JPS58202075A - 塗布方法 - Google Patents

塗布方法

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JPS58202075A
JPS58202075A JP57083221A JP8322182A JPS58202075A JP S58202075 A JPS58202075 A JP S58202075A JP 57083221 A JP57083221 A JP 57083221A JP 8322182 A JP8322182 A JP 8322182A JP S58202075 A JPS58202075 A JP S58202075A
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web
coating
liquid
edge
pressure
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Takashi Kageyama
景山 隆
Makoto Yoshida
誠 吉田
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Konica Minolta Inc
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はpyre押出し塗布装置の改良に関する。
更に詳しくは、特に高粘度液体を押出し装置で塗布する
際にウェブと被塗布液との肩れを向上させ、もって均一
な塗布層を得るようにした押出し塗布装置に関する。
従来のバックアップロールを介した押出し塗布機(コー
ター)を用いた押出し塗布装置について、第1図に基づ
いて説明する。図において、1はウェブ、2は先端部に
ウェブ1の巾方向に伸びるエツジ3を有するホッパーの
第1ブロツク、4は該Mlブロック2と同様に形成され
エツジ3′を有する@2ブロックであり、該第1ブロツ
ク2と第2ブロツク4の間には、スリット5が形成され
、−該スリット5より一定量の被塗布液6の全量がエツ
ジ3とウェブ1の間に平行に形成される狭い間棧りに供
給される。当該塗布装置を用いて塗布する場合に、塗布
膜厚をhwとするとh=2hwの関保て塗布され、この
関保は塗布液物性(vPに粘度)、塗布速度にほとんど
依存しないで成立することが知られている。しかし、写
真感光材料、磁気記録材料等のように塗布層の均一性が
高精度に要求される場合に、被塗布液6が高粘度になる
程、被塗布液6が、ウェブ1に最初に接する位置(以下
、「塗布液接触線Jという。)Xがウェブ1の巾方向に
一線状に揃わず不均一となり、ウェブ1の進行方向にス
ジ故障を発生しやすくなるという問題があった。これは
被塗布液6とウェブ1との濡れが不十分なためであり、
これが更に顕著になるとウェブ1表面の巾方向に濡れて
いる部分と沸れていない部分とが交互に発生する、所謂
横段跋の塗布′IR障が生じるに至るという問題があっ
た。また、前述の如<hw=b/2なる開銀で塗布膜厚
が決るために、例えばバックアップロール(図示せず)
の偏心、ウェブ1の膜厚変動等の避けがたい原因による
エツジ3とウェブ1との間FJhの変動が直接膜厚の変
動に影響する欠点があった。
本発明者は、前記諸問題を解決するために鋭意研究を重
ねた結果、前段の塗布故障の問題はウェブの襦れ性の改
良、液の表面張力を下げる等の濡れ性の改良手段により
ある程度解消するがそれにも限度があり、特に粘度が高
くなるにつれ、また塗布速度が増加するにつれ顕著にな
るという事実を見いだし、かかる事実は次のような原因
によって生ずることが判明した。即ち、第1の原因とし
ては、塗布液接触線はウェブ表面の沸れ性及び液の表面
張力によって決まるが、更にウェブとエツジとの間ア擬
(ギャップ)内にある塗布液の流れによって発生する圧
力によっても決まり、かかる圧力はウェブが液をその進
行方向に持ち去ろうとする力に対抗して、接触線をウェ
ブの進行方向とは逆の方向に押しつける作用をし、これ
らの力の釣り合いによって接触線の位置が決められる。
従って、粘度が高くなるにつれ、あるいは塗布速度が大
きくなるにつれ、ウェブが、液を持ち去ろうとする力が
強くなり、発生する圧力に打勝って釣り合いが破れるた
め、接触線の巾方向の不均一を招き、前述の如き塗布故
障を生ずるものである。また、第2の塗布故障の原因と
しては、高速塗布すると、ホッパーの第2ブロツクとウ
ェブとの空隙より空気が入り易くなり、スジ故障を生ず
ることが考えられる。当該9陳をなくすれば、かかる故
障は解決することも考えられるが、空隙がないとすると
バックロールとホッパーとにより帯状物が傷つき易く、
ゴミ等が存在すると帯状物が切断されるので、空線をな
くすことはできない。
そこで、本発明者はかかる原因について考察した結果、
上記いずれの問題もギャップ内の塗布液の流れによって
発生する圧力を増大させればよいことを見出し、またこ
のことによって前述の膜厚変動も解消できることを見出
し、本発明を完成するに至ったものである。ROち、本
発明の第1の目的は、ウェブと塗布液との肩れを向上し
て、高粘度液、高速の塗布速度においても均一な塗布層
を得る押出し塗布装置を提供することにある。本発明の
第2の目的は、ウェブとエツジとの間隙が変動しても、
塗布膜厚を一定に保つような押出し塗布装置を提供する
ことにある。
本発明の上記諸口的は、塗布バックアップロールにより
支持され連紐的に走行するウェブと、先端部にウェブ巾
方向に伸びるスリットおよび該スリットを挾む2つのエ
ツジを有するホッパーにおける前記エツジとの間に間糟
が形成され、ウェブ進行方向の下流側間隙に供給される
全量の塗布液が略密封された状態で塗布される押出し塗
布装置において、前記下流側間?寮を形成する前記エツ
ジが、該下流側間隙に塗布液流れの圧縮流を形成する領
域及びそれに引きつづいて拡大流を形成する領域を/又
は2以−ヒの複数組形成可能な形状を有することを特徴
とする押出し塗布装置によって達J戊される。
以下に、本発明の好ましい実施態様を添付図面に基づい
て説明する。
第2図は本発明の好ましい実m態様を示す部分[[新面
図、第3図は同上の要部拡大断面図、第4図は同上の塗
布液の圧力変化を示すグラフである。
第2図及び第3図において、第1図と同一番号を付した
部位は同一部材又は部品を示す。
図において、ホッパーの第1ブロツク2の先端部にウェ
ブ1の巾方向に伸びるエツジ3は、A領域(図面上左側
)とBgi域(図面上右側)に分かれ、A領域において
右下り傾斜(傾斜角θ1)、B領域において右上り傾斜
(傾斜角θ2)をなしている。従って、AgI域におい
ては、エツジ3とウェブ1の間1衆が減少し、B領域に
おいては、該間橡が増加するような構成である。なおA
領域からB領域へ移行する部分7は、図示のような「葭
(ウェブ1の巾方向には直線になっている。)である必
要はなく、上記のような傾斜を有する領域を有していれ
ばよい。また、第2ブロツク4の先端部に形成されウェ
ブ1の巾方向に伸びるエツジ3′は、前記第1ブロツク
2のエツジ3の高さと同じでもよいし異ってもよい。
今、前記第1ブロツク2のA領域及びIll域の各々の
塗布液進行方向の水平長さく以下、「水平長さ」という
。)を7.1.J2とし、ウェブ1と平行する部分のエ
ツジ3の水平長さを13とし、エツジ3とエツジ3′の
水平高さの差をkとすると、本発明の実施態様としては
、7!+=0.1〜l mm。
j!2=0.1〜2mm、 13=0.5〜2mm、θ
I:2〜60°、θ2=2〜60°、に=+0.1〜−
o、i  となるように構成することが望ましく、更に
は7!t=o、i〜0−5mm+ J!!2=0.5〜
1mm、 j!3=0.5−1mm。
el=5−30°、e2=5〜10000 ’−;Oと
なる。にうに構成することが望ましい。なお、k・が−
(マイナス)のときはエツジ3がエツジ3より低い位置
になることを意味する。上記数値は望ましい一例を示し
たにすぎず、これに限定されるものではない。
上記構成を有する本発明の詳細な説明する。先ず本発明
に適用される塗布液の粘度&び塗布速度について説明す
る。本発明は高粘度の塗布液を用いた場合に効果を発揮
するものであり、例えば500センチボイス(以下、「
cp」という。)以上に適用され、5000〜1000
0 cpの塗P5筬を用いることもできる。ま、た、塗
布速度についても、高速において本発明の効果を発揮す
るものであり、例えばlQQm/min以上とすること
ができる。
上記のような塗布@6をスリット5からウェブ1上に圧
送すると、Aff域においては、流れ町よ収噂らす力を
発生させ、接触線Xを巾方向に均一に保つことができる
。塗布液6がB領域に入ると、流れは拡大流となり圧力
が低下する。A領域における走向方向の4圧力増加状況
とB領域における走向方向の圧力低下の状況を第4図に
示す。同図において、曲iIはウェブ1の上面が第3図
のIaの位置にある場合、曲線■は同様にlaの位置に
ある場合、曲線■は同様にlaの位置にある場合を示す
ウェブ1が第3図のIaの位置にあって、第4図の曲線
■のような圧力変化を示す場合に(1、最大圧力差ΔP
Iが生ずる。ロールの偏心、ウェブ1の膜厚の変動等の
要因によってエツジ3とウェブ1の間隙(ギャップ)が
狭くなった場合(ウェブ1が第3図のlaの位置に変っ
た場合)には、塗布液流量が少なくなり、膜厚(hw)
は薄くなろうとする。一方、圧力は第4図の曲線Hのよ
うな変化をして、圧力差ム1)2が生ずる。従ってΔP
2はΔP1より大きく、この差圧を原動力にして流量を
増加しようとする。このように膜厚(hw)を厚くする
方向に、すなわち正常な厚さく第4図のJ、aの位置)
にもどそうとする方向に働く。逆に該間隙が大きくなっ
た場合(ウェブ1が第3図のlaの位置に変った場合)
には、塗布液流量が大きくなり膜厚(hw)が厚くなろ
うとする。一方、圧力は第4図の曲線璽のような変化を
して、圧力差ム113が生ずる。従ってAP3はム円よ
り小さくなり、この差圧減少によって流量を減少させよ
うとする。
このように膜厚(hw)を薄くする方向、すなわち正常
な厚さく第4図のIaの位置)にもどそうとする方向に
働く。上記のように間隙が大きくなっても、小さくなっ
てもそれをもとの厚さにもどそうとする方向に復元力が
働く点に本発明の特徴がある。
以上、本発明の好ましい実施態様について説明したが、
これに限定されるものでなく種々の態様に改良可能であ
る。例えば、第5図に示す如く圧縮流を形成するA領域
と拡大流を形成するB領域を7組として、その組を複数
組設けてもよい。また、本発明におけるエツジ形状を有
する部材を別個に形成し、ホッパーに取付けてもよい。
本発明によれば、ウェブと塗布液との沸れを向上して高
粘度液、高速の塗布速度においても均一な塗布層を得る
ことができ、またウェブとエツジとの間隙が変動しても
塗布膜厚を一定に保つことができるという効果を有する
以下、具体的実施例について説明する。
〔実施例1〕 (塗布装置の仕様) 上記仕様の塗布装置を用いて乾燥後膜1q(hd)が5
μとなるように粘度5000cpの磁気テープ用磁性粒
子分散液を塗布速度200m/minで塗布した。
その結果、金印にわたってスジ故障もなく、ま1ま た膜厚(hd)の変動が+2%以下となった。
〔実施例2〕 (塗布装置仕様) 上記仕様の塗布装置を用いて乾轢後膜厚(hd)が3μ
となるように粘度1000cpの塗布液を塗布速度15
9m/minで塗布した。
その結果、hd−+1%以下で均一な塗布を行なうこと
ができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の押出し塗布装置を示す部分概略断面図、
第2図は本発明の好ましい実施態様を示す部分概略断面
図、第3図は同上の部分拡大断面図、第4図は同上の塗
布液の圧力変化を示すグラフ、第5図は本発明の他の実
施態様を示す部分概略断面図である。 図中、1はウェブ、2は第1ブロツク、3はエツジ、6
は塗布層を゛示す。 特許出願人 小西六写真工業株式会社 代理人弁理士坂口信昭 T’ fr、7に! ネ山 [[モ −J(自発)昭和
58年5月20日 特t1庁長官若杉和夫殿 l π件の表示 昭和57年特許願第83221号 2 発明の名称 塗布装置 3?II+正をする者 事件との関係   出願人 名  称 (127)小西六写真Y業株式会社4代理人
 〒105 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 明細占(発明の詳細な説明および図面の簡単な説明の欄
)図面 補正の内容(特願昭57−83221)明細書について
次の通り補正する。 1 第8頁第1行に「K′、0」とあるを「K・0〜0
.05mmJ と補正する。 2 第9頁最下行および第1O頁第9行に「第4図のI
aJとあるをそれぞれ「第3図のIaJ と補正する。 3 第10頁最下行に下記を挿入する。 記 また、エツジ3はB領域で終っている必要はなく、第6
図に示す如く、B領域に続いてA領域で終っていても良
い。 4 第12頁第3行に「θ龜=02=14”Jとあるを
「θ1=01=7°」と補正する。 5 同第14行に「第5図は本発明の」とあるを「第5
図および第6図は各々本発明の」と補正する。 6 第6図を添付の通り補充する。 以  L

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 塗布バッファ・ツブロールにより支持され連続的に走行
    するウェブと、先端部にウェブ巾方向に伸びるスリット
    および該スリットを挾む2つのエツジを有するホッパー
    における前記エツジとの間に間隙が形成され、ウェブ進
    行方向の下流側間隙に供給される全量の塗布液が賂密封
    された状態で塗布される押出し塗布装置において、前記
    下流側間隙を形成する前記エツジが、該下流側間隙に塗
    布液流れの圧縮流を形成する領域及びそれに引きつづい
    て拡大流を形成する領域をl又は2以上の複数組形成可
    能な形跋を有することを特徴とする押出し塗布装置。
JP57083221A 1982-05-19 1982-05-19 塗布方法 Granted JPS58202075A (ja)

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