー中に、少なくとも約96時間置くことによって適当に
乾燥させることができる。なお、更に完全な乾燥は、6
5°C〜70℃において約0.5關水銀の真空度の真空
オーブン中において乾燥させるような従来方法によって
、約16時間またはそれ以上の時間乾燥することによっ
て達成することができる。次いで、顔料を袋に入れ光の
ない所に貯える。
本発明を、次の特に好ましい実施例に関連して詳細に説
明する。勿論、これら実施例は例示的なものであって、
本発明が、これら実施例の材料、条件、方法等に限定さ
れるものではないことは容易に理解されよう。実施例中
の全ての部およびチは、特にことわりなければ、重量に
よって示す。
実施例1 成(VOPO) 合成:10ガロンのグラステール プノ・ウドラー反応
器(glasteel pfaudler react
or )中に〜エチレングリコール23.76 J 、
五酸化バナジウム829.4 g、および7タロニトリ
ル7257gを入れ、プロペ2式ミキサーで7 Orp
mで攪拌した。時間一温度の関係は、合成操作と共に次
表に示した。また、添付図は、対応する図的説明を示す
O 累積時間(時間)  温 度(’F)     操  
作温度(’O) 開始 0−0.75    70−90   反応器へ装入お
よび加熱21−32   オイル ジター ループ0.
75−2.65    90−345   バッチにオ
ープン ジター32−174    ループおよび発熱
へ昇温始まり=194°F(90°C)設定 攪拌器:  1100RP 部分■ 2.65−3.55 345−390−345   発
熱期間および 3.55−5.55    345−320   発熱
期間後部分I 5’、55−6.55    320−200   冷
却降下160−96   濾過のための反応器内容物発
熱期間の間に生起する適度の還流のために、反応器に水
凝縮器を用いた。反応器内容物を90℃〜95℃(19
4°F1〜203ヤ)に冷却した後、熱い顔料スラリー
を真空フィルターに移した。顔料ケーキを吸引濾過後、
顔料ケーキを、排気されたセラミック製濾斗上で、予め
温められた(80℃〜85°C)ジメチルホルムアミド
の2ガロン量を用いて洗滌した。4回の続く顔料の全て
を、ジメチルホルムアミドで洗滌し、次いで予め暖めた
(55℃にて164ガロン)インゾロパノールを用いて
洗った。このインゾロパノールは、顔料ケーキ中に残留
している高沸点のジメチルホルムアミドを除去するのを
助けるためである。
60ガロンのスチームジャケット付きステンレススチー
ル製タンクに、水酸化ナトリウム3447y1および脱
イオン水22.8ガロン(86,3J )を加え、約4
%水酸化ナトリウム水溶液になるようにした。これに、
顔料ケーキを、セラミック製濾斗から移し、得られたア
ルカリ性顔料スラリーを、プロペラ式ミキサーで攪拌(
400〜500rpm ) 1.ながら70°C〜75
℃に刀口熱し、攪拌しながらこの温度範囲に1時間保持
した。次いで、この顔料スラリーを、真空濾過し、濾過
ケーキを、セラミック製濾斗上で、真空濾過(ポンプ)
条件を維持しながら、予め温められた(70°C〜75
℃)脱イオン水の10ガロンを用いて洗滌した。
この湿った顔料ケーキを前述のステンレススチール製タ
ンクに移し、前述の条件と同じ条件で、熱い脱イオン水
スラリー(水25がロン)を造った。
この顔料スラリーの真空濾過後、顔料ケーキを前記濾斗
上で予め暖めた(706C〜75°C)脱イオン水の5
ガロンを用いて洗滌した。この湿った顔料を、65°C
〜70℃の熱対流エアーオープン中に置かれた乾燥用ト
レー中に移し、96時間以上乾燥した。乾燥した粗顔料
を軽く粉砕し、秤量により4.850 Nを得た(装入
した五酸化バナジウム中の当量を基準として92%収率
)。
段階■:最初の精製:ペルムトイド膨潤この段階におい
ては、粗顔料を、75%硫酸を用いて浸出し、不溶解に
してかつ溶媒で膨潤した顔料粒子から不純物を溶解し除
去した。この不純物は、合成において、おそらく過剰の
フタロニトリルから熱的に生成したものであり、これは
75チ硫酸中に浸出され加水分解された。このケースに
おいては、原不純物および〃口水分解副生成物である不
純物はこの精製方法で大部分除去された。
60ガロンのポリタンク(その外部は氷と水で冷やされ
ている)[、氷50.161bs %次いで96%硫酸
44.2)を加えた。酸を氷に〃口え実質的に液体相に
なったとき、機械的攪拌を始めた。
75%硫酸溶液が22℃になるまで、外部冷却を続けた
粗バナジル−フタロシアニン4850.9を、前述の如
く調製しかつゆっくりと攪拌した75%硫酸に、15〜
20分間かけて分割して添〃口した。
このスラリーは、添加の間、室温または室温近くに残し
、次いで攪拌しながら6時間維持した。ポリタンクを、
プラスチック板を用いて大気から封止し、顔料と酸の塊
を室温において夜通しく16〜20時間)放置した。
顔料と酸の塊の鳩 をフィルターに移し、真空に吸引し
た。顔料ペーストを、フィルターのフィルター用布上で
、室温において、新しい75%硫酸の約44で洗滌した
。液体を吸引によって除去後、顔料ペーストを、フィル
ター用布から櫛で梳くように取り、脱イオン水6がロン
を含有する他のポリタンクに移した。次ぎの顔料と酸の
塊の怪ヲ、同様な方法で濾過し、そして移した。同様に
、最後の1/、に、前に集めた顔料およびその水性媒体
を加え、濾過した。この方法においては、顔料の全てを
漏斗上に集め真空濾過を行った。次いで、湿っているケ
ーキを、真空濾過を行いながら、フィルター上で、予め
暖めた(70°C〜75℃)脱イオン水の6〜8ガロン
を用いて洗滌した。
60がロンのジャケット付きステンレススチール製タン
クに、水酸化ナトリウム2,585gおよび脱イオン水
64.341を加え、約4チアルカリ水浴液を造った。
これに、前述の水洗した顔料ケーキを加え、このアルカ
リ性顔料スラリーを、適度に攪拌しながら70°C〜7
5°Cに加熱した。この熱スラリーな濾過する前に、攪
拌および加熱を。
1時間続けた。次いで、この湿った顔料ケーキを、同じ
条件を使用し、同じ容器中にて、脱イオン水の22がロ
ンな用いてスラリーにした。次いで、フィルター上の湿
った顔料ケーキを、予め暖めた(70℃〜75°C)脱
イオン水の5ガロンを用いて洗滌した。
引き続いて、3種のジメチルホルムアミド・スラリーを
、18がロンのジ・ヤケット付きステンレススチール製
タンク中にて行った。前述の湿った顔料ケーキおよびジ
メチルホルムアミドの8ガロンを攪拌しながら80℃に
加熱した。前記温度において1時間後、顔料スラリーを
真空濾過した。ここの段落に述べた操作tjr:2回以
上繰回以上繰路の濾過ケーキを、予め暖めた(80’C
)ジメチルホルムアミド(2X、l)で洗滌し、次いで
予め暖めた(70°C〜75°C)脱イオン水(2×5
ガロン)で洗滌した。
゛最後に、顔料を、30ガロンのジャケット付きステ/
レススチール製タンク中で70°C〜75℃に保持され
ている脱イオン水22がロンを用い、通常の方法で1時
間スラリーにした。真空濾過後、湿った顔料を漏斗上で
風乾しく4時間〜6時間)、次いで乾燥用トレーに移し
た。この顔料を65°C〜70°Cにおいて少なくとも
96時間乾燥し、その後、穏かに粉々にした。収量は4
26Iでありこれは部分的に精製したバナジル−フタロ
シアニンの88%であった。
段階■:最後の精製:酸ペースト化。
この段階においては、部分的に精製した顔料を96%硫
酸中に溶解した。この硫酸は、また、前述の浸出方法に
よって除去されない残余の不純物を溶解した。次に、顔
料と酸の溶液を氷水中にて冷却した。これにより2つの
仕事を達成させた。
即ち、平均粒子サイズを、平均において、1〜2ミクロ
ンから200〜600オングストロームに減少させ、更
に、生成した酸水溶液(冷却が完了したとき、約25%
硫酸が生成した)は、可溶性不純物を溶解した。
96%硫酸(24,51)を、この冷却された酸に大気
湿分が凝縮する量が最小になるようにしながら、1.5
時間〜2.0時間か6て6°C〜10℃、に冷却した。
前記の半精製顔料(’2100g)を、外部冷却でバン
チ温度を6〜15℃に維持しながら、1.75時間〜2
.00時間かけて、前記の冷却した濃硫酸に、添加量を
増加(約300g部づつ)させながら添7711’した
。添mFI#間を通して、プロペラ式ミキサーの少なく
とも100 rpmの攪拌速度を維持し、その後1時間
維持した。その間、顔料−酸溶液の温度は10℃〜15
℃であった。
冷却された顔料−酸浴液を、脱イオン水の10.6がロ
ンおよびポリタンクの内容物を5°C〜10’Cに冷却
するのに充分な氷を含有している55ガロン容のポリタ
ンク中に、175±25+LA’/分の添加速度で、流
れさせながら供給した。氷の最初の1961bsの残り
を、顔料−酸溶液の添加時間の間、添加量を増加させな
がら添〃口した。
過剰の氷(これは渦巻きを妨げる)は避け、攪拌速度は
800 rpm〜11000rpに維持した。顔料−酸
溶液を添加する中断されない全時間は、2.67時間〜
2.83時間であり、タンク内容物はその時間を通して
86C〜12℃であった。顔料の酸の中における全滞留
時間は、氷水による冷却前6時間以下であった。タンク
の内容物を、添加を完了するのに要する時間を越えるこ
と0.5時間の間、400 rpm〜500 rpmに
て攪拌した後、冷却された稀薄硫酸−顔料スラリーな真
空濾過した。
濾過はゆっくり(1夜かけて)行った。黄色濾液中には
微粉がなかった。朝になり、濾過ケーキを漏斗上にて、
予め暖めた(70°C〜75°C)脱イオン水(5X2
ガロン)を用いて洗滌した。残余の酸を、60ガロン容
のジャケット付きステンレススチール製タンク中におい
て、70℃〜75℃に刀口熱された脱イオン水の25ガ
ロン中に、1時間、顔料をスラリー化することによって
除去した。
この熱い顔料と水のスラリーな真空濾過した。
次の6種の水酸化アンモニウムスラリーを、残余の硫酸
を硫酸アンモニウムとして除くために造った。この方法
においては、前述と同じ60がロンの容器を/、攪拌速
度(v!00〜500 rpm)および高温(70°C
〜75℃)における加熱時間(1時間)も同じであった
。続いて、各スラリーは、真空濾過を行った。
(第1)NH番OHスラリー: 15.5がロンの脱イ
オン水と7.8ノの濃NH番OH (第2 ) NH,OHスラリー: 16.8ガロンの
脱イオン水と4.9ノの濃NH,OR (第り月州、oHx−)リー: 16.Bガロンの脱イ
オン水と4.9 /3の1fINH40H 残余の6種の脱イオン水スラリーの目的は、マイク白そ
−(m1cro mho )単位の導電率によって測定
される顔料粒子中のイオン性種の量を減少することであ
った。約10マイクロモー以下(室温において)の許容
しうる顔料スラリーの濾液の値を、精確な光受容器のた
めに顔料がイオン性の異物を全く含有しないようにする
のを確保するために、達成させなければならない。
水酸化アンモニウムのために述べた装置および条件を維
持した。その代り、各スラリーに22ガロン〜25ガロ
ンの脱イオン水を使用した。一般に、6〜8スラリーが
、導電率を約10マイクロモー以下に低くするのに要求
された。
最終的に濾過した顔料を、熱対流エアーオープンによる
乾燥のためにトレーに移した。この顔料を60°C〜6
5℃にて4日間乾燥し、顔料の塊を手で破砕し、その後
、同温度において24時間乾燥した。次いで、顔料を、
乳鉢および乳棒を用いて粉々にし、同温度で、真空オー
プン中で、0.5111Hgで、16時間、真空オープ
ン中で乾燥を再び行った。最後に、顔料を袋につめ、そ
れを光のない場所に貯えた。
実施例2 段階I:粗バナジルー7タロシアニン顔料の合成(VO
Pc ) 合成=10ガロンのグラステール ゾノーウドラー反応
器中に、エチレングリコール23.761、五酸化バナ
ジウム829.4 g、およびフタロニトリル7257
.9を入れ、ゾpペラ式ミキサーで7 Q rpmで攪
拌した。時間一温度の関係は、合成操作と共に次表に示
した。また、添付図は、対応開始 0−0.75   70−90     反応器へ装入
および加熱21−32     オイル ジター ルー
プ0.75−2.65   90−345     バ
ッチにオープン シータ−32−174ループおよび発
熱へ昇温始ま’) : 194”F’(90℃)設定攪
拌器:1100RP 部分] 2.65−3.55 345−390−345  発熱
期間および 3.55−5.55  345−320   発熱期間
後部分■ 5.55−6.55   320−200    冷却
降下濾過のための反応160−96    内容物 発熱期間の間に生起する適度のIl!流のために、反応
器に水凝縮器を用いた。反応器内容物を90℃〜95’
C(194″F〜203”l?)に冷却した後、熱い顔
料スラリーヲ真空フィルターに移した。顔料ケーキを吸
引濾過後、顔料ケーキを、排気されたセラミック製漏斗
上で、予め温められた(80℃〜85℃)ツメチルホル
ムアミドの2がロンte用いて洗滌した。4回の続(顔
料の全てを、ツメチルホルムアミドで洗滌し、次いで予
め暖めた(55℃にて1.4ガロン)イングロパノール
を用いて洗った。こ′メイノプロパノールは、顔料ケー
キ中にIA留している高沸点のツメチルホルムアミドを
除去するのを助けるためである。
60ガロンのスチームジャケット付きステンレススチー
ル製タンクに、水酸化ナトリウム644711および脱
イオン水22.8ガロン(86,3/ )を加え、約4
%水酸化ナトリウム水溶液になるようにした。これに、
顔料ケーキを、セラミック製漏斗から移し、得られたア
ルカリ性顔料スラリーを、プロペラ式ミキサーで攪拌(
400〜500rpm ) Lながら70℃〜75℃に
加熱し、攪拌しながらこの温度範囲に1時間保持した。
次いで、この顔料スラリーを真空濾過した。
引き続いて、21mのツメチルホルムアミドスラリーを
、18ガロンのジャケット付きステンレススチール製タ
ンク中にて行った。前述の湿った顔料ケーキおよびツメ
チルホルムアミドの8ガロンを攪拌しながら80℃に加
熱した。前記温度において1時間後、顔料スラリー全真
空濾過した。ここの段落に述べた操作を2回以上繰返し
、最終の濾過ケーキヶ、予め暖めた(80℃)ツメチル
ホルムアミド(2Xi)で洗滌し、次いで予め暖めた(
70℃〜75℃)脱イオン水(2X5ガロン)で洗滌し
た。
最後に、顔R’ik、30ガロンのジャケット付きステ
ンレススチール製タンク中で70℃〜75 ・’0に保
持されている脱イオン水22ガロンを用い、通常の方法
で1時間スラリーにした。真空濾過後、湿った顔料を漏
斗上で風乾しく4時間〜6時間)、次いで乾燥用トレー
に移した。この顔料を65℃〜70℃において少な(と
も96時間乾燥し、その後、穏かに粉々にした。収量は
426gであり、これは部分的VC4W6したバナジル
−フタロシアニンの88%であった。
段階りは省略した。
段階■:最後の精、s:rRペースト化この段階におい
ては、部分的に精製した顔料を96%硫酸中に溶解した
。この硫酸は、また、前述の浸出方法によって除去され
ない残余の不純物を溶解した。次に、顔料と酸の溶液を
氷水中にて冷却した。これにより2つの仕事を達成させ
た。
即ち、平均粒子サイズt1平均において、1〜2ミクロ
ンから200〜600オングストロームに減少させ、更
に、生成した酸水溶液(冷却が完了したとき、約25%
硫酸が生成した)は、可溶性不純物を溶解した。
96チ硫酸(24,57)を、この冷却された酸に大気
湿分か凝縮する鎗が最小になるようにしながら、1.5
時間〜2.0時間かけて6℃〜10℃に冷却した。前記
の中槽製顔料(2100#)を、外部冷却でバッチ温度
を6〜15℃に維持しながら、1.75時間〜2.00
時間かけて、前記の冷却した濃硫酸に、添加量を増加(
約600g部づつ)させながら添加した。添加時間を通
して、プロペラ式ミキサーの少な(とも100 rpm
の攪拌速度を維持し、その後1時間維持した。″その間
、順科−酸溶液の温度は10℃〜15℃であった。
冷却された顔料−酸浴液を、脱イオン水の10.3ガロ
ンおよびポリタンクの内容物を5℃〜10℃に冷却する
のに充分な氷を含有している55ガロン容のポリタンク
中に、175±25ffLA’/分の添加速度で、流れ
させながら供給した。氷の最初の196 Absの残り
を、顔料−酸浴液の添加時間の間、添加量を増加させな
がら添加した。過剰の氷(これは渦巻きを妨げる)は避
け、攪拌速度は800 rpm〜1000 rpmに維
持した。拳料−酸溶液を飾加する中断されない全時間は
、2.67時間〜2.86時間であり、タンク内容物は
1.その時間を通して8℃〜12℃であった。顔料の酸
の中における全滞留時間は、氷水による冷却前6時間以
下であった。タンクの内容物を、添加を完了するのに要
する時間を越えること0.5時間の間、400 rpm
 〜500 ypHにて攪拌した後、冷却された稀薄硫
酸−顔料スラリーを真空濾過した。濾過はゆっくり(1
夜かけて)行った。黄色濾液中には微粉がなかった。靭
になり、濾過ケーキを、漏斗上にて、予め暖めた(7o
℃〜75 ’O)脱イオン水(5×2ガロン)を用いて
洗滌した。残余の酸を、3Qfaン容のツヤケラト付e
ステンレススチール製タンク中において、70’O〜7
5′cに加熱された脱イオン水の25ガロン中に、1時
間、顔料をスラリー化することによって除去した。
この熱い顔料と水のスラリーを真空濾過した。
矢の3種の水酸化アンモニウムスラリーを、残余の硫酸
と硫酸アンモニウムとして除くために造った。この方法
においては、前述と同じ6oガロンの容器使用い、攪拌
速度(400〜500 rpm)およびに瀧(70℃〜
75℃)における加熱時間(1時間)も同じであった。
続いて、各スラリーは、真空濾過を行った。
(第1) NH,OHスラリー: 15.5ガロンの脱
イオン水と7.81の@ NE(、OH (第2 ) NH4oHスラリー: 16.8ガロンの
脱イオン水と4.91の濃NH40H (第j) NH,OHスラυ〜: 16.8ガロンの脱
イオン水と4.9ノの濃NE(、OH 残余の6種の脱イオン水スラリーの目的は、マイクロモ
ー(m1cro mho )単位の導電率によって測定
される顔料粒子中のイオン性種の量を減少することであ
った。約10ミクロモー以下(室温において)の許容し
うる顔料スラリーのdZ液のfllL!−1精確な充完
容器のために顔料がイオン性の異物を全く含有しないよ
うにするのを確保するために、達成させなければならな
い。
水酸化アンモニウムのために述べた装置および条件を維
持した。その代り、各スラリーに22ガロン〜25がα
ンの脱イオン水を使用した。一般に、6〜8スラリーが
、導電率を約10マイクロモー以下に低くするのIC要
求された。
最終的に鋪過した顔料を、熱対流エアーオーシンによる
乾燥のためにトレーに移した。この顔料を60℃〜65
℃にて4日間乾燥し、顔料の塊を手で破砕し、その後、
同温度において24時間乾燥した。次すで、顔料を、乳
鉢および乳棒を用匹て粉々にし、同温度で、真空オープ
ン中で、D、5j!jlHgで、16時間、真空オープ
ン中で乾燥を再び行った。最後に、顔料を袋につめ、そ
れを元のない場所に貯えた。
実施例3 実施例1の操作によって造った1連のバナジル−フタロ
シアニン試料の純度i、TGA技術を用いて測定した。
渣々の謳度において、各バナジル−フタロシアニン試料
の重量損失の%に一覧表にして以下の表に示した。この
表から明らかな如く、全てのバナジル−フタロシアニン
試料は、低温10炉 (←今噌℃以下のT)における重量損失の始まり以下に
おける重量損失は、残留している水および溶媒に基因す
る。l−、l’l−hれ不〜すか、−T n rl ’
(”jf松ける重量損失は、フタロニトリル、フタルジ
アミド、および7タルアミン酸のような不純物に基因す
ると思われる。これらの有機不純物は、光導電性顔料の
電気的性質に影ii!1vil−与える。殆んど全ての
顔料(試料4以外)は、重量損失の始まり(170℃以
下のT)の測定値によって示されている如く、完全に乾
燥はされて贋ない。400 ’0を越えるTGA価は、
不純物に関して意味はない。
何故なら、バナジル−7りロシアニン自体が昇華し始め
るからである。AR−2オートバランス(Autoba
lance )、ミクロプロセッサー(System−
4) (m1croprocessor )、および日
立X−Y記録計を設備したパーキンエルマー熱M蓋分析
りステム(Model ’]’GS −2) (Per
kin Eユmar ’x’herrno−、grav
imetric System ) f包含する重量損
失を測定するための特定の操作および装置金、この実施
例において使用した。炉および炉テユーゾの内部全不活
性雰囲気にするために、キャリヤーがスとしてヘリウム
ガスを使用した。ヘリウムがスの流、iff&!、約A
nd/m1nIンー戸−p中1f・−1&tF;コ鴫−
i・l/A’JA2゜前に、正確な鹿皮測定を確保する
ためt、c、ミクロプロセッサーによって熱重量分析(
T()A )装置をfi正1.た。パナゾルーフタロシ
アニン試1) (約2−7’mg)を白金皿中に置きそ
の重量を正確に測定した。試利重朧の9[〕%を圧縮し
、図表紙の全目縮を全重量損失の10%を表すようにし
た。このようにすることにより、弾度変化に基因する重
量損失の極少の変化を検出することができる。顔料以外
の揮発性物質のために、試料重量は圧縮しなかった。笑
験はプログラムモードで行った。試料ケ、1分間30℃
に平衡にし、次いで20’O1分の速度で500℃に加
熱した。500’OiC達したどき直ちに順科試料ケ冷
却した。TGAの記録線は、植々な温度における重量損
失の%を決定するのに使用した。約450℃までの櫨々
な温度(450℃以下のT)における重量損失データは
、非常に良好で再現性があつブこ。しかし、40D’C
以上の重綾撰失値は、顔料粒子丈イズによって変化する
顔料の急速昇鎮性、ホルダー中の試料分布、結晶度、お
よび試1サイズ等に基因して、僅かではあるが正確さが
落ちる。
い  つ  つ  口  寸  0  (ト)寸  f
l′>N’)   (イ)  寸  寸  寸0 0 
0 0  り  0 0 −.6  ぺ  記  S  d  =  べ実施例4 実施例1の方法で造ったバナジル−フタロシアニンを、
単一層光受容器に組込んだ。この充完容器は6エ程によ
って造った。第1工程においては、バナジル−7りクシ
アニンを、ポリエステルバインダー富合体を塩化メチレ
ン溶媒にmかした液に分散させた。第2工程においては
、その分散液をアルミニウム基体上に被覆した。第6エ
程においては、その被覆を乾燥して溶媒を除去した。す
なわち、第1工程にお^ては、ポリエステルバインダー
重合体[PE−2[10:グツトイヤー タイヤアンド
 ラバー カンパニー (Goodyear Tire
and Rubber co、) ) 1−77 Ji
”fr、±o、o i ηの正確度で、分析用天秤を用
いて秤量し、これを、ポリシール キャップ(poly
seal cap ) f有する2オンスの琥珀色項中
に入れた。欠いで、塩化メチレン溶媒の21.49’l
k、上皿天秤上で±10ダの正確度で秤りながら、前記
2オンス壜中に直接添加した。前記諸成分會含む壜を、
リストアクションの振盪機(wrist action
 5haker )上に設置し、重合体を溶解させた。
バナジル−フタロシアニン顔料の0.45.9 e分析
用天秤にて秤量し、こノ溶液に加えた。ステンレススチ
ールのショット〔〃インチ、ナ302eの#き仕上げを
したポール:シューペリアー ポール カンパニー製(
5uper1or Boil Co、ン、1υQ’;1
イ’)7グl−:/セント ハーツホード、コネテヵッ
トMl、06106(100Willington s
t、、 Hartford+ Conn−06106)
]の150pを上皿天秤にて秤緻後前記増中に加えた。
この曳チールショットは、予め塩化メチレンで洗滌し、
残留している油を除き、オーグア中で100−FVCて
乾燥した。次いで、これらの鎖成分を有する壜全、振盪
機(Cat、、 /I65100 x  RedDev
il、 Inc、、 Union、 NewJerse
y )上に90分間置き顔料を分散させた。この分散物
を破覆前に室温に冷却させた。
前述の如(にして造った分散物t1バード フィルム 
アプリケーター(Bird Film Applica
tor)(Gardner Laboratory、 
Inc、 Box 572815521  Lanay
 Lane、 set+hesaa、 M(1,200
14)を有するが−ドナー メカニカル ドライブ フ
ィルム アプリケーター A G −3862(Gar
d−ner Mechanical Drive Fi
lm Applicator ModelA G −3
862) (Garaner Laborator7 
Znc、 Box5728 r 5521 Landy
 Lane、 Bethesda、 Md。
20014)Th使用して、ブラシがけしたアルミニウ
ム(Brush Gralned Aluminum 
Plates LKK。
10 fn、 X 1 t5 ina Ran Ink
 compan71100M 61Halstead 
St、 xochesvera NY )上に被覆した
。こ−のブラシかけしたアルミニウム板を、3インチ×
10インチに切断し、長い方向に被覆した。湿ったフィ
ルムの厚さは、6インチの被覆幅を存する3ミル(75
ミクロン)であった。この被覆は、グローブを取りはず
しかっぞの取りはずした場所Ka定したプラスチック製
のスリットシールド(5lit 5hields ) 
k有するグローブボックス(glove box ) 
(Cat、 /% 50004 / 5 Labcam
c。
Corp、、 Kansas cit7j m1sso
uri 64 i 32)中において行った。このボッ
クスは、乾燥空気を流し連続した正圧下にし、相対湿度
を20%以下に維持した。この分散物を、6インチの薬
学用の滴下ピペットを使用するバード フィルム アプ
リケーター(Bird Film Applicato
r )の前のアルミニウム板(予め塩化メチレンで洗滌
した)上に置いた。
この被覆された板を、ドライボックス中にて30分間乾
燥した。次^で、これを、真空オープン(vaccum
 oven ) (Cat、 A 31566 Pre
cisionScLentfficco、m U、St
A、)中に置き、室温にて約30 in、 Hgの減圧
(DUO5eal Vacuum Pump Mode
lj 4 Q 5 Welch 8cienHfi* 
Co、、 7300 N−Linder AVf3.#
 5kok1e、 l1linois )にて1時間保
持した。この板をオープンから取り出し室温に冷却した
。次いで、充完容器の厚さを、パーマスコープ タイプ
’E C8e2Ty (Permascope Typ
e FiC’8e 2T7 ) (Twin C1zy
 Teating C0rpOratiOn*P、O,
Box 248 、 Tonawanda、 NY i
 4 i 5 Q ) t−用いて測定した。単一層光
受容器の厚さは約10ミクロンであった。
電気的画定は平板走査針(flat plate 5c
anner )上で行った。この走査針は、モーターで
駆動する往復ベルト、そのベルト上に光栄容器が置かれ
る往復ベルトから成っている。この可撓性ベルトのため
に、試料を先ずベルトの上面に取付けた厚い(50關)
アルミニウム板(5X5crIL”)上に取付は接地し
た。次いで、ベルトおよび試料を慮g出部へ動かした。
鐵繕出部は、光源、フィルター、電子シャッター、およ
びエレクトロメーターから成っている。鍬嬉出部におい
ては、表面it位金、クーロンモードにてカイスレーエ
レクトロメーター (Kei’thley elect
rometer )  (Moael 61 DC)(
Keithley Instruments Inc、
、 23775 AuroraRoads C1eve
land、 0hio 44139 )に連結した静電
結合されたリング ノローグ(ring probe 
)を用いてモニターした。エレクトロメーターの出力は
、未被覆試料(むき出しの板)K既知の電圧全適用する
ことによって倹歓されるストリップチャートレコーダー
(HP Model 7402 A )(Hewlet
t Packard Inc、 )上に表示した。暗放
電は閉ざされたシャッターで測定し、既知の元の強さに
対する放電は、シャッターの開きで記録した。
時間の関数として、電圧のストリップ チャート記録を
行った。チャート記録計の速度は125鵡/秒であった
。電圧の最初の上昇は、ゾローブ下に動(荷電試料に基
因することが観察された。約680ボルトのピーク電圧
(vDDP )は、試料が停止したときに観察された。
このピーク電圧から、暗放電に基因して、電圧は減少し
、これは暗放電速度の測定を提供した。光放電を測定す
るために、ピーク電圧に達したときシャッターを開け、
充完容器會一定の強さの光に無光した。元は、1次の干
渉かつ中密度のフィルターで濾過し、597nmにおい
て、62エルグ/ cInll/秒のフラックス(nu
x)を得た。放電は直ちに始らないで、“誘導期1の後
で起った。光栄容器の感度は、2つのパラメーター、す
なわち、露光に対する最大放電速度および最大速度に達
するのに要する露光によって特徴づけられる。後者は、
電圧が時間=0においてVDDPI)値の手分になると
きに生起する改に一時間;0から”/11 vDDPに
達する時間までの露光とじて測定される。最大放電にお
いて、ストリップ チャート上で曲線に接して引かれた
線の傾斜は、0.44秒の時間において、950eルト
ー0ボルト=960ボルト落下であった。960猷ル)
 、/ 0.44秒=2113teルト/秒のこの@斜
を、32工ルグ/CrfL2/秒で割り、66.1 f
ルト/エルグ/ cm”の感度を得た。別の感度パラメ
ーターは次の方法によって得た。ストリップ チャート
から、vDDP=680ボルト、それ故1AAVDDP
=340ボルト。
この水準に達する露光時間は0.59秒であった。
それ故、”/2 ”DDP k得るためのエネルイーは
、0.59秒X32工ルグ/cIn2秒= 18.9 
工に/”Δ−であった。
実施例5 実施例2の顔料製造操作を繰返して第1試料のための顔
料を製造した。
冷却タンク中の氷水の代りに、室己水を使用した以外は
実施例20顔料製造操作を使用して、第2試料用の顔料
を製造した。
第6試料用の対照顔料ft実施例1に記述した如き五酸
化バナジウムから造った。正確な比較のために、本実施
例および次の実施例における対照装置を製造する方法は
、他の装置が対照装置と比較されるのと同゛じ日に行っ
た。それ故、試料1および試料2用の装置は、対照装置
3と同じ日に造った。これらの試料から造られた単一層
の光栄容器の電気試験の結果は次表に示した。
単一層の元受容器装置は、実施例41C述べた操作およ
び割合を使用して、これらの顔料から造った。これらの
光栄容器は、実施例4に述べた方法で電気的性質を試験
した。電気的試験の結果を次表に示す。
表 一般に、対照によって示された暗減衰の10ボルト/秒
以内の暗減衰は許容される。しかし、感光性(エネルギ
ーl/’a VDDP ’ :I−ILsグ/c11L
2)は、対照試料6と比較して試料1および2は幾分少
ない(大きい数字は少ない感光性を示すン。
実施例6 第1試料用の顔料金、実謄例2に述べた方法で造った。
第2試料用の対照顔料を、実施例1に述べた如く五酸化
バナジウムから造った。
これらの顔料から、単一層の充完容器装置を、実施例4
に述べた操作および割合を使用して造った。これらの光
受容器は、実施例4に述べた方法で電気的性質を試験し
た。電気的試験の結果を次表に示す。
表 再び、感光性は、対照試料2と比較して試料1は幾分少
ない。
実施例7 冷却タンク中の氷水の代りに、室温水を使用した以外は
実施例2の方法を使用して、他の試料用の顔料を造った
。この顔料から、単一層の光受容器を、実施例4に述べ
た操作および割合を使用して造った。この光受容器は、
実施例41C述べた方法で電気的性質を試験した。有意
の荷電許容は観察されなかった。
実施例8 実施例11C述べた標準3段階顔料製造操作を使用した
。しかし、冷却タンク中の氷水の代りに室温水を使用し
た。この場合には、実施例4に述べた操作および割合を
使用して、前記の如く得られた顔料を用いて造った単一
層元受容器は、荷電を許容した。しかし、20〜40ボ
ルトの通常の許容しうる暗減衰と比較して190,27
5111eルト/秒)極めて高い暗減衰を示した。これ
は、餉科粒子中に捕捉された不純物の有意量の存在を示
している。
実施例9 五酸化バナジウムの28%過剰(55%過剰に瑯較して
)だけを段階Iに使用した以外は、実施例1と同様蕎顔
料製造操作を繰返した。その収率は、55%過剰の五酸
化バナジウムを用いる92%〜99チの通常の収率と比
較して約79%であった。実施例4に述べた操作と割合
を用い、得られた顔料を用いて造った単一層の先受デ器
装置は、約65ボルト/秒の暗減衰、および約26のF
i ”7’2vDDP(エルグ/cm”)を示した。後
者の感光度の値は、前に使用1.た対照に対して低い感
光度會示した。
実施例10 発熱を熱的に不足させ、その結果、通常の198℃(ま
たはエチレングリコールの沸点)の代りに、約160°
Cの最大湿度ff:段Iyiilにお^て達成させた以
外は、実施列1と同様な顔料製造操作を繰返した。この
収率は、実施例1に述べた材料および条件ケ繰返したと
きの92%〜99%と比較して46%であった。実施例
4に述べた操作および割合を使用し、前記の熱的に発熱
を不足させた顔料を用いて造った単一層の充完容器装置
は、対照の35ボルト/秒と比較して50ボルト/秒の
暗減it示し、かつ対照の21と比較して27のE1/
2 VDDP (エルグ/cIIL2) を示した。こ
の試料の感光度は対照よりもかなり低かった。
実施例11 三塩化バナジウムを五酸化バナジウムの代りに用いた以
外は、#記の顔料製造操作を繰返した。
次^で実施例2と同様な操作を行った。
第2試料用の顔料を、五酸化バナジウムの代りに三塩化
バナジウムを用いて造した。ただし、実施例1に述べた
如き標準2−n農法を用いた。
第6試料用の顔料を、第2試料から造り、実施例10段
階■に従って精製した。
第4試料用の顔料を試料1の如くにして得た。
第5試料用の顔料を、昇華した第4試料から造り、実施
例1の段階■に従って2回精製した。
第6試料用の対照顔料を、全て6つの段階において実施
例1に述べた如(五酸化バナジウムから造った。
これらの顔料から、実施例4に述べた操作および割合を
使用して、単一層の先受容器装置を造った。これらの光
量容器の電気的性質を、実施例4に述べた方法で試験し
た。この電気的試験の結果を次表に示した。
表 2       20   ’         32
対照試料6と比較して試料1は、半分以下の感光度を示
した(44対19)。試料2および6に関しては、実施
例1の段階Bおよび段階■の工程を使用することにより
、感光度が約44から約62に改良されたが、しかし、
このように改良された感光度でも、まだ、対照顔料6の
装置感度19より非常に劣っていた。
実施例12 実施例2の顔料製造操作を繰返して第1試料用の顔料を
造った。
冷却タンク中の氷水の代りに室温水を使用した以外は、
実施例2の顔料製造操作を繰返した。
第3試料用の対照顔料を1実施例1に述べた如(五酸化
バナジウムから造った。
これらの顔料から、実施例4に述べた操作および割合全
使用して、単一層の先受容器装置を造った。これらの光
量容器の電気的性質を、実施例4に述べた方法で試験し
た。この電気的試験の結果を次表に示した。
これらの結果は、一般に、短縮した顔料製造方法(実施
例2)を使用したときは、感光度が減少することを示し
ている。
実施例16 実施例2の顔料製造操作を繰返して第1試料用の顔料を
造った。
第2試料用の対照顔料を1実施例1に述べた如り五酸化
バナジウムから遺った。
これらの顔料から、実施例4に述べた操作および割合を
使用して、単一層の先受容器装置を造った。これらの光
量容器の電気的性質を、実施例4に述べた方法で試験し
た。この電気的試験の結果を次表に示した。
これらの結果は、一般に、短縮した顔料製造方法(実施
例2)t−使用したときは、感光度の減少は、時々、無
意味になる。
実施例14 上塗りされた充完容器ドラムを、6インチの直径を有す
る清潔なアルミニウム夷シリンダー上に、アミンを負荷
した輸送層を21型スプレー ガン(Model 21
5pray ’gun ) (Biuks Inc、か
ら市販されている)を用いて噴霧して造った。このII
x*は、揮発性溶媒を用い、入口手段および排気手段を
存する層空気流の吹付室が設計されて−る方法で行った
〜。また、この吹付室は、モーターで駆動するマンドレ
スにして、その上に取付けられたアルミニウムシリンダ
ーを有するマンドレル全盲して^た。この吹付室は、温
度20℃そして湿度約40チに維持した。
ポリカーボネート樹脂(Merlon M 39 N 
;Mobey Chemical Co、から市販され
てしる)の65%(重fjkL #ヨヒN 、 N′−
ソ;yr−ニル−N 、 N’−ビス(6−メチルフェ
ニル) −1、1’−ピッユニルー4,4′−シアミン
の35%(重量)の混合物の4%固体溶液を含む負荷輸
送層を沈着させた。
この混合物は、塩化メチレンの60%(容量)と1.1
.2−)リクロロエタンの40%(容t)を含む溶液に
、ポリカーボネート樹脂を俗解させて造った。このポリ
カーボネー)W脂は、琥珀色の壜の中で前記溶液を、1
時間、ペイン)1−振盪するようにしてfg屏させ、久
いで24時間室温にて放置した。
次いで、得られた溶液全1スプレーガンを用いてアルミ
ニウムシリンダーに通用し、40℃にて20分間、そし
て160℃にて60分間乾燥した。
乾燥はエアーオープン中で行った。アルミニウムシリン
ダー上の被覆は、15ミクロンの厚さt有し、かつ前記
アミンの35チ(重!−)および前記ポリカーボネート
樹脂の6“5tsを含んでいた。
次いで、この輸送層を、バナジル−フタロシアニンの6
0%(重量)ヲポリエステルの70%(重量)に分散さ
せた写真生成性層(phot+ogene−ratin
g 1ayer )で被覆した。この写真生成性層は、
前述のBinks社g Model 21スプレーガン
を用いて適用した。
写真生成用組成物は、バナジル−フタロシアニンの60
%(重量)とポリエステル(P EC−100)Pol
yester : Goodyear社から市販されて
いる)の70%(重fl)Th混合することによって造
った。
この混合物音、塩化メチレン溶媒と1.1.2−トリク
ooエチレン溶媒の60/40容量比の混合物を含んで
いる琥珀色の項中に入れた。約6II11の直径を有す
るスチールショツ)t−この項中に加えた。次いで、こ
の壜の内容物t、ペイントシェカー上で24時間混合し
た。次めで、スチールショットを濾過によって除き、充
分なm媒を加えてバナジル−フタロシアニンの1%固体
およびポリエステルを含む混合物を造った。次いで−こ
の混合物f、  Brlnka社製のスプレーガンを用
い、前述の如くにして造ったシアミン負荷輸送層上忙噴
霧した。
噴霧後、被覆された装置t−100℃にて1.25時間
エアーオーブン中で乾燥し、約1ミクoyの乾燥した厚
さを有する写真生成性層を生成させた。
次いで、トップの紫外線吸収上塗り層t、負荷輸送層お
よび写真生成性層を含む被覆されたアルミニウムシリン
ダー1−真空室中に置き、写真生成性層上に、セレニウ
ムの98%(重量)と砒素の2%(重量)を含む合金を
真空蒸発させることによって、写真生成性層に適用した
。真空室は、モータニで水平に駆動する回転軸、アルミ
ニウムシリンダーより長い長さを有する一列になった4
つのるつぼケ有し、シリンダーより12インチ離れて位
置していた。これらのるつぼの中には、砒素−セレニウ
ム合金ぺVットが入っており、真空室は、ミクロ トル
(m1cro torr )より低い圧力に排気した。
アルミニウムシリンダーを1輻射加熱器で加熱しながら
約200回転/分の速度で回転させた。砒素−セレニウ
ム合金を、るつぼの夫夫を600℃忙加熱することによ
って蒸発させた。
冷却後、得られた写真生成性層は、砒素の約2%(重量
)とセレニウムの98ts(重量)′t−含んでおり、
約1.5ミクロンの厚さであった。
次いで、この装置t1 コロトロン(corot、ro
n )を用いて約800ボルトに正荷電し、約400 
nm〜800 nmの波長を有する光に鍬形にて露光し
た口発生器層に本発明の改良された顔料を使用する冗費
容器を試験するための装置として次のものを用いた:サ
イクリック ゼログラフィツク スキャンナー(Cyc
lic Xerographic 5canner )
 ;光受容器表面速度:4インチ/抄;試験したサイク
ル数(最大):100,000+jイクル(サイクルア
ップおよびサイクル ダウン仕様、vt=800ボルト
の±100ボルト);光の強さ:露光2x10−57ツ
ト/ ctn”、消去(ECrase ) : 2 X
 10−’ワラ) / an” ;感度(E1/2は全
装置のために使用しない)、25エルグ/cIn”;暗
減衰:5oztrルト7秒以下、残留電圧=50ボルト
以下。
本発明を、特定の好ましい態様を参照として説明したが
、勿浦、本発明はこれらに限定されるものではない。当
業者は、本発明の精神および本特許請求の範囲の精神に
入る種々の変様や態様が可能なことを容易に総酸される
であろう。
【図面の簡単な説明】
図は本発明方法における、時間一温度の関係図を示す。

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)五酸化バナジウムとフタロニトリルおよび少なく
    とも180℃の沸点を有するアルコールとを、少なくと
    も発熱温度において反応させ、得られた反応混合物を濾
    過して反応生成物顔料ケーキ(cake)を生成させ、
    この反応生成物顔料ケーキを双性中性溶剤で少なくとも
    一回洗滌して処理された顔料ケーキを生成させ、この処
    理された顔料ケーキを乾燥し、該処理された顔料ケーキ
    を攪拌しながら水で希釈した強酸で浸出し、得られた混
    合物を濾過して浸出された顔料ケーキを生成し、この浸
    出された顔料ケーキを水で希釈した強酸で少なくとも1
    回洗滌して洗滌された浸出顔料ケーキを生成させ、該浸
    出顔料ケーキを水を含む溶剤で少なくとも1回洗滌して
    水洗された浸出顔料ケーキを生成させ、この水洗された
    浸出顔料ケーキを水で希釈された強塩基と結合して強塩
    基スラリーを生成し、この強塩基スラリーを攪拌しなが
    ら加熱し、得られた混合物を濾過して強塩基で処理され
    た顔料ケーキを生成し、この強塩基で処理された顔料ケ
    ーキを双性中性溶剤と結合して溶剤スラリーを生成し、
    この溶剤スラリーを攪拌しながら加熱し、該溶剤スラリ
    ーを濾過して溶剤で処理された顔料ケーキを得、この溶
    剤で処理された水を含む溶剤と結合して水性スラリーを
    生成し、この水性スラリーを攪拌しながら加熱し、該水
    性スラリーを濾過して洗滌された顔料ケーキを得、この
    洗滌された顔料ケーキを乾燥し、この洗滌された顔料ケ
    ーキを攪拌しながら冷却された濃強酸に増加的に溶解し
    てバナジル−フタロシアニンの冷却された濃強酸溶液を
    生成し、この溶液を攪拌しながら冷却水と混合して沈殿
    したバナジル−フタロシアニン粒子を含む混合物を生成
    し、この得られた混合物を濾過して沈殿したバナジル−
    フタロシアニン粒子のケーキを得、この沈殿バナジル−
    フタロシアニン粒子ケーキを水を含む溶剤と混合してバ
    ナジル−フタロシアニン粒子と水のスラリーを生成し、
    このバナジル−フタロシアニン粒子と水のスラリーを加
    熱し、得られた混合物を濾過してバナジル− フタロシアニン粒子のケーキを得、 この沈殿したバナジル−フタロシアニン粒子のケーキを
    水を含む溶剤と混合してバナジル−フタロシアニン粒子
    と水のスラリーを生成し、このバナジル−フタロシアニ
    ン粒子と水のスラリーを加熱し、得られた混合物を濾過
    してバナジル−フタロシアニン粒子のケーキを得、この
    バナジル−フタロシアニン粒子のケーキを水と混合して
    水のスラリーを生成し、この水のスラリーを濾過してバ
    ナジル−フタロシアニンの精製された顔料ケーキを生成
    し、次いでこのバナジル−フタロシアニンの精製された
    顔料ケーキを乾燥させることから成る、バナジル−フタ
    ロシアニンの製造方法。
  2. (2)バナジル−フタロシアニンの前記冷却された濃強
    酸を、約15℃以下の温度に維持することを包含する、
    特許請求の範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニン
    の製造方法。
  3. (3)バナジル−フタロシアニンの冷却された前記溶液
    を、約5℃〜約10℃の温度に維持することを包含する
    、特許請求の範囲第2項記載のバナジル−フタロシアニ
    ンの製造方法。
  4. (4)前記洗滌された顔料ケーキと結合した前記冷却さ
    れた強酸が、少なくとも95%(重量)の濃度を有する
    硫酸である、特許請求の範囲第1項記載のバナジル−フ
    タロシアニンの製造方法。
  5. (5)フタロニトリル:五酸化バナジウムのモル比が、
    約10:1および約14:1の間にあることを包含する
    、特許請求の範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニ
    ンの製造方法。
  6. (6)前記アルコールが少なくとも2個のヒドロキシル
    基を有する、特許請求の範囲第1項記載のバナジル−フ
    タロシアニンの製造方法。
  7. (7)少なくとも2個のヒドロキシル基を有するアルコ
    ールがエチレングリコールである、特許請求の範囲第6
    項記載のバナジル−フタロシアニンの製造方法。
  8. (8)前記アルコール:前記五酸化バナジウムの重量割
    合が、約3:1および約30:1の間にある、特許請求
    の範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニンの製造方
    法。
  9. (9)前記反応生成物顔料の前記洗滌のための前記双性
    中性溶媒を、少なくとも80℃の温度に維持する、特許
    請求の範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニンの製
    造方法。
  10. (10)前記強塩基で処理された顔料ケーキを双性中性
    溶媒と結合して前記溶媒スラリーを生成し、この溶媒ス
    ラリーを攪拌しながら加熱し、該溶媒スラリーを濾過す
    る前記工程を少なくとも1回繰返すことを包含する、特
    許請求の範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニンの
    製造方法。
  11. (11)バナジル−フタロシアニン粒子の前記ケーキを
    水と結合する前に、バナジル−フタロシアニンの前記ケ
    ーキを水および弱塩基と結合して弱塩基スラリーを生成
    させ、この弱塩基スラリーを攪拌しながら加熱し、この
    弱塩基スラリーを濾過して、バナジル−フタロシアニン
    の弱塩基で処理された顔料ケーキを少なくとも1回得る
    ことを包含する、特許請求の範囲第1項記載のバナジル
    −フタロシアニンの製造方法。
  12. (12)前記弱塩基が水酸化アンモニウムである、特許
    請求の範囲第11項記載のバナジル−フタロシアニンの
    製造方法。
  13. (13)弱塩基で処理された前記顔料ケーキを水と結合
    し、この水スラリーを濾過してバナジル−フタロシアニ
    ンの精製顔料ケーキを生成させて、バナジル−フタロシ
    アニン濾液の電気導電率を約10マイクロモー以下に減
    少させる工程を、少なくとも1回繰返すことを包含する
    、特許請求の範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニ
    ンの製造方法。
  14. (14)前記処理された顔料ケーキを、アルコール溶媒
    を用いて少なくとも1回洗滌し、アルコールで洗滌され
    た顔料ケーキを生成させることを包含する、特許請求の
    範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニンの製造方法
  15. (15)前記浸出の前に、前記処理された顔料ケーキを
    、水で希釈した強塩基と結合してスラリーを生成し、こ
    のスラリーを攪拌しながら加熱し、このスラリーを濾過
    して顔料ケーキを生成させ、次いでこの顔料ケーキを少
    なくとも1回洗滌することを包含する、特許請求の範囲
    第1項記載のバナジル−フタロシアニンの製造方法。
  16. (16)前記処理された顔料ケーキ浸出用の水で希釈さ
    れた前記強酸が、約60%(重量)〜約80%(重量)
    の濃度である、特許請求の範囲第1項記載のバナジル−
    フタロシアニンの製造方法。
  17. (17)前記双性中性溶媒が、N,N−ジメチルホルム
    アミドである、特許請求の範囲第1項記載のバナジル−
    フタロシアニンの製造方法。
  18. (18)前記強塩基が水酸化ナトリウムである特許請求
    の範囲第1項記載のバナジル−フタロシアニンの製造方
    法。
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