JP5879178B2

JP5879178B2 - 塗布装置及び塗布方法

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Publication number: JP5879178B2
Application number: JP2012081570A
Authority: JP
Inventors: 隆八尋; 友秀上山; 諭史長野; 俊博萬代
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2012-03-30
Filing date: 2012-03-30
Publication date: 2016-03-08
Anticipated expiration: 2032-03-30
Also published as: JP2013211082A

Description

本発明は、塗布装置及び塗布方法に関する。

磁気記録媒体としての磁気テープは、典型的には、連続的に搬送されるプラスチックフィルム等の支持体に金属磁性粉を含有する塗布液を塗布し、支持体の表面に磁性層を形成して製造される。かかる磁気テープの製造方法において、支持体への塗布液の塗布には、例えばエクストルージョン塗布方法が用いられている。

エクストルージョン塗布方法において、支持体は、塗布ヘッドから吐出される塗布液によって塗布ヘッドから浮上し、支持体にかけられた張力と塗布液の吐出圧のバランスによって塗布ヘッドとの間に所定のクリアランスを保って塗布ヘッドに対して摺動する。支持体の表面には、クリアランスに応じた厚みの塗布膜が形成される。

磁気記録媒体の記録容量の向上の要請に対し、磁気テープにおいては、一巻き当たりの全長を長くする目的で支持体が薄手化され、近年では、６μｍ以下の厚みの支持体も用いられている。

磁気テープの一巻き当たりの全長が延長されるのに伴い、塗布速度の高速化が求められる。ところが、塗布速度の高速化に伴い、塗布ヘッドと支持体との間に空気が引き込まれる現象（空気同伴）が顕著となる。また、支持体に摺接する塗布ヘッドの磨耗や支持体の削れも顕著となる。

空気同伴による影響を排除するため、塗布液の圧力を高め、かつその圧力によっても吐出口から上流側に塗布液が溢れ出ないように構成された塗布装置が知られている（例えば、特許文献１、２参照）。また、支持体や塗布液が運んできた異物が引っかかることによる筋状の塗布欠陥を抑制するため、塗布ヘッドの吐出口を形成するフロントエッジやバックエッジの先端面が曲面で構成された塗布装置が知られている。（例えば、特許文献２、３参照）。

特開昭５８−１０４６６６号公報特開昭６０−２３８１７９号公報特開平１１−３１４０６２号公報

支持体内部の残留応力などに起因する支持体の歪みによって塗布ヘッド上で変形を起こすために幅方向で支持体と塗布ヘッドのクリアランスが局所的に不均一となり、塗布膜に厚みムラが誘起されることがある。支持体の薄手化に伴い、支持体の剛性が低くなってくると塗布ヘッド上における変形起因の厚みムラの発生頻度が高くなり、得率を下げる原因になっていた。

本発明は、上述した事情に鑑みなされたものであり、支持体の表面に形成される塗布膜の厚みムラを抑制することを目的としている。

（１）支持体を連続的に搬送しながら該支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記支持体の搬送方向に隣設されて前記塗布液の吐出口を構成するフロントエッジ及びバックエッジを有し、前記支持体に摺接しながら前記吐出口より吐出される前記塗布液を前記支持体に塗布する塗布ヘッドと、前記搬送方向における前記塗布ヘッドの上流側に配置され、前記塗布ヘッドへの前記支持体の搬入経路を規定するガイド部と、を備え、前記フロントエッジには、前記搬送方向に沿って湾曲し、前記支持体が摺接する曲面部が設けられており、前記支持体の幅方向に対して垂直に該支持体に交差する任意の面内において、前記支持体が前記ガイド部から乖離する乖離位置と、前記塗布液の吐出流量及び前記支持体の搬送速度に応じた浮上量にて、前記支持体に摺接する前記バックエッジの先端面における上流側の縁から浮上したときの前記支持体の浮上位置とを結ぶ線分に、前記フロントエッジの前記曲面部が交差し、前記フロントエッジの前記曲面部の曲率半径は、４ｍｍ以上４０ｍｍ以下であり、前記フロントエッジの前記曲面部の下流側の縁における接平面と、前記フロントエッジの前記曲面部における下流側の縁を通って前記バックエッジの先端面に接する接平面とのなす角度が１８０度未満であり、前記搬入経路に沿って搬送される前記支持体を前記フロントエッジの前記曲面部に押し付けた状態で該支持体に前記塗布液を塗布する塗布装置。
（２）連続的に搬送される支持体に塗布ヘッドを摺接させ、前記支持体の搬送方向に隣設された前記塗布ヘッドのフロントエッジ及びバックエッジによって構成される吐出口から塗布液を吐出して、前記支持体に前記塗布液を塗布する塗布方法であって、前記搬送方向における前記塗布ヘッドの上流側に配置されたガイド部によって前記塗布ヘッドへの前記支持体の搬入経路を規定し、前記支持体の幅方向に対して垂直に該支持体に交差する任意の面内において、前記支持体が前記ガイド部から乖離する乖離位置と、前記塗布液の吐出流量及び前記支持体の搬送速度に応じた浮上量にて、前記支持体に摺接する前記バックエッジの先端面における上流側の縁から浮上したときの前記支持体の浮上位置とを結ぶ線分に、前記フロントエッジにおいて前記支持体の搬送方向に湾曲して設けられた曲面部が交差するように、前記塗布液の吐出流量及び前記支持体の搬送速度を設定し、前記フロントエッジの前記曲面部の曲率半径を４ｍｍ以上４０ｍｍ以下とし、前記フロントエッジの前記曲面部の下流側の縁における接平面と、前記フロントエッジの前記曲面部における下流側の縁を通って前記バックエッジの先端面に接する接平面とのなす角度を１８０度未満として、前記フロントエッジの前記曲面部に前記支持体を押し付けた状態で該支持体を搬送し、該支持体に前記塗布液を塗布する塗布方法。

本発明によれば、支持体を塗布ヘッドのフロントエッジの曲面部に押し付けた状態で該支持体に塗布液を塗布することにより、支持体の歪みを矯正して支持体に塗布液を塗布することができる。それにより、支持体の薄手化によっても、支持体の表面に形成される塗布膜の厚みムラを抑制することができる。

本発明の実施形態を説明するための、塗布装置の一例の構成を示す模式図である。図１の塗布装置の塗布部の構成を示す模式図である。図１の塗布装置の塗布時における塗布部の状態を示す模式図である。図３の塗布部の塗布ヘッドの先端部分を拡大して示す模式図である。図３の塗布部におけるガイドロールと塗布ヘッドとの相対位置関係を示す模式図である。

図１は、本発明の実施の形態を説明するための、塗布装置の構成の一例を示す。

図１に示す塗布装置１は、支持体１１を塗布部３に供給する原反ロール２と、原反ロール２から供給される支持体１１の表面に塗布液を塗布する塗布部３と、塗布部３において支持体１１の表面に塗布された塗布膜を乾燥させる乾燥部４と、乾燥部４において塗布膜の乾燥処理が完了した支持体１１を収納する巻き取りロール５とを備えている。

支持体１１は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などの可撓性プラスチックフィルムであるが、これに限定されず、紙、金属箔、等が用いられる場合もある。

また、この支持体１１の表面に塗布する塗布液は、例えば、磁気記録媒体の磁性層を形成するための磁性塗布液や、磁性層の下地層を形成するための非磁性塗布液であるが、これに限定されず、写真感光液、表面保護液等であってもよい。磁気記録層を製造するための磁性塗布液は、例えば、Ｃｏ含有酸化鉄等の磁性粉と、ニトロセルロース、ポリウレタン樹脂、カーボンブラック等のバインダと、メチルエチルケトン、トルエン等の有機溶媒を含んで構成される。

なお、図示の例においては、原反ロール２から巻き取りロール５の間における支持体１１の搬送経路に、塗布部３が一つ設けられているが、例えば、支持体１１の表面に多層に塗布液を塗布する場合には、支持体１１の搬送経路に沿って複数の塗布部３が設けられる場合もある。

図２は、塗布部３の構成を示す。

塗布部３は、支持体１１の搬送経路を規定するガイド部としての一対のガイドロール１４、１５と、支持体１１の搬送経路に沿って一対のガイドロール１４、１５の間に配置された塗布ヘッド１６を備えている。なお、本例においては、支持体１１の搬送経路を規定するガイド部がガイドロール１４，１５であるものとして説明するが、ガイド部はガイドロールに限定されるものではない。例えば、支持体１１の搬送経路に沿って複数の塗布部３が設けられる場合に、搬送方向における上流側の塗布部の塗布ヘッドをガイド部として下流側の塗布部における搬送経路が規定される場合もある。

塗布ヘッド１６は、支持体１１の搬送方向に隣設されたフロントエッジ２０及びバックエッジ２１を備えている。フロントエッジ２０は、支持体１１の搬送方向における上流側に配置され、バックエッジ２１は、支持体１１の搬送方向における下流側に配置されており、互いに組み付けられている。フロントエッジ２０及びバックエッジ２１は、例えば、超硬合金、セラミック等からなる。

フロントエッジ２０及びバックエッジ２１によって構成される塗布ヘッド１６の先端面には、支持体１１の幅方向に沿って延在するスリット状の吐出口２５が設けられ、また内部には、吐出口２５と同じく支持体１１の幅方向に沿って延在する円筒状のポケット部１８及びポケット部１８と吐出口２５とを繋ぐ流路が設けられている。

なお、フロントエッジ２０及びバックエッジ２１についての「隣設」とは、所望の吐出口２５の幅（支持体１１の搬送方向に沿う寸法）を得られる間隔にフロントエッジ２０及びバックエッジ２１を配置することを言うものとする。

塗布ヘッド１６には、塗布液１９が貯蔵されたタンク２３が給液管２４を介して接続されている。給液管２４を通じてタンク２３から塗布ヘッド１６に送られた塗布液１９は、ポケット部１８に一旦貯留され、そして吐出口２５から所定の圧力で吐出される。

塗布ヘッド１６の上流側に配置されたガイドロール１４及び下流側に配置されたガイドロール１５は、それぞれ上下方向に独立して移動可能に設けられている。塗布ヘッド１６もまた、上下方向に移動可能に設けられている。ガイドロール１４、１５の各々と塗布ヘッド１６とが互いに接近する向きに相対的に移動されると、支持体１１が塗布ヘッド１６の先端面に接触する。そして、ガイドロール１４、１５の各々と塗布ヘッド１６とが互いに離間する向きに相対的に移動されると、支持体１１は塗布ヘッド１６から離間する。

塗布ヘッド１６への塗布液１９の供給、及びガイドロール１４、１５の昇降は、図示しない制御部によって制御される。

図３は、塗布時における塗布部３の状態を示し、図４は、塗布時における塗布ヘッド１６の先端部分の状態を示す。

支持体１１が搬送された後、ガイドロール１４、１５の各々が塗布ヘッド１６に向けて移動され、タイミングを前後して塗布ヘッド１６が支持体に向けて移動され、支持体１１は塗布ヘッド１６の先端面に接触し、支持体１１と塗布ヘッド１６の先端面とが摺接する。この状態で、塗布ヘッド１６の吐出口２５から塗布液１９が吐出され、吐出された塗布液１９が支持体１１に塗布される。支持体１１は、塗布液１９の吐出流量や支持体１１の搬送速度などによって定まる浮上量にてバックエッジ２１の先端面から浮上する。塗布液１９は、この支持体１１の浮上量に対応した厚みで、連続的に搬送される支持体１１の表面に塗布され塗布膜を形成する。

支持体１１の浮上量ｈ［μｍ］は、吐出口２５から吐出される塗布液１９の単位時間当たりの吐出流量をｑ［ｃｃ／ｍｉｎ］、塗布幅（支持体１１の幅方向に沿う吐出口２５の寸法）をｗ［ｍ］、支持体１１の搬送速度をｖ［ｍ／ｍｉｎ］として、次式（１）により求められる。式（１）は、塗布ヘッド表面の液流れがせん断場流れであることから求めることができる。なお、せん断場流れの式については、流体力学（朝倉書店）日野幹雄著などを参考にすることができる。

フロントエッジ２０の先端面には、支持体１１の搬送方向に沿って凸状に湾曲した曲面部２０ａが設けられており、フロントエッジ２０は、この曲面部２０ａのみで支持体１１に摺接する。曲面部２０ａは、支持体１１の搬送方向におけるフロントエッジ２０の先端面の下流側の縁２０ｂに達し、図示の例においては、フロントエッジ２０の先端面の全体にわたっている。なお、バックエッジ２１の先端面もまた、その全体が支持体１１の搬送方向に沿って凸状に湾曲して形成されている。

支持体１１の搬送方向において塗布ヘッド１６の上流側にあって塗布ヘッド１６への支持体１１の搬入経路を規定するガイドロール１４と、塗布ヘッド１６との相対位置が調整されることによって、支持体１１は、このフロントエッジ２０の曲面部２０ａに押し付けられるようにして搬送される。なお、図示は省略するが、支持体１１と曲面部２０ａとの間には、比較的高速で搬送される支持体１１によって引き込まれる空気の薄い層（典型的には１μｍ以下）が形成され、支持体１１は、通常、この空気層を介して曲面部２０ａに摺接し、また曲面部２０ａより圧力を受ける。

図５は、塗布時におけるガイドロール１４と塗布ヘッド１６との相対位置関係、及びこの相対位置関係のもとで搬送される支持体１１を示す。

支持体１１の幅方向に直交する任意の断面において、ガイドロール１４の外周を周回する支持体１１がガイドロール１４から乖離する乖離位置１４ａと、浮上量ｈにてバックエッジ２１の先端面における上流側の縁２１ａから、縁２１ａにおける法線方向に浮上したときの支持体１１の浮上位置Ｐとを結ぶ線分をＬ_１とする。

線分Ｌ_１に対して、フロントエッジ２０が交差する、つまりは、フロントエッジ２０の曲面部２０ａが、この線分Ｌ_１よりも上に突出するように、ガイドロール１４と塗布ヘッド１６との相対位置関係が設定される。それにより、支持体１１は、フロントエッジ２０の曲面部２０ａに確実に押し付けられる。

支持体１１がフロントエッジ２０の曲面部２０ａに押し付けられて搬送されることによって、支持体１１の歪みが矯正され、その直後に吐出口２５から吐出される塗布液１９が塗布される。それにより、例えば６μｍ以下の極薄手な支持体１１であっても、その表面に形成される塗布膜の厚みムラを抑制することができる。

フロントエッジ２０の曲面部２０ａの曲率半径ｒ_１は、４ｍｍ以上４０ｍｍ以下であることが好ましい。これによれば、曲面部２０ａへの押し付けによって支持体１１の曲面部２０ａとの摺接部に作用する圧力を適切に保つことができ、支持体１１の損耗やその表面に形成される塗布膜における筋状跡の発生の防止ないし抑制され、また、支持体１１の歪みの矯正の効果も確保することができる。

また、フロントエッジ２０の曲面部２０ａの下流側の縁２０ｂにおける接平面Ｓ_１と、縁２０ｂを通ってバックエッジ２１の先端面に接する接平面Ｓ_２とのなす角度θ_１は、１８０度未満（θ_１＜１８０°）であることが好ましい。これによれば、支持体１１の搬送速度が比較的高くても、支持体１１の表面に形成される塗布膜への空気の混入を防止ないし抑制して、支持体１１に塗布液を安定して塗布することができる。それにより、例えば１５０ｍ／ｍｉｎ以上の搬送速度で支持体１１を搬送することができる。

なお、塗布ヘッド１６の下流側に、ドクターブレードやバーなどにより塗布膜の一部を掻き落とすといった、最終的な塗布厚みを調整する手段を持ってもよい。特開２００３−２３６４５２号のように、バックエッジ２１の直後にもう１つバックエッジを設け、最終的な塗布厚みを薄くする場合においても有効である。

上述した塗布装置１を用い、支持体１１の表面に形成される塗布膜の評価を行った。

支持体１１は、東レ社製ＰＥＴフィルム（厚み５μｍ、幅０．３ｍ）を用いた。また、支持体１１に塗布する塗布液として、磁気記録メディアに一般的に用いられる以下の非磁性塗布液を用いた。なお、下記の「部」とは「重量部」を意味する。

＜非磁性塗布液＞
非磁性粉体８０部
組成 α−Ｆｅ_２０_３
平均長軸長０．１μｍ
ＢＥＴ法による比表面積４８ｍ^２／ｇ
ｐＨ８．０
Ｆｅ_２Ｏ_３含有量９０％以上
ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面被覆化合物Ａｌ_２Ｏ_３
カーボンブラック２０部
平均一次粒子径１６μｍ
ＤＢＰ吸油量８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ８．０
ＢＥＴ法による比表面積２５０ｍ^２／ｇ
揮発分１．５％
塩化ビニル共重合体１０部
日本ゼオン社製ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂５部
分子量３５０００
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ
＝０．９／２．６／１
−ＳＯ_３Ｎａ基１×１０^−４ｅｑ／ｇ含有
ブチルステアレート１部
ステアリン酸１部
メチルエチルケトン１００部
シクロヘキサノン１００部

以上の各成分を連続ニーダで混練した後、サンドミルを用いて分散させ、得られた分散液にポリイソシアネートを３部を加え、更にそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノンの１：１混合溶媒４００部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性塗布液を調製した。

３００ｍ／ｍｉｎの搬送速度で支持体１１を搬送し、非磁性塗布液を塗布し、これを乾燥・硬化させた。

非磁性塗布液を塗布する塗布部の諸元は、以下のように設定した。

フロントエッジ２０の曲面部２０ａの曲率半径ｒ_１（図５参照）は４ｍｍとし、バックエッジ２１の先端面の曲率半径ｒ_２（図５参照）は１５ｍｍとした。また、フロントエッジ２０の曲面部２０ａの下流側の縁２０ｂにおける接平面Ｓ_１と、縁２０ｂを通ってバックエッジ２１の先端面に接する接平面Ｓ_２とのなす角度θ_１（図５参照）は、１７５°とした。また、塗布ヘッド１６への支持体１１の搬入経路に沿う平面Ｓ_３と、フロントエッジ２０の曲面部２０ａの下流側の縁２０ｂにおける接平面Ｓ_１とのなす角度θ_２（図５参照）は、２°とした。また、支持体１１の張力は１５０Ｎ／ｍとした。

以上の条件のもとで、支持体１１への塗布直後の非磁性塗布液の塗布厚ｔ［μｍ］（ｔ＝ｑ／（ｗ×ｖ））を種々に変え、フロントエッジ２０の曲面部２０ａへの支持体１１の押し付けの有無を判定し、また、バックエッジ２１上を搬送される支持体１１の歪の残存状況、及び支持体１１の表面に形成された非磁性塗布膜の厚みムラを評価した。

支持体１１の押し付けの有無は、式（１）より、各塗布厚ｔにおける支持体１１の浮上量ｈ（ｈ＝ｔ×２）を求め、ガイドロール１４の外周を周回する支持体１１がガイドロール１４から乖離する乖離位置１４ａと、求めた浮上量ｈにてバックエッジ２１の先端面における上流側の縁２１ａから縁２１ａにおける法線方向に浮上したときの支持体１１の浮上位置とを結ぶ線分Ｌ１に対して、幾何学的に、フロントエッジ２０が交差する場合に、支持体１１がフロントエッジ２０の曲面部２０ａに押し付けられているものとして判定した。

また、支持体１１の歪の残存状況は目視確認によって行った。また、非磁性塗布膜の厚みムラの評価は面状観察によって行い、支持体１１の幅方向に周囲に比べて１０％以上厚くなっている箇所が有る場合に厚みムラが生じているものと判定した。

評価結果を表１に示す。なお、表１において、フロントエッジ２０の曲面部２０ａへの支持体１１の押し付けの有無に関し、押し付けが有る場合に「＋」で、押し付けが無い場合に「−」で示している。また、バックエッジ２１上を搬送される支持体１１の歪の残存状況に関し、歪が認められる場合にはその頻度で、歪が認められない場合に「−」で示している。また、支持体１１の表面に形成された非磁性塗布膜の厚みムラに関して、厚みムラが認められる場合に「＋」で、厚みムラが認められない場合に「−」で示している。

表１に示す評価結果から、支持体１１がフロントエッジ２０の曲面部２０ａに押し付けられて搬送されることによって、支持体１１の歪みが矯正され、支持体１１の表面に形成される塗布膜の厚みムラが抑制されていることがわかる。

また、フロントエッジ２０の曲面部２０ａの曲率半径ｒ１を２ｍｍ，４ｍｍ，８ｍｍと変え、他の条件については上記の実験例３と同じ条件として、非磁性塗布液を３０００ｍにわたって支持体１１に塗布し、支持体１１の表面に形成される非磁性塗布膜における擦り傷跡の発生状況を評価した。非磁性塗布膜における擦り傷跡の発生状況は、偏光顕微鏡を用いて倍率５０倍にて観察して行った。

評価結果を表２に示す。

表２に示す評価結果から、支持体１１が押し付けられるフロントエッジ２０の曲面部の曲率半径ｒ_１は、４ｍｍ以上が好ましいことがわかる。

以上、説明したように、本明細書には以下の事項が開示されている。

（１）支持体を連続的に搬送しながら該支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、支持体の搬送方向に隣設されて塗布液の吐出口を構成するフロントエッジ及びバックエッジを有し、支持体に摺接しながら吐出口より吐出される塗布液を支持体に塗布する塗布ヘッドと、支持体の搬送方向における塗布ヘッドの上流側に配置され、塗布ヘッドへの支持体の搬入経路を規定するガイド部と、を備え、フロントエッジには、支持体の搬送方向に沿って湾曲し、支持体が摺接する曲面部が設けられており、搬入経路に沿って搬送される支持体をフロントエッジの曲面部に押し付けた状態で支持体に塗布液を塗布する塗布装置。
（２）（１）に記載の塗布装置であって、支持体の幅方向に対して垂直に支持体に交差する任意の面内において、支持体が前記ガイド部から乖離する乖離位置と、塗布液の吐出流量及び前記支持体の搬送速度に応じた浮上量にて、支持体に摺接するバックエッジの先端面における上流側の縁から浮上したときの支持体の浮上位置とを結ぶ線分に、フロントエッジの曲面部が交差する塗布装置。
（３）（１）又は（２）に記載の塗布装置であって、フロントエッジの曲面部の曲率半径は、４ｍｍ以上４０ｍｍ以下である塗布装置。
（４）（１）から（３）のいずれか一項に記載の塗布装置であって、支持体の厚みは、６μｍ以下である塗布装置。
（５）（１）から（４）のいずれか一項に記載の塗布装置であって、フロントエッジの曲面部の下流側の縁における接平面と、フロントエッジの曲面部における下流側の縁を通ってバックエッジの先端面に接する接平面とのなす角度が１８０度未満である塗布装置。
（６）（５）に記載の塗布装置であって、支持体の搬送速度は、１５０ｍ／ｍｉｎ以上である塗布装置。
（７）連続的に搬送される支持体に塗布ヘッドを摺接させ、支持体の搬送方向に隣設された塗布ヘッドのフロントエッジ及びバックエッジによって構成される吐出口から塗布液を吐出して、支持体に塗布液を塗布する塗布方法であって、フロントエッジにおいて支持体の搬送方向に湾曲して設けられ、支持体に摺接する曲面部に、支持体を押し付けた状態で支持体を搬送し、支持体に塗布液を塗布する塗布方法。
（８）（７）に記載の塗布方法であって、フロントエッジの曲面部の下流側の縁における接平面と、フロントエッジの曲面部における下流側の縁を通ってバックエッジの先端面に接する接平面とのなす角度を１８０度未満として、支持体に前記塗布液を塗布する塗布方法。
（９）（７）又は（８）に記載の塗布方法であって、塗布液として、磁性を有する金属粉が分散された磁性塗布液を用いる塗布方法。
（１０）（９）に記載の塗布方法によって、支持体の表面に磁性膜が形成されてなる磁気記録媒体。

１塗布装置
２原反ロール
３塗布部
４乾燥部
５ロール
１４ガイドロール
１５ガイドロール
１６塗布ヘッド
１９塗布液
２０フロントエッジ
２０ａ曲面部
２１バックエッジ
２５吐出口

Claims

支持体を連続的に搬送しながら該支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記支持体の搬送方向に隣設されて前記塗布液の吐出口を構成するフロントエッジ及びバックエッジを有し、前記支持体に摺接しながら前記吐出口より吐出される前記塗布液を前記支持体に塗布する塗布ヘッドと、
前記搬送方向における前記塗布ヘッドの上流側に配置され、前記塗布ヘッドへの前記支持体の搬入経路を規定するガイド部と、
を備え、
前記フロントエッジには、前記搬送方向に沿って湾曲し、前記支持体が摺接する曲面部が設けられており、
前記支持体の幅方向に対して垂直に該支持体に交差する任意の面内において、前記支持体が前記ガイド部から乖離する乖離位置と、前記塗布液の吐出流量及び前記支持体の搬送速度に応じた浮上量にて、前記支持体に摺接する前記バックエッジの先端面における上流側の縁から浮上したときの前記支持体の浮上位置とを結ぶ線分に、前記フロントエッジの前記曲面部が交差し、
前記フロントエッジの前記曲面部の曲率半径は、４ｍｍ以上４０ｍｍ以下であり、
前記フロントエッジの前記曲面部の下流側の縁における接平面と、前記フロントエッジの前記曲面部における下流側の縁を通って前記バックエッジの先端面に接する接平面とのなす角度が１８０度未満であり、
前記搬入経路に沿って搬送される前記支持体を前記フロントエッジの前記曲面部に押し付けた状態で該支持体に前記塗布液を塗布する塗布装置。
請求項１記載の塗布装置であって、
前記支持体の厚みは、６μｍ以下である塗布装置。
請求項１又は２に記載の塗布装置であって、
前記支持体の搬送速度は、１５０ｍ／ｍｉｎ以上である塗布装置。
連続的に搬送される支持体に塗布ヘッドを摺接させ、前記支持体の搬送方向に隣設された前記塗布ヘッドのフロントエッジ及びバックエッジによって構成される吐出口から塗布液を吐出して、前記支持体に前記塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記搬送方向における前記塗布ヘッドの上流側に配置されたガイド部によって前記塗布ヘッドへの前記支持体の搬入経路を規定し、
前記支持体の幅方向に対して垂直に該支持体に交差する任意の面内において、前記支持体が前記ガイド部から乖離する乖離位置と、前記塗布液の吐出流量及び前記支持体の搬送速度に応じた浮上量にて、前記支持体に摺接する前記バックエッジの先端面における上流側の縁から浮上したときの前記支持体の浮上位置とを結ぶ線分に、前記フロントエッジにおいて前記支持体の搬送方向に湾曲して設けられた曲面部が交差するように、前記塗布液の吐出流量及び前記支持体の搬送速度を設定し、
前記フロントエッジの前記曲面部の曲率半径を４ｍｍ以上４０ｍｍ以下とし、
前記フロントエッジの前記曲面部の下流側の縁における接平面と、前記フロントエッジの前記曲面部における下流側の縁を通って前記バックエッジの先端面に接する接平面とのなす角度を１８０度未満として、
前記フロントエッジの前記曲面部に前記支持体を押し付けた状態で該支持体を搬送し、該支持体に前記塗布液を塗布し、
塗布方法。
請求項４に記載の塗布方法であって、
前記塗布液として、磁性を有する金属粉が分散された磁性塗布液を用いる塗布方法。