JPS62172534A - 磁気記録媒体の製造法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造法Info
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- JPS62172534A JPS62172534A JP1318386A JP1318386A JPS62172534A JP S62172534 A JPS62172534 A JP S62172534A JP 1318386 A JP1318386 A JP 1318386A JP 1318386 A JP1318386 A JP 1318386A JP S62172534 A JPS62172534 A JP S62172534A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、非磁性支持体と磁性層とからなる磁気記録媒
体の新規な製造法に関する。
体の新規な製造法に関する。
[発明の背景]
一般にオーディオ用、ビデオ用あるいはコンピュータ用
等の磁気記録媒体(以下磁気テープと記載することもあ
る)として、強磁性粉末が樹脂成分中に分散させた磁性
層が非磁性支持体上に設けられた磁気記録媒体が用いら
れている。
等の磁気記録媒体(以下磁気テープと記載することもあ
る)として、強磁性粉末が樹脂成分中に分散させた磁性
層が非磁性支持体上に設けられた磁気記録媒体が用いら
れている。
そして、最近は記録の高密度化の要求が強くなってきて
おり、強磁性粉末として強磁性金属微粉末が利用される
ことが多くなってきている。
おり、強磁性粉末として強磁性金属微粉末が利用される
ことが多くなってきている。
一般に強磁性金属微粉末は、抗磁力が高く高密度記録に
好適であるが、硬度が低いので走行中に磁性層が損傷を
受けやすいとの問題がある。さらに、走行中に強磁性金
属微粉末が脱離して磁気ヘッドに付着する。所謂磁気ヘ
ッド目詰まりが発生しやすいとの問題がある。
好適であるが、硬度が低いので走行中に磁性層が損傷を
受けやすいとの問題がある。さらに、走行中に強磁性金
属微粉末が脱離して磁気ヘッドに付着する。所謂磁気ヘ
ッド目詰まりが発生しやすいとの問題がある。
これに対して、強磁性金属微粉末以外の強磁性粉末、す
なわち酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方晶フェライト系
強磁性粉末などは、強磁性金属微粉末と比較すると硬度
が高いので、これらを用いた磁気記録媒体は、強磁性金
属微粉末を用いた磁気記録媒体よりも優れた走行耐久性
を有しているのが一般的である。しかしながら、電磁変
換特性に関しては強磁性金属微粉末を用いたものには及
ばない。
なわち酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方晶フェライト系
強磁性粉末などは、強磁性金属微粉末と比較すると硬度
が高いので、これらを用いた磁気記録媒体は、強磁性金
属微粉末を用いた磁気記録媒体よりも優れた走行耐久性
を有しているのが一般的である。しかしながら、電磁変
換特性に関しては強磁性金属微粉末を用いたものには及
ばない。
このような背景にあって、本出願人は1強磁性金属微粉
末の優れた電磁変換特性を保持し、これに六方晶フェラ
イト系強磁性粉末の有する走行耐久性を付与した磁気記
録媒体の発明に関して既に出願し、この出願は特開昭6
0−223018号として公開されている。
末の優れた電磁変換特性を保持し、これに六方晶フェラ
イト系強磁性粉末の有する走行耐久性を付与した磁気記
録媒体の発明に関して既に出願し、この出願は特開昭6
0−223018号として公開されている。
この発明により開示されている磁気記録媒体は、非磁性
支持体支持体上に強磁性金属微粉末を含む第一の磁性層
と、その上に六方晶フェライト系強磁性粉末を含む厚さ
0.51Lm以下の第二の磁性層を有するものである。
支持体支持体上に強磁性金属微粉末を含む第一の磁性層
と、その上に六方晶フェライト系強磁性粉末を含む厚さ
0.51Lm以下の第二の磁性層を有するものである。
上記の磁気記録媒体は、通常は1強磁性金属微粉末を含
有する第一の磁性塗料と、六方晶フェライト系強磁性粉
末を含む第二の磁性塗料を調製し、第一の磁性塗料を塗
布したのち第二の磁性塗料を第一の磁性塗料トに非常に
薄く塗布することにより製造される。
有する第一の磁性塗料と、六方晶フェライト系強磁性粉
末を含む第二の磁性塗料を調製し、第一の磁性塗料を塗
布したのち第二の磁性塗料を第一の磁性塗料トに非常に
薄く塗布することにより製造される。
しかしながら、この磁気記録媒体を製造するためには上
記のようなQ膜をしかも多層に塗布しなければならない
ので製造工程および製造装置が複雑になるとの問題があ
る。すなわち、l−記の発明の磁気記録媒体は、通常は
例えば上層塗布装置のような複雑な塗布装置を使用して
行なうことができるが、工業的な規模で実施するために
は従来の塗布装置の全面的な改良が必要となるなど、製
造りの制約が多いとの問題がある。
記のようなQ膜をしかも多層に塗布しなければならない
ので製造工程および製造装置が複雑になるとの問題があ
る。すなわち、l−記の発明の磁気記録媒体は、通常は
例えば上層塗布装置のような複雑な塗布装置を使用して
行なうことができるが、工業的な規模で実施するために
は従来の塗布装置の全面的な改良が必要となるなど、製
造りの制約が多いとの問題がある。
[発明の目的]
本発明は、強磁性金属微粉末の電磁変換特性を犠牲にす
ることなく走行耐久性が優れた磁気記録媒体を容易に製
造することができる方法を提供することを目的とする。
ることなく走行耐久性が優れた磁気記録媒体を容易に製
造することができる方法を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、電磁変換特性と走行耐久性の双方が
、高いレベルにある磁気記録媒体を容易に製造すること
ができる方法を提供することを目的とする。
、高いレベルにある磁気記録媒体を容易に製造すること
ができる方法を提供することを目的とする。
[発明の要旨1
本発明は、酸化鉄系強磁性粉末および/または六方晶フ
ェライト系強磁性粉末と強磁性金属微粉末とからなる強
磁性粉末混合物並びに樹脂成分を含む磁性層形成成分が
有機溶剤に分散されてなる磁性塗料を非磁性支持体上に
塗布した後、磁場配向処理前に、非磁性支持体側に近接
して配置された磁石により塗布層内の強磁性金属微粉末
を該支持体側に引き寄せる処理を行なうことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造法にある。
ェライト系強磁性粉末と強磁性金属微粉末とからなる強
磁性粉末混合物並びに樹脂成分を含む磁性層形成成分が
有機溶剤に分散されてなる磁性塗料を非磁性支持体上に
塗布した後、磁場配向処理前に、非磁性支持体側に近接
して配置された磁石により塗布層内の強磁性金属微粉末
を該支持体側に引き寄せる処理を行なうことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造法にある。
[発明の効果]
本発明に従って製造された磁気記録媒体は、磁性層表面
に強磁性金属微粉末よりも硬度が高く損傷を受けにくい
酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方晶フェライト系強磁性
粉末が偏在するので1強磁性金属微粉末を単独で使用し
た磁気記録媒体、あるいは強磁性金属微粉末とこれ以外
の強磁性粉末を弔に混合して使用した磁気記録媒体より
も良好な走行耐久性を示す、そして、この走行耐久性の
向上による電磁変換特性の低下は見られない。
に強磁性金属微粉末よりも硬度が高く損傷を受けにくい
酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方晶フェライト系強磁性
粉末が偏在するので1強磁性金属微粉末を単独で使用し
た磁気記録媒体、あるいは強磁性金属微粉末とこれ以外
の強磁性粉末を弔に混合して使用した磁気記録媒体より
も良好な走行耐久性を示す、そして、この走行耐久性の
向上による電磁変換特性の低下は見られない。
すなわち、一般には磁性層の走行耐久性が向トする程度
に酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方晶フェライト系強磁
性粉末を添加すると電磁変換特性も低下するが、本発明
のill Ja法は、酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方
晶フェライト系強磁性粉末が磁性層の表面に偏在させる
ことができるので、磁性層全体における酸化鉄系強磁性
粉末あるいは六方晶フェライト系強磁性粉末の含有率を
過度に高くする必要がなく、従って電磁変換特性の低下
も見られない。
に酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方晶フェライト系強磁
性粉末を添加すると電磁変換特性も低下するが、本発明
のill Ja法は、酸化鉄系強磁性粉末あるいは六方
晶フェライト系強磁性粉末が磁性層の表面に偏在させる
ことができるので、磁性層全体における酸化鉄系強磁性
粉末あるいは六方晶フェライト系強磁性粉末の含有率を
過度に高くする必要がなく、従って電磁変換特性の低下
も見られない。
特に強磁性金属微粉末と六方晶フェライト系強磁性粉末
とを含む磁気記録媒体においては、六方晶フェライト系
強磁性粉末の短波長の高周波側での優れた特性と強磁性
金属微粉末の特性とが相乗的に作用して高周波側での電
磁変換特性が非常に向上した磁気記録媒体を製造するこ
とができる。
とを含む磁気記録媒体においては、六方晶フェライト系
強磁性粉末の短波長の高周波側での優れた特性と強磁性
金属微粉末の特性とが相乗的に作用して高周波側での電
磁変換特性が非常に向上した磁気記録媒体を製造するこ
とができる。
さらに、このようにして製造された磁気記録媒体は、短
波長の低周波側での電磁変換特性が強磁性金属微粉末に
より確保され低下することがない。
波長の低周波側での電磁変換特性が強磁性金属微粉末に
より確保され低下することがない。
また1本発明に従って製造された酸化鉄系強磁性粉末と
強磁性金属微粉末とを含有する磁気記録媒体は、特に走
行耐久性が著しく向上する。
強磁性金属微粉末とを含有する磁気記録媒体は、特に走
行耐久性が著しく向上する。
そして1本発明の製造方法は、上記のように優れた特性
を有する磁気記録媒体を1重層塗布のような複雑な装置
を用いることな〈従来から使用されている装置に磁石を
組込むことにより、容易に製造することができる。
を有する磁気記録媒体を1重層塗布のような複雑な装置
を用いることな〈従来から使用されている装置に磁石を
組込むことにより、容易に製造することができる。
[発明の詳細な記述]
本発明の製造方法においては、まず1強磁性粉末混合物
および樹脂成分を含む磁性層形成成分が有機溶剤に分散
されてなる磁性塗料を調製する。
および樹脂成分を含む磁性層形成成分が有機溶剤に分散
されてなる磁性塗料を調製する。
本発明において使用される強磁性粉末混合物は、強磁性
金属微粉末を含むものであり、その外に酸化鉄系強磁性
粉末および六方晶フェライト系強磁性粉末のうちの少な
くとも一種の強磁性粉末を含むものである。
金属微粉末を含むものであり、その外に酸化鉄系強磁性
粉末および六方晶フェライト系強磁性粉末のうちの少な
くとも一種の強磁性粉末を含むものである。
強磁性金属微粉末と組み合わせて使用する強磁性粉末(
酸化鉄系強磁性粉末および/または六方晶フェライト系
強磁性粉末)の配合型la比は、通常は100:5〜Z
oo:25の範囲内(好ましくは100: 10−10
0:20の範囲内)にある。
酸化鉄系強磁性粉末および/または六方晶フェライト系
強磁性粉末)の配合型la比は、通常は100:5〜Z
oo:25の範囲内(好ましくは100: 10−10
0:20の範囲内)にある。
強磁性金属微粉末は、鉄、コバルトあるいはニッケルを
含む強磁性金属微粉末であって、その比表面積が通常4
2rrI″/g以上(好ましくは45rrf/g以上、
特に好ましくは48rn’/g)のものを用いる6強磁
性金属微粉末の比表面積が42ゴ/gより小さいと、高
い電磁変換特性を示す磁気記録媒体が得られにくい。
含む強磁性金属微粉末であって、その比表面積が通常4
2rrI″/g以上(好ましくは45rrf/g以上、
特に好ましくは48rn’/g)のものを用いる6強磁
性金属微粉末の比表面積が42ゴ/gより小さいと、高
い電磁変換特性を示す磁気記録媒体が得られにくい。
強磁性金属微粉末としては、針状の強磁性金属微粉末を
使用することが好ましい。
使用することが好ましい。
この強磁性金属微粉末の例としては1強磁性金属微粉末
中の金属分が75重畳%以上であり、そして金属分の8
0重量%以上が少なくとも一種類の強磁性金属あるいは
合金(例、Fe、Co。
中の金属分が75重畳%以上であり、そして金属分の8
0重量%以上が少なくとも一種類の強磁性金属あるいは
合金(例、Fe、Co。
Ni、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Go−N
i−Fe)であり、この金属分の20重量%以下の範囲
内で他の成分(例、A文、Si。
i−Fe)であり、この金属分の20重量%以下の範囲
内で他の成分(例、A文、Si。
Pb、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Cu、B。
Y、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、P、Ba、
Ta、W、Re、Au、Hg、S、Bi、La、Ce、
Pr、Nd、Zn、Te)を含むことのある合金を挙げ
ることができる。また、上記強磁性金属分が少量の水、
水酸化物または酸化物を含むものなどであってもよい、
これらの強磁性金属微粉末の製造方法は既に公知であり
1本発明で用いる強磁性金属微粉末についてもこれら公
知の方法に従って製造することができる。
Ta、W、Re、Au、Hg、S、Bi、La、Ce、
Pr、Nd、Zn、Te)を含むことのある合金を挙げ
ることができる。また、上記強磁性金属分が少量の水、
水酸化物または酸化物を含むものなどであってもよい、
これらの強磁性金属微粉末の製造方法は既に公知であり
1本発明で用いる強磁性金属微粉末についてもこれら公
知の方法に従って製造することができる。
六方晶フェライト系強磁性粉末の例としては、バリウム
フェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト
およびカルシウムフェライトなどの異種金属(例、C0
1Ti)置換体、マンガンビスマス、六方晶コバルト合
金を挙げることができる。六方晶フェライト系強磁性粉
末を使用する場合、乎板状のバリウムフェライトのコバ
ルト置換体を使用することが好ましい。
フェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト
およびカルシウムフェライトなどの異種金属(例、C0
1Ti)置換体、マンガンビスマス、六方晶コバルト合
金を挙げることができる。六方晶フェライト系強磁性粉
末を使用する場合、乎板状のバリウムフェライトのコバ
ルト置換体を使用することが好ましい。
このような六方晶フェライト系強磁性粉末の板径(ヤ均
板径)は、通常0 、01−10 p−m (好ましく
は0.03〜0.10pm)範囲内にあり、厚さくf均
板厚)は1通常0.005〜5gm(好ましくは0.0
15〜0.051Lmの)範囲内にある。また、板状比
(板径/板厚)は。
板径)は、通常0 、01−10 p−m (好ましく
は0.03〜0.10pm)範囲内にあり、厚さくf均
板厚)は1通常0.005〜5gm(好ましくは0.0
15〜0.051Lmの)範囲内にある。また、板状比
(板径/板厚)は。
通常は2以上(好ましくは3〜10)である。
酸化鉄系強磁性粉末の例としては、Fe 、04、γ−
Fe2O3、コバルト等の異種金属を含む酸化鉄(Fe
Ox、但し、1.3≦x<1.5)系強磁性粉末および
コバルト含有γ−Fe20゜を挙げることができる。
Fe2O3、コバルト等の異種金属を含む酸化鉄(Fe
Ox、但し、1.3≦x<1.5)系強磁性粉末および
コバルト含有γ−Fe20゜を挙げることができる。
酸化鉄系強磁性粉末を使用する場合、針状のコバルト含
有γ−Fe2O3を使用することが好ましく、さらに比
表面積が35m’/g以上(特に好ましくは40rn’
/g以上)のものを使用することが好ましい。なお、コ
バルトなどの異種金属の含有されている状態に特に制限
はなく、たとえばコバルトドープ型、コバルトドープ改
良型、コバルト吸着型、表面層形成型などのものが使用
できる。
有γ−Fe2O3を使用することが好ましく、さらに比
表面積が35m’/g以上(特に好ましくは40rn’
/g以上)のものを使用することが好ましい。なお、コ
バルトなどの異種金属の含有されている状態に特に制限
はなく、たとえばコバルトドープ型、コバルトドープ改
良型、コバルト吸着型、表面層形成型などのものが使用
できる。
また、たとえばγ−Fe 203を使用する場合には、
通常は針状のγ−Fe、O,が使用され、さらに比表面
積が25rrf/g以上(好ましくは30rrr’/g
以上)のものが使用される。
通常は針状のγ−Fe、O,が使用され、さらに比表面
積が25rrf/g以上(好ましくは30rrr’/g
以上)のものが使用される。
上記の六方晶フェライト系強磁性粉末および酸化鉄系強
磁性粉末の製造方法は既に公知であり、本発明において
は公知の方法に従って製造したものを用いることができ
る。
磁性粉末の製造方法は既に公知であり、本発明において
は公知の方法に従って製造したものを用いることができ
る。
強磁性金属微粉末と共に用いられる六方晶フェライト系
強磁性粉末および酸化鉄系強磁性粉末は、単独で使用す
ることもできるし、あるいは二種以上を組合わせて使用
することもできる。
強磁性粉末および酸化鉄系強磁性粉末は、単独で使用す
ることもできるし、あるいは二種以上を組合わせて使用
することもできる。
樹脂成分は通常使用されているもののなかから選択され
る。
る。
樹脂成分の例としては、塩化ビニル系共重合体(例、塩
化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル4および酢
酸ビニルと、ビニルアルコール、無水マレイン酸あるい
はアクリル酸などの重量体との共重合体、塩化ビニル・
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アクリロニトリ
ル共重合体、スルホン酸基などの極性基を有する塩化ビ
ニル系共重合体)、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ニ
トロセルロース樹脂などのセルロース誘導体、アクリル
樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン
系樹脂(例、通常のポリウレタン樹脂、ポリエステルポ
リウレタン樹脂、スルホン酸基などの極性)^を有する
ポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂
)を挙げることができる。樹脂成分は単独で使用するこ
ともできるが、通常は、塩化ビニル系樹脂とポリウレタ
ン系樹脂、あるいはセルロース誘導体とポリウレタン系
樹脂のように二種以上の樹脂を組み合わせて使用する。
化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル4および酢
酸ビニルと、ビニルアルコール、無水マレイン酸あるい
はアクリル酸などの重量体との共重合体、塩化ビニル・
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アクリロニトリ
ル共重合体、スルホン酸基などの極性基を有する塩化ビ
ニル系共重合体)、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ニ
トロセルロース樹脂などのセルロース誘導体、アクリル
樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン
系樹脂(例、通常のポリウレタン樹脂、ポリエステルポ
リウレタン樹脂、スルホン酸基などの極性)^を有する
ポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂
)を挙げることができる。樹脂成分は単独で使用するこ
ともできるが、通常は、塩化ビニル系樹脂とポリウレタ
ン系樹脂、あるいはセルロース誘導体とポリウレタン系
樹脂のように二種以上の樹脂を組み合わせて使用する。
樹脂成分は、通常は強磁性粉末100重量部に対して1
0〜100重量部(好ましくは20〜40重量部)の範
囲内で使用する。
0〜100重量部(好ましくは20〜40重量部)の範
囲内で使用する。
また、さらにポリイソシアネート化合物のような硬化剤
を併用することが好ましい、硬化剤を用いることにより
、強度の高い磁性層とすることができる。硬化剤を用い
る場合には、通常は強磁性粉末100 屯fJ部に対し
て20重h1部以下とする。
を併用することが好ましい、硬化剤を用いることにより
、強度の高い磁性層とすることができる。硬化剤を用い
る場合には、通常は強磁性粉末100 屯fJ部に対し
て20重h1部以下とする。
さらに、磁性塗料中には、研磨材を配合することが好ま
しい、研磨材を使用する場合、研磨材は通常磁気記録媒
体の研磨材として使用されているもののなかから選択さ
れる0通常は、モース硬度5以上の無機粉末を用いる。
しい、研磨材を使用する場合、研磨材は通常磁気記録媒
体の研磨材として使用されているもののなかから選択さ
れる0通常は、モース硬度5以上の無機粉末を用いる。
研磨材の例としては、α−A4Q、O,およびCr2O
3を挙げることができる。研磨材は、単独で使用するこ
ともできるし、異なる種類の研磨材を二種以上組合わせ
て使用することもできる。
3を挙げることができる。研磨材は、単独で使用するこ
ともできるし、異なる種類の研磨材を二種以上組合わせ
て使用することもできる。
磁性塗料に配合される研磨材の配合率は、強磁性粉末1
00を賃部に対して通常7重量部以下(好ましくは5屯
埴部以下)である。すなわち、本発明の製造方法によれ
ば磁気記録媒体の走行耐久性が良好であるので、強磁性
金属微粉末を使用していた従来法で製造された磁気記録
媒体と比較して研磨材の使用量を低減することができる
。
00を賃部に対して通常7重量部以下(好ましくは5屯
埴部以下)である。すなわち、本発明の製造方法によれ
ば磁気記録媒体の走行耐久性が良好であるので、強磁性
金属微粉末を使用していた従来法で製造された磁気記録
媒体と比較して研磨材の使用量を低減することができる
。
なお、研磨材の平均粒子径は、通常は0.1〜l牌mの
範囲内にある。
範囲内にある。
磁性塗料には、さらに、潤滑剤、帯電防止剤、充填剤、
分散剤など磁気記録媒体の磁性層の調製の際に通常用い
られているものを配合することができることは勿論であ
る。
分散剤など磁気記録媒体の磁性層の調製の際に通常用い
られているものを配合することができることは勿論であ
る。
混練の際に使用する有機溶剤としては、磁性塗料の調製
に通常使用されている有機溶剤(例、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トル
エン)を使用する。
に通常使用されている有機溶剤(例、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トル
エン)を使用する。
L記の磁性層形成成分の分散方法にも特に制限はなく、
各成分の添加順序などは適宜設定することができる。
各成分の添加順序などは適宜設定することができる。
このようにして調製された磁性塗料の粘度は通常は60
〜200psの範囲内にある。
〜200psの範囲内にある。
次に磁性塗料を非磁性支持体上に塗布する。
非磁性支持体としては、通常使用されているものを用い
ることができる。非磁性支持体を形成する素材の例とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、
ポリサルホン、ポリエーテルサルホンなどの各種の合成
樹脂のフィルム、およびアルミ箔、ステンレス箔などの
金属箔を挙げることができる。また、非磁性支持体とし
ては、通常は厚さが3〜50ルm(好ましくは5〜30
ILm)の範囲内にあるものが使用される。
ることができる。非磁性支持体を形成する素材の例とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、
ポリサルホン、ポリエーテルサルホンなどの各種の合成
樹脂のフィルム、およびアルミ箔、ステンレス箔などの
金属箔を挙げることができる。また、非磁性支持体とし
ては、通常は厚さが3〜50ルm(好ましくは5〜30
ILm)の範囲内にあるものが使用される。
非磁性支持体は、磁性層が設けられていない側にバック
層(バッキング層)が設けられたものであってもよく、
また、磁性塗料の塗布面に接着剤層が設けられていても
よい。
層(バッキング層)が設けられたものであってもよく、
また、磁性塗料の塗布面に接着剤層が設けられていても
よい。
塗布層は、屹燥後の厚さが通常0.2〜10ルm(好ま
しくは0.5〜7.0鉢m)の範囲になるように塗設さ
れる。
しくは0.5〜7.0鉢m)の範囲になるように塗設さ
れる。
このような塗布塗料の塗布は、通常は、非磁性支持体を
走行させながら(走行速度、通常1〜300m/分)行
なわれる。
走行させながら(走行速度、通常1〜300m/分)行
なわれる。
従来の方法では塗設された塗布層を次に磁場配向処理(
以下、本発明においては従来の磁場配向処理を「本配向
処理」と記載することもある)するのであるが、本発明
においては、本配向処理前に、非磁性支持体側(以下、
単に「非磁性支持体裏面」と記載することもある)に磁
石を配置して塗布層に含有されている強磁性粉末の内の
、強磁性金属微粉末を優先的に非磁性支持体側に引き寄
せる処理(以F本発明において「偏在配向処理」と記載
することもある)を行なう。
以下、本発明においては従来の磁場配向処理を「本配向
処理」と記載することもある)するのであるが、本発明
においては、本配向処理前に、非磁性支持体側(以下、
単に「非磁性支持体裏面」と記載することもある)に磁
石を配置して塗布層に含有されている強磁性粉末の内の
、強磁性金属微粉末を優先的に非磁性支持体側に引き寄
せる処理(以F本発明において「偏在配向処理」と記載
することもある)を行なう。
偏在配向処理は、磁性塗料の塗布後、未配向処理前に行
なわれることが必要である。即ち、塗布層中に均一に分
散されている強磁性粉末が、塗布層中における位置ある
いは方向を変え得る程度の粘度を41している状態で行
なわれる。
なわれることが必要である。即ち、塗布層中に均一に分
散されている強磁性粉末が、塗布層中における位置ある
いは方向を変え得る程度の粘度を41している状態で行
なわれる。
通常の磁気記録媒体の製造方法においては、磁行なうの
が一般的である。従って、本発明において、偏在配向処
理は1通常は磁性塗料の塗布から60秒以内に行なわれ
る。
が一般的である。従って、本発明において、偏在配向処
理は1通常は磁性塗料の塗布から60秒以内に行なわれ
る。
第1図は、連続的な磁気記録媒体の製造装置のうち、偏
在配向処理装置、本配向処理装置および乾燥装置の好ま
しい例を模式的に示す図である。
在配向処理装置、本配向処理装置および乾燥装置の好ま
しい例を模式的に示す図である。
第1図においては、非磁性支持体lおよびこの支持体t
lに塗布された磁性塗料の塗布層2は、非磁性支持体
lの裏面と磁石3(以下、「偏在配向処理用磁石」と記
載することもある)とが接触しながら矢印方向に走行す
る。
lに塗布された磁性塗料の塗布層2は、非磁性支持体
lの裏面と磁石3(以下、「偏在配向処理用磁石」と記
載することもある)とが接触しながら矢印方向に走行す
る。
偏在配向処理用磁石3は、通常N極あるいはS極のいず
れか一方が非磁性支持体lと接するように配置されてい
る。たとえば、N極が非磁性支持体裏面と接触している
場合、その磁束は第1図において破線Aで示されている
ように塗布層3の走行方向に対して略6直(すなわち塗
4i層の深さ方向に対しては略モ行)となる。
れか一方が非磁性支持体lと接するように配置されてい
る。たとえば、N極が非磁性支持体裏面と接触している
場合、その磁束は第1図において破線Aで示されている
ように塗布層3の走行方向に対して略6直(すなわち塗
4i層の深さ方向に対しては略モ行)となる。
このような磁束中を塗布層2が通過すると、この冷1r
t k’39市に今ノ15hでいる例士jfl諧m性訊
)↓は、磁束の方向に沿うように配向すると共に塗布層
中の非磁性支持体1側に引き寄せられる。
t k’39市に今ノ15hでいる例士jfl諧m性訊
)↓は、磁束の方向に沿うように配向すると共に塗布層
中の非磁性支持体1側に引き寄せられる。
ただし、塗布層に含有される複数の強磁性粉末は、均一
に非磁性支持体側に引き寄せられるのではなく、抗磁力
あるいはサイズなどにより沈降速度が異なり、強磁性金
属微粉末の沈降速度が最も高いこと判明した。すなわち
1例えば抗磁力の点からすると、抗磁力の高い強磁性粉
末はど引き寄せやすく、また、同一形状であれば、微粉
末であるものほど引き寄せやすい、更に、本発明者の検
attによると強磁性金属微粉末と六方晶フェライト系
強磁性粉末とを比較すると強磁性金属微粉末の方が六方
晶フェライト系強磁性粉末よりも容易に引き寄せられる
傾向があることが判明した。
に非磁性支持体側に引き寄せられるのではなく、抗磁力
あるいはサイズなどにより沈降速度が異なり、強磁性金
属微粉末の沈降速度が最も高いこと判明した。すなわち
1例えば抗磁力の点からすると、抗磁力の高い強磁性粉
末はど引き寄せやすく、また、同一形状であれば、微粉
末であるものほど引き寄せやすい、更に、本発明者の検
attによると強磁性金属微粉末と六方晶フェライト系
強磁性粉末とを比較すると強磁性金属微粉末の方が六方
晶フェライト系強磁性粉末よりも容易に引き寄せられる
傾向があることが判明した。
従って、強磁性金属微粉末および強磁性金属微粉末以外
の強磁性粉末を含む磁性塗料の塗布層をt記の偏在配向
処理を行なうと、強磁性金属微粉末は磁石に引き寄せら
れて塗布層の非磁性支持体側で高存在率になり、塗布層
表面では比較的低存在率になる傾向がある。そして、こ
のような引き寄せられ易さの相違から、塗布層表面には
強磁性金属微粉末以外の強磁性粉末が比較的多量に存在
することとなる。
の強磁性粉末を含む磁性塗料の塗布層をt記の偏在配向
処理を行なうと、強磁性金属微粉末は磁石に引き寄せら
れて塗布層の非磁性支持体側で高存在率になり、塗布層
表面では比較的低存在率になる傾向がある。そして、こ
のような引き寄せられ易さの相違から、塗布層表面には
強磁性金属微粉末以外の強磁性粉末が比較的多量に存在
することとなる。
従って、塗布層表面には、強磁性金属微粉末以外の強磁
性粉末を高率で含有する薄層が形成された状態に近い状
態になり、この薄層に含まれる強磁性粉末の硬度が高い
ので磁気記録媒体が良好な走行耐久性を示すようになる
。
性粉末を高率で含有する薄層が形成された状態に近い状
態になり、この薄層に含まれる強磁性粉末の硬度が高い
ので磁気記録媒体が良好な走行耐久性を示すようになる
。
さらに、塗布層が研磨材を含有する場合には、研磨材は
磁石により引き寄せられることはなく。
磁石により引き寄せられることはなく。
逆に塗布層の非磁性支持体近傍にある研磨材は塗布層2
の表面方向に押し上げられ塗布層の表面近傍の存在率が
高率になり、研磨材として有効に作用する研磨材粒子の
個数が増加するので、走行耐久性がさらに向上する。
の表面方向に押し上げられ塗布層の表面近傍の存在率が
高率になり、研磨材として有効に作用する研磨材粒子の
個数が増加するので、走行耐久性がさらに向上する。
一方1強磁性金属微粉末の塗布層中における存在率は塗
布層表面を除き全体としては通常の磁気記録媒体のそれ
とほどんど変らないから電磁変換特性の低下はほとんど
見られない。
布層表面を除き全体としては通常の磁気記録媒体のそれ
とほどんど変らないから電磁変換特性の低下はほとんど
見られない。
さらに、強磁性金属微粉末とバリウムフェライトとを用
いた場合には、バリウムフェライトが短波長の高周波側
での電磁変換特性が強磁性金属微粉末のそれよりも良好
であることから、このようなバリウムフェライトを使用
することにより高周波側での電磁変換特性が向上すると
の利点もある。
いた場合には、バリウムフェライトが短波長の高周波側
での電磁変換特性が強磁性金属微粉末のそれよりも良好
であることから、このようなバリウムフェライトを使用
することにより高周波側での電磁変換特性が向上すると
の利点もある。
また、詳細な理由は不すIであるが偏在配向処理を行な
うことにより本配向の際の強磁性粉末の配向性が向上す
るとの効果もある。
うことにより本配向の際の強磁性粉末の配向性が向上す
るとの効果もある。
なお、本発明において磁束が塗布層の走行方向に対して
略垂直、あるいは塗布層の深さ方向に対しては略平行と
は、偏在配向用磁石の中心部分の磁束が走行方向に対し
て亀直に近い角度となること、あるいは塗布層の深さ方
向に対してほぼf行になることをいう。
略垂直、あるいは塗布層の深さ方向に対しては略平行と
は、偏在配向用磁石の中心部分の磁束が走行方向に対し
て亀直に近い角度となること、あるいは塗布層の深さ方
向に対してほぼf行になることをいう。
このような偏在配向処理に用いられる偏在配向用磁石と
しては、通常1500ガウス以上(好ましくは2000
ガウス以し、特に好ましくは2500ガウス以上)の磁
束密度で強磁性金属微1500ガウスより低いと偏在配
向処理を有効に行いにくい。
しては、通常1500ガウス以上(好ましくは2000
ガウス以し、特に好ましくは2500ガウス以上)の磁
束密度で強磁性金属微1500ガウスより低いと偏在配
向処理を有効に行いにくい。
偏在配向処理時間は、磁場の強さにより適宜設定するこ
とができるが1通常は、0.5〜60秒(好ましくは0
.5〜lO秒)の範囲内に設定される。0.5秒より短
いと強磁性金属微粉末の偏在が充分には行なわれないこ
とがあり、60秒よる長いと強磁性金属微粉末が非磁性
支持体側に偏在しすぎて電磁変換特性が低下することが
ある。
とができるが1通常は、0.5〜60秒(好ましくは0
.5〜lO秒)の範囲内に設定される。0.5秒より短
いと強磁性金属微粉末の偏在が充分には行なわれないこ
とがあり、60秒よる長いと強磁性金属微粉末が非磁性
支持体側に偏在しすぎて電磁変換特性が低下することが
ある。
偏在配向処理の方法としては、上述のように偏在配向処
理用磁石のN極もしくはS極を非磁性支持体と接触させ
ながら行なう方法が最も効率がよく好ましいが、磁束が
非磁性支持体を介して塗布層に及べば本発明の目的は達
成されるので、磁石と非磁性支持体とを接触させること
なく、非磁性支持体裏面に近接させる方法を利用するこ
ともできる。この場合、非磁性支持体と偏在配向用磁石
との距離は通常は5 m m以内に設定される。
理用磁石のN極もしくはS極を非磁性支持体と接触させ
ながら行なう方法が最も効率がよく好ましいが、磁束が
非磁性支持体を介して塗布層に及べば本発明の目的は達
成されるので、磁石と非磁性支持体とを接触させること
なく、非磁性支持体裏面に近接させる方法を利用するこ
ともできる。この場合、非磁性支持体と偏在配向用磁石
との距離は通常は5 m m以内に設定される。
さらに、塗布層の走行方向に平行な磁束がかかX?aL
=4−bQIJ14!4Ffl’%(Q)CJbllr
!aff1m7=L−1bO1性支持体裏面に乎行に配
置して偏在配向処理を行なうことも可能である。
=4−bQIJ14!4Ffl’%(Q)CJbllr
!aff1m7=L−1bO1性支持体裏面に乎行に配
置して偏在配向処理を行なうことも可能である。
また、本発明は、非磁性支持体裏面だけに磁石を配置す
る方法の他に、たとえば、二個の磁石を同じ極が一定の
間隙を構成して対面するように配置し、その間隙を塗布
層が通過する方法を利用することもできる。ただし、こ
の方法を採る場合には、1500ガウス以北(好ましく
は2000ガウス以上、特に好ましくは2500ガウス
以」−)の磁束密度で塗布層中の強磁性金属微粉末を優
先的に非磁性支持体側へ引き寄せることができるように
磁石を配δする。
る方法の他に、たとえば、二個の磁石を同じ極が一定の
間隙を構成して対面するように配置し、その間隙を塗布
層が通過する方法を利用することもできる。ただし、こ
の方法を採る場合には、1500ガウス以北(好ましく
は2000ガウス以上、特に好ましくは2500ガウス
以」−)の磁束密度で塗布層中の強磁性金属微粉末を優
先的に非磁性支持体側へ引き寄せることができるように
磁石を配δする。
このようにして偏在配向処理したのち、通常の磁場配向
処理(未配向処理)を行なう0本配向処理は通常の条件
に従って行なうことができる。一般に本配向処理は磁束
密度が500〜3500ガウスの範囲内にあるソレノイ
ドなどからなる磁場配向処理装置を用いて行なわれる。
処理(未配向処理)を行なう0本配向処理は通常の条件
に従って行なうことができる。一般に本配向処理は磁束
密度が500〜3500ガウスの範囲内にあるソレノイ
ドなどからなる磁場配向処理装置を用いて行なわれる。
第1図においてソレノイドからなる磁場配向処理装置は
4で示されている0本配向処理は、磁束の方向が破線B
で示すよう非磁性支持体の走行方向に対してf行である
。従って、塗布層に含まれる強磁性粉末はこの磁束の方
向に沿って配向する。
4で示されている0本配向処理は、磁束の方向が破線B
で示すよう非磁性支持体の走行方向に対してf行である
。従って、塗布層に含まれる強磁性粉末はこの磁束の方
向に沿って配向する。
すなわち1強磁性粉末の配向方向は、非磁性支持体の走
行方向であり、本配向処理には、強磁性金属微粉末を塗
布層の深さ方向に選択的に偏在させるとの作用はない。
行方向であり、本配向処理には、強磁性金属微粉末を塗
布層の深さ方向に選択的に偏在させるとの作用はない。
このように磁場配向処理装置4で本配向処理されたのち
、塗布層は、乾燥装置5に送られて、塗布層中に含有さ
れている有機溶剤が除去される。
、塗布層は、乾燥装置5に送られて、塗布層中に含有さ
れている有機溶剤が除去される。
乾燥工程終了後、必要により表面平滑化処理、硬化処理
、ブレード処理などの通常の処理を行ない、次に所望の
形状に裁断される。
、ブレード処理などの通常の処理を行ない、次に所望の
形状に裁断される。
次に1本発明の実施例および比較例を示す。なお、実施
例および比較例中の1部」との表示は、r重量部」を示
すものである。
例および比較例中の1部」との表示は、r重量部」を示
すものである。
[実施例1]
以下に記載する組成物をボールミルを用いて48時間混
線分散した後、IILmの平均孔径を有するフィルタを
用いて濾過し、磁性塗料を調製した。
線分散した後、IILmの平均孔径を有するフィルタを
用いて濾過し、磁性塗料を調製した。
磁性塗料組成
強磁性金属微粉末(Fe−旧合金、
Ni含含有:5重量%、
比表面積: 50rn”/g) 10
0部コバルト含有γ−Fe203 (比表面積: 5部m″/g) 1
5Ff&塩化ビニル・酢酸ビニル書 無水マレイン酸共重合体 (日本ゼオン■製、400 X ll0A)
12部ポリウレタン樹脂 (11本ポリウレタン■製、N−2301) 1
2部ポリイソシアネート化合物 (ロ本ポリウレタン■製、コロネートt、)6?Bカー
ボンブラツク(モ均粒子:40mIL) 2部Cr
20i(’P均均粒径径:0.5gm 3部ステ
アリン酸 1部オレイン
酸 1部ステアリン酸
ブチル 1部メ4−11ノ工手1
11斤k y Oへ^(至)厚さ
10gmのポリエチレンテレフタレート支持体を5m/
分の速度で走行させながらリバースロールを用いて乾燥
後の厚さが3.5μmとなるように磁性塗料を塗布した
。
0部コバルト含有γ−Fe203 (比表面積: 5部m″/g) 1
5Ff&塩化ビニル・酢酸ビニル書 無水マレイン酸共重合体 (日本ゼオン■製、400 X ll0A)
12部ポリウレタン樹脂 (11本ポリウレタン■製、N−2301) 1
2部ポリイソシアネート化合物 (ロ本ポリウレタン■製、コロネートt、)6?Bカー
ボンブラツク(モ均粒子:40mIL) 2部Cr
20i(’P均均粒径径:0.5gm 3部ステ
アリン酸 1部オレイン
酸 1部ステアリン酸
ブチル 1部メ4−11ノ工手1
11斤k y Oへ^(至)厚さ
10gmのポリエチレンテレフタレート支持体を5m/
分の速度で走行させながらリバースロールを用いて乾燥
後の厚さが3.5μmとなるように磁性塗料を塗布した
。
非磁性支持体裏面(塗布層の塗設されていない面)と2
500ガウスの磁束密度を有する磁石とを接触させなが
ら上記の速度で走行させて塗布層に含有されている強磁
性金属微粉末を非磁性支持体側に引き寄せるように偏在
配向処理を行なった。なお、磁性塗料の塗布から偏在配
向用の磁石との接触までの時間は0.5秒間、接触時間
は1.0秒間であった。
500ガウスの磁束密度を有する磁石とを接触させなが
ら上記の速度で走行させて塗布層に含有されている強磁
性金属微粉末を非磁性支持体側に引き寄せるように偏在
配向処理を行なった。なお、磁性塗料の塗布から偏在配
向用の磁石との接触までの時間は0.5秒間、接触時間
は1.0秒間であった。
′このようにして偏在配向処理した積層体を、ソレノイ
ドからなる磁場配向処理装置(3000ガウス)の中を
通過させて磁場配向処理(本配向処理)を行なったのち
、乾燥工程にかけ、さらに乾燥後、スーパーカレンダー
処理、加熱硬化処理を行なった後、8 m m幅にスリ
ットして8ミリビデオ用テープを製造した。
ドからなる磁場配向処理装置(3000ガウス)の中を
通過させて磁場配向処理(本配向処理)を行なったのち
、乾燥工程にかけ、さらに乾燥後、スーパーカレンダー
処理、加熱硬化処理を行なった後、8 m m幅にスリ
ットして8ミリビデオ用テープを製造した。
1、’1町の上らじ1.でfllち刺−をビデナ子−プ
LjR;リビデオレコーダ(FUJ lX−8)を用い
て5 M Hzの信号を記録し再生した。基準テープ(
比較例1で製造したビデオテープ)に記録した5MHz
の再生出力をOdBとしたときのL記ビデオテープの相
対的な再生出力を測定した。
LjR;リビデオレコーダ(FUJ lX−8)を用い
て5 M Hzの信号を記録し再生した。基準テープ(
比較例1で製造したビデオテープ)に記録した5MHz
の再生出力をOdBとしたときのL記ビデオテープの相
対的な再生出力を測定した。
上記ビデオテープとビデオレコーダとを使用して通常の
走行速度で走行させて、目詰まりの発生するまで走行回
数の回数(第1表においては「11詰まり非発生回数」
と記載する)を調べた。
走行速度で走行させて、目詰まりの発生するまで走行回
数の回数(第1表においては「11詰まり非発生回数」
と記載する)を調べた。
また、上記のビデオテープとビデオレコーダとを使用し
てスチルモードにおける再生を連続的に行ない、再生画
像が記録画像の2/3になるまでの時間(スチルライフ
)を調べた。
てスチルモードにおける再生を連続的に行ない、再生画
像が記録画像の2/3になるまでの時間(スチルライフ
)を調べた。
結果を第1表に記載する。
なお、以下に示す実施例および比較例におけるビデオテ
ープの再生出力1口詰まりが発生するまでの走行回数お
よびスチルライフは上記の方法により測定した。
ープの再生出力1口詰まりが発生するまでの走行回数お
よびスチルライフは上記の方法により測定した。
[比較例1]
実施例1において、偏在配向処理を行なわなかった以外
は同様にして8ミリビデオ用テープを製造した。
は同様にして8ミリビデオ用テープを製造した。
得られたビデオテープの再生出力、[1詰まりが発生す
るまでの走行回数およびスチルライフを第1表に記載す
る。
るまでの走行回数およびスチルライフを第1表に記載す
る。
[実施例2]
実施例1において、比表面積が50rrl”7gのコバ
ルト含有γ−Fe2O3の代わりに平板状バリウムフェ
ライト(平均板径(平均値)、0.07p m 、平均
板厚、0.02#Lm)を15部使用した以外は同様に
して8ミリビデオ用テープを製造した。
ルト含有γ−Fe2O3の代わりに平板状バリウムフェ
ライト(平均板径(平均値)、0.07p m 、平均
板厚、0.02#Lm)を15部使用した以外は同様に
して8ミリビデオ用テープを製造した。
得られたビデオテープの再生出力、目詰まりが発生する
までの走行回数およびスチルライフを第 。
までの走行回数およびスチルライフを第 。
1表に記載する。
[比較例2]
実施例2において、偏在配向処理を行なわなかった以外
は同様にして8ミリビデオ用テープを製造した。
は同様にして8ミリビデオ用テープを製造した。
得られたビデオテープの再生出力、目詰まりが発生する
までの走行回数およびスチルライフを第1表に記載する
。
までの走行回数およびスチルライフを第1表に記載する
。
第1表
目詰まり非 スチルライフ 再生出力
発生回数 (dB)実施例1 10
0回以上 120分間以上 3.0比較例1 40回
40分間 0実施例2 100回以上
120分間以上 3.5比較例2 40回 40分
間 0.5註)スチルライフ「120分間以上」と
は、スチルモードで120分間を経過しても画像が記録
画像の2/3以E残存していたことを意味する。
0回以上 120分間以上 3.0比較例1 40回
40分間 0実施例2 100回以上
120分間以上 3.5比較例2 40回 40分
間 0.5註)スチルライフ「120分間以上」と
は、スチルモードで120分間を経過しても画像が記録
画像の2/3以E残存していたことを意味する。
また、[1詰まり非発生回数[100回以l1とは10
0回の走行によっても目詰まりが発生しなかったことを
意味する。
0回の走行によっても目詰まりが発生しなかったことを
意味する。
A I+!71 iEr 77% Cm
吊 fp iM Ill第1図は、連続的に磁気
記録媒体を製造する装置のうち、偏在配向処理装置、磁
場配向処理装置および乾燥装置の一例を模式的に示す図
である。
吊 fp iM Ill第1図は、連続的に磁気
記録媒体を製造する装置のうち、偏在配向処理装置、磁
場配向処理装置および乾燥装置の一例を模式的に示す図
である。
1:非磁性支持体、2:塗布層、3:偏在配向用磁石、
4:ソレノイドからなる磁場配向処理装置(未配向処理
装置)、5:乾燥装置 A:偏在配向川用石の磁束、B:ソレノイドの磁束 特許出願人 富七写真フィルム株式会社代 理 人
ブを埋土 柳 川 泰 男第1図 手続7市11ミi−(シ 昭和61年 3月16[1 特許庁長官 ′1゛賀 道理 殿 1、事件の表示 昭和61年 特許願 第13183す 2、発明の名称 磁気、配録媒体の製造法 3、補正をする者 4を件との関係 特許出願人 名 称 (520)富士写真フ・イルム株式会社4、
代理人 住 所 東京都新宿区四谷2−14ミツヤ四谷ビル8
階tx (358)1798/9 氏名 (7467)弁理士 柳川泰男 5、補正命令の日付 自 発6、補正に
より増加する発り1の数 な し7、補正の対象
明細書の「発明の詳細な説IJJの欄8、補正の内容
明細書の第26頁2行目のr5m/分遣を1′50m
/分Jと補正する。
4:ソレノイドからなる磁場配向処理装置(未配向処理
装置)、5:乾燥装置 A:偏在配向川用石の磁束、B:ソレノイドの磁束 特許出願人 富七写真フィルム株式会社代 理 人
ブを埋土 柳 川 泰 男第1図 手続7市11ミi−(シ 昭和61年 3月16[1 特許庁長官 ′1゛賀 道理 殿 1、事件の表示 昭和61年 特許願 第13183す 2、発明の名称 磁気、配録媒体の製造法 3、補正をする者 4を件との関係 特許出願人 名 称 (520)富士写真フ・イルム株式会社4、
代理人 住 所 東京都新宿区四谷2−14ミツヤ四谷ビル8
階tx (358)1798/9 氏名 (7467)弁理士 柳川泰男 5、補正命令の日付 自 発6、補正に
より増加する発り1の数 な し7、補正の対象
明細書の「発明の詳細な説IJJの欄8、補正の内容
明細書の第26頁2行目のr5m/分遣を1′50m
/分Jと補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、酸化鉄系強磁性粉末および/または六方晶フェライ
ト系強磁性粉末と強磁性金属微粉末とからなる強磁性粉
末混合物並びに樹脂成分を含む磁性層形成成分が有機溶
剤に分散されてなる磁性塗料を非磁性支持体上に塗布し
た後、磁場配向処理前に、非磁性支持体側に近接して配
置された磁石により塗布層内の強磁性金属微粉末を該支
持体側に引き寄せる処理を行なうことを特徴とする磁気
記録媒体の製造法。 2、強磁性粉末混合物が、比表面積35m^2/g以上
の針状のコバルト含有γ−Fe_2O_3と、比表面積
42m^2/g以上の針状の強磁性金属微粉末とを含む
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気記録媒体の製造法。 3、強磁性粉末混合物が強磁性金属微粉末とコバルト含
有γ−Fe_2O_3とを100:5〜100:25の
重量比で含有するものであることを特徴とする特許請求
の範囲第2項記載の磁気記録媒体の製造法。 4、強磁性粉末混合物が、板状比が2以上の平板状のバ
リウムフェライトと比表面積42m^2/g以上の針状
の強磁性金属微粉末とを含むものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造法。 5、強磁性粉末混合物が強磁性金属微粉末とバリウムフ
ェライトとを100:5〜100:25の重量比含むも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
磁気記録媒体の製造法。 6、非磁性支持体側に磁石を近接させて強磁性金属微粉
末を引き寄せる処理が、磁性塗料が塗布されていない非
磁性支持体面と磁石のN極もしくはS極とを接触させな
がら該非磁性支持体を走行させて強磁性金属微粉末を引
き寄せる処理であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の磁気記録媒体の製造法。 7、上記磁石が、塗布層に1500ガウス以上の磁束を
作用させ得る磁石であることを特徴とする特許請求の範
囲第7項記載の磁気記録媒体の製造法。 8、磁性塗料が、強磁性粉末100重量部に対して7重
量部以下の研磨材を含むことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の磁気記録媒体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1318386A JPS62172534A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 磁気記録媒体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1318386A JPS62172534A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 磁気記録媒体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62172534A true JPS62172534A (ja) | 1987-07-29 |
Family
ID=11826061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1318386A Pending JPS62172534A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 磁気記録媒体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62172534A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013211082A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP1318386A patent/JPS62172534A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013211082A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
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