JPH02119973A - 塗布液のメタリング方法及び装置 - Google Patents

塗布液のメタリング方法及び装置

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JPH02119973A
JPH02119973A JP27394888A JP27394888A JPH02119973A JP H02119973 A JPH02119973 A JP H02119973A JP 27394888 A JP27394888 A JP 27394888A JP 27394888 A JP27394888 A JP 27394888A JP H02119973 A JPH02119973 A JP H02119973A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metering
coating
holder
metering bar
coating liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP27394888A
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English (en)
Inventor
Seishi Asai
征志 浅井
Kazuki Nakajima
一樹 中島
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A(産業上の利用分野) 本発明は連続的に走行するウェブに塗布液を塗布した後
にメタリングバーによって余剰な塗布液をかき落し、メ
タリング後の塗布面にスジ、塗布ムラのない、良好な塗
布面を与える塗布液のメタリング方法及び装置に関する
ものである。
B(従来の技術) 従来、ウェブ上に所望する厚さの塗膜を設ける方法とし
て、例えばデイツプ、グラビアロール、リバースロール
、7アウンテンノズル、エクストルージ璽ン等の既知の
液着は手段により塗布液を連続的に移動するウェブに一
旦余剰に塗布した後に、例えばブレード、エアーナイフ
、メタリングバー等のメタリング手段を、塗布層に対向
せしめてその余剰塗部分なかき落とし所望する―布量即
ち塗膜厚さを得る方法が一般に多く用いられている。
これらの塗布手段のうちでメタリングバーが前記のエア
ーナイフやブレードに比べ、構造的にも取扱いが簡単で
あり、有用なメタリング手段として利用されている。
従来メタリングバーを用いる塗布工程には、例えば第4
図に示す様な方式が用いられている。即ち連続的に矢印
方向に走行するウェブ1の下面に、アプリケートロール
3によって塗布液6を所望塗布量より余剰に塗布し、余
剰の塗布液9をかき落すと共に、メタリングバー7の外
周面とウェブ1の表面とによって形成される間隙で規定
量の塗布層8を与え、次いで乾燥して巻きとる。尚4は
バックアップロール、5はペーパーロールである。
メタリングにメタリングバーを用いる場合、メタリング
を効果的に行ない、平面性の良い塗膜を与える為には、
メタリングバーはメタリングを行っている間常に濡らさ
れている必要がある。
一般的にはメタリング時塗布液に↓つてメタリングバー
が濡らされているが、例えば高粘度の塗布液を用いる場
合、即ちゼラチンをバインダーとして用いた塗布液を用
いる場合、メタリングバーの溝に塗布液の固まりが付着
してメタリングの塗布面にスジや塗布ムラを生じてしま
い、洗浄不充分のためメタリングバーの濡れ状態が悪く
なり、メタリング後の塗布面にスジや塗布ムラを生じや
すいという問題があった。
ここで用いられるメタリングバーは例えば第2図に示す
様に芯材としてのロッド部材10の外周面に沿ってワイ
ヤ一部材11を一重に密着、密接して巻回した構成にな
っている。
C(発明が解決しようとする課題) 本発明は上述のようにメタリングバーで塗布液をかき落
としながら塗布液を塗布する場合、スジや塗布ムラの発
生がない良好な塗布面が得られる塗布液のメタリング方
法及びその装置を提供することを目的とする。
D(課題を解決するための手段) 本発明者等は上記の目的を達成する為、メタリングバー
の洗浄やメタリングバーの濡れをより効果的に行ない良
好な塗布面を与えるメタリング方法及び装置について種
々検討した結果、本発明を完成した。即ち本発明は、ホ
ルダーに回転可能なメタリングバーを支承し、連続的に
走行するウェブに塗布液を塗布後、メタリングバーによ
って余剰の塗布液をかき落すことからなる塗布液のメタ
リング方法においてメタリングバーとホルダーの間に温
水を一定流量供給する溝をホルダーに2ケ所以上設けて
洗浄とメタリングを行ないながら塗布液を塗布すること
を特徴とするメタリング方法、及びメタリングバーとこ
れを回転可能に支承するホルダーからなる連続的に走行
するウェブに塗布された塗布液のメタリング装置におい
てホルダーに一定流量の温水を供給できる溝を2ケ所以
上設けて洗浄しながら塗布することを%徴とするメタリ
ング装置によって達成された。
以下添付図面を参照しつつ本発明を説明する。
即ちM3図は本発明の一冥施態様を示す断面図であって
、前記の如きメタリングツクー14を支承するホルダー
15に2つの溝12−12’と13−13′とをホルダ
ーの全中に設けである。この溝ハ図示の如くメタリング
バーのウェブに対してメタリングする部分より下部にあ
る事が好ましい。溝の径は特に規定しないがメタリング
バーの径よりは小さい事が好ましい。例えばメタリング
バーの最外径が112mmであれば溝の径はl133 
mmである。
上記の如き構成で温水な該溝の中に一定量供給する。
一方の溝12−12’又は13−13’は操作側から駆
動側に一定量温水を供給し、もう一方の溝は駆動側から
操作側に一定量温水l供給しメタリングバーの洗浄と濡
れ性を効果的に行ないメタリング後の塗布面に平面性を
与える。
該溝に供給する温水の量は2004−〜30004−1
好ましくは500 ml/xh 〜2.0004−の範
囲である。温水の量が少ないと洗浄効果がなく、短い時
間でメタリングバーの溝が汚れたり液の固まりが付着し
て、メタリング後の塗布面にスジが生じ易い。
温水の供給量が多くなると洗浄効果は良くなるが温水の
圧力が高くなり塗布液側に温水が必要以上に流出して来
てメタリング後の塗布面に塗布ムラを生じる。供給する
温水の温度は特に規定しないが塗布液の液性によって変
えることが好ましい。例えばゼラチンをバインダーとし
た塗布液であれば塗布液の液温と同じ32℃〜45℃の
温水!供給することがゼラチンの性質から好ましい。3
2℃より低い水温であるとゼラチンがゲル化したり、メ
タリングバーの溝に付着したりしてメタリングバーの刈
れ性が悪くなりメタリング後の塗布面にスジが発生する
。45℃より高いとゼラチン組成液の変性を加速する場
合があり好ましくない。
上記の如き構成で2つの溝から温水をメタリングバー1
4の下部に連続的に供給を行なう。
本発明は用いられるメタリングバーがワイヤ一部材の巻
かれていないメタリングバーにおいても可能である。
本発明が適用されるべき塗布液はポリオレフィン被覆紙
、バライタ紙、各種フィルムよりなる写真用支持体の下
引液、バックコート液等その他の被覆紙の塗布液等が挙
げられ、それら塗布液はそれぞれの必須成分、バインダ
ー、及び必要に応じて種々の添加剤例えば顔料、ラテッ
クス、硬化剤、活性剤等を含んだ水性又は溶剤等を含ん
だディスパージ冒ンよりなる。塗布液を塗布しメタリン
グバー14によってメタリングし余剰の塗布液をかき落
し、所望の厚さの塗布膜を得るのであるが、本発明によ
るときは第3図の如く2つの溝12.13′又は12′
、13より温水が連続的にメタリングバーに供給されて
12′、13又は12.13′よりそれぞれ排出されて
、温水の流れ方向が対向しているのでメタリングバーの
洗浄と濡れ効果が極めて良好で塗布液を高速で長時間連
続して塗布する場合にもメタリング後の塗布面にスジ、
塗布ムラ発生のないものが得られ従来方法による欠点は
生じない。
E(作用) 第3図の如くメタリングバーとホルダーに接するメタリ
ングバーの下部に2ケ所以上の音を設けてそこに温水を
連続的に一定量供給することにより、回転するメタリン
グバーは供給される温水に接し、メタリングバーの表面
は温水の膜で覆われるので塗液が凝固付着することはな
い。また供給温水はメタリングバーの小さな溝に付着し
た塗液中の固形物を溝に接している間に洗い落し温水と
伴に排出するのでメタリングバーは常にきれいな面で塗
布面に接しメタリングすることになり、異物によるスジ
は発生しない。
また温水は各々の溝を互いに逆方向に流れるのでメタリ
ングバーの洗浄効果の偏りはない。供給される温水は適
度に調節されることにより適切なメタリングバーの濡状
態を連続的に形成し、きれいな塗布面が得られる。洗浄
効果を高めるためには溝を2本以上設けるとその効果は
増す。
F(実施例) 以下、本発明を実施例及び比較例につき具体的に説明す
る。
実施例1 巾1ff1厚さ200μの走行しているポリオレフィン
被覆紙の表面に下記の組成の塗布液を100 /竺の速
度で塗布し、最外径a12mmのメタリングバーで、ホ
ルダーのメタリングバーの下部に当る部分に大きさy5
3 mmの溝を2ケ所設は温水を図3における12と1
3′から供給し12′と13から排出して温水供給量を
それぞれ100吟−の合計200 d、一連続供給し、
(温水の温度は40℃)メタリングを行って、所望の塗
布膜厚さを得た。その後乾燥し巻き取り、塗布面を検査
した。その結果を表−1に示す。
塗布液組成;ゼラチン 10  部 顔料    1  部 活性剤   0.01部 硬膜剤   0.1  部 合計  100  部 実施例2 温水の供給量をそれぞれ5004−の合計1.000 
ml、/a+連続供給した。その他の条件は実施例1と
同様にして行ない、乾燥巻取り後の塗布面を検査した。
その結果を表−1に示す。
実施例3 温水の供給量をそれぞれ1,500 m1y−の合計3
.000 ml/wig連続供給した。その他の条件は
実施例1と同様にして行ない乾燥巻取後の塗布面を検査
した。その結果を表−1に示す。
比較例1 温水の供給量をそれぞれ止めて行った。その他の条件は
実施例1と同様にして行ない検査した。その結果を表−
1に示す。
実施例4 温水の供給量をそれぞれ90tnv−の合計180一連
続供給した。その他の条件は実施例1と同様に行ない検
査した。その結果を表−1に示す。
実施例5 温水の供給量をそれぞれ1.6004分の合計3,20
0一連続供給した。その他の条件は実施例1と同様に行
ない検査した。その結果を表−1に示す。
比較例2 温水のかわりに塗布液と同じ液をそれぞれ500睦−の
合計1.0004一連続供給した。
その他の条件は実施例1と同様に行ない検査した。その
結果を表−1に示す。
実施例及び比較例における評価は スジ   O良  ×不可  △中間 塗布ムラ O良  ×不可  △中間 とした。
表二1から明らかな如く本発明に係る実施例は硯めて良
好な洗浄とメタリングを行ないメタリング後の塗布面に
スジ、塗布ムラのない平面性に優れた塗布面を得ること
ができた。
表−1 G(効果) メタリングバーとホルダーに接するメタリングバーの下
部に2ケ所以上の溝を設けそこに温水を一定量連続的に
供給することがメタリングバーの洗浄、濡れが完全にな
り、良好なメタリングを行い得るため塗布面にスジ、塗
布ムラの発生のない良好な塗布面を供給する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の塗布工程の1態様を示す、第2図は本発
明で用いられるメタリングバーの1例を示す、第3図は
本発明によるメタリング方式の1態様を示す簡単な断面
図である。 1・・・ウェブ、2・・・バット、3・・・アプリケー
トロール、4・・・バックアップロール、5・・・ペー
パーロール、6・・・塗布液、7・・・メタリングバー
8・・・規定量の塗布層、9・・・余剰の塗布液、10
・・・ロンド部材、11・・・ワイヤ一部材、 12−
12’及び13−13’・・・溝、14・・・メタリン
グバー、15・・・ホルダー

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ホルダーに回転可能なメタリングバーを支承し、
    連続的に走行するウェブに塗布液を塗布後、メタリング
    バーによつて余剰の塗布液をかき落すことからなる塗布
    液のメタリング方法において、メタリングバーとホルダ
    ーの間に温水を供給する溝をホルダーに2ケ所以上設け
    て洗浄とメタリングを行ないながら塗布液を塗布するこ
    とを特徴とする塗布液のメタリング方法。
  2. (2)該溝に、温水を200ml/mm、から3000
    ml/分供給し、洗浄とメタリングを行ないながら塗布
    液を塗布することを特徴とする請求項1記載の塗布液の
    メタリング方法。
  3. (3)メタリングバーとこれを回転可能に支承するホル
    ダーからなる連続的に走行するウェブに塗布された塗布
    液のメタリング装置において、ホルダーに一定流量の温
    水を供給できる溝を2ケ所以上設けて洗浄しながら塗布
    することを特徴とするメタリング装置。
JP27394888A 1988-10-29 1988-10-29 塗布液のメタリング方法及び装置 Pending JPH02119973A (ja)

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JP (1) JPH02119973A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0528451U (ja) * 1991-09-27 1993-04-16 ダイアホイルヘキスト株式会社 塗布装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0528451U (ja) * 1991-09-27 1993-04-16 ダイアホイルヘキスト株式会社 塗布装置

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