JPS58205561A - 塗布方法及び装置 - Google Patents
塗布方法及び装置Info
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- JPS58205561A JPS58205561A JP57087227A JP8722782A JPS58205561A JP S58205561 A JPS58205561 A JP S58205561A JP 57087227 A JP57087227 A JP 57087227A JP 8722782 A JP8722782 A JP 8722782A JP S58205561 A JPS58205561 A JP S58205561A
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- coating liquid
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- D—TEXTILES; PAPER
- D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
- D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D21H23/00—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper
- D21H23/02—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper characterised by the manner in which substances are added
- D21H23/22—Addition to the formed paper
- D21H23/32—Addition to the formed paper by contacting paper with an excess of material, e.g. from a reservoir or in a manner necessitating removal of applied excess material from the paper
- D21H23/40—Addition to the formed paper by contacting paper with an excess of material, e.g. from a reservoir or in a manner necessitating removal of applied excess material from the paper only one side of the paper being in contact with the material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
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- D—TEXTILES; PAPER
- D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
- D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D21H5/00—Special paper or cardboard not otherwise provided for
- D21H5/0005—Processes or apparatus specially adapted for applying liquids or other fluent materials to finished paper or board, e.g. impregnating, coating
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- D21H5/0015—Processes or apparatus specially adapted for applying liquids or other fluent materials to finished paper or board, e.g. impregnating, coating by bringing paper into contact with an excess of fluids, the paper carrying away only a part of the fluid material, e.g. by passing through liquids, gases or vapours only one side of the paper being in contact with the treating medium, e.g. paper carried by support
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7407—Specific angles in extrusion head-slide hopper
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- G—PHYSICS
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7459—Extrusion coating
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7466—Geometry and shape of application devices
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7481—Coating simultaneously multiple layers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な塗布方法及び装置−関する。
特に、本発明は例えば磁気記録媒体用塗布液の如き比較
的高粘度の塗布液を高速度で塗布するに適した塗布方法
及び装置忙関する。
的高粘度の塗布液を高速度で塗布するに適した塗布方法
及び装置忙関する。
本発明で言う「ウェブ」とは、比較的長尺の可撓性帯状
支持体、例えば、三酢酸セルロース、ボ ′リ
アミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート、ポリ塩化ビニル、等のプラスチックフ
ィルム：紙：合成紙ニアルミニウム、銅、等の金属箔ニ
ガラス、セラミックス、等のシートを言う。
支持体、例えば、三酢酸セルロース、ボ ′リ
アミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート、ポリ塩化ビニル、等のプラスチックフ
ィルム：紙：合成紙ニアルミニウム、銅、等の金属箔ニ
ガラス、セラミックス、等のシートを言う。
又、「塗布液」とは、その用途に応じて種々の液組成の
ものが含まえ、例えば、写真感光材料におけるような、
感光乳剤層、下塗層、保護層、バック層１１等の塗布液
：磁気記録媒体におけるような、磁性層、下塗層、潤滑
層、保護層、バック層、等の塗布液：その他接着剤層、
着色層、防錆層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液
はそれぞれの必須成分、バインダー、及び、必要に応じ
て種々の添加物を含んだ水性又は有機溶媒溶液又はディ
スパージョンよりなっている。
ものが含まえ、例えば、写真感光材料におけるような、
感光乳剤層、下塗層、保護層、バック層１１等の塗布液
：磁気記録媒体におけるような、磁性層、下塗層、潤滑
層、保護層、バック層、等の塗布液：その他接着剤層、
着色層、防錆層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液
はそれぞれの必須成分、バインダー、及び、必要に応じ
て種々の添加物を含んだ水性又は有機溶媒溶液又はディ
スパージョンよりなっている。
従来、前記ウェブ上に所望する厚さの塗膜を得る方法と
して、ティップ、リバースロール、グラビヤロール、エ
クストルージョンホッパー、スライドホッパー、等の既
知の塗着重設により前記塗布液を連続的に移動するウェ
ブに一旦余剰に塗布した後、エヤーナイフ、プレード、
コイルバー（又はワイヤーバー）、等のメタリング手段
（定量化手段）を、前記塗布層に対向せしめてその余剰
量着分を掻き落し、所望する塗布量即ち塗膜厚さを得る
ことを特徴とするものが一般に多く用いられていた。
して、ティップ、リバースロール、グラビヤロール、エ
クストルージョンホッパー、スライドホッパー、等の既
知の塗着重設により前記塗布液を連続的に移動するウェ
ブに一旦余剰に塗布した後、エヤーナイフ、プレード、
コイルバー（又はワイヤーバー）、等のメタリング手段
（定量化手段）を、前記塗布層に対向せしめてその余剰
量着分を掻き落し、所望する塗布量即ち塗膜厚さを得る
ことを特徴とするものが一般に多く用いられていた。
これらの塗布手段のうちで、例えば磁気記録媒体用の磁
性液のように高粘度の塗布液の塗布にはコイルバーが、
前記エヤーナイフやプレートゝに比べ、構造的にも、取
扱いも簡便であり、塗膜面質も可成り安定したものが得
られるので、有用なメタリング手段として利用されてい
る。
性液のように高粘度の塗布液の塗布にはコイルバーが、
前記エヤーナイフやプレートゝに比べ、構造的にも、取
扱いも簡便であり、塗膜面質も可成り安定したものが得
られるので、有用なメタリング手段として利用されてい
る。
従来コイルバーを用いる塗布方式としては第１図に示す
ような方式が用いられている。
ような方式が用いられている。
すなわち、連続的に矢印方向に走行するウェブ１の下面
に、例えばり／８−スロールの如き塗布機２によって塗
布液ろを最終塗布量より余剰に塗布し、液状の塗布膜５
を形成し、コイルバー６によって余剰な塗布液７を掻き
落すと共に、コイルバー６の外周面とウェブ１の表面に
よって形成される間隙で規定される塗膜８を与え、これ
を次いで、所望に、より例えば磁性層の場合には磁場配
向等を行った後に乾燥して巻き取る。なお、４はガイド
ロールである。
に、例えばり／８−スロールの如き塗布機２によって塗
布液ろを最終塗布量より余剰に塗布し、液状の塗布膜５
を形成し、コイルバー６によって余剰な塗布液７を掻き
落すと共に、コイルバー６の外周面とウェブ１の表面に
よって形成される間隙で規定される塗膜８を与え、これ
を次いで、所望に、より例えば磁性層の場合には磁場配
向等を行った後に乾燥して巻き取る。なお、４はガイド
ロールである。
こ〜で用いられるコイルバーは例えば第２図に示すよう
に、芯材としてのロット部材９の外周面に沿ってワイヤ
一部材１０を一重に密接して巻回することによって構成
されている。ロッド部材９は一般に直径１〜３ｍｓのス
テンレススチール、鉄材、真鍮等からなり、ワイヤ一部
材１０は直径０．０４〜０．５＋＋ｗのステンレススチ
ール、テフロン等のワイヤーからなっている詐 さらに製品の目的に応じて塗布後、塗布膜又は塗布層の
表面と平滑化（スムーズニング）することが望まれ、コ
イルバーでメタリングした後に適当な手段に上って平滑
化することが行われている。
に、芯材としてのロット部材９の外周面に沿ってワイヤ
一部材１０を一重に密接して巻回することによって構成
されている。ロッド部材９は一般に直径１〜３ｍｓのス
テンレススチール、鉄材、真鍮等からなり、ワイヤ一部
材１０は直径０．０４〜０．５＋＋ｗのステンレススチ
ール、テフロン等のワイヤーからなっている詐 さらに製品の目的に応じて塗布後、塗布膜又は塗布層の
表面と平滑化（スムーズニング）することが望まれ、コ
イルバーでメタリングした後に適当な手段に上って平滑
化することが行われている。
しかしながら、このような従来法による場合には塗布液
を塗布してからメタリングするまで間やメタリングした
後に平滑化するまでの間に気相が存在し、その間の塗布
膜は未乾燥、未硬化の状態にあるので、メタリングや平
滑化が塗布液の粘度、界面張力、ウェブ速度等の影響を
受は易く、又メタｌＪ７グや平滑時にメタリング部材等
と塗布膜との間に空気が入ったり、メタリングバーで固
化した塗布物が混入するようなこともあり、塗布面の表
面性を損うことがあった。また、この傾向は塗布液が高
粘度になり、塗布速度が大きくなるに従って大きくなる
。このため塗布面にリプ（ス） ＩＪ−ク）状のスジが
発生し、平滑化の低下を起す原因となっている。
を塗布してからメタリングするまで間やメタリングした
後に平滑化するまでの間に気相が存在し、その間の塗布
膜は未乾燥、未硬化の状態にあるので、メタリングや平
滑化が塗布液の粘度、界面張力、ウェブ速度等の影響を
受は易く、又メタｌＪ７グや平滑時にメタリング部材等
と塗布膜との間に空気が入ったり、メタリングバーで固
化した塗布物が混入するようなこともあり、塗布面の表
面性を損うことがあった。また、この傾向は塗布液が高
粘度になり、塗布速度が大きくなるに従って大きくなる
。このため塗布面にリプ（ス） ＩＪ−ク）状のスジが
発生し、平滑化の低下を起す原因となっている。
本発明者はこれ等の欠点の無い塗布方式について種々検
討の結果、コイルバーの代りに固定したメタリング部材
の走行するウェブに関して前方と後方に設けたスロット
から連続的に塗布液と供給し、前方からの塗布液によっ
てウェブの塗布面を □濡らし、後方からの塗布液を
塗布面に塗布し、後方のスロットに接して設けられたス
ムーザ−によって直ちに塗布面の平滑化を行うことＫよ
り、前記のような欠点を伴うことなく′、高粘度、高速
下にあっても有効に且つ優れた平面性をもって塗布を行
い得ろことを見出し、本発明を達成した。
討の結果、コイルバーの代りに固定したメタリング部材
の走行するウェブに関して前方と後方に設けたスロット
から連続的に塗布液と供給し、前方からの塗布液によっ
てウェブの塗布面を □濡らし、後方からの塗布液を
塗布面に塗布し、後方のスロットに接して設けられたス
ムーザ−によって直ちに塗布面の平滑化を行うことＫよ
り、前記のような欠点を伴うことなく′、高粘度、高速
下にあっても有効に且つ優れた平面性をもって塗布を行
い得ろことを見出し、本発明を達成した。
以下、図面と参照しつつ本発明を説明する。
第６図は本発明の１゛実施態様を示す断面図であって、
上端に彎曲した平滑面を宵する固定したメタリング部材
２１（不部材は塗布膜の膜厚を規定するためのメタリン
グを行っておらず、この意味で従来方式におけるメタリ
ング部材とは異なるが、塗布面を濡らした塗布液が塗布
部に移行するのを規制し、塗布面を濡らすに用いたごく
一部の塗布液のみを塗布部に移すというメタリングを行
つ℃おり、本発明では、この意味でメタリング部材と称
する）、矢印方向に連続的に走行するウェブ２２に関し
てメタリング部材２１の前方に設けたスＣ１ｙト２３、
口後方に設けたスロット２４、及びスロット２４を介し
てメタリング部材２１の後方に設けたスムーザ−２５か
らなっている。メタリング部材２１の上端面とスムーザ
−２５の上端面とはほぼ同−面上或はやや彎曲した面上
にあることが好ましい。
上端に彎曲した平滑面を宵する固定したメタリング部材
２１（不部材は塗布膜の膜厚を規定するためのメタリン
グを行っておらず、この意味で従来方式におけるメタリ
ング部材とは異なるが、塗布面を濡らした塗布液が塗布
部に移行するのを規制し、塗布面を濡らすに用いたごく
一部の塗布液のみを塗布部に移すというメタリングを行
つ℃おり、本発明では、この意味でメタリング部材と称
する）、矢印方向に連続的に走行するウェブ２２に関し
てメタリング部材２１の前方に設けたスＣ１ｙト２３、
口後方に設けたスロット２４、及びスロット２４を介し
てメタリング部材２１の後方に設けたスムーザ−２５か
らなっている。メタリング部材２１の上端面とスムーザ
−２５の上端面とはほぼ同−面上或はやや彎曲した面上
にあることが好ましい。
本発明によって塗布を行うＫは、ウェブ２２を連続的に
メタ１１ング部材２１及びスムーザ２５の上端面ＫＧっ
て走行させつつ、スロット２３から塗布液と同−又はほ
ぼ同一組成（本発明ではこれらをほぼ同一組成と称する
）の液をフェノ２２の塗布面に供給し、同時に所定量の
塗布液をスロット２４からウェブ２２の塗布面に連続的
に供給する。
メタ１１ング部材２１及びスムーザ２５の上端面ＫＧっ
て走行させつつ、スロット２３から塗布液と同−又はほ
ぼ同一組成（本発明ではこれらをほぼ同一組成と称する
）の液をフェノ２２の塗布面に供給し、同時に所定量の
塗布液をスロット２４からウェブ２２の塗布面に連続的
に供給する。
スロット２６から供給される液はウエブシ２の塗布面を
濡らし、余分の液２６は斜面２７に沿って落下し再循環
される。スロット２４からの塗布液は濡れた塗布面に塗
布され、スムーザ−２５の面ＫＸＩｆ−滑化され塗布膜
２８を形成し、乾燥工程に移される。なお、磁気記録媒
体用の塗布液を塗布した場合には乾燥前に磁場配向等の
操襄を行ってもよいことは勿論である。
濡らし、余分の液２６は斜面２７に沿って落下し再循環
される。スロット２４からの塗布液は濡れた塗布面に塗
布され、スムーザ−２５の面ＫＸＩｆ−滑化され塗布膜
２８を形成し、乾燥工程に移される。なお、磁気記録媒
体用の塗布液を塗布した場合には乾燥前に磁場配向等の
操襄を行ってもよいことは勿論である。
上記の態様において、メタリングバーの上端部は半径（
ｆ）が３雁以下、特に２．５ ｍ以下の彎曲部を構成し
ていることが好ましく、スロット２３ 、２４の幅は０
．２〜０．６ｕ程度が好ましい。
ｆ）が３雁以下、特に２．５ ｍ以下の彎曲部を構成し
ていることが好ましく、スロット２３ 、２４の幅は０
．２〜０．６ｕ程度が好ましい。
又、ウェブ２２はメタリング部材２１の上端面の水平方
向Ｘとの間の角度θが５°〜１５°の角度をもって走行
することが好ましい。
向Ｘとの間の角度θが５°〜１５°の角度をもって走行
することが好ましい。
なお、２９．３０はガイド９０−ルであるが、ガイビロ
ールに代えてウェブ自体のロールとしてもよ（′−０ 本発明は以上のように構成されているので、従来の如き
複雑なコイルバーやコイルバーの回転機構を必要とせず
、スロット２ろを通って供給される液によってウェブの
塗布面が濡らされると共にメタリング部が液封状態にあ
り、空気の混入や、従来のコイルバーの如き固化し・た
塗布液の混入は完全に防止され、更に、メタリング部材
直後に塗布液を供給しているので、濡れて馴染みのよく
なったウェブ塗布面に液封下に塗布され、供給された塗
布液が全て塗布されて塗布膜を形成し、これが直ちにス
ムーギーによって平滑化され、優れた塗布面を得ること
ができる。
ールに代えてウェブ自体のロールとしてもよ（′−０ 本発明は以上のように構成されているので、従来の如き
複雑なコイルバーやコイルバーの回転機構を必要とせず
、スロット２ろを通って供給される液によってウェブの
塗布面が濡らされると共にメタリング部が液封状態にあ
り、空気の混入や、従来のコイルバーの如き固化し・た
塗布液の混入は完全に防止され、更に、メタリング部材
直後に塗布液を供給しているので、濡れて馴染みのよく
なったウェブ塗布面に液封下に塗布され、供給された塗
布液が全て塗布されて塗布膜を形成し、これが直ちにス
ムーギーによって平滑化され、優れた塗布面を得ること
ができる。
第１図は従来の塗布方式の一例を示す説明図、第２図は
従来法に用いられているメタリングコイルの１ｆ１１を
示す一部断面拡大図、第６図は本発明の塗布膜−の一態
様を示す説明図である。 １．２２・・・ウェブ、 ２−・・甑布ローラ
、６．２１・・−メタリング部材、２５・−・スムーザ
−１（ほか６名） 手続補正書 昭和５７年７月７日 昭和５７年特許願第 ８７２２７ 号２、発明の名称 塗布方法及び装置 ３、補正をする者 事件との関係：特許出願人 名称 （５２０） 冨士厚真フィルム株式会社霞が関
ビル内郵便局 私書箱第４９号 ７、補正の対象 １）別紙の遡り １）特許請求の範囲 （１）上端に彎曲した平滑面ＶＷする固定したメタリン
グ部材の該平滑面ＶＣｔｃするようにクエプ７連読的に
走行させ、メタリング部材の前方で塗布液とはン！同−
組成χ有する頭を連続的に供給してウェブの塗布面を濡
らし、且つ該メタリング部材の後方から所定量の塗布液
を連続的に供給すること’ａ’４？徴とする塗布方法。 （２） 上端に彎曲し之平滑面を有する固定したメタ
リング部材、該メタリング部材の前方に設けられたウェ
ブ湿潤液供給用スロット、該メタリング部材の後方に設
げられた塗布液供給用スロット、及び該塗布液供給用ス
ロットを介してメタリング部材の後方に設げられｔスム
ーザ−とからなり、該メタリング部材とスムーザ−の上
面に沿って連続的に走行するウェブを湿潤液供給用スロ
ットから塗布液とほぼ同一組成の液を連続面に供給する
と共に塗布液供給用スロットから塗布液乞遅就的に供給
するように構成したことを特徴とする塗布装置。 ２）「発明の詳細な説明」の＃を下記の如く補正する。 １、 明細４Ｆ第２頁下から４行目、「含まえ」を「含
まれ」と補正する。 λ 同 第５頁８行目、「メタリングするまフ間や」
ヲ「メタリングするまフの間や」と補正する。 五 同 第６頁４行目、「塗布液と供給」ケ「塗布液
を供給」と補正する。 ４、 同 第６頁１２行目、「図面と参照」を「図面
を参照」と補正する。
従来法に用いられているメタリングコイルの１ｆ１１を
示す一部断面拡大図、第６図は本発明の塗布膜−の一態
様を示す説明図である。 １．２２・・・ウェブ、 ２−・・甑布ローラ
、６．２１・・−メタリング部材、２５・−・スムーザ
−１（ほか６名） 手続補正書 昭和５７年７月７日 昭和５７年特許願第 ８７２２７ 号２、発明の名称 塗布方法及び装置 ３、補正をする者 事件との関係：特許出願人 名称 （５２０） 冨士厚真フィルム株式会社霞が関
ビル内郵便局 私書箱第４９号 ７、補正の対象 １）別紙の遡り １）特許請求の範囲 （１）上端に彎曲した平滑面ＶＷする固定したメタリン
グ部材の該平滑面ＶＣｔｃするようにクエプ７連読的に
走行させ、メタリング部材の前方で塗布液とはン！同−
組成χ有する頭を連続的に供給してウェブの塗布面を濡
らし、且つ該メタリング部材の後方から所定量の塗布液
を連続的に供給すること’ａ’４？徴とする塗布方法。 （２） 上端に彎曲し之平滑面を有する固定したメタ
リング部材、該メタリング部材の前方に設けられたウェ
ブ湿潤液供給用スロット、該メタリング部材の後方に設
げられた塗布液供給用スロット、及び該塗布液供給用ス
ロットを介してメタリング部材の後方に設げられｔスム
ーザ−とからなり、該メタリング部材とスムーザ−の上
面に沿って連続的に走行するウェブを湿潤液供給用スロ
ットから塗布液とほぼ同一組成の液を連続面に供給する
と共に塗布液供給用スロットから塗布液乞遅就的に供給
するように構成したことを特徴とする塗布装置。 ２）「発明の詳細な説明」の＃を下記の如く補正する。 １、 明細４Ｆ第２頁下から４行目、「含まえ」を「含
まれ」と補正する。 λ 同 第５頁８行目、「メタリングするまフ間や」
ヲ「メタリングするまフの間や」と補正する。 五 同 第６頁４行目、「塗布液と供給」ケ「塗布液
を供給」と補正する。 ４、 同 第６頁１２行目、「図面と参照」を「図面
を参照」と補正する。
Claims (2)
- （１）上端に彎曲した平滑面を有する固定したメタリン
グ部材の該平滑面に接するようにクエプを連続的に走行
させ、メタリング部材の前方で塗布液とほぼ同一組成を
有する液・を連続的に供給してクエプの塗布面を濡らし
、且つ該メタリング部材の後方から所定量の塗布液を連
続的に供給することを特徴とする塗布方法。 - （２）上端に彎曲した平滑面と有する固定したメタリン
グ部材、該メタリング部材の前方に設げられたウェブ湿
潤液供給用スロット、該メタリング部材の後方く設けら
れた塗布液供給用スロット、及び該塗布液供給用スロッ
トを介してメタリング部材の後方に設！すら勿、たスム
ーザ−とからなり、該メタリング部材とスムーザ−の上
面に沿って連続的に走行するウェブを湿潤液供給用スロ
ットから塗布液とほぼ同一組成の液を連続的に供給する
と共に塗布液供給用スロットから塗布液を連続的に供給
するように構成したことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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