JPH0361509B2 - - Google Patents
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- JPH0361509B2 JPH0361509B2 JP57083237A JP8323782A JPH0361509B2 JP H0361509 B2 JPH0361509 B2 JP H0361509B2 JP 57083237 A JP57083237 A JP 57083237A JP 8323782 A JP8323782 A JP 8323782A JP H0361509 B2 JPH0361509 B2 JP H0361509B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/28—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by transfer from the surfaces of elements carrying the liquid or other fluent material, e.g. brushes, pads, rollers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/023—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface
- B05C11/025—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface with an essentially cylindrical body, e.g. roll or rod
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/18—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material only one side of the work coming into contact with the liquid or other fluent material
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は連続的に走行するウエブに塗布液を塗
布した後にコイルバーによつて余剰な塗布液を掻
き落し、所望厚さ塗布膜又は塗布層を与える塗布
液のメタリング方法及び装置に関する。
布した後にコイルバーによつて余剰な塗布液を掻
き落し、所望厚さ塗布膜又は塗布層を与える塗布
液のメタリング方法及び装置に関する。
本発明で言う「ウエブ」とは、比較的長尺の可
撓性帯状支持体、例えば、三酢酸セルロース、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、等の
プラスチツクフイルム;紙:合成紙:アルミニウ
ム、銅、等の金属箔:ガラス、セラミツクス、等
のシートを言う。
撓性帯状支持体、例えば、三酢酸セルロース、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、等の
プラスチツクフイルム;紙:合成紙:アルミニウ
ム、銅、等の金属箔:ガラス、セラミツクス、等
のシートを言う。
又、「塗布液」とは、その用途に応じて種々の
液組成のものが含まれ、例えば、写真感光材料に
おけるような、感光乳剤層、下塗層、保護層、バ
ツク層、等の塗布液;磁気記録媒体におけるよう
な、磁性層、下塗層、潤滑層、保護層、バツク
層、等の塗布液:その他接着剤層、着色層、防錆
層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液はそれ
ぞれの必須成分、バインダー、及び必要に応じて
種々の添加物を含んだ水性又は有機溶媒溶液又は
デイスパージヨンよりなつている。
液組成のものが含まれ、例えば、写真感光材料に
おけるような、感光乳剤層、下塗層、保護層、バ
ツク層、等の塗布液;磁気記録媒体におけるよう
な、磁性層、下塗層、潤滑層、保護層、バツク
層、等の塗布液:その他接着剤層、着色層、防錆
層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液はそれ
ぞれの必須成分、バインダー、及び必要に応じて
種々の添加物を含んだ水性又は有機溶媒溶液又は
デイスパージヨンよりなつている。
従来、前記ウエブ上に所望する厚さの塗膜を得
る方式として、デイツプ、リバースロール、グラ
ビヤロール、エクストルージヨンホツパー、スラ
イドホツパー、等の既知の塗着手段により前記塗
布液を連続的に移動するウエブに一旦余剰に塗布
した後、エヤーナイフ、ブレード、コイルバー
(又はワイヤーバー)、等のメタリング手段(定量
化手段)を、前記塗布層に対向せしめてその余剰
塗着分を掻き落し、所望する塗布量即ち塗膜厚さ
を得ることを特徴とするものが一般に多く用いら
れていた。
る方式として、デイツプ、リバースロール、グラ
ビヤロール、エクストルージヨンホツパー、スラ
イドホツパー、等の既知の塗着手段により前記塗
布液を連続的に移動するウエブに一旦余剰に塗布
した後、エヤーナイフ、ブレード、コイルバー
(又はワイヤーバー)、等のメタリング手段(定量
化手段)を、前記塗布層に対向せしめてその余剰
塗着分を掻き落し、所望する塗布量即ち塗膜厚さ
を得ることを特徴とするものが一般に多く用いら
れていた。
これらの塗布手段のうちで、例えば磁気記録媒
体用の磁性液のように高粘度の塗布液の塗布には
コイルバーが、前記エヤーナイフやブレードに比
べ、構造的にも、取扱いも簡便であり、塗膜面質
も可成り安定したものが得られるので、有用なメ
タリング手段として利用されている。
体用の磁性液のように高粘度の塗布液の塗布には
コイルバーが、前記エヤーナイフやブレードに比
べ、構造的にも、取扱いも簡便であり、塗膜面質
も可成り安定したものが得られるので、有用なメ
タリング手段として利用されている。
従来、コイルバーを用いる塗布工程には例えば
第1図に示すような方式が用いられている。
第1図に示すような方式が用いられている。
すなわち、連続的に矢印方向に走行するウエブ
1の下面に、例えばリバースロールの如き塗布機
2によつて塗布液3を最終塗布量より余剰に塗布
し、液状の塗布膜5を形成し、コイルバー6によ
つて余剰な塗布液7を掻き落すと共に、コイルバ
ー6の外周面とウエブ1の表面によつて形成され
る間隙で規定される塗膜8を与え、これを次い
で、所望により例えば磁性層の場合には磁場配向
等を行つた後に乾燥して巻き取る。なお、4はガ
イドロールである。
1の下面に、例えばリバースロールの如き塗布機
2によつて塗布液3を最終塗布量より余剰に塗布
し、液状の塗布膜5を形成し、コイルバー6によ
つて余剰な塗布液7を掻き落すと共に、コイルバ
ー6の外周面とウエブ1の表面によつて形成され
る間隙で規定される塗膜8を与え、これを次い
で、所望により例えば磁性層の場合には磁場配向
等を行つた後に乾燥して巻き取る。なお、4はガ
イドロールである。
ここで用いられるコイルバーは例えば第2図に
示すように、芯材としてのロツド部材9の外周面
に沿つてワイヤー部材10を一重に密接して巻回
することによつて構成されている。ロツド部材9
は一般に直径1〜3mmのステンレススチール、鉄
材、真鍮等からなり、ワイヤー部材10は直径
0.04〜0.5mmのステンレススチール、テフロン等
のワイヤーからなつている。なお、このようなコ
イルバーとしては上記の如き従来から用いられて
いるものの他に、本発明者等が先に提案した巻回
最大半径を4mm以下にした小径のコイルバーも用
いることができる(特願昭56−41060号)。
示すように、芯材としてのロツド部材9の外周面
に沿つてワイヤー部材10を一重に密接して巻回
することによつて構成されている。ロツド部材9
は一般に直径1〜3mmのステンレススチール、鉄
材、真鍮等からなり、ワイヤー部材10は直径
0.04〜0.5mmのステンレススチール、テフロン等
のワイヤーからなつている。なお、このようなコ
イルバーとしては上記の如き従来から用いられて
いるものの他に、本発明者等が先に提案した巻回
最大半径を4mm以下にした小径のコイルバーも用
いることができる(特願昭56−41060号)。
メタリングを行つた後に一般に乾燥してウエブ
を巻き取るが、例えば磁気記録媒体を製造する場
合には磁場配向、表面の平滑化等の特殊な工程を
行う。
を巻き取るが、例えば磁気記録媒体を製造する場
合には磁場配向、表面の平滑化等の特殊な工程を
行う。
コイルバーを用いる場合、メタリングを効果的
に行い、表面性の良い塗膜を与えるためには、コ
イルバーがメタリングを行つている間常に塗布液
によつて濡らされている必要がある。一般的には
メタリング時は塗布液によつてコイルバーが濡ら
されているが、高粘度の塗布液を用いる場合や塗
布速度を上げる場合にはコイルバーの濡れ状態が
悪くなり、メタリング後の塗布面にリブ状のスジ
や塗布ムラを生じたり、コイルバーに付着した塗
布液が固まり、これがメタリング後の塗布面に付
着し汚れを生じたりする問題があつた。
に行い、表面性の良い塗膜を与えるためには、コ
イルバーがメタリングを行つている間常に塗布液
によつて濡らされている必要がある。一般的には
メタリング時は塗布液によつてコイルバーが濡ら
されているが、高粘度の塗布液を用いる場合や塗
布速度を上げる場合にはコイルバーの濡れ状態が
悪くなり、メタリング後の塗布面にリブ状のスジ
や塗布ムラを生じたり、コイルバーに付着した塗
布液が固まり、これがメタリング後の塗布面に付
着し汚れを生じたりする問題があつた。
この欠点を除くために第3図に示す如き方式が
提案されている。すなわち、前記した如きコイル
バー12を回転可能に支承しているホルダー13
に液供給用スロツト14を設け、コイルバーの下
方に開口させ、これを通つて塗布液とほぼ同一組
成の液を連続的に供給し、メタリングを行つてい
る間コイルバーを同液で濡らすようにすることが
試みられている。なお、1は矢印方向に連続的に
走行するウエブである。コイルバーを濡らした液
はホルダーの後方(ウエブの進行方向)の壁面を
落下14するか、メタリングされた塗布液と共に
ホルダーの前方の壁面を落下15して回収又は再
循環される。
提案されている。すなわち、前記した如きコイル
バー12を回転可能に支承しているホルダー13
に液供給用スロツト14を設け、コイルバーの下
方に開口させ、これを通つて塗布液とほぼ同一組
成の液を連続的に供給し、メタリングを行つてい
る間コイルバーを同液で濡らすようにすることが
試みられている。なお、1は矢印方向に連続的に
走行するウエブである。コイルバーを濡らした液
はホルダーの後方(ウエブの進行方向)の壁面を
落下14するか、メタリングされた塗布液と共に
ホルダーの前方の壁面を落下15して回収又は再
循環される。
この方式でもある程度の効果はあるが、前後壁
面を落下14,15する液の流れにムラが生じ部
分的に流れなくなつたり、それによるカワキが生
じたりすなどの問題があり、コイルバーの濡れ方
式としては不充分であつた。
面を落下14,15する液の流れにムラが生じ部
分的に流れなくなつたり、それによるカワキが生
じたりすなどの問題があり、コイルバーの濡れ方
式としては不充分であつた。
本発明者等はコイルバーの濡れをより効果的に
行い良行な平面性を与えるメタリングについて種
種検討の結果、コイルバーの前後(ウエブの進行
方向に関して)両端に塗布液とほぼ同一組成の液
を連続的に一定流量供給することによりコイルバ
ーの濡れを完全に行い良好なメタリングを行い得
ることを見出し本発明を完成した。
行い良行な平面性を与えるメタリングについて種
種検討の結果、コイルバーの前後(ウエブの進行
方向に関して)両端に塗布液とほぼ同一組成の液
を連続的に一定流量供給することによりコイルバ
ーの濡れを完全に行い良好なメタリングを行い得
ることを見出し本発明を完成した。
すなわち、本発明は、ホルダー上にコイルバー
を回転可能に支承し、連続的に走行するウエブに
塗布液を塗布後、コイルバーによつて余剰の塗布
液を掻き落すことからなる塗布液のメタリング方
法において、コイルバーのウエブの進行方向に関
して前後両端部に上記塗布液とほぼ同一組成の液
を供給しつつメタリングを行うことを特徴とする
塗布液のメタリング方法及びコイルバーとこれを
回転可能に支承するホルダーからなる、連続的に
走行するウエブに塗布された塗布液のメタリング
装置において、ホルダーに2つの液供給スロツト
を、その上端が、コイルバーのウエブの進行方向
に関して前後両端部に開口するように設け、メタ
リング中、上記塗布液とほぼ同一組成の液を供給
するように構成したことを特徴とする塗布液のメ
タリング装置である。
を回転可能に支承し、連続的に走行するウエブに
塗布液を塗布後、コイルバーによつて余剰の塗布
液を掻き落すことからなる塗布液のメタリング方
法において、コイルバーのウエブの進行方向に関
して前後両端部に上記塗布液とほぼ同一組成の液
を供給しつつメタリングを行うことを特徴とする
塗布液のメタリング方法及びコイルバーとこれを
回転可能に支承するホルダーからなる、連続的に
走行するウエブに塗布された塗布液のメタリング
装置において、ホルダーに2つの液供給スロツト
を、その上端が、コイルバーのウエブの進行方向
に関して前後両端部に開口するように設け、メタ
リング中、上記塗布液とほぼ同一組成の液を供給
するように構成したことを特徴とする塗布液のメ
タリング装置である。
以下、添付図面と参照しつつ本発明を説明す
る。
る。
すなわち、第4図は本発明の1実施態様を示す
断面図であつて、前記の如さコイルバー22を回
転可能に支承しているホルダー23に2つのスロ
ツト24を25を設けてある。このスロツトは図
示の如く垂直に延びていることが好ましいが、多
少の傾斜をしていてもよい。両スロツトの上方に
ある出口はコイルバーの前後(ウエブ進行方向に
関して)両端部に開口している。すなわち、スロ
ツトの開口部の位置が、第4図に示す断面図でコ
イルバー22の最外周円の最両端(前後で)の位
置にあるようにする。
断面図であつて、前記の如さコイルバー22を回
転可能に支承しているホルダー23に2つのスロ
ツト24を25を設けてある。このスロツトは図
示の如く垂直に延びていることが好ましいが、多
少の傾斜をしていてもよい。両スロツトの上方に
ある出口はコイルバーの前後(ウエブ進行方向に
関して)両端部に開口している。すなわち、スロ
ツトの開口部の位置が、第4図に示す断面図でコ
イルバー22の最外周円の最両端(前後で)の位
置にあるようにする。
上記の如き構成で、両スロツトからメタリング
する塗布液とほぼ同一組成の液をコイルバー22
の両端部に連続的に供給しつつメタリングを行
う。
する塗布液とほぼ同一組成の液をコイルバー22
の両端部に連続的に供給しつつメタリングを行
う。
すなわち、連続的に矢印方向に走行するウエブ
1にリバースロールその他適当な塗布機によつて
前記した如き塗布液を塗布し、コイルバー22に
よつてメタリングし、余剰の塗布液を掻き落し、
所望の厚さの塗布膜を得るのであるが、本発明に
よるときは、両スロツト24,25から液がコイ
ルバーの両端から両面に連続的に供給されている
のでコイルバーの濡れ効果は極めて良好で、高粘
度の塗布液を高速で塗布する場合にも前記した如
き従来法による欠点は生じない。
1にリバースロールその他適当な塗布機によつて
前記した如き塗布液を塗布し、コイルバー22に
よつてメタリングし、余剰の塗布液を掻き落し、
所望の厚さの塗布膜を得るのであるが、本発明に
よるときは、両スロツト24,25から液がコイ
ルバーの両端から両面に連続的に供給されている
のでコイルバーの濡れ効果は極めて良好で、高粘
度の塗布液を高速で塗布する場合にも前記した如
き従来法による欠点は生じない。
なお、スロツト24から供給される液は主とし
てホルダーの後方(ウエブの進行方向)の壁に沿
つて落下26し、スロツト25から供給される液
はホルダーの前方の壁に沿つてメタリングされた
塗布液と共に落下し、回収又は再循環される。ス
ロツトから供給される液は上記の如くコイルバー
を濡らし、このコイバーが塗布液と接触すること
や、同液が余剰の塗布液と共に回収又は再循環
(塗布機にでもスロツトにでもどちらでもよい)
されることから、塗布液と同一組成のものである
ことが望ましいが、必ずしも完全に同一でなくて
も、再循環した際に製品の品質を変えない程度の
ものであればよい。
てホルダーの後方(ウエブの進行方向)の壁に沿
つて落下26し、スロツト25から供給される液
はホルダーの前方の壁に沿つてメタリングされた
塗布液と共に落下し、回収又は再循環される。ス
ロツトから供給される液は上記の如くコイルバー
を濡らし、このコイバーが塗布液と接触すること
や、同液が余剰の塗布液と共に回収又は再循環
(塗布機にでもスロツトにでもどちらでもよい)
されることから、塗布液と同一組成のものである
ことが望ましいが、必ずしも完全に同一でなくて
も、再循環した際に製品の品質を変えない程度の
ものであればよい。
スロツトを通る液の供給速度は、液の種類、ス
ロツトの幅、塗布速度等によつて異り、それぞれ
に応じてコイルバーが常に濡れた状態にあり得る
ように選べばよい。また、第4図にはコイルバー
22の回転方向を矢印で示したが、これは単に例
示に過ぎず、本発明においては、コイルバー22
の回転方向を塗布液の性質等により適宜選定する
ことができる。
ロツトの幅、塗布速度等によつて異り、それぞれ
に応じてコイルバーが常に濡れた状態にあり得る
ように選べばよい。また、第4図にはコイルバー
22の回転方向を矢印で示したが、これは単に例
示に過ぎず、本発明においては、コイルバー22
の回転方向を塗布液の性質等により適宜選定する
ことができる。
1例として磁気記録媒体の製造について示す
と、下記の組成の磁性体液を100m/minの速さ
で1000cm巾のポリマーフイルムに塗布し、最外径
3φmmのコイルバーを用いてメタリングを行う場
合、スロツト巾0.5mmで同一組成の磁性体液を各
1/minの流量で供給し、良好なメタリングを
行い、平面性の優れた塗布層を得ることができ
た。
と、下記の組成の磁性体液を100m/minの速さ
で1000cm巾のポリマーフイルムに塗布し、最外径
3φmmのコイルバーを用いてメタリングを行う場
合、スロツト巾0.5mmで同一組成の磁性体液を各
1/minの流量で供給し、良好なメタリングを
行い、平面性の優れた塗布層を得ることができ
た。
第1図は従来の塗布工程の1態様を示し、第2
図は本発明で用いられるコイルバーの1例を示
し、第3図は従来のメタリング方式、第4図は本
発明によるメタリング方式の1態様を示す断面図
である。 図中、1はウエブ、2は塗布機、6,12,2
2はコイルバー、14,24,25はスロツト、
である。
図は本発明で用いられるコイルバーの1例を示
し、第3図は従来のメタリング方式、第4図は本
発明によるメタリング方式の1態様を示す断面図
である。 図中、1はウエブ、2は塗布機、6,12,2
2はコイルバー、14,24,25はスロツト、
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ホルダー上にコイルバーを回転可能に支承
し、連続的に走行するウエブに塗布液を塗布後、
コイルバーによつて余剰の塗布液を掻き落すこと
からなる塗布液のメタリング方法において、コイ
ルバーのウエブの進行方向に関して前後両端部に
上記塗布液とほぼ同一組成の液を連続的に一定流
量供給しつつメタリングを行うことを特徴とする
塗布液のメタリング方法。 2 コイルバーとこれを回転可能に支承するホル
ダーからなる、連続的に走行するウエブに塗布さ
れた塗布液のメタリング装置において、ホルダー
に2つの液供給スロツトを、その上端が、コイル
バーのウエブの進行方向に関して前後両端部に開
口するように設け、メタリング中、上記塗布液と
ほぼ同一組成の液を一定流量供給するように構成
したことを特徴とする塗布液のメタリング装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57083237A JPS58202077A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 塗布液のメタリング方法及び装置 |
US06/495,928 US4518637A (en) | 1982-05-19 | 1983-05-19 | Coating solution metering method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57083237A JPS58202077A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 塗布液のメタリング方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58202077A JPS58202077A (ja) | 1983-11-25 |
JPH0361509B2 true JPH0361509B2 (ja) | 1991-09-20 |
Family
ID=13796712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57083237A Granted JPS58202077A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 塗布液のメタリング方法及び装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4518637A (ja) |
JP (1) | JPS58202077A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US8337389B2 (en) | 2008-01-28 | 2012-12-25 | Ethicon Endo-Surgery, Inc. | Methods and devices for diagnosing performance of a gastric restriction system |
US8591395B2 (en) | 2008-01-28 | 2013-11-26 | Ethicon Endo-Surgery, Inc. | Gastric restriction device data handling devices and methods |
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AT319734B (de) * | 1971-10-13 | 1975-01-10 | Feldmuehle Anlagen Prod | Vorr zum streichen von bahnfoermigem gut |
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-
1982
- 1982-05-19 JP JP57083237A patent/JPS58202077A/ja active Granted
-
1983
- 1983-05-19 US US06/495,928 patent/US4518637A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58202077A (ja) | 1983-11-25 |
US4518637A (en) | 1985-05-21 |
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