JPH054065A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH054065A JPH054065A JP15471391A JP15471391A JPH054065A JP H054065 A JPH054065 A JP H054065A JP 15471391 A JP15471391 A JP 15471391A JP 15471391 A JP15471391 A JP 15471391A JP H054065 A JPH054065 A JP H054065A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- web
- bead
- slide
- width regulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】スライドビード塗布装置において、ダイス前縁
の幅手両端部より支持体に近接または接触する可撓性片
を設けたことを特徴とするスライドビード塗布装置によ
り達成。 【効果】高速かつ薄膜塗布においても安定塗布を可能と
するスライドビード塗布装置の提供。
の幅手両端部より支持体に近接または接触する可撓性片
を設けたことを特徴とするスライドビード塗布装置によ
り達成。 【効果】高速かつ薄膜塗布においても安定塗布を可能と
するスライドビード塗布装置の提供。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高速かつ薄層で、しか
も安定塗布が可能なスライドビード塗布装置に関する。
も安定塗布が可能なスライドビード塗布装置に関する。
【０００２】
【発明の背景】スライドビード塗布方法については、米
国特許2681294号、同2761419号、同2761791号及び英国特
許837095号等に開示されている。
国特許2681294号、同2761419号、同2761791号及び英国特
許837095号等に開示されている。
【０００３】スライドビード塗布方法は多層同時塗布に
有効な方法であって、例えばハロゲン化銀写真感光材料
の塗布において一般的に使用されている。近時、ハロゲン
化銀写真感光材料は、銀の節約及び鮮鋭性等の性能上の
面から益々薄膜となり、しかも生産性向上のためさらに
高速化、広幅化が要請されている。ハロゲン化銀写真感
光材料の塗布性に対する要求は、その性格上かなり厳し
いものがあり、例えば一般用ネガチブ感光材料の場合、
肉眼では識別困難な程度の塗布故障でも商品品質として
問題になる。そのため塗布の安定は非常に大きな課題で
ある。スライドビード塗布においては塗布ビードの安定
が重要である。ここで塗布ビードとは塗布機前縁（コー
ターエッジあるいはコーターリップともいう）と走行す
るウエブとの間に形成されるリボン状の液溜まりをい
う。薄膜で、しかも高速化、広幅化することは、塗布ビ
ードの安定性にとっては困難な条件である。
有効な方法であって、例えばハロゲン化銀写真感光材料
の塗布において一般的に使用されている。近時、ハロゲン
化銀写真感光材料は、銀の節約及び鮮鋭性等の性能上の
面から益々薄膜となり、しかも生産性向上のためさらに
高速化、広幅化が要請されている。ハロゲン化銀写真感
光材料の塗布性に対する要求は、その性格上かなり厳し
いものがあり、例えば一般用ネガチブ感光材料の場合、
肉眼では識別困難な程度の塗布故障でも商品品質として
問題になる。そのため塗布の安定は非常に大きな課題で
ある。スライドビード塗布においては塗布ビードの安定
が重要である。ここで塗布ビードとは塗布機前縁（コー
ターエッジあるいはコーターリップともいう）と走行す
るウエブとの間に形成されるリボン状の液溜まりをい
う。薄膜で、しかも高速化、広幅化することは、塗布ビ
ードの安定性にとっては困難な条件である。
【０００４】このような塗布ビードはコーターエッジに
存在する異物等により筋故障を発生するが、ビードの破
壊はビードの幅手の両端部からビードが切れて破壊する
ことが多い。特に高速、薄膜で流量が少ない場合はこの
破壊が起こり易い。
存在する異物等により筋故障を発生するが、ビードの破
壊はビードの幅手の両端部からビードが切れて破壊する
ことが多い。特に高速、薄膜で流量が少ない場合はこの
破壊が起こり易い。
【０００５】塗布ビードの安定のためにビードを下方に
引っ張るように減圧することが一般的に行われている
が、特開昭55-3860号にはビードの両端部の減圧を強め
ることにより安定をはかる技術が開示されている。
引っ張るように減圧することが一般的に行われている
が、特開昭55-3860号にはビードの両端部の減圧を強め
ることにより安定をはかる技術が開示されている。
【０００６】また特開昭63-144347号では、スライド面の
両縁にチキソトロピー性を有する液体を流すことにより
ビードの両端部の塗布安定性を得る技術が開示されてい
る。しかしながら、これらの方法は装置的にもやや複雑と
なり、もっと簡便かつ有効な方法が強く望まれていた。
両縁にチキソトロピー性を有する液体を流すことにより
ビードの両端部の塗布安定性を得る技術が開示されてい
る。しかしながら、これらの方法は装置的にもやや複雑と
なり、もっと簡便かつ有効な方法が強く望まれていた。
【０００７】
【発明の目的】上記のような問題に対して、本発明の目
的は、高速かつ薄膜塗布においても安定塗布を可能とす
るスライドビード塗布装置を提供することである。
的は、高速かつ薄膜塗布においても安定塗布を可能とす
るスライドビード塗布装置を提供することである。
【０００８】
【発明の構成】本発明の上記目的は、スライドビード塗
布装置において、ダイス前縁の幅手両端部より支持体に
近接または接触する可撓性片を設けたことを特徴とする
スライドビード塗布装置により達成される。
布装置において、ダイス前縁の幅手両端部より支持体に
近接または接触する可撓性片を設けたことを特徴とする
スライドビード塗布装置により達成される。
【０００９】以下、本発明について具体的に説明する。
【００１０】上記のようにスライドビード塗布装置で
は、搬送される支持体であるウエブ表面とコーター前縁
との間隙（ビード間隙）にできる塗布ビードの安定性が
非常に重要である。
は、搬送される支持体であるウエブ表面とコーター前縁
との間隙（ビード間隙）にできる塗布ビードの安定性が
非常に重要である。
【００１１】図１は一般的なスライドビード塗布装置の
１例を示す断面図である。
１例を示す断面図である。
【００１２】同図においてスライドビード塗布機２のス
ロット４よりでてスライド面５を流下する塗布液13,14
は、塗布バックステップロール１に抱かれて走行するウ
ェブ10に塗布機リップ部６とウェブの間に形成されるビ
ード12を介して塗布される。
ロット４よりでてスライド面５を流下する塗布液13,14
は、塗布バックステップロール１に抱かれて走行するウ
ェブ10に塗布機リップ部６とウェブの間に形成されるビ
ード12を介して塗布される。
【００１３】尚、塗布液がスライド面を流下する際、サ
イド方向に流れウェブ幅以上となって裏回りすることを
防ぐため、スライド面の両端に塗布幅規制板が設けられ
る。図２はスライド面の１端面の拡大斜視図である。塗
布液14はスロット４よりスライド面５を流下しコーター
リップ部６でビードを介してウェブに塗布される。同図
（ａ）は塗布幅規制板15がコーターエッジより延びてい
ることを示す。その長さはウェブに近接または軽く接触
する程度である。
イド方向に流れウェブ幅以上となって裏回りすることを
防ぐため、スライド面の両端に塗布幅規制板が設けられ
る。図２はスライド面の１端面の拡大斜視図である。塗
布液14はスロット４よりスライド面５を流下しコーター
リップ部６でビードを介してウェブに塗布される。同図
（ａ）は塗布幅規制板15がコーターエッジより延びてい
ることを示す。その長さはウェブに近接または軽く接触
する程度である。
【００１４】図２（ｂ）は塗布幅規制板16と可撓性片17
を別に設けた場合の斜視図である。塗布幅規制板16は通
常の長さ、すなわちコーターエッジで終わるものを用
い、別に可撓性片17をコーターエッジとウェブの間に設
けても良い。
を別に設けた場合の斜視図である。塗布幅規制板16は通
常の長さ、すなわちコーターエッジで終わるものを用
い、別に可撓性片17をコーターエッジとウェブの間に設
けても良い。
【００１５】この場合は、ビード間隙に応じて可撓性片
17のみ変更すればよい。上記（ａ）図の例ではビード間
隙が変わる毎に塗布規制板15を全部取り替える必要がで
てくる。
17のみ変更すればよい。上記（ａ）図の例ではビード間
隙が変わる毎に塗布規制板15を全部取り替える必要がで
てくる。
【００１６】本発明において、ビード間隙は20〜500μm
程度、好ましくは100〜300μmである。これらは塗布液の
種類、条件、塗布速度、等各種条件により選択される。
程度、好ましくは100〜300μmである。これらは塗布液の
種類、条件、塗布速度、等各種条件により選択される。
【００１７】本発明の対象とする支持体及び塗布液は一
般的にスライドビード塗布装置に適合するものであれば
特に限定しないが、ハロゲン化銀写真感光材料の塗布に
おいて有効に使用することができる。
般的にスライドビード塗布装置に適合するものであれば
特に限定しないが、ハロゲン化銀写真感光材料の塗布に
おいて有効に使用することができる。
【００１８】
（塗布条件） ハロゲン化銀写真感光材料用塗布液 ゼラチン濃度％ 粘度cp 表面張力dyne/cm ウエット厚μm 乳剤層 ５ 15 35 40 保護層 ５ 15 27 20 塗布装置 ２層用スライドビード塗布装置 尚、本発明の塗布幅規制板は図２（ａ）のタイプ15を用
いた。比較例は従来の塗布幅規制板16を用い、可撓性片
17は用いなかった。
いた。比較例は従来の塗布幅規制板16を用い、可撓性片
17は用いなかった。
【００１９】塗布条件 塗布幅 400mm、 塗布速度 60m/min 減圧度 -20mmAq 塗布温度 35℃ 支持体 厚さ120μmのトリアセチルセルロースフィルム 塗布結果 上記条件で塗布を行った結果、比較例は図３（ｂ）に示
すように塗布膜11は両端部が波形となり不安定であるこ
とを示す結果であった。これに対して本発明の場合は図
３（ａ）に示すように両端部の塗布膜11は奇麗な直線状
となり極めて安定していることを示している。
すように塗布膜11は両端部が波形となり不安定であるこ
とを示す結果であった。これに対して本発明の場合は図
３（ａ）に示すように両端部の塗布膜11は奇麗な直線状
となり極めて安定していることを示している。
【００２０】
【発明の効果】本発明により、高速かつ薄膜塗布におい
ても安定塗布を可能とするスライドビード塗布装置を提
供することができた。
ても安定塗布を可能とするスライドビード塗布装置を提
供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】スライドビード塗布機の１例を示す断面図であ
る。
る。
【図２】同図（ａ）は本発明の塗布幅規制板の装着例を
示す斜視図である。同図（ｂ）は通常の塗布幅規制板と
可撓性片を用いた例を示す斜視図である。
示す斜視図である。同図（ｂ）は通常の塗布幅規制板と
可撓性片を用いた例を示す斜視図である。
【図３】塗布膜の両端部の塗布状態を示す上面図であ
る。
る。
１ 塗布バックアップロール ２ スライドビード塗布装置 ４ スロット ５ スライド面 ６ リップ部 10 ウェブ 11 塗布膜 12 ビード 13 保護膜液 14 乳剤液 15 本発明の塗布幅規制板 16 通常の塗布幅規制板 17 可撓性片
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 スライドビード塗布装置において、ダイ
ス前縁の幅手両端部より支持体に近接または接触する可
撓性片を設けたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15471391A JPH054065A (ja) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15471391A JPH054065A (ja) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH054065A true JPH054065A (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=15590337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15471391A Pending JPH054065A (ja) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH054065A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009220025A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | エクストルージョン塗布装置 |
| CN102590882A (zh) * | 2011-09-30 | 2012-07-18 | 长春奥普光电技术股份有限公司 | 机场道面异物监测系统 |
-
1991
- 1991-06-26 JP JP15471391A patent/JPH054065A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009220025A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Fujifilm Corp | エクストルージョン塗布装置 |
| CN102590882A (zh) * | 2011-09-30 | 2012-07-18 | 长春奥普光电技术股份有限公司 | 机场道面异物监测系统 |
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