JPH05104053A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH05104053A
JPH05104053A JP3263922A JP26392291A JPH05104053A JP H05104053 A JPH05104053 A JP H05104053A JP 3263922 A JP3263922 A JP 3263922A JP 26392291 A JP26392291 A JP 26392291A JP H05104053 A JPH05104053 A JP H05104053A
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slit
coating
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gap
regulating member
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Hironobu Iwashita
広信 岩下
Takemasa Namiki
武政 双木
Shigehisa Kawabe
川邉　　茂寿
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Konica Minolta Inc
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    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 連続的に走行する可撓性支持体をフロントエ
ッジ面に沿って移送し、塗布液吐出口から塗布液を吐出
して可撓性支持体上に塗布し、次いで該可撓性支持体を
バックエッジ面に沿って移送するエクストルージョン型
塗布装置において、スリット間隙より薄いスリット間隙
規制部材の少なくとも一部がスリット内部にあることを
特徴とする塗布装置により達成。 【効果】 エクストルージョン型塗布装置において、厚
膜が発生することなく均一な膜厚分布が得られる塗布装
置の提供。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエクストルージョン型塗
布装置に関し、詳しくは塗布膜の厚膜発生を防止し、均
一な膜厚分布が得られる塗布装置に関する。
【０００２】
【発明の背景】塗布装置には、例えばロールコート、グ
ラビアコート、スライドビードコート、カーテンコー
ト、エクストルージョンコート等種々の方法があり、そ
れぞれ使用目的に応じた塗布装置が使用されているが、
磁気記録媒体は、可撓性支持体（ウェブともいう）上に
磁性塗布液を塗布することによって得られるが、その塗
布方式としてはエクストルージョン型塗布装置は均一な
塗布層が得られるので優れている。
【０００３】一方、磁気記録媒体自体の改良が近年急速
に進んでおり、高ＢＥＴ値の酸化磁性粉やバリウムフェ
ライト材料の使用が多くなり、塗布液が高粘度化してお
り、しかも生産性向上のため薄膜、高速塗布に対する要
望が強まってきている。
【０００４】主として磁気記録媒体の製造用のエクスト
ルージョン塗布に対しては、例えば特開昭57-84771号、
同58-104666号、同60-238179号等の方法が開示されてい
るが、これらの塗布方式は、均一な塗布膜厚を得ること
はできるが、比較的狭い範囲でしか良好な塗布ができ
ず、前記のような高粘度、薄膜、しかも高速塗布条件下
では、所望の塗布状態を得にくい、すなわち特に30μm
以下(ウェット膜厚)のような薄膜塗布では膜厚のむらが
発生する。これはコーターヘッドの寸法精度、エッジ形
状、液溜まり形状、ベース張力、塗布液物性等の種々な
要因が複雑に関係している。
【０００５】したがって、これらの要因の影響を受けに
くく、均一な膜厚分布が得られる塗布装置に対する要望
が極めて強い現状である。
【０００６】
【発明の目的】上記のような問題に対して本発明の目的
は、エクストルージョン型塗布装置において、厚膜が発
生することなく均一な膜厚分布が得られる塗布装置を提
供することである。
【０００７】
【発明の構成】本発明の上記目的は、連続的に走行する
可撓性支持体をフロントエッジ面に沿って移送し、塗布
液吐出口から塗布液を吐出して可撓性支持体上に塗布
し、次いで該可撓性支持体をバックエッジ面に沿って移
送するエクストルージョン型塗布装置において、スリッ
ト間隙より薄いスリット間隙規制部材の少なくとも一部
がスリット内部にあることを特徴とする塗布装置により
達成される。
【０００８】又上記スリット間隙規制部材はスリット内
部での厚さがスリット間隙の１〜50％であることが好ま
しい。
【０００９】以下、本発明について具体的に説明する。
【００１０】図１は本発明のスリット部材を有するエク
ストルージョン型塗布装置の断面図である。
【００１１】同図において、矢印方向に走行するウェブ
１に対してエクストルージョン型塗布装置２により塗布
が行われる。塗布装置はフロントバー３及びバックバー
４より構成され塗布液溜まり５及び塗布液流出口である
スリット６を有している。スリット６より流出した塗布
液はフロントエッジ31とバックエッジ41の両面に沿って
移送する。本発明においてはこのスリット内にスリット
間隙規制部材７（以下単に規制部材という）を有してい
る。
【００１２】このスリット間隙部材の位置は、膜厚分布
を補正したい部分のフロントバー、バックバーのスリッ
ト面上のどちらでもかまわない。
【００１３】又スリット内からエッジ部へ少しでも出て
いると、筋故障原因となるので、スリット内になければ
ならない。
【００１４】又スリット内には所定の幅さえあれば良
く、部材はポケット内、あるいはダイス側面にはみ出て
もかまわない。
【００１５】該規制部材７はスリットの内部に位置し、
その幅は下記計算式により算出される。
【００１６】Ｗ＝（Ｓ×Ｘ×Ｌ）／（ｋ×Ｔ×100） Ｗ：規制部材のスリット内部での幅（mm） Ｔ：スリット内部規制部材厚さ（mm） Ｓ：スリット間隙（μm） Ｌ：スリット長さ（mm） Ｘ：膜厚ばらつき（％） ｋ：比例係数（２≦ｋ≦６）実験によりきめる値 このような規制部材をスリット内に設置することによ
り、厚膜の発生を防ぎ、塗布膜厚の均一化をはかること
ができる。規制部材厚さＴは、スリット間隙の１〜50％
の厚さ内で任意に決めてよい。
【００１７】ただし、Ｓ（スリット間隔）、Ｌ（スリッ
ト長さ）、Ｋ（比例定数）が一定とすると、あるＸ（膜
厚ばらつき）を補正したい場合、上記式よりＷはＴに反
比例するため、Ｔを大きくすれば、おのずからＷは小さ
くなる。
【００１８】このため部材の剛性、加工精度等から製作
可能なＴ，Ｗの大きさにすればよい。
【００１９】図２は磁気記録媒体の塗布乾燥装置の概略
構成説明図である。
【００２０】図２において支持体１上に塗布装置２によ
り塗布された磁気記録媒体は乾燥装置８により乾燥さ
れ、さらにカレンダー装置９によりカレンダーかけされ
巻き取られる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明について具体的に例証する。た
だし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２２】実施例１ 図３（ａ）は本発明の規制部材を設けずにそのまま塗布
した場合の膜厚分布を示す。
【００２３】この場合の条件は下記の通りであった。
【００２４】塗布液：磁気記録媒体用塗布液 塗布装置：エクストルージョン型塗布装置 塗布速度： 300m/min ウェット膜厚： 15μm スリット間隙（Ｓ）：250μm スリット長さ（Ｌ）： 40mm この塗布により、得られた膜厚分布は図３（ａ）に示す
ように塗布幅中央部が最大４％厚くなった。
【００２５】これに対し下記の通り前記計算式により塗
布幅規制部材の条件を算出した。
【００２６】尚、スリット内部における塗布幅規制部材
の厚さは、フロントバーのスリット面に巾２mm厚さ100
μmにクロムメッキ後、50μmの厚さ（Ｔ）まで研磨し
た。
【００２７】これにより規制部材なしの場合より膜厚分
布が減少し、約２％となった。
【００２８】そこで比例係数Ｋを算出すると Ｋ＝(Ｓ×Ｘ×Ｌ)／(Ｅ×Ｔ×100)＝(250×２×40)／(２×50×100)＝２ 比例係数（ｋ）≒２、膜厚ばらつき＝４％としたとき、 Ｗ≒（250×4×40）/(2×50×100)≒４（mm） したがって、この結果にもとづき、スリット内部の幅規
制部材の幅を４mmに設定して作成した。この塗布規制部
材の正面図を図３（ｂ）に示した。
【００２９】このような塗布幅規制部材を設置した塗布
装置を用いて前記条件で塗布した結果、図３（ｃ）に示
す塗布膜厚分布となった。
【００３０】この結果から本発明の塗布規制部材を用い
ることにより塗布膜厚が非常に安定することがわかる。
【００３１】実施例２ 図４（ａ）は本発明の規制部材を設けずにそのまま塗布
した場合の膜厚分布を示す。
【００３２】この場合の条件は下記の通りであった。
【００３３】塗布液：磁気記録媒体用塗布液 塗布装置：エクストルージョン型塗布装置 塗布速度： 300m/min ウェット膜厚： 12μm スリット間隙（Ｓ）：250μm スリット長さ（Ｌ）： 40mm この塗布により、得られた膜厚分布は図４（ａ）に示す
ように塗布幅両サイド部が左側で８％右側で４％厚くな
った。
【００３４】これに対し下記の通り前記計算式により規
制部材の条件を算出した。
【００３５】まず、比例係数を求めるためにフロントバ
ーのスリット面左端に巾５mm厚さ50μmのゲージ用金属
薄片を入れた。薄片は動かない様に端を外に出して曲
げ、サイド板にはさんで固定した。この結果、左端の膜
厚分布が規制部材なしの時より減少し、約５％となっ
た。
【００３６】 Ｋ＝(Ｓ×Ｘ×Ｌ)／(Ｗ×Ｔ×100)＝(250×５×40)／(５×50×100) 比例係数（ｋ）≒２、膜厚ばらつき＝８％（左側）とし
たとき、 ＷL≒（250×8×40）/(2×50×100)≒８（mm） また、右側のばらつき４％の場合は、ＷR≒４（mm）と
なる。
【００３７】したがって、この結果にもとづき、スリッ
ト内部に厚さ50μmの規制部材の幅を左側８mm、右側４m
mに設定して作成した。この塗布規制部材の形状を図４
（ｂ）に示した。
【００３８】図５はこの様なスリットサイドに規制部材
を挿入固定する際の説明斜視図である。スリット６のフ
ロントバー３面に挿入した規制部材７の端を外に出して
曲げサイド板10にはさんで固定した。この際ダイス本体
とサイド板の間にはパッキン又シール充填剤により液洩
れ防止処理を行った。
【００３９】このような塗布幅規制部材を設置した塗布
装置を用いて前記条件で塗布した結果、図４（ｃ）に示
す塗布膜厚分布となった。
【００４０】この結果から本発明の塗布規制部材を用い
ることにより塗布膜厚が非常に安定することがわかる。
【００４１】
【発明の効果】本発明により、エクストルージョン型塗
布装置において、厚膜が発生することなく均一な膜厚分
布が得られる塗布装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の塗布装置の断面図。
【図２】磁気記録媒体の塗布乾燥装置の構成説明図。
【図３】（ａ）従来の塗布装置による膜厚分布を示すグ
ラフ。（ｂ）スリット内部に設けたスリット間隙規制部
材の正面図。（ｃ）本発明の塗布装置による膜厚分布を
示すグラフ。
【図４】（ａ）従来の塗布装置による膜厚分布を示すグ
ラフ。（ｂ）スリット内部に設けたスリット間隙規制部
材の正面図。（ｃ）本発明の塗布装置による膜厚分布を
示すグラフ。
【図５】間隙規制部材の固定する際の説明斜視図。
【符号の説明】
１ ウェブ２ 塗布装置 ３ フロントバー 31 フロントエッジ ４ バックバー 41 バックエッジ ６ スリット ７ スリット間隙規制部材 ８ 乾燥装置 ９ カレンダー装置 10 サイド板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 連続的に走行する可撓性支持体をフロン
    トエッジ面に沿って移送し、塗布液吐出口から塗布液を
    吐出して可撓性支持体上に塗布し、次いで該可撓性支持
    体をバックエッジ面に沿って移送するエクストルージョ
    ン型塗布装置において、スリット間隙より薄いスリット
    間隙規制部材の少なくとも一部がスリット内部にあるこ
    とを特徴とする塗布装置。
  2. 【請求項２】 上記、スリット間隙規制部材のスリット
    内部での厚さがスリット間隙の１〜50％であることを特
    徴とする請求項１記載の塗布装置。
JP3263922A 1991-10-11 1991-10-11 塗布装置 Pending JPH05104053A (ja)

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