JP3340874B2 - 塗布方法 - Google Patents

塗布方法

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JP3340874B2 JP33457094A JP33457094A JP3340874B2 JP 3340874 B2 JP3340874 B2 JP 3340874B2 JP 33457094 A JP33457094 A JP 33457094A JP 33457094 A JP33457094 A JP 33457094A JP 3340874 B2 JP3340874 B2 JP 3340874B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、支持体表面に塗布液を
塗布する方法に関し、特に写真感光材料や磁性材料等を
溶剤に溶解した溶液を、非加圧型のエクストルージョン
型塗布ヘッドを用いて前記支持体表面に塗布する方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、各種写真フィルムや印画紙、磁気
記録媒体等を製造する方法の一つに、写真感光材料や磁
性材料若しくは各種処理剤等が有機溶媒等の溶剤に溶解
されてなる塗布液を塗布ヘッドに設けられているスリッ
トから押し出すことにより、走行する長尺状の支持体表
面に塗布し、もってこれら材料からなる塗膜を前記支持
体の表面に形成する方法がある。
【0003】一般に前記塗膜は多層構造とされるので、
一層ずつ塗布・乾燥工程を繰り返して多層の塗膜を形成
する方法(ウェット・オン・ドライ方式)や、層の数と
同数の塗布ヘッドを支持体の移動方向に沿って並べて配
列したり、あるいは層の数と同数のスリットが並んで形
成された塗布ヘッドを用いたりすることにより、各スリ
ットから塗布液を同時に支持体表面に押し出し、湿潤状
態で塗布液の層を積層する方法(ウェット・オン・ウェ
ット方式)が採られている。
【0004】これら2方法の中、ウェット・オン・ウェ
ット方式は連続して多層を形成できるため有利である
が、このウェット・オン・ウェット方式の塗布方法は、
例えば特開昭61−13929号、特開昭58−205
561号公報等に記載されている。 これら公報に記載
された塗布方法は、走行する長尺状の支持体の塗布面
に、エクストルーダ(エクストルージョン型塗布ヘッ
ド)と呼ばれる塗布ヘッドのバックエッジを前記支持体
に当接させ、エクストルーダのスリットから押し出され
た塗布液をバックエッジで加圧しながら計量し、支持体
上に所望量の塗布層を形成する、いわゆる加圧型の塗布
方法である。
【0005】しかし、この加圧型塗布の場合、バックエ
ッジ面において塗布液が支持体に押圧されるため、支持
体の厚みや剛性の不均一に基づく影響を受けやすく、均
一な塗布面が得られないという問題があった。そこで、
加圧型塗布のこのような問題点を解決するとともに、さ
らに高速薄層塗布を可能にするために、例えば特開昭6
3−20069号公報に記載されるような非加圧型のエ
クストルーダが開発されている。
【0006】この非加圧型のエクストルーダは、支持体
の走行方向に関して上流側に位置するフロントエッジと
下流側に位置するバックエッジとから構成され、しかも
バックエッジの先端部がフロントエッジの先端部よりも
支持体に対して後退するように段差が設けられた構造と
なっている。
【0007】塗布液は、前記フロントエッジと前記バッ
クエッジとにより形成されるスリットから前記支持体に
向かって押し出される。この時、このバックエッジと前
記支持体とは非接触の状態にあることから、前記塗布液
は前記バックエッジ面によるスムージング作用を受ける
ことなく塗布される。また、この非加圧型のエクストル
ーダを用いた塗布方法では、塗布性能を向上させるた
め、上流側がプレコ−ト液により封止される所謂液封が
行われる。この液封は、前記エクストルーダの上流側に
おいて前記支持体の塗布面にプレコ−ト液を塗布してお
き、前記支持体が前記エクストルーダに到達した際に前
記フロントエッジで過剰の前記プレコ−ト液を掻き落と
すとともに、フロントエッジ面と前記支持体との間隙を
前記プレコ−ト液によりシールするものである。これに
より、前記塗布液に空気が混入することを防止したり、
前記支持体の塗布面をその表面状態の如何に関わらずに
平坦化することができ、又、過剰な塗布液加圧による前
記塗布液の不測の挙動乱れを防止して高速薄層塗布性能
を向上させることができる。更に、前記支持体に付着し
た塵埃を前記プレコ−ト液中に取り込み、前記エクスト
ルーダに到達した際に前記フロントエッジにより過剰の
プレコ−ト液と共に除去することができるので、前記バ
ックエッジの先端部に異物が挟み込まれることがない。
【0008】前記塗布液は前記スリットから押し出さ
れ、前記フロントエッジを通過することにより膜厚が規
定されたプレコート層上に積層されて塗布層を形成す
る。前記塗布層は、前述のような前記プレコ−ト液の作
用によりスジむらや膜厚の変動の無い良好な薄膜とな
る。したがって、この非加圧型塗布方法は、特に高速薄
層塗布に極めて好適である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、磁気
記録媒体の記録性能が向上したことに伴い、支持体上に
形成された磁性層に含まれる磁性粒子の微粒子化や、前
記磁性層表面の平滑化が益々要求されるようになってき
ている。また、磁気記録媒体以外にも、例えば各種写真
フィルムや印画紙等の支持体表面に塗膜が形成されてい
る製品において、その表面品質の向上が求められてい
る。ところが、上述した非加圧型塗布方式においては、
塗布液中に含まれる磁性粒子等の固形分粒子が微細にな
ると、プレコ−ト溶液と塗布液との接触によりソルベン
トショックが起こって塗布液中の固形分粒子が凝集した
り、プレコ−ト溶液中の溶剤が乾燥時に塗布液中の固形
分粒子の間を通過する際に、これらの固形分粒子の配列
を乱し、支持体上に形成される塗膜の表面品質を劣化さ
せてしまうという問題が発生することが新たに見いださ
れた。
【0010】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であって、その目的とするところは、支持体表面に形成
される塗膜の厚み変動やスジ発生等の不良の発生を抑え
ることができ、塗膜の表面品質の良い製品を安定して製
造することができる塗布方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
本発明の、支持体の塗布面にあらかじめ塗布された溶剤
主体のプレコート液によって液封された状態で、前記支
持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジ
と、前記支持体移動方向に対して下流側に位置しその先
端が前記フロントエッジよりも段差をつけて支持体から
離れる方向に後退したバックエッジとを有するエクスト
ルージョン型ヘッドにより、平均粒径が0.4μm以下
の粉体を分散させた塗布液を前記プレコート液上に積層
塗布する塗布方法であって、前記プレコート液の主溶剤
の沸点が、前記塗布液の主溶剤の沸点以上であり、前記
プレコート液のウェット膜厚が前記塗布液のウェット膜
厚の1/3〜1/130であることを特徴とする塗布方
法によって達成することができる。
【0012】なお、好適には、前記プレコート液のウェ
ット膜厚と前記塗布液のウェット膜厚の総和を1.2μ
mから40μmとされ、より好ましくは、1.2μmか
ら30μmである。前記プレコート液の主溶剤(最も割
合の多い溶剤を意味し、単一の溶剤の場合を含む)の沸
点を、前記塗布液の主溶剤の沸点と等しいか若しくは高
くする。A2を第2ビリアル係数、Vを溶剤のモル体
積、ρをポリマーの密度とするとともにχパラメータを
χ=0.5−A2・V・ρ 2 と表す場合、前記塗布液に
含まれる結合剤の前記プレコート液中での前記χパラメ
ータを0.5より小さくする。 塗布液中に含まれる結
合剤を、−OH、−COOH、−SO3M、−OSO
3M、−PO32、および−OPO32(ここで、Mは
水素原子、アルカリ金属原子、またはアンモニウム基の
いずれかを示す)よりなる極性基より選ばれた少なくと
も1種の極性基を有するものとする。前記プレコート液
は溶剤のみの液であってもよく、また重量平均分子量が
1万から50万の高分子化合物を0.1〜10重量%含
有するものとすることもできる。又、重量平均分子量が
1万から50万の高分子化合物を含有している溶剤主体
の下塗液を、予め支持体上に塗布後乾燥させて下塗層を
形成しておき、その下塗層上に前記のようにプレコート
液と塗布液とを塗布することも可能である。
【0013】
【作用】上記のような本発明によれば、上述した非加圧
型塗布方式においては、塗布液中に含まれる磁性材料等
の固形分粒子が微細になっても、プレコ−ト溶液と塗布
液との接触によりソルベントショックの発生が抑えられ
て、塗布液中の固形分粒子の凝集を回避でき、また、乾
燥時においてはプレコ−ト溶液中の溶剤が塗布液中の固
形分粒子の間を通過する際に、該固形分粒子の配列を乱
すことにより生じる塗膜の表面品質を劣化を効果的に防
止することができるものと推測される。よって、支持体
表面に形成される塗膜の厚み変動やスジ発生等の不良の
発生を抑えることが可能となる。
【0014】
【実施態様】以下に本発明に係る塗布方法の1実施態様
を詳細に説明する。図1に示すように、本実施態様の塗
布方法において用いる塗布ヘッド1のフロントエッジ3
の先端面は図示のように円孤状とされているが、支持体
2に向かう方向に凸な形状であればその他の形状とする
こともできる。また、バックエッジ4はフロントエッジ
3より支持体2から離れる方向へ後退していれば形状に
は特に規定はない。ただし下流側に塗布液の離れ点とな
るべきエッジ部があるほうが塗布すじの発生が少ない安
定な塗布を行うことができる。前記バックエッジ4の先
端面は図示においては比較的幅の大きい構成としたが、
この大きさは特に限定するものではなく、スリット6か
ら吐出された塗布液5の吐出圧力を開放する作用を有す
る領域である。なお、同時に2層以上の塗布層を形成す
る場合は、図2のような形状の塗布ヘッド10を用い
る。
【0015】前記支持体2はポリエチレンテレフタレ−
ト、ポリエチレンナフタレ−ト、アラミド等の可撓性プ
ラスチックフィルムから形成されるが、プレコ−ト溶液
7が浸透しにくい性質を有するものであるならば、その
他の材質を選定することもできる。
【0016】前記塗布液5は、平均粒径が0.4μm以
下(針状粒子においては長軸の平均が0.4μm以下)
である無機粉末の結合剤を溶剤に分散したものである。
前記結合剤は、 −OH、−COOH、−SO3M、−
OSO3M、−PO32、−P032、−OP03
2(ここで、Mは水素、アルカリ金属、又はアンモニウ
ム基を示す)より選ばれた少なくとも1種類の極性基を
有するものとする。これらの極性基は、無機粉末の表面
に存在する無機粉末の酸化物に吸着水を介して吸着す
る。これにより塗布液5が固形分濃度の低いプレコ−ト
溶液7と接触しても、結合剤が無機粉末から脱離するこ
とが無く、もって無機粉末の凝集を抑えることができ
る。2層以上の塗布層を設ける場合は、すべての層を形
成する塗布液について同様とする。
【0017】また、塗布液5に含まれる結合剤のプレコ
−ト溶液7中での溶解性が悪いと、塗布液5がプレコ−
ト溶液7に接触した瞬間に結合剤が収縮し、無機粉末が
凝集を起こす。そこで結合剤のプレコ−ト溶液7中での
χパラメタ−を0.5より小さくなるように調整する。
ここで、A2を第2ビリアル係数、Vを溶剤のモル体
積、ρをポリマ−の密度とするときに、前記χパラメタ
−は次式で表される。
【0018】 χ=0.5−A2・V・ρ 2 (式1)
【0019】前記第2ビリアル係の求め方は、浸透圧
や静的光散乱を用いた方法が一般に知られている。詳し
くは、”Introduction to Polym
ers”(1991年、ロンドンChapman &
Hall出版、著者R.J.YongおよびP.A.L
obell)等の文献に記載されている。
【0020】無機粉末を溶剤中に分散させるには、従来
知られているように、ニ−ダ−、エクストル−ダ−、ボ
−ルミルやサンドグラインダ−等を利用するのが良い。
場合によっては無機粉末の表面を親油化処理してから分
散するのも良い。
【0021】前記プレコ−ト液7には溶剤を単独で用い
たり、塗膜と支持体の密着強度を向上させるために高分
子化合物を0.1〜10重量%含有した溶剤溶液を用い
たり、その他の機能を持たせるために無機粉末を含有さ
せたりすることができる。本発明で云う溶剤主体のプレ
コート液とはメチルエチルケトン、アセトン、メチルイ
ソブチルケトン等の溶剤を90重量%以上含む液を云
う。プレコ−ト液中に最も多く含まれる溶剤(主溶剤と
呼ぶ)に塗布液の主溶剤より蒸発しやすいものを用いる
と、乾燥過程でプレコ−ト液と塗布液の間で溶剤の激し
い混合が起き、塗布面性を悪化させることが判ってき
た。そこでプレコ−ト液の主溶剤の沸点が塗布液の主溶
剤の沸点と等しいか高くする。また、プレコ−ト液中の
高分子化合物の重量平均分子量を10000〜5000
00とすることにより、乾燥時に高分子化合物が塗布液
中に拡散してしまうのを防止することができ、プレコ−
ト液を支持体に密着させる力を確保することができると
ともに、塗膜の表面品質を良好に維持することができ
る。
【0022】前記プレコ−ト液7は、グラビアコ−タ
−、ロ−ルコ−タ−、ブレ−ドコ−タ−、エクストル一
ジョンコ−タ−などの一般的に用いられている公知の塗
布装置により、あらかじめ支持体2の表面に塗布され
る。その後、支持体2は適宜走行したのちに塗布ヘッド
1のフロントエッジ3に対向させられ、プレコ−ト液7
により支持体2とフロントエッジ3との間が満たされる
状態となる。そして、このプレコ−ト液7の−部をフロ
ントエッジ3で掻き落とすこととしても良い。
【0023】前記プレコ−ト液7のウエット膜厚を、前
記塗布液5のウエット膜厚の1/3以下とすることによ
って、良好な塗布が行えることが判った。ここで、プレ
コ−ト液7のウエット膜厚(単位はcc/m2)は次の
ように被着量を測定することによって、決定される。ま
ず、プレコ−ト液7の塗布量を、プレコ−ト液の供給量
と残量との差から求める。プレコ−ト液7をフロントエ
ッジ3で掻き落とさない場合は、プレコ−ト液7の塗布
量をプレコ−ト液7の比重と塗布面積で割ることにより
求めることができる。また、プレコ−ト液7をフロント
エッジ3で掻き落とす場合には、掻き落とし量を測定す
るとともに、プレコ−ト液7の塗布量から掻き落とし量
を差し引いた量を比重と塗布面積で割ることでプレコ−
ト液7のウエット膜厚を求めることができる。一方、塗
布液5のウエット膜厚は、塗布液5の流量を塗布液5の
比重と塗布面積で割ることにより求めることができる。
【0024】プレコ−ト液7のウェット膜厚と塗布液5
のウエット膜厚の総和を40μm以下とすることによ
り、乾操時において、塗布液の対流現象によってべナ−
ルセルが発生して塗膜表面が荒れのを防止することがで
きる。なお、塗布液5を2層以上同時に塗布する場合に
は、塗布液5のウエット膜厚は、すべての塗布液5のウ
エット膜厚の総和とする。
【0025】プレコ−ト液7に結合剤を含有させること
により、支持体2に対する塗膜の密着性の向上を図る場
合、プレコ−ト液7の膜厚が厚い方が密着性が高くなっ
て好ましい。しかし塗膜表面の荒れを回避するために
は、上記のように塗膜の厚みに限界がある。そこで、支
持体2の表面に重量平均分子量が1万から50万の高分
子化合物を含有する溶剤溶液からなる下塗液を塗布し乾
燥させた後、その上に本発明に従ってプレコ−ト液7を
塗布するとともに、プレコート液7がウエットな状態の
時に塗布液5を塗布することにより、高い密着性と塗膜
の良好な表面品質とを両立させることができる。
【0026】
【実施例】以下、実施例について説明する。以下に説明
する各実施例においては、支持体2として厚さ14μm
のポリエチレンテレフタレ−トを用いた。またプレコ−
ト液7はロ−ルコ−タにて8cc/m2の割合で前記支
持体2の表面に塗布した。塗布ヘッドは、1層塗布にお
いては図1に示す塗布ヘッド1の、フロントエッジ3の
幅であるL1寸法を2ミリ、スリット6の幅であるL2
寸法を0.5ミリ、バックエッジ面40の幅であるL3
寸法を1ミリ、フロントエッジ面30の半径R寸法を4
ミリ、フロントエッジ面30とバックエッジ面40との
段差量tを0.06ミリ、バックエッジ4の後壁面角度
θを60度とした。また、2層塗布においては、図2に
示す塗布ヘッド10の前記L1寸法を2ミリ、前記L2
寸法を0.5ミリ、前記L3寸法を1ミリ、前記R寸法
を4ミリ、前記段差量t寸法を0.06ミリ、前記θ角
度を60度、第2のバックエッジ8の幅寸法L4を0.
7ミリ、第2のスリット9の幅寸法L5を0.3ミリ、
第1のスリット5と第2のスリット9とのなす角度αを
30°とした。塗布速度は50m/分から1000m/
分の間で変化させたが、塗膜の表面品質に影響が無かっ
たため、400m/分に固定した。
【0027】(実施例1)プレコ−ト液にはメチルエチ
ルケトンを用いた。塗布液Aは、表1に示す成分をニ−
ダ−にて混錬後、無機粉末1gに対しメチルエチルケト
ンを5gの割合で加え、無機粉末をサンドグラインダ−
で分散することにより得た。こうして得られた塗布液A
の粘度をロトビスコ粘度計で測定したところ、各せん断
速度において、図3にグラフとして示すようにせん断速
度が高くなるのに伴って粘度が低下するチキソトロピッ
クな粘度特性を示した。塗布液Bは、表2に示す成分を
ニ−ダ−にて混錬後、無機粉末1gに対しメチルエチル
ケトンを5gの割合で加え、無機粉末をサンドグライン
ダ−で分散することにより得た。この塗布液Bも塗布液
Aと同様にチキソトロピックな粘度特性を示した。
【0028】
【表1】
【0029】
【表2】
【0030】プレコ−ト液のウエット厚みと塗布液のウ
エット厚みそれぞれ変化させて得られた塗布品の表面祖
さを測定した結果を表3に示す。
【0031】
【表3】
【0032】また、表3に示すように、プレコ−ト液の
ウエット膜厚が塗布液のウエット膜厚の1/3を越える
場合には、いずれも塗布品の表面粗さの評価が不良とな
っている。これにより、塗膜の表面品質を高めるために
はプレコ−ト液のウエット膜厚を塗布液のウエット膜厚
の1/3以下とすれば良いことが判る。更に、表3に示
す結果から、プレコ−ト液のウエット膜厚が塗布液のウ
エット膜厚の1/3以下であり、かつプレコ−トと塗布
液のト−タルの塗布厚が40μm以下の場合に、塗膜の
表面品質がより一層向上することが判る。
【0033】(実施例2)表1に示す成分をニ−ダ−に
て混錬後、表4に示す種々の溶剤を無機粉末1gに対し
5gの割合で加えサンドグラインダ−で分散し、主溶剤
の異なる塗布液Aを準備した。無機粉末1gに対しメチ
ルエチルケトンを5gの割合で加え、無機粉末をサンド
グラインダ−で分散することにより得た。こうして得ら
れた各塗布液の粘度をロトビスコ粘度計で測定したとこ
ろ、各せん断速度において、図3にグラフとして示すよ
うにせん断速度が高くなるのに伴って粘度が低下するチ
キソトロピックな粘度特性を示した。プレコ−ト液はメ
チルエチルケトンとした。そして、それらを組み合わせ
てプレコ−ト液膜厚は3cc/m2、塗布液膜厚は10
cc/m2で塗布し、塗膜の表面粗さを調べた。その結
果を表4に示す。あわせて各溶剤の沸点も示す。
【0034】
【表4】
【0035】表4に示す結果から明らかなように、プレ
コ−ト液であるメチルエチルケトンの沸点80℃が、塗
布液Aの溶剤の沸点より低い組み合わせの場合にはいず
れも得られた塗膜の表面粗さの評価ランクが低くなって
いる。このことから、プレコート液の溶剤の沸点を、塗
布液の主溶剤の沸点と等しいか若しくは高くすることに
より、塗膜表面の面荒れを防止できることが判る。
【0036】(実施例3)表5に示す組成を有する塗布
液の結合剤を、表6に示す種々の結合剤に変えた塗布液
を得た。こうして得られた各塗布液の粘度をロトビスコ
粘度計で測定したところ、各せん断速度において、図3
にグラフとして示すようにせん断速度が高くなるのに伴
って粘度が低下するチキソトロピックな粘度特性を示し
た。
【0037】
【表5】
【0038】
【表6】
【0039】これらの塗布液を、表6に示す3種類のプ
レコ−ト液と組み合わせ、プレコ−ト液膜厚を3cc/
2、塗布液膜厚を10cc/m2として塗布した時の塗
膜の表面粗さを調べた結果を表6に示す。表6に示す結
果から明らかなように、塗布液中の結合剤のプレコ−ト
液中におけるχパラメタ−を0.5より小さくすること
により、塗膜の表面品質が向上することが判る。また塗
布液中に含まれる結合剤が、−OH、一COOH、−S
3M、−OSO3M、−P032、−0P032(ここ
で、Hは水素、アルカリ金属、又はアンモニウム基を示
す)より選ばれた少なくとも1種類の極性基を有する場
合に、塗膜の表面品質が向上することが判る。
【0040】(実施例4)表1に示す成分をニ−ダ−に
て混錬後、無機粉末1gに対しメチルエチルケトンを5
gの割合で加え、無機粉末をサンドグラインダ−で分散
することにより塗布液を得た。こうして得られた塗布液
の粘度をロトビスコ粘度計で測定したところ、各せん断
速度において、図3にグラフとして示すようにせん断速
度が高くなるのに伴って粘度が低下するチキソトロピッ
クな粘度特性を示した。プレコ−ト液の組成と厚みを変
え、塗膜の表面品質と塗膜の密着強度を測定した結果を
表7に示す。なお、塗布液膜厚は18cc/m2とし
た。
【0041】
【表7】
【0042】表7に示す結果から明らかなように、プレ
コ−ト液に重量平均分子量10000以上の結合剤を含
有させることにより、塗膜の表面品質が向上するととも
に、塗膜の密着強度が向上することがわかる。更に支持
体に、重量平均分子量が10000以上の結合剤を含有
する溶剤主体の下塗液を塗布後乾燥させ、その上にプレ
コ−ト液を塗布することにより、塗膜の表面品質および
密着強度が、より一層向上することが判る。
【0043】すなわち、上記実施例から明らかなよう
に、プレコート液のウェット膜厚を塗布液のウェット膜
厚の1/3以下とし、プレコート液のウェット膜厚と塗
布液のウェット膜厚の総和を40μm以下とし、プレコ
ート液の主溶剤の沸点を塗布液の主溶剤の沸点と等しい
か若しくは高くし、塗布液に含まれる結合剤のプレコー
ト液中でのχパラメータを0.5より小さくし、塗布液
中に含まれる結合材を−OH、−COOH、−SO
3M、−OS03M、−PO32、−OP03M(ここ
で、Mは水素、アルカリ金属、またはアンモニウム基の
いずれかを示す)の複数の極性基より選ばれた少なくと
も1種類の極性基を有するものとし、プレコート液を重
量平均分子量が10000以上の結合剤を含有するもの
とし、重量平均分子量が10000以上の結合剤を含有
している溶剤主体の下塗液を前記支持体表面に塗布後乾
燥させ、その上に前記プレコート液を塗布することによ
り、塗膜の表面品質を大幅に向上させることができとと
もに、支持体に対する塗膜の密着強度を向上させること
ができる。
【0044】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば塗布
液中に含まれる磁性材料等の固形分粒子が微細になって
も、プレコ−ト溶液と塗布液との接触によりソルベント
ショックの発生が抑えられて、塗布液中の固形分粒子の
凝集を回避でき、また、乾燥時においてはプレコ−ト溶
液中の溶剤が塗布液中の固形分粒子の間を通過する際
に、該固形分粒子の配列を乱すことにより生じる塗膜の
表面品質を劣化を効果的に防止することができるものと
推測される。よって、支持体表面に形成される塗膜の厚
み変動やスジ発生等の不良の発生を抑えることができ、
支持体表面に形成した塗膜の表面品質を大幅に向上させ
ることができる。また、前記プレコート液が、重量平均
分子量が10000以上の結合剤を含有することにより
支持体に対する塗膜の密着強度を向上させることができ
る。したがって、本発明の塗布方法を、例えば磁気記録
媒体の製造に適用した場合には、電磁変換特性が良好で
かつ耐久性のある製品を安定して製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】エクストルーダの断面図である。
【図2】エクストルーダの断面図である。
【図3】塗布液のチキソトロピックな粘度特性を示すグ
ラフである。
【符号の説明】
1、10 エクストルーダ(塗布ヘッド) 2 支持体 3 フロントエッジ 4 バックエッジ 5 塗布液 6 スリット 7 プレコ−ト液 8 第2のバックエッジ 9 第2のスリット 11 第2の塗布液 30 フロントエッジ面 40 バックエッジ面 41 バックエッジ先端
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−293421(JP,A) 特開 平1−315367(JP,A) 特開 昭63−101463(JP,A) 特開 昭52−8044(JP,A) 特開 平3−286423(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05D 1/26 B05C 5/02 B05C 9/10

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】支持体の塗布面にあらかじめ塗布された溶
    剤主体のプレコート液によって液封された状態で、前記
    支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッ
    ジと、前記支持体移動方向に対して下流側に位置しその
    先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて前記支持
    体から離れる方向に後退したバックエッジとを有するエ
    クストルージョン型ヘッドにより、平均粒径が0.4μ
    m以下の粉体を分散させた少なくとも一つの塗布液を前
    記プレコート液上に塗布する塗布方法であって、前記プレコート液の主溶剤の沸点が、前記塗布液の主溶
    剤の沸点以上であり、 前記プレコート液のウェット膜厚
    が前記塗布液のウェット膜厚の1/3〜1/130であ
    ることを特徴とする塗布方法。
  2. 【請求項2】前記プレコート液のウェット膜厚と前記塗
    布液のウェット膜厚の総和が、1.2μm〜40μmで
    あることを特徴とする請求項1に記載の塗布方法。
  3. 【請求項3】A2を第2ビリアル係数、Vを溶剤のモル
    体積、ρをポリマーの密度とするとともにχパラメータ
    をχ=0.5−A2・V・ρ 2 と表す場合、前記塗布液
    に含まれる結合剤の前記プレコート液中での前記χパラ
    メータが、0.5より小さいことを特徴とする請求項1
    に記載の塗布方法。
  4. 【請求項4】塗布液中に含まれる結合剤が、−OH、−
    COOH、−SO 3 M、−OSO 3 M、−PO 3 2 および
    −OPO 3 2 (ここで、Mは水素原子、アルカリ金属原
    子、またはアンモニウム基のいずれかを示す)からなる
    極性基より選ばれた少なくとも1種の極性基を有する
    とを特徴とする請求項1に記載の塗布方法。
  5. 【請求項5】前記プレコート液が、重量平均分子量が1
    万から50万の高分子化合物を含有することを特徴とす
    る請求項1に記載の塗布方法。
  6. 【請求項6】重量平均分子量が1万から50万の高分子
    化合物からなる下塗層を有する支持体の該下塗層上に前
    記プレコート液を塗布することを特徴とする請求項1に
    記載の塗布方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0997774B1 (en) * 1998-10-27 2005-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Coating method
DE10337768A1 (de) * 2003-08-14 2005-03-17 Nordson Corporation, Westlake Düsen- und Filteranordnung sowie System zum Auftragen von Fluid mit festen Partikeln auf ein Substrat
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4283443A (en) * 1977-01-27 1981-08-11 Polaroid Corporation Method and apparatus for coating webs
JPS58104666A (ja) * 1981-12-16 1983-06-22 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布装置
JPS58205561A (ja) * 1982-05-25 1983-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布方法及び装置
JPH0677711B2 (ja) * 1986-07-15 1994-10-05 富士写真フイルム株式会社 塗布装置
JP2581975B2 (ja) * 1989-04-05 1997-02-19 富士写真フイルム株式会社 塗布装置
JP2684485B2 (ja) * 1992-02-13 1997-12-03 富士写真フイルム株式会社 塗布装置
JP2684487B2 (ja) * 1992-02-28 1997-12-03 富士写真フイルム株式会社 磁気記録媒体の塗布方法
JPH06113929A (ja) * 1992-09-30 1994-04-26 Shiroki Corp シ−ト装置

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