JPH0677711B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH0677711B2 JPH0677711B2 JP61164719A JP16471986A JPH0677711B2 JP H0677711 B2 JPH0677711 B2 JP H0677711B2 JP 61164719 A JP61164719 A JP 61164719A JP 16471986 A JP16471986 A JP 16471986A JP H0677711 B2 JPH0677711 B2 JP H0677711B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating liquid
- coating
- support
- edge
- width
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0241—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to elongated work, e.g. wires, cables, tubes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7459—Extrusion coating
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7466—Geometry and shape of application devices
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、塗布装置に関し、更に詳しくは、移動中の支
持体表面に向けて連続的に塗布液を押出し、均一の厚さ
をもって塗布するエクストルーダを具備した塗布装置に
関するものである。
持体表面に向けて連続的に塗布液を押出し、均一の厚さ
をもって塗布するエクストルーダを具備した塗布装置に
関するものである。
なお、本発明で言う「支持体」とは、一般に、その幅が
0.3〜3m、長さが45〜10,000m、厚さが５〜200μｍのポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフ
タレート、セルロールダイアセテート、セルローストリ
アセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリアミド、等のプラスチックフィル
ムフィルム；紙；紙にポリエチレン、ポリプロピレン、
エチレンブテン共重合体、等の炭素数が２〜10のα−ポ
リオレフィン類を塗布又はラミネートした紙；アルミニ
ウム、銅、錫、等の金属箔；等から成る可撓性帯状物、
あるいは該帯状物を基材としてその表面に予備的な加工
層を形成せしめてある帯状物が含まれる。
0.3〜3m、長さが45〜10,000m、厚さが５〜200μｍのポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフ
タレート、セルロールダイアセテート、セルローストリ
アセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリアミド、等のプラスチックフィル
ムフィルム；紙；紙にポリエチレン、ポリプロピレン、
エチレンブテン共重合体、等の炭素数が２〜10のα−ポ
リオレフィン類を塗布又はラミネートした紙；アルミニ
ウム、銅、錫、等の金属箔；等から成る可撓性帯状物、
あるいは該帯状物を基材としてその表面に予備的な加工
層を形成せしめてある帯状物が含まれる。
（従来技術） 従来、前述した支持体は、その用途に応じた塗布液例え
ば写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護、帯電防止
あるいは滑性用塗布液、等がその表面に塗布され、乾燥
した後、所望する幅及び長さに裁断されるものであり、
その代表的な製品として各種写真フィルム、印画紙、磁
気テープ、等が挙げられる。
ば写真感光性塗布液、磁性塗布液、表面保護、帯電防止
あるいは滑性用塗布液、等がその表面に塗布され、乾燥
した後、所望する幅及び長さに裁断されるものであり、
その代表的な製品として各種写真フィルム、印画紙、磁
気テープ、等が挙げられる。
前記支持体を比較的高速度例えば50〜100m/minで移動さ
せながら、前記塗布液を極めて薄くかつ均一な厚さに塗
布することが可能とされていた従来のドクタエッジ付き
エクトスルーダは、様々な角度から研究開発されて来て
おり、その代表的なものとして例えば第４図に概略的に
示すウェブ加圧型エクストルージョン方式や、第５図に
示すような平行スリットエクストルージョン方式などが
ある。
せながら、前記塗布液を極めて薄くかつ均一な厚さに塗
布することが可能とされていた従来のドクタエッジ付き
エクトスルーダは、様々な角度から研究開発されて来て
おり、その代表的なものとして例えば第４図に概略的に
示すウェブ加圧型エクストルージョン方式や、第５図に
示すような平行スリットエクストルージョン方式などが
ある。
第４図に示すエクストルーダ10は、ガイドローラ等の各
走行案内手段の間で、その厚さ方向に若干彎曲すること
が可能な状態に装架された前記支持体に対し、前記エク
ストルータ10の先端部、特に前記塗布液が押出されるス
ロットの出口近傍の一部を画成する前記ドクタエッジ11
及びフロントエッジ12（ここで云うフロントエッジとは
ドクタエッジの反対側う云う）の突出面を、前記支持体
の表面に押し着けるように対設せしめ、前記スロットか
ら押出される前記塗布液の供給量又は押出量の変化に応
じ、前記スロットよりも前記支持体の下流側に位置する
前記ドクタエッジ11と支持体との間隔を変化せしめて塗
布を行うものである。
走行案内手段の間で、その厚さ方向に若干彎曲すること
が可能な状態に装架された前記支持体に対し、前記エク
ストルータ10の先端部、特に前記塗布液が押出されるス
ロットの出口近傍の一部を画成する前記ドクタエッジ11
及びフロントエッジ12（ここで云うフロントエッジとは
ドクタエッジの反対側う云う）の突出面を、前記支持体
の表面に押し着けるように対設せしめ、前記スロットか
ら押出される前記塗布液の供給量又は押出量の変化に応
じ、前記スロットよりも前記支持体の下流側に位置する
前記ドクタエッジ11と支持体との間隔を変化せしめて塗
布を行うものである。
しかしながら、前記支持体Ｗの例えば厚み変動、ヤング
率の不均一などにより該支持体Ｗと前記ドクターエッジ
11との間隙に変化を生じ、塗膜の厚みが不均一となる問
題があった。また、前記支持体Ｗに同伴されて前記ドク
ターエッジ11の表面に捕捉された塵埃粒子等の異物によ
って、塗膜に支持体走行方向に沿ったタテスジ状の故障
が発生する問題があった。
率の不均一などにより該支持体Ｗと前記ドクターエッジ
11との間隙に変化を生じ、塗膜の厚みが不均一となる問
題があった。また、前記支持体Ｗに同伴されて前記ドク
ターエッジ11の表面に捕捉された塵埃粒子等の異物によ
って、塗膜に支持体走行方向に沿ったタテスジ状の故障
が発生する問題があった。
第５図に示すエクストルーダ20は、第４図に示す場合と
は異なりドクターエッジを有しない構造である。この構
造の場合、上記の如く異物トラップによるタテスジ状の
故障は発生しないが、特に高粘度の塗布液を高速で塗布
するときには、この塗布はスロットの塗液吐出側におい
て大きい吐出速度が要求されるため、スロットギャップ
（ｌ）を小さくする必要があるが、塗布液のスロット間
の通過時における圧力損失、すなわち、塗布液がスロッ
トのギャップに入る前の圧力に比べ、塗布液吐出側の圧
力が非常に小さくなってしまう。このために塗布液を非
常に大きな圧力、例えば50kgw/cm2と云った圧力（塗布
時の諸条件によって異なる）でエクストルーダに送り込
まなければならず、このような高圧定量ポンプはその製
作がむずかしく、製作できたとしても極めて高価になっ
てしまう等の大きな問題があった。
は異なりドクターエッジを有しない構造である。この構
造の場合、上記の如く異物トラップによるタテスジ状の
故障は発生しないが、特に高粘度の塗布液を高速で塗布
するときには、この塗布はスロットの塗液吐出側におい
て大きい吐出速度が要求されるため、スロットギャップ
（ｌ）を小さくする必要があるが、塗布液のスロット間
の通過時における圧力損失、すなわち、塗布液がスロッ
トのギャップに入る前の圧力に比べ、塗布液吐出側の圧
力が非常に小さくなってしまう。このために塗布液を非
常に大きな圧力、例えば50kgw/cm2と云った圧力（塗布
時の諸条件によって異なる）でエクストルーダに送り込
まなければならず、このような高圧定量ポンプはその製
作がむずかしく、製作できたとしても極めて高価になっ
てしまう等の大きな問題があった。
（発明の目的） 本発明は、前述した従来装置の問題点に鑑みてなされた
ものであり、エクストルーダにおける異物トラップによ
る塗布面のタテスジ状の故障や、支持体の厚み、ヤング
率等の不均一に起因する塗膜の厚み変動を回避でき、さ
らには塗布液のスロット部分通過時における圧力損失を
小さくすることのできる塗布装置を提供することを目的
とするものである。
ものであり、エクストルーダにおける異物トラップによ
る塗布面のタテスジ状の故障や、支持体の厚み、ヤング
率等の不均一に起因する塗膜の厚み変動を回避でき、さ
らには塗布液のスロット部分通過時における圧力損失を
小さくすることのできる塗布装置を提供することを目的
とするものである。
（発明の構成） 本発明のかかる目的は、支持体移動方向に対して上流側
に位置するフロントエッジと下流側に位置するバックエ
ッジとを有するエクストルージョン型ヘッドから成る塗
布装置において、前記両エッジにより支持体幅と略同等
の長さで均一なスロット幅で延在する塗布液吐出スロッ
トにテーパを付けて、塗布液吐出側のスロット幅が漸減
するように設定し、かつ前記フロントエッジの表面を支
持体側に膨らむように湾曲化せしめ、かつ前記バックエ
ッジの先端が前記フロントエッジよりも塗着膜厚以上に
段差をつけて反支持体方向に後退していることを特徴と
する塗布装置により達成される。
に位置するフロントエッジと下流側に位置するバックエ
ッジとを有するエクストルージョン型ヘッドから成る塗
布装置において、前記両エッジにより支持体幅と略同等
の長さで均一なスロット幅で延在する塗布液吐出スロッ
トにテーパを付けて、塗布液吐出側のスロット幅が漸減
するように設定し、かつ前記フロントエッジの表面を支
持体側に膨らむように湾曲化せしめ、かつ前記バックエ
ッジの先端が前記フロントエッジよりも塗着膜厚以上に
段差をつけて反支持体方向に後退していることを特徴と
する塗布装置により達成される。
以下、添付した図面に基づき、本発明装置の一実施態様
について説明する。
について説明する。
第１図及び第２図に示した本発明装置におけるドクタエ
ッジの無いエクストルーダ１（以下、単に「エクストル
ーダ１」と称する。）の要部は、次に夫々詳述するよう
な給液系２、ポケット部３、スロット部４、フロントエ
ッジ部５、及びバックエッジ部６に区分できる。
ッジの無いエクストルーダ１（以下、単に「エクストル
ーダ１」と称する。）の要部は、次に夫々詳述するよう
な給液系２、ポケット部３、スロット部４、フロントエ
ッジ部５、及びバックエッジ部６に区分できる。
―1.給液系2: 該給液系２は、エクストルーダ１の躯体よりも外部にあ
って前記塗布液Ｃを連続的にかつ一定の流量で送液可能
な定量送液ポンプ手段（図示せず）並びに前記エクスト
ルーダ１の躯体内部を前記支持体Ｗの幅方向に透設した
ポケット部３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材
を夫々具備して成っている。
って前記塗布液Ｃを連続的にかつ一定の流量で送液可能
な定量送液ポンプ手段（図示せず）並びに前記エクスト
ルーダ１の躯体内部を前記支持体Ｗの幅方向に透設した
ポケット部３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材
を夫々具備して成っている。
―2.ポケット部3: 該ポケット部３は、第１図に示したように、その断面が
略円形を成し、かつ前記支持体Ｗの幅方向に略同一の断
面形状をもって延長された一種の液溜めである。
略円形を成し、かつ前記支持体Ｗの幅方向に略同一の断
面形状をもって延長された一種の液溜めである。
又、その有効延長長さは、通常、塗布幅と同等もしくは
若干長く設定される。
若干長く設定される。
なお、前記ポケット部３の内径は、通常、10〜50mmの範
囲に設定され、その貫通した両端開口部は、第２図に示
したように、前記エクストルーダ１の両端部に取付けら
れる各シールド板7,8により閉止されている。
囲に設定され、その貫通した両端開口部は、第２図に示
したように、前記エクストルーダ１の両端部に取付けら
れる各シールド板7,8により閉止されている。
前記一方のシールド板７に突設した短管９に、前記給液
系２を接続することにより、前記ポケット部３の内部に
前記塗布液Ｃが注入、充満して、後述するスロット部４
を経て外部に前記塗布液Ｃを均一な液圧分布をもって押
圧せしめるものである。
系２を接続することにより、前記ポケット部３の内部に
前記塗布液Ｃが注入、充満して、後述するスロット部４
を経て外部に前記塗布液Ｃを均一な液圧分布をもって押
圧せしめるものである。
―3.スロット部4: 該スロット部４は、前記ポケット部３から前記支持体Ｗ
に向け、前記塗布液の塗布液入口側4aから塗布液吐出側
4bに向ってスロット幅が狭くなるようにテーパが付けら
れている。そして、前記塗布液入口側4aの幅（d1）は0.
1〜5mm、前記塗布液吐出側4bの幅は0.02〜0.3mmをもっ
て前記エクストルーダ１の躯体内部を貫通しかつ前記ポ
ケット部３と同じように前記支持体Ｗの幅方向に延長さ
れた比較的狭溢な流路であり、前記支持体Ｗの幅方向の
開口長さは塗布幅と略同等に設定される。
に向け、前記塗布液の塗布液入口側4aから塗布液吐出側
4bに向ってスロット幅が狭くなるようにテーパが付けら
れている。そして、前記塗布液入口側4aの幅（d1）は0.
1〜5mm、前記塗布液吐出側4bの幅は0.02〜0.3mmをもっ
て前記エクストルーダ１の躯体内部を貫通しかつ前記ポ
ケット部３と同じように前記支持体Ｗの幅方向に延長さ
れた比較的狭溢な流路であり、前記支持体Ｗの幅方向の
開口長さは塗布幅と略同等に設定される。
なお、前記スロット部４における前記支持体Ｗに向けた
流路の長さは、前記塗布液Ｃの液組成、物性、供給流
量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得るも
のであり、要は前記塗布液Ｃが前記支持体Ｗの幅方向に
均一な流量と液圧分布をもって層流状に前記ポケット部
３から流出可能であれば良い。
流路の長さは、前記塗布液Ｃの液組成、物性、供給流
量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得るも
のであり、要は前記塗布液Ｃが前記支持体Ｗの幅方向に
均一な流量と液圧分布をもって層流状に前記ポケット部
３から流出可能であれば良い。
又、前記スロット部４の出口先端部は、前記支持体Ｗの
上流側と下流側に夫々位置させた後述のフロントエッジ
部５及びバックエッジ部６により段差ｔが付くように画
成されている。
上流側と下流側に夫々位置させた後述のフロントエッジ
部５及びバックエッジ部６により段差ｔが付くように画
成されている。
―4.フロントエッジ部５及びバックエッジ部6: 該フロントエッジ部５は、前記スロット部４の出口から
前記支持体Ｗの上流側に位置し、かつ下流側に配設した
前記バックエッジ部６よりも、0.01〜5.0mm程度余分に
前記支持体Ｗ寄りに突出して、前記段差ｔを形成せしめ
ている。
前記支持体Ｗの上流側に位置し、かつ下流側に配設した
前記バックエッジ部６よりも、0.01〜5.0mm程度余分に
前記支持体Ｗ寄りに突出して、前記段差ｔを形成せしめ
ている。
更に、前記フロントエッジ部５は、前記支持体Ｗに対向
するエッジ面全域が、１〜50mmの曲率（ｒ）の断面形状
をもって支持体側に膨らむように形成されている。
するエッジ面全域が、１〜50mmの曲率（ｒ）の断面形状
をもって支持体側に膨らむように形成されている。
又、前記フロントエッジ５のエッジ面長さl3（支持体Ｗ
の走行方向の長さ）は0.5〜10mmにすることが好適であ
る。
の走行方向の長さ）は0.5〜10mmにすることが好適であ
る。
又、前記段差ｔを形成するスロット４の対向する両壁の
長さは、前記フロントエッジ５の形成するフロント側壁
4cの長さ（l1）ならびに前記バックエッジ６の形成する
バック側壁4dの長さ（l2）は20〜100mmにすることがで
きる。
長さは、前記フロントエッジ５の形成するフロント側壁
4cの長さ（l1）ならびに前記バックエッジ６の形成する
バック側壁4dの長さ（l2）は20〜100mmにすることがで
きる。
なお、エクストルーダ１は例えば、約90度（ロックウエ
ル）を有する耐摩耗性の高い超硬合金材から成ってい
る。
ル）を有する耐摩耗性の高い超硬合金材から成ってい
る。
以上、記述したように構成される本発明装置は、ガイド
ローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもっ
てかつその厚さ方向に若干彎曲可能な状態に装架された
前記支持体Ｗが、前記フロントエッジ部５のエッジ面全
域と略平行して彎曲するようにエクストルーダ支持機構
（図示せず、）を介して近接せしめる一方、前記給液系
２から前記塗布液Ｃを所望する流量をもって送液を始め
ると、前記塗布液Ｃは前記ポケット部３及びスロット部
４を経過した後、前記支持体Ｗの幅方向に均一な流量及
び圧力分布をもって前記スロット部４の出口先端部に押
出される。
ローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもっ
てかつその厚さ方向に若干彎曲可能な状態に装架された
前記支持体Ｗが、前記フロントエッジ部５のエッジ面全
域と略平行して彎曲するようにエクストルーダ支持機構
（図示せず、）を介して近接せしめる一方、前記給液系
２から前記塗布液Ｃを所望する流量をもって送液を始め
ると、前記塗布液Ｃは前記ポケット部３及びスロット部
４を経過した後、前記支持体Ｗの幅方向に均一な流量及
び圧力分布をもって前記スロット部４の出口先端部に押
出される。
一方、前記支持体Ｗの表面には、前記塗布液Ｃの塗布に
先立って前記塗布液Ｃと相溶性のあるプレコート層Ｂが
塗布されており、前記塗布液Ｃが塗布されるときの空気
の巻き込みの防止、ならびに前記塗布液Ｃの塗布なじみ
を良くするように考慮されている。
先立って前記塗布液Ｃと相溶性のあるプレコート層Ｂが
塗布されており、前記塗布液Ｃが塗布されるときの空気
の巻き込みの防止、ならびに前記塗布液Ｃの塗布なじみ
を良くするように考慮されている。
前記スロット部４の出口先端部に押出された前記塗布液
Ｃは、前記支持体Ｗの表面と接触せずに僅小の間隙即ち
前記段差ｔに略等しい間隙をもって前記支持体Ｗに対向
する前記バックエッジ部６のエッジ面上に若干はみ出し
て、矢印Ａ方向に連続的に移動する前記支持体Ｗの表面
に沿って、前記プレコート層Ｂになじむように押し広げ
られて行く。又、前記フロントエッジ部５のエッジ面全
域と支持体Ｗの表面は、その幅方向全域にわたり前記プ
レコート層Ｂにより、一定した間隙をもって分離されて
いる。
Ｃは、前記支持体Ｗの表面と接触せずに僅小の間隙即ち
前記段差ｔに略等しい間隙をもって前記支持体Ｗに対向
する前記バックエッジ部６のエッジ面上に若干はみ出し
て、矢印Ａ方向に連続的に移動する前記支持体Ｗの表面
に沿って、前記プレコート層Ｂになじむように押し広げ
られて行く。又、前記フロントエッジ部５のエッジ面全
域と支持体Ｗの表面は、その幅方向全域にわたり前記プ
レコート層Ｂにより、一定した間隙をもって分離されて
いる。
前記塗布液Ｃの塗膜の厚さは、前記支持体Ｗの張力、エ
クストルーダ１の近接度合、塗布液Ｃの供給量（液
圧）、支持体走行速度などの設定条件により定まるもの
であり、特に前記塗布液Ｃの供給量のみの設定変更によ
り、極めて容易にかつ正確に所望の塗膜の厚さが得られ
る。
クストルーダ１の近接度合、塗布液Ｃの供給量（液
圧）、支持体走行速度などの設定条件により定まるもの
であり、特に前記塗布液Ｃの供給量のみの設定変更によ
り、極めて容易にかつ正確に所望の塗膜の厚さが得られ
る。
従って、上記のエクストルーダ１により塗布される塗布
液Ｃは、前記支持体Ｗと前記ックエッジ６との間隙にお
いて、該バックエッジ６のエッジ面と所望の空間を有し
て塗設されるので、従来のドクターエッジ表面に捕捉さ
れた異物等によって生ずるタテスジ状の故障の如き問題
は回避できる。
液Ｃは、前記支持体Ｗと前記ックエッジ６との間隙にお
いて、該バックエッジ６のエッジ面と所望の空間を有し
て塗設されるので、従来のドクターエッジ表面に捕捉さ
れた異物等によって生ずるタテスジ状の故障の如き問題
は回避できる。
また、前記支持体Ｗの厚み変動、ヤング率の変動があっ
ても、従来のドクターエッジのエッジ表面が塗布液Ｃを
支持体上に押し広げる構造とは異なり、前記塗布液Ｃは
その吐出圧によって前記各変動に敏感に対応することが
でき、極めて均一な塗膜の厚さが得られる。
ても、従来のドクターエッジのエッジ表面が塗布液Ｃを
支持体上に押し広げる構造とは異なり、前記塗布液Ｃは
その吐出圧によって前記各変動に敏感に対応することが
でき、極めて均一な塗膜の厚さが得られる。
さらに、前記スロット部４が前記支持体Ｗに向ってその
スロット幅を小さくするように構成されていることによ
って、前記塗布液Ｃの圧力損失を少なくしている。
スロット幅を小さくするように構成されていることによ
って、前記塗布液Ｃの圧力損失を少なくしている。
すなわち、例えば従来のスロット部の如く塗布液入口側
（ポケット部３側）と塗布液吐出側とのスロット幅が平
行な場合は、塗布液Ｃがスロット部を通過することによ
って、その液圧が塗布液吐出側に寄るに従って初期圧力
よりも大きく減圧してしまうが、第１図に示すようにス
ロット部４を塗布液吐出側4b方向にスロット幅を狭くす
るようなテーパを付けることにより、前記塗布液Ｃが吐
出される直前までその液圧の低下を僅小にすることがで
きる。
（ポケット部３側）と塗布液吐出側とのスロット幅が平
行な場合は、塗布液Ｃがスロット部を通過することによ
って、その液圧が塗布液吐出側に寄るに従って初期圧力
よりも大きく減圧してしまうが、第１図に示すようにス
ロット部４を塗布液吐出側4b方向にスロット幅を狭くす
るようなテーパを付けることにより、前記塗布液Ｃが吐
出される直前までその液圧の低下を僅小にすることがで
きる。
従って、所望の塗布圧（塗布液Ｃが支持体Ｗに塗設され
るときの圧力）に比べて前記給液系２の液圧を従来ほど
大きくする必要がなくなり、比較的小型の定量送液ポン
プ手段によって賄うことが可能となる。
るときの圧力）に比べて前記給液系２の液圧を従来ほど
大きくする必要がなくなり、比較的小型の定量送液ポン
プ手段によって賄うことが可能となる。
第２図に示したエクストルーダ１への塗布液Ｃの供給方
式は、短管９を介して片側供給であるが、シールド板８
にも短管を取付け、前記短管９から前記ポケット部３内
に注入された前記塗布液Ｃの一部を、前記シールド板８
に取付けた他方の短管を通して外部に排出せしめること
により、前記塗布液Ｃが前記ポケット部３内で長時間滞
留することを防止でき、特に揺変性を有し且つ凝集し易
い磁性塗布液に対しては極めて有効な手段となるもので
ある。
式は、短管９を介して片側供給であるが、シールド板８
にも短管を取付け、前記短管９から前記ポケット部３内
に注入された前記塗布液Ｃの一部を、前記シールド板８
に取付けた他方の短管を通して外部に排出せしめること
により、前記塗布液Ｃが前記ポケット部３内で長時間滞
留することを防止でき、特に揺変性を有し且つ凝集し易
い磁性塗布液に対しては極めて有効な手段となるもので
ある。
第３図は短管９及び10以外に前記ポケット部３の略中央
部に連結する別の短管11を取付け、該短管11から前記塗
布液Ｃを供給する中央供給方式を示したものである。
部に連結する別の短管11を取付け、該短管11から前記塗
布液Ｃを供給する中央供給方式を示したものである。
前記ポケット部３内に注入された前記塗布液Ｃの一部
は、前記両側の短管９及び10から外部に排出され、残り
の塗布液Ｃは前記ポケット部３内で停滞することなくか
つ圧力分布がより均一化されて前記スロット部４から押
出されるものである。
は、前記両側の短管９及び10から外部に排出され、残り
の塗布液Ｃは前記ポケット部３内で停滞することなくか
つ圧力分布がより均一化されて前記スロット部４から押
出されるものである。
なお、本発明装置における塗布液供給方式は、前述した
第２図〜第３図に示した各方式に限らず、それらを適宜
組合せて行っても良い。又、前記ポケット部３も、前述
したような円筒状のものに限らず、角形、舟底形、等に
変更可能であり、要は幅方向に液圧分布を均一化可能な
形状であれば良い。
第２図〜第３図に示した各方式に限らず、それらを適宜
組合せて行っても良い。又、前記ポケット部３も、前述
したような円筒状のものに限らず、角形、舟底形、等に
変更可能であり、要は幅方向に液圧分布を均一化可能な
形状であれば良い。
（発明の効果） 以上、記述した本発明装置は、次のような新規な効果を
奏するものである。
奏するものである。
（１）前記エクストルーダ１のバックエッジ６のエッジ
表面が支持体と適宜空間を有するように構成されている
ので、前記支持体Ｗに付着していた塵埃粒子等の異物が
前記バックエッジ６のエッジ表面に捕捉されることもな
く、これらの異物に基づく塗布面のタテスジ状のスジむ
らの発生を防止することができる。
表面が支持体と適宜空間を有するように構成されている
ので、前記支持体Ｗに付着していた塵埃粒子等の異物が
前記バックエッジ６のエッジ表面に捕捉されることもな
く、これらの異物に基づく塗布面のタテスジ状のスジむ
らの発生を防止することができる。
（２）前記塗布液Ｃはそれ自身の高い吐出圧力により前
記支持体Ｗに塗設されているので、該支持体Ｗの厚み変
動、ヤング率の変動によって生ずる支持体の走行条件が
変動しても、該変動に対し前記バックエッジ６の先端に
影響されることなく塗布液自身の高い柔軟性によって敏
感に対応することができる。従って塗膜の厚みむらを極
めて効果的に防止することができる。
記支持体Ｗに塗設されているので、該支持体Ｗの厚み変
動、ヤング率の変動によって生ずる支持体の走行条件が
変動しても、該変動に対し前記バックエッジ６の先端に
影響されることなく塗布液自身の高い柔軟性によって敏
感に対応することができる。従って塗膜の厚みむらを極
めて効果的に防止することができる。
（３）前記エクストルーダ１のスロット部４は前記ポケ
ット部３から塗布液吐出側4b方向に向ってスリット幅が
漸減するように構成されているので、前記スロット部４
における塗布液圧の圧力損失を小さくすることができ、
大きい塗布液吐出速度が得られる。この結果、高粘度の
塗布液の高速塗布ならびに薄層化を向上することがで
き、前記給液系２の送液能力を小さくすることができ、
従来に比べて該給液系２の小型軽量化をはかることがで
きる。
ット部３から塗布液吐出側4b方向に向ってスリット幅が
漸減するように構成されているので、前記スロット部４
における塗布液圧の圧力損失を小さくすることができ、
大きい塗布液吐出速度が得られる。この結果、高粘度の
塗布液の高速塗布ならびに薄層化を向上することがで
き、前記給液系２の送液能力を小さくすることができ、
従来に比べて該給液系２の小型軽量化をはかることがで
きる。
次に、実施例によって、本発明装置の新規な効果を一層
明確にする。
明確にする。
第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れて十分に
混合分散させたのち磁性塗布液とした。
混合分散させたのち磁性塗布液とした。
こうして得られた磁性塗布液の平衡粘度を島津製作所製
の島津レオメータRM−１により測定したところ剪断速度
が700sec-1において1.5poiseを示した。
の島津レオメータRM−１により測定したところ剪断速度
が700sec-1において1.5poiseを示した。
又、プレコート層はシクロヘキサノンを厚み2.0μｍ（W
et状態）にバーコーダで塗った。
et状態）にバーコーダで塗った。
―1.支持体： 材質…ポリエチレンテレフタレートフィルム 幅…500mm 厚さ…15μｍ 張力…10kg/500mm 支持体の走行速度は200m/min 磁性塗布液の塗布量は15cc/m2 ―2.エクストルーダは本発明記載のものを使用し、d1,d
2,l1,l2,l3,rの寸法を順次変更してスジむら、下限塗布
量、スロット部液圧力について調べ、その結果を下記第
２表に示す。なお、スジむらについては、○印は良好、
△印は良好な結果を得ることもあるが再現性が悪い、×
印はスジむらが多発したことを示す。下限塗布量につい
ては、○印は5.0cc/m2以下、△印は5.0〜10.0cc/m2、×
印は10.0〜15.0cc/m2を示す。スロット部液圧について
は、○印は3.0kgw/cm2以下、△印は3.0〜6.0kgw/cm2、
×印は6.0kgw/cm2以上を示す。
2,l1,l2,l3,rの寸法を順次変更してスジむら、下限塗布
量、スロット部液圧力について調べ、その結果を下記第
２表に示す。なお、スジむらについては、○印は良好、
△印は良好な結果を得ることもあるが再現性が悪い、×
印はスジむらが多発したことを示す。下限塗布量につい
ては、○印は5.0cc/m2以下、△印は5.0〜10.0cc/m2、×
印は10.0〜15.0cc/m2を示す。スロット部液圧について
は、○印は3.0kgw/cm2以下、△印は3.0〜6.0kgw/cm2、
×印は6.0kgw/cm2以上を示す。
以上で各2,000mの支持体に塗布を実施した結果、○印の
部分においては下限塗布量及びスロット部液圧が極めて
良好で、さらにタテスジ状のスジむらの発生は全くな
く、塗膜厚み変動最大値は0.1μｍと極めて良かった。
部分においては下限塗布量及びスロット部液圧が極めて
良好で、さらにタテスジ状のスジむらの発生は全くな
く、塗膜厚み変動最大値は0.1μｍと極めて良かった。
第１図は本発明装置におけるエクストルーダの断面図、
第２図は第１図におけるエクストルーダの一実施態様の
一部を切断して示した斜視図、第３図は第１図における
エクストルーダへの塗布液供給方式の変更例を示した斜
視図、第４図及び第５図は従来のエクストルーダの概略
断面図である。 １はエクストルーダ、２は給液系、３はポケット部、４
はスロット部、4aは塗布液入口側、4bは塗布液吐出側、
4cはフロント側壁、4dはバック側壁、５はフロントエッ
ジ、６はバックエッジ、７及び８はシールド板、9,10及
び11は給液系の短管である。
第２図は第１図におけるエクストルーダの一実施態様の
一部を切断して示した斜視図、第３図は第１図における
エクストルーダへの塗布液供給方式の変更例を示した斜
視図、第４図及び第５図は従来のエクストルーダの概略
断面図である。 １はエクストルーダ、２は給液系、３はポケット部、４
はスロット部、4aは塗布液入口側、4bは塗布液吐出側、
4cはフロント側壁、4dはバック側壁、５はフロントエッ
ジ、６はバックエッジ、７及び８はシールド板、9,10及
び11は給液系の短管である。
Claims (2)
- 【請求項１】支持体移動方向に対して上流側に位置する
フロントエッジと下流側に位置するバックエッジとを有
するエクストルージョン型ヘッドから成る塗布装置にお
いて、前記両エッジにより支持体幅と略同等の長さで均
一なスロット幅で延在する塗布液吐出スロットにテーパ
を付けて、塗布液吐出側のスロット幅が漸減するように
設定し、かつ前記フロントエッジの表面を支持体側に膨
らむように湾曲化せしめ、かつ前記バックエッジの先端
が前記フロントエッジよりも塗着膜厚以上に段差をつけ
て反支持体方向に後退していることを特徴とする塗布装
置。 - 【請求項２】前記塗布液が進入する塗布液入口側のスロ
ット幅d1が0.2〜5mm、塗布液吐出側のスロット幅d2が0.
02〜0.3mm、前記フロントエッジが形成する前記スロッ
トのフロント側壁の塗布液流出方向の幅l1が20〜100m
m、該フロントエッジのエッジ面の塗布方向の幅l3が0.5
〜10mm、前記バックエッジが形成する前記スロットのバ
ック側壁の塗布液流出方向の幅l2が20〜100mm、前記段
差ｔ（＝l1−l2）が0.01〜5mm、前記フロントエッジの
エッジ面の曲率ｒが１〜50mmに構成されたことを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の塗布装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61164719A JPH0677711B2 (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 塗布装置 |
| DE3723149A DE3723149C2 (de) | 1986-07-15 | 1987-07-13 | Vorrichtung zum Auftragen einer Beschichtungsmasse auf einen Träger |
| US07/287,621 US4907530A (en) | 1986-07-15 | 1988-12-20 | Apparatus for applying a liquid to a support |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61164719A JPH0677711B2 (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6320069A JPS6320069A (ja) | 1988-01-27 |
| JPH0677711B2 true JPH0677711B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=15798590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61164719A Expired - Fee Related JPH0677711B2 (ja) | 1986-07-15 | 1986-07-15 | 塗布装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4907530A (ja) |
| JP (1) | JPH0677711B2 (ja) |
| DE (1) | DE3723149C2 (ja) |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2639670B2 (ja) * | 1988-01-20 | 1997-08-13 | コニカ株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
| JPH07114997B2 (ja) * | 1988-03-11 | 1995-12-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| US5203922A (en) * | 1988-08-15 | 1993-04-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Application device |
| US5114753A (en) * | 1988-12-21 | 1992-05-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for coating web while preventing contact of edge portions thereof with coating head |
| JP2614119B2 (ja) * | 1989-10-16 | 1997-05-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置及び方法 |
| US5108787A (en) * | 1990-01-08 | 1992-04-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for applying magnetic liquid to moving web |
| JP2601367B2 (ja) * | 1990-04-20 | 1997-04-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP2609174B2 (ja) * | 1990-10-08 | 1997-05-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JPH05104053A (ja) * | 1991-10-11 | 1993-04-27 | Konica Corp | 塗布装置 |
| JP2684485B2 (ja) * | 1992-02-13 | 1997-12-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| JP2684486B2 (ja) * | 1992-02-13 | 1997-12-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| JP2916557B2 (ja) * | 1992-04-16 | 1999-07-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| US5256357A (en) * | 1992-05-28 | 1993-10-26 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for cocasting film layers |
| JP2942938B2 (ja) * | 1992-10-20 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| US5593734A (en) * | 1993-03-12 | 1997-01-14 | Eastman Kodak Company | Multiple inlet flow distributor for liquids |
| JP3383380B2 (ja) | 1993-10-19 | 2003-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP3122568B2 (ja) * | 1993-10-19 | 2001-01-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| JP3224113B2 (ja) * | 1993-10-20 | 2001-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| US5639305A (en) * | 1994-04-29 | 1997-06-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Die coating method and apparatus |
| KR100329583B1 (ko) * | 1994-04-29 | 2002-08-24 | 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니 | 다이코팅방법및장치 |
| US5759274A (en) * | 1994-04-29 | 1998-06-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Die coating apparatus with surface covering |
| JP2665317B2 (ja) * | 1994-09-14 | 1997-10-22 | 株式会社アイジー技術研究所 | 塗装装置 |
| JP3392233B2 (ja) | 1994-10-06 | 2003-03-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP3340874B2 (ja) * | 1994-12-20 | 2002-11-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| KR0156781B1 (ko) * | 1995-12-08 | 1998-12-15 | 최영각 | 도포장치 |
| US6033723A (en) * | 1998-02-24 | 2000-03-07 | Imation Corp. | Method and apparatus for coating plurality of wet layers on flexible elongated web |
| DE59913661D1 (de) | 1998-12-17 | 2006-08-24 | Guardian Industries | Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines ebenen Substrates |
| JP5400310B2 (ja) * | 2008-03-24 | 2014-01-29 | 三菱製紙株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
| CN114901480A (zh) | 2019-12-31 | 2022-08-12 | 3M创新有限公司 | 经由湿碰湿处理的多层制品 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1494315A (en) * | 1921-01-26 | 1924-05-13 | Ostenberg Zeno | Coating mechanism |
| US2464771A (en) * | 1946-04-09 | 1949-03-15 | Interstate Folding Box Co | Apparatus for coating webs |
| FR1039974A (fr) * | 1951-07-19 | 1953-10-12 | Pyral Soc | Procédé et dispositif pour le dépôt de piste magnétique sonore sur film de cinéma |
| US2891506A (en) * | 1954-11-23 | 1959-06-23 | Pyral Sa | Apparatus for the deposit of a coating on a flexible band and in particular for the deposit of magnetic sound tracks on cinematographic films |
| US2942293A (en) * | 1955-05-21 | 1960-06-28 | Emimeta Fabrikations Anstalt F | Apparatus for manufacturing color screens for use in connection with color photography |
| LU51679A1 (ja) * | 1966-08-01 | 1968-02-12 | ||
| JPS6053674B2 (ja) * | 1980-07-08 | 1985-11-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JPS5784771A (en) * | 1980-11-13 | 1982-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coater |
| JPS58104666A (ja) * | 1981-12-16 | 1983-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
| JPS58202075A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-11-25 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布方法 |
| FR2540406B1 (fr) * | 1983-02-04 | 1986-10-31 | Centre Tech Ind Papier | Dispositif d'enduction d'une feuille ou d'une bande en deplacement continu |
| DE3317530A1 (de) * | 1983-05-13 | 1984-11-15 | Dietrich Dr.med. Sta. Eulalia Ibiza Reichert | Antischnarchmittel |
| DE8533284U1 (de) * | 1985-11-26 | 1986-02-06 | Meltex Verbindungstechnik GmbH, 2120 Lüneburg | Schlitzdüse |
| JP2604079B2 (ja) * | 1991-12-03 | 1997-04-23 | シーケーディ株式会社 | 空気圧シリンダにおける駆動制御方法 |
-
1986
- 1986-07-15 JP JP61164719A patent/JPH0677711B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-07-13 DE DE3723149A patent/DE3723149C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-12-20 US US07/287,621 patent/US4907530A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3723149A1 (de) | 1988-01-21 |
| DE3723149C2 (de) | 1999-12-09 |
| US4907530A (en) | 1990-03-13 |
| JPS6320069A (ja) | 1988-01-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0677711B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JP2581975B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPH0146186B2 (ja) | ||
| JPH058065B2 (ja) | ||
| JPH0134663B2 (ja) | ||
| JP2565414B2 (ja) | 塗布装置 | |
| US6607786B2 (en) | Method of curtain coating | |
| JPS6388080A (ja) | 塗布装置 | |
| JP2601367B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JPH02174965A (ja) | 重層塗布方法及び装置 | |
| JPH04145977A (ja) | 塗布方法 | |
| JP3224113B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JP2614119B2 (ja) | 塗布装置及び方法 | |
| JP2630522B2 (ja) | 塗布方法及び装置 | |
| US4154879A (en) | Method and apparatus for coating webs with a plurality of liquid layers | |
| JPH01231969A (ja) | 塗布方法 | |
| JP2514847B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPS63164022A (ja) | 磁性液の塗布方法 | |
| US5004628A (en) | Coating method and apparatus | |
| JPS6320070A (ja) | 塗布装置 | |
| JPS58109162A (ja) | 塗布装置 | |
| JP3161569B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JP2001096212A (ja) | 塗布方法及び装置 | |
| JPH0235959A (ja) | 塗布装置 | |
| JP3896425B2 (ja) | スライドビード塗布方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |