JPH058065B2

JPH058065B2 -

Info

Publication number: JPH058065B2
Application number: JP59094657A
Authority: JP
Inventors: Tokuo Shibata; Hideo Takeda; Tsunehiko Sato; Yasunori Tanaka
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1984-05-14
Filing date: 1984-05-14
Publication date: 1993-02-01
Also published as: JPS60238179A; US4681062A

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕本発明は、塗布装置に関し、更に詳しくは、そ
の先端部近傍の一部をドクタエツジ化して成り、
移動中の支持体表面に向けて連続的に押出した塗
布液を、前記ドクタエツジを介して前記支持体表
面に均一な厚さをもつて塗布するエクストルーダ
の改良に関するものである。なお、本発明でいう支持体は、プラスチツクフ
イルム、紙、ポリオレフイン塗布紙、アルミニウ
ム銅等の金属シート等の可撓性シート又はウエブ
を指し、下塗層等が設けられていてもよい。この
ような支持体に、磁性塗布液、写真感光性塗布
液、その他種々の塗布液を塗布し、磁気記録媒
体、各種写真フイルム、印画紙等とする。〔従来技術〕上記の如き塗布には種々の塗布方式が用いられ
ているが、その一つとしてドクターエツジ付きエ
クストルージヨン型塗布装置が各分野で用いられ
ている（特開昭50−138036号公報、特公昭54−
7306号公報、特開昭57−84771号公報）。しかし、これらのエクストルーダにおける共通
の欠点は、塗布可能な領域が非常に狭いことであ
る。特に、100〜150m／分以上の速度では、いず
れの方法によつても液状で20μ以下を安定に塗布
するのは極めて困難であつた。本発明者等の研究の結果、この現象は以下に述
べる理由によるものだということが判つた。つま
り、100〜150m／分以上の速度においては、走行
するウエブによつて、エクストルーダ部に引き込
まれる空気の巻き込みが急に顕著になるが、この
領域で薄膜を均一に塗布するにはスロツト出口の
液圧を適当に制御出来ることが重要である。小さ
な液圧しか得られないものでは、塗膜中への気泡
の混入及び、或いは塗布液の掻落しつまり上流側
への逆流による膜厚の不均一を生じる。又、一方、大きな液圧しか得られないもので
は、低塗布量時に巾方向の厚味違いを生じ易い。又、これらの傾向はエツジ形状に支配される部
分が多く、従来公知の技術及び特開昭57−84771
号では、このいずれかに属していることも判つ
た。これら従来技術を解消する試みとして先に第１
図に概略断面図として例示するようにバツクエツ
ジ面１及びドクターエツジ面２に沿つて連続的に
走行する可撓性支持体Ｗの表面にスロツト８の先
端部から塗布液を連続的に押出して塗布するエク
ストルージヨン型の塗布装置において、ドクター
エツジ面２を断面が三角形状をなし、ドクターエ
ツジ面のスロツト側に液溜部の塗布液がある程度
の加圧状態にあるようにして塗布を行うことので
きる塗布装置を提案した。（特開昭58−104666号
公報）この塗布装置によるときは、塗布時に液溜部の
塗布液が常に加圧状態にあるので、パツクエツジ
面から空気の侵入が阻止され、高速で均一な薄層
塗布が可能となつた。しかしながら、上記の改良された塗布装置を用
いて長期間連続塗布を行うと、塗布面にすじむら
が発生し、例えば磁気記録媒体の場合には、Ｓ／
ＮやＣ／Ｎ等の特性に悪影響を与えることにな
る。本発明者らは、このようなすじむら発生の原因
について究明した結果、長期間連続塗布を続ける
と、支持体（ウエブ）の表面に付着していた汚れ
や異物が塗布装置の液溜め部Ｐに蓄積するためで
あることが分つた。すなわち、支持体の表面には
汚れや異物が付き易く、水洗等によつてクリーニ
ングしても完全には取り切れず、これが塗布時に
塗布装置の塗布液中に混入する。ところが上記の
塗布装置はドクターエツジが断面三角形状をな
し、頂点４が存在しているので、塗布時に汚れや
異物が頂点４を越えて流出し難く、液溜部Ｐに蓄
積し、すじむら発生と原因となつている。そこで、本発明者らは、上記改良装置の利点を
生かし、且つすじむら等を発生しない塗布装置を
得べく検討を重ねた結果、ドクターエツジ面にま
るみ（彎曲）をもたせ、且つ塗布時に加圧状態に
液溜部が存在するような構成にすることにより前
記の如きすじむらをなくし、高速塗布が行うこと
ができることを見出し、本発明を達成した。〔発明の目的〕本発明の目的は従来技術の欠点を解消し、すじ
むらの発生をともなうことなく高速塗布と良好な
薄層塗布を可能にした塗布装置を提供することに
ある。〔発明の構成〕すなわち、本発明は、バツクエツジ面及びドク
ターエツジ面に沿つて連続的に走行する可撓性支
持体表面にスロツト先端部から塗布液を連続的に
押出して該支持体表面に塗布液を塗布するエクス
トルージヨン型塗布装置をおいて、そのドクター
エツジ面に彎曲をもたせ、前記エクストルージヨ
ン型塗布装置の断面におけるドクターエツジ面の
下流端をＡ、バツクエツジ面のスロツト出口端部
をＢとし、Ｂにおいてバツクエツジ面に引いた接
線とＡにおいてドクターエツジ面に引いた接線と
のなす角をθ₁，Ｂにおいてバツクエツジ面に引い
た切線とＢからドクターエツジ面に引いた接線と
のなす角をθ₂としたとき θ₁＜θ₂＜180° を満す位置にバツクエツジ面のスロツト出口端部
Ｂがあることを特徴とする塗布装置である。以下、添付図面に基づいて本発明の実施態様に
ついて詳細に説明する。第２図は本発明の塗布装置の使用状態の一例を
示す概略断面図であつて、本発明におけるドクタ
ーエツジ付きエクストルージヨン型塗布装置１１
（以下、単にエクストルダー１１と称する）の要
部は、次に夫々詳述するような給液系１２、ポケ
ツト部１３、スロツト部１４、ドクターエツジ部
１５、及びバツクエツジ部１６に区分される。 (1) 給液系１２：該給液系１２は、エクストルーダ１１の躯体よ
りも外部にあつて塗布液Ｆを連続的にかつ一定の
流量で送液可能な定量送液ポンプ手段（図示せ
ず）、並びに前記エクストルーダ１１の躯体内部
を支持体Ｗの幅方向に透設したポケツト部１３と
前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材を夫々具
備して成つている。 (2) ポケツト部１３：該ポケツト部１３は、その断面が略円形を成
し、かつ第５図に示すように、前記支持体Ｗの幅
方向に略同一の断面形状をもつて延長された一種
の液溜めである。又、その有効延長長さは、通常、塗布幅と同等
もしくは若干長く設定される。なお、前記ポケツト部１３の貫通した両端開口
部は、第５図に示すように、前記エクストルーダ
１の両端部に取付けられる角シールド１７，１８
により閉止されている。前記一方のシールド板１７に突設した短管１９
に、前記給液系１２を接続することにより、前記
ポケツト部１３の内部に前記塗布液Ｆが注入、充
満して、後述するスロツト部１４を経て外部に前
記塗布液Ｆを均一な液圧分布をもつて押圧せしめ
るものである。 (3) スロツト部１４：該スロツト部１４は、前記ポケツト部１３から
前記支持体Ｗに向け、通常、0.03〜２mmの開口幅
をもつて前記エクストルーダ１１の躯体内部を貫
通しかつ前記ポケツト部１３と同じように前記支
持体Ｗの幅方向に延長された比較的狭隘な流路で
あり、前記支持体Ｗの幅方向の開口長さは塗布幅
と略同等に設定される。なお、前記スロツト部１４における前記支持体
Ｗに向けた流路の長さは、前記塗布液Ｆの液組
成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考
慮して適宜設定し得るものであり、要は前記塗布
液Ｆが前記支持体Ｗの幅方向に均一な流量と液圧
分布をもつて層流状に前記ポケツト部１３から流
出可能であれば良い。又、前記スロツト部１４の出口先端部は、その
一方の端部Ｃにおいてドクターエツジ部１５と接
し、他方の端部Ｂにて、バツクエツジ部１６と接
しており、且つ、Ｂは前記の如き本発明によつて
規定した位置に配されている。 (4) ドクターエツジ部１５及びバツクエツジ部１
６：ドクターエツジ部１５は前記スロツト部１４の
出口から前記支持体Ｗの下流側に、バツクエツジ
部１６は同上流側に位置し、該ドクターエツジ部
１５の支持体Ｗに対向するエツジ面が本発明に従
いまるみ（彎曲）を持つた断面形状をもつて形成
され、第３図及び第４図に例示するように、ドク
ターエツジ面の下流端をＡ、バツクエツジ面のス
ロツト出口端部をＢとし、Ｂにおいてバツクエツ
ジ面に引いた接線t₁とＡにおいてドクターエツジ
面に引いた接線t₂とのなす角をθ₁、該接線t₁と、
Ｂからドクターエツジ面に引いた接線t₃とのなす
角をθ₂としたとき、 θ₁＜θ₂＜180° を満す位置にバツクエツジ面のスロツト出口端部
Ｂがあるように構成されている。ドクターエツジ表面の彎曲の程度は曲率半径γ
として約２〜約20mm、特に約３〜約10mmが好まし
い。またドクターエツジ表面の有効長さ（Ａ−Ｃ
間の距離）は直線として約0.6mm〜約17mm、バツ
クエツジ表面の有効長（支持体が接する面、Ｂ−
Ｄ間の距離）は約0.1〜約50mmで、バツクエツジ
表面は平面状であつても、ややまるみを持つてい
てもよい。本発明では、上記の条件を満足していれば、バ
ツクエツジ面のスロツト出口端部Ｂが、第３図に
示すようにドクターエツジ面の下流端Ａより下方
に位置してもよく、また第４図に示すようにＡよ
り上方に位置してもよく、何れの場合も、塗布時
に第２図に示すような加圧状態にある液溜部Ｐが
形成され、空気の混入を防ぐと共に、ドクターエ
ツジ表面がまるみを持つているので、塗布時に支
持体に付着して運ばれた汚れや異物が液溜部Ｐに
滞溜することなく塗布液と共に速かに除かれ、従
来の塗布装置のようにすじむらを生ずることなく
薄膜を高速に且つ均一に塗布することができる。以上、記述したように構成される本発明装置
は、ガイドローラ等の各走行案内手段の間で略一
定した張力をもつてかつその厚さ方向に若干彎曲
可能な状態に装架された前記支持体Ｗが、前記ド
クタエツジ部１５及びバツクエツジ部１６と略平
行して彎曲するようにエクストルーダ支持機構
（図示せず）を介して近接せしめる一方、前記給
液系１２から前記塗布液Ｆを所望する流量をもつ
て送液を始めると、前記塗布液Ｆは前記ポケツト
部１３及びスロツト部１４を経過した後、前記支
持体Ｗの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもつ
て前記スロツト部１４の出口先端部に押出され
る。前記スロツト部１４の出口先端部に押圧された
前記塗布液Ｆは、エツジ部の形状を前述の如く規
定することによつて適当に制御された液圧を発生
して、前記支持体Ｗの同伴空気の混入を防ぐと共
に前記支持体Ｗの表面とエツジ部との間に僅小の
間隙を作りながら、矢印Ｒの方向に連続的に移動
する前記支持体Ｗの表面に沿つて、前記ドクタエ
ツジ部１５の彎曲したエツジ面と支持体Ｗとの間
を押し広げるように通過して行く。前述したような塗布液Ｆの移動が連続的に保た
れると、前記ドクターエツジ部１５のエツジ面全
域と支持体Ｗの表面は、その幅方向全域にわたり
薄層化されて通過する前記塗布液Ｆにより、一定
した間隙をもつて完全に分離される。前記分離間隔は、前記支持体Ｗの張力、塗布液
Ｆの供給量、等の設定条件により定まるものであ
り、特に、前記塗布液Ｆの供給量のみの設定変更
により、極めて容易にかつ正確に所望する分離間
隔即ち塗膜の厚さが得られる。なお前記ドクタエツジ部１５及びバツクエツジ
部１６の構成材料として超硬合金材又はセラミツ
ク材料を採用して、前記両エツジ部の真直度及び
平面度を一層高めることにより、上記間隙が巾方
向により均一になり、その結果として、塗膜厚み
の巾方向均一性も一段と良くなり、又高速及び薄
層塗布適性を更に良化させることが出来た。第６図及び第７図は、前記ポケツト部１３への
前記塗布液Ｆの供給方式に関する変更例を示した
ものである。第６図に示した供給方式は、第４図における方
式と同じように片側供給を行うものであるが、前
記他方のシールド板１８にも短管２０を取付け、
前記一方のシールド板１７における短管１９を通
して前記ポケツト部１３内に注入された前記塗布
液Ｆの一部を、前記他方の短管２０を通して外部
に排出せしめることにより、前記塗布液Ｆが前記
ポケツト部１３内で著しく滞溜することを防止で
き、特に揺変性を有しかつ凝集し易い磁性塗布液
に対しては極めて有効な手段となるものである。又、第７図は、第６図のような両側の短管１９
及び２０以外に前記ポケツト部１３の略中央部に
連通する別の短管２１を取付け、該短管２１から
前記塗布液Ｆを供給する中央供給方式を示したも
のである。前記ポケツト部１３内に注入された前記塗布液
Ｆの一部は、前記両側の短管１９及び２０から外
部に排出され、残りの塗布液Ｆは前記ポケツト部
１３内で停滞することなくかつ圧力分布がより均
一化されて前記スロツト部１４から押出されるも
のである。なお、本発明装置における塗布液供給方式は、
前述した第５図〜第７図に示した各方式に限ら
ず、それらを適宜組合せて行つても良い。又、前
記ポケツト部１３も、前述したような円筒状のも
のに限らず、角形、舟底形、等に変更可能であ
り、要は幅方向に液圧分布を均一化可能な形状で
あれば良い。〔発明の効果〕以上、記述した本発明装置は次のような効果を
与えるものである。 (1) 空気の混入や、支持体に付着した汚れや異物
に基づくすじむらの発生を伴うことなく高速で
均一な塗布を行うことができる。 (2) 薄層塗布適性も良化され液状10μｍでも均一
な厚味に塗布出来る。 (3) スロツト部４の出口先端部における塗布ヘツ
ドの形状を「θ₁＜θ₂＜180°」を満たす形状とし
たために、本発明による塗布ヘツドを使用して
塗布を実施した場合、支持体のラツプ角や支持
体の移動速度の実施範囲がより広くなり、液圧
を任意に制御することが出来るので、支持体と
エツジ部の接触：及び、それに伴なう、両者の
キズ付きを防ぐことが出来る。 (4) 又、上述の如く液圧を任意に制御出来るの
で、塗布液の粘度に対しても広い範囲で対応出
来た。又、エツジ部に超硬合金やセラミツクを
用いることにより、上記の効果をより一層高め
ると共に、特に磁気テープ塗布液の塗布におい
て生ずるエツジ部の摩耗による当期性能の劣化
を防止することが出来る。次に、実施例によつて、本発明装置の効果を一
層明確にする。〔実施例〕第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れ
て十分に混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エ
ポキシ当量500）を30重量部を加えて均一に混合
分散させて磁性塗布液とした。

【表】こうして得られた磁性塗布液の平衡粘度を島津
製作所製の島津レオメータRM−１により測定し
たところ剪断速度が10sec^-1においては8poise、
又500sec^-1においては1poiseを示した。次に、前記塗布液を第２図〜第４図に示した塗
布装置を用いて、下記条件に基づき塗布した。１支持体：材質……ポリエチレンテレフタレートフイルム厚さ……20μｍ幅 ……300mm 張力……２Kg／全幅及び４Kg／全幅移動速度……100m／min、150m／min、
200m／min300m／min ２エクストルーダ No.１……本発明記載のもの No.２……特開昭57−84771号公報記載のもの３塗膜厚（液状）10μｍ、20μｍ、50μｍその結果を下表に示す。（こゝに○印は良好に
塗布出来た。△印は良好な結果を得ることもある
が再現性が悪い。×印は均一に塗布出来なかつた。
を示す。）

【表】上表からわかる様に、本発明においては、高速
適性薄層適性共に改善されている。また前記塗布液を第２図〜第４図に示した塗布
装置を用いて下記条件に基づき塗布し、すじむら
の発生本数を調べた。１支持体材質……ポリエチレンテレフタレートフイルム厚さ……20μｍ幅……300mm 張力……４Kg／全幅移動速度……100m／min 塗布長……4000m ２エクストルーダ No.１……本発明記載のもの No.２……特開昭58−104666号公報記載のもの５塗布厚（液状） 10μｍ、20μｍ、50μｍその結果を下表に示す。

【表】上表からわかる通り、本発明においてはすじむ
ら発生が改善されている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によつて先に提案した塗布装置
及び第２図及び第３図は本発明装置におけるエク
ストルーダの一例を示す断面図、第４図は本発明
の他の例を示す断面図、第５図は第２図及び第３
図におけるエクストルーダの一部を切断して示し
た斜視図、第６図及び第７図は本発明装置におけ
るエクストルーダへの塗布液供給方式に関する変
更例を夫々示した斜視図である。１１はエクストルーダ本体、１２は給液系、１
３はポケツト部、１４はスロツト部、１５はドク
タエツジ部、１６はバツクエツジ部、Ｗは支持
体、Ｆは塗布液、Ａはドクターエツジ下流端、Ｂ
はバツクエツジのスロツト出口端である。

Claims

【特許請求の範囲】１バツクエツジ面及びドクターエツジ面に沿つ
て連続的に走行する可撓性支持体表面にスロツト
先端部から塗布液を連続的に押出して該支持体表
面に塗布液を塗布するエクストルージヨン型塗布
装置において、そのドクターエツジ面を円弧状と
し、前記エクストルージヨン型塗布装置の断面に
おけるドクターエツジ面の下流端をＡ、バツクエ
ツジ面のスロツト出口端部をＢとし、Ｂにおいて
バツクエツジ面に引いた接線とＡにおいてドクタ
ーエツジ面に引いた接線とのなす角をθ₁、Ｂにお
いてバツクエツジ面に引いた接線とＢからドクタ
ーエツジ面に引いた接線とのなす角をθ₂としたと
き、 θ₁＜θ₂＜180° を満す位置にバツクエツジ面のスロツト出口端部
Ｂがあることを特徴とする塗布装置。２ドクターエツジ面の彎曲度が半径ｒとして２
〜20mmである特許請求の範囲第１項に記載の塗布
装置。