JPH0361508B2 - - Google Patents
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- JPH0361508B2 JPH0361508B2 JP57083236A JP8323682A JPH0361508B2 JP H0361508 B2 JPH0361508 B2 JP H0361508B2 JP 57083236 A JP57083236 A JP 57083236A JP 8323682 A JP8323682 A JP 8323682A JP H0361508 B2 JPH0361508 B2 JP H0361508B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/023—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface
- B05C11/025—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface with an essentially cylindrical body, e.g. roll or rod
-
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/18—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material only one side of the work coming into contact with the liquid or other fluent material
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は連続的に走行するウエブに塗布液を塗
布する方法及び装置の改良に関する。特に本発明
は塗布膜の平滑化を有効に行うことのできる塗布
方法及び装置に関する。
布する方法及び装置の改良に関する。特に本発明
は塗布膜の平滑化を有効に行うことのできる塗布
方法及び装置に関する。
本発明でいう「ウエブ」とは、比較的長尺の可
撓性帯状支持体、例えば、三酢酸セルロース、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、等の
プラスチツクフイルム：紙：合成紙：アルミニウ
ム、銅、等の金属箔：ガラス、セラミツクス、等
のシートを言う。
撓性帯状支持体、例えば、三酢酸セルロース、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、等の
プラスチツクフイルム：紙：合成紙：アルミニウ
ム、銅、等の金属箔：ガラス、セラミツクス、等
のシートを言う。
又、「塗布液」とは、その用途に応じて種々の
液組成のものが含まれ、例えば、写真感光材料に
おけるような、感光乳剤層、下塗層、保護層、バ
ツク層、等の塗布液：磁気記録媒体におけるよう
な、磁性層、下塗層、潤滑層、保護層、バツク
層、等の塗布液：その他接着剤層、着色層、防錆
層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液はそれ
ぞれの必須成分、バインダー、及び、必要に応じ
て種々の添加物を含んだ水性又は有機溶媒溶液又
はデイスパージヨンよりなつている。
液組成のものが含まれ、例えば、写真感光材料に
おけるような、感光乳剤層、下塗層、保護層、バ
ツク層、等の塗布液：磁気記録媒体におけるよう
な、磁性層、下塗層、潤滑層、保護層、バツク
層、等の塗布液：その他接着剤層、着色層、防錆
層、等の塗布液が挙げられ、それら塗布液はそれ
ぞれの必須成分、バインダー、及び、必要に応じ
て種々の添加物を含んだ水性又は有機溶媒溶液又
はデイスパージヨンよりなつている。
従来、前記ウエブ上に所望する厚さの塗膜を得
る方式として、デイツプ、リバースロール、グラ
ビヤロール、エクストルージヨンホツパー、スラ
イドホツパー、等の既知の塗着手段により前記塗
布液を連続的に移動するウエブに一旦余剰に塗布
した後、エヤーナイフ、ブレード、コイルバー
（又はワイヤーバー）、等のメタリング手段（定量
化手段）を、前記塗布層に対向せしめてその余剰
塗着分を掻き落し、所望する塗布量即ち塗膜厚さ
を得ることを特徴とするものが一般に多く用いら
れていた。
る方式として、デイツプ、リバースロール、グラ
ビヤロール、エクストルージヨンホツパー、スラ
イドホツパー、等の既知の塗着手段により前記塗
布液を連続的に移動するウエブに一旦余剰に塗布
した後、エヤーナイフ、ブレード、コイルバー
（又はワイヤーバー）、等のメタリング手段（定量
化手段）を、前記塗布層に対向せしめてその余剰
塗着分を掻き落し、所望する塗布量即ち塗膜厚さ
を得ることを特徴とするものが一般に多く用いら
れていた。
これらの塗布手段のうちで、例えば磁気記録媒
体用の磁性液のように高粘度の塗布液の塗布には
コイルバーが、前記エヤーナイフブレードに比
べ、構造的にも、取扱いも簡便であり、塗膜面質
も可成り安定したものが得られるので、有用なメ
タリング手段として利用されている。
体用の磁性液のように高粘度の塗布液の塗布には
コイルバーが、前記エヤーナイフブレードに比
べ、構造的にも、取扱いも簡便であり、塗膜面質
も可成り安定したものが得られるので、有用なメ
タリング手段として利用されている。
従来、コイルバーを用いる塗布工程は第１図に
示すように方式が用いられている。
示すように方式が用いられている。
すなわち、連続的に矢印方向に走行するウエブ
１の下面に、例えばリバースロールの如き塗布機
２によつて塗布液３を最小塗布量より余剰に塗布
し、液状の塗布膜５を形成し、コイルバー６によ
つて余剰な塗布液７を掻き落すと共に、コイルバ
ー６の外周面とウエブ１の表面によつて形成され
る間隙で規定される塗膜８を与え、これを次い
で、所望により例えば磁性層の場合には磁場配向
等を行つた後に乾燥して巻き取る。なお、４はガ
イドロールである。
１の下面に、例えばリバースロールの如き塗布機
２によつて塗布液３を最小塗布量より余剰に塗布
し、液状の塗布膜５を形成し、コイルバー６によ
つて余剰な塗布液７を掻き落すと共に、コイルバ
ー６の外周面とウエブ１の表面によつて形成され
る間隙で規定される塗膜８を与え、これを次い
で、所望により例えば磁性層の場合には磁場配向
等を行つた後に乾燥して巻き取る。なお、４はガ
イドロールである。
こゝで用いられるコイルバーは例えば第２図に
示すように、芯材としてのロツド部材２１の外周
面に沿つてワイヤー部材２２を一重に密接して巻
回することによつて構成されている。ロツド部材
２１は一般に直径１〜３mmのステンレススチー
ル、鉄材、真鍮等からなり、ワイヤー部材２２は
直径0.04〜0.5mmのステンレススチール、テフロ
ン等のワイヤーからなつている。
示すように、芯材としてのロツド部材２１の外周
面に沿つてワイヤー部材２２を一重に密接して巻
回することによつて構成されている。ロツド部材
２１は一般に直径１〜３mmのステンレススチー
ル、鉄材、真鍮等からなり、ワイヤー部材２２は
直径0.04〜0.5mmのステンレススチール、テフロ
ン等のワイヤーからなつている。
なお、このようなコイルバーとしては上記の如
き従来から用いられているものの他に、本発明者
等が先に提案した、巻回最大半径を４mm以下にし
た小径のコイルバーも用いることができる（特願
昭56−41060号）。
き従来から用いられているものの他に、本発明者
等が先に提案した、巻回最大半径を４mm以下にし
た小径のコイルバーも用いることができる（特願
昭56−41060号）。
さらに製品の目的に応じて塗布後、塗布膜又は
塗布層の表面を平滑化（スムーズニング）するこ
とが望まれ、コイルバーでメタリングした後に適
当な手段によつて平滑化することが行われてい
る。
塗布層の表面を平滑化（スムーズニング）するこ
とが望まれ、コイルバーでメタリングした後に適
当な手段によつて平滑化することが行われてい
る。
しかしながら、第１図に示す如き従来法による
場合には、塗布液を塗布してからコイルバー６で
メタリングするまでの間及びコイルバーでメタリ
ングしてからスムーザー（図示せず）で平滑化す
るまでの間に気相が存在し、その間の塗布膜は未
乾燥、未硬化の状態にあるので、メタリングや平
滑化が、塗布液の粘度、界面張力、ウエブ速度の
影響を受け易く、又メタリングや平滑化時に空気
の混入を生ずることもあり、特にこの傾向は、高
粘度、高速化になるほど大きくなる。このため、
塗布面にリブ（ストリーク）状のスジが発生した
り、平滑化の低下を起す原因となつている。
場合には、塗布液を塗布してからコイルバー６で
メタリングするまでの間及びコイルバーでメタリ
ングしてからスムーザー（図示せず）で平滑化す
るまでの間に気相が存在し、その間の塗布膜は未
乾燥、未硬化の状態にあるので、メタリングや平
滑化が、塗布液の粘度、界面張力、ウエブ速度の
影響を受け易く、又メタリングや平滑化時に空気
の混入を生ずることもあり、特にこの傾向は、高
粘度、高速化になるほど大きくなる。このため、
塗布面にリブ（ストリーク）状のスジが発生した
り、平滑化の低下を起す原因となつている。
本発明者はこれ等の欠点を除くため種々検討の
結果、塗布からメタリング、及びメタリングから
平滑化までの間に気相を介在させないようにする
ことによつて上記の欠点を除くことに成功し、本
発明を完成した。
結果、塗布からメタリング、及びメタリングから
平滑化までの間に気相を介在させないようにする
ことによつて上記の欠点を除くことに成功し、本
発明を完成した。
すなわち、本発明はコイルバーの直前にコイル
バーの乾き防止のための湿潤化を兼ねた塗布部、
直後にスムーザーを配設し、連続的に走行するウ
エブに塗布液を塗布後直ちにコイルバーで余剰塗
着分を掻き落とすと共に該ウエブを気相を経ずに
直ちにスムーザーにて平滑化を行うことを特徴と
する塗布方法、及び上方に塗布液供給口を有する
エクストルダー型塗布機の該供給口の後方に隣接
してコイルバーを配設し、且つコイルバーの後方
に隣接してスムーザーを配設し、連続的に走行す
るウエブに塗布液を塗布後直ちにコイルバーで余
剰塗置分を掻き落すと共に該ウエブを気相を経ず
に直ちに該スムーザーに移行するように構成した
ことを特徴とする塗布装置である。
バーの乾き防止のための湿潤化を兼ねた塗布部、
直後にスムーザーを配設し、連続的に走行するウ
エブに塗布液を塗布後直ちにコイルバーで余剰塗
着分を掻き落とすと共に該ウエブを気相を経ずに
直ちにスムーザーにて平滑化を行うことを特徴と
する塗布方法、及び上方に塗布液供給口を有する
エクストルダー型塗布機の該供給口の後方に隣接
してコイルバーを配設し、且つコイルバーの後方
に隣接してスムーザーを配設し、連続的に走行す
るウエブに塗布液を塗布後直ちにコイルバーで余
剰塗置分を掻き落すと共に該ウエブを気相を経ず
に直ちに該スムーザーに移行するように構成した
ことを特徴とする塗布装置である。
以下、添付図面と参照しつつ本発明を説明す
る。
る。
第３図は本発明の１実施態様を示すもので、エ
クストルダー型の塗布機が例示されている。すな
わち、塗布液供給用スロツト３１を用するエクス
トルダー型塗布機３２の上方供給口の後部に隣接
して、前記した如きメタリング用コイルバー３３
をホルダー３４上に回転可能に設け、コイルバー
３３の後部に隣接してスムーザー３６が配設され
ている。コイルバー３３のホルダー３４はエクス
トルダー型塗布機の一部を構成している。
クストルダー型の塗布機が例示されている。すな
わち、塗布液供給用スロツト３１を用するエクス
トルダー型塗布機３２の上方供給口の後部に隣接
して、前記した如きメタリング用コイルバー３３
をホルダー３４上に回転可能に設け、コイルバー
３３の後部に隣接してスムーザー３６が配設され
ている。コイルバー３３のホルダー３４はエクス
トルダー型塗布機の一部を構成している。
フイルム支持体の如き適当なウエブ１が塗布装
置の上を連続的に走行し、塗布機によつて、例え
ば磁気記録媒体用磁性体塗布液３５がスロツト３
１を通つて供給され、ウエブの下面に塗布され、
直ちにコイルバー３３によつてメタリングされ
る。掻き落とされた余剰の塗布液は塗布機のスラ
イド面から落下し、必要なら、再循環させる。コ
イルバー３３でメタリングされ、所望厚の塗布膜
を有するウエブは次いで直ちにスムーザー３６に
移り、こゝで平滑化される。
置の上を連続的に走行し、塗布機によつて、例え
ば磁気記録媒体用磁性体塗布液３５がスロツト３
１を通つて供給され、ウエブの下面に塗布され、
直ちにコイルバー３３によつてメタリングされ
る。掻き落とされた余剰の塗布液は塗布機のスラ
イド面から落下し、必要なら、再循環させる。コ
イルバー３３でメタリングされ、所望厚の塗布膜
を有するウエブは次いで直ちにスムーザー３６に
移り、こゝで平滑化される。
上記の如くして塗布する場合には、コイルバー
３３の直前に塗布機の供給口が開口しているので
塗布してから塗布液をメタクングするまでの間に
気相が存在せず、又コイルバー３３の直後に隣接
してスムーザー３６が設けられているので、コイ
ルバーとスムーザーの間は塗布液が存在し気相が
存在せず、従つて前記し如き従来法による欠点は
全く解消され、高粘度、高速塗布によつても、均
一な塗布と高度の平滑化を行うことができる。ま
た、第３図にはコイルバー３３の回転方向が矢印
で示してあるが、これは単に例示に過ぎず、本発
明においては、コイルバー３３の回転方向を塗布
液の性質等により適宜選定することができる。
３３の直前に塗布機の供給口が開口しているので
塗布してから塗布液をメタクングするまでの間に
気相が存在せず、又コイルバー３３の直後に隣接
してスムーザー３６が設けられているので、コイ
ルバーとスムーザーの間は塗布液が存在し気相が
存在せず、従つて前記し如き従来法による欠点は
全く解消され、高粘度、高速塗布によつても、均
一な塗布と高度の平滑化を行うことができる。ま
た、第３図にはコイルバー３３の回転方向が矢印
で示してあるが、これは単に例示に過ぎず、本発
明においては、コイルバー３３の回転方向を塗布
液の性質等により適宜選定することができる。
なお、３７，３８はガイドロールであるが、ガ
イドロールの代りにこゝにウエブ供給ロールとウ
エブ巻取りロールを設けてもよい。又平滑化され
た塗布膜を有するウエブは次いで乾燥されるが、
前記の如き磁性体層の場合には乾燥前に磁場配向
等の処理を行うこともできる。
イドロールの代りにこゝにウエブ供給ロールとウ
エブ巻取りロールを設けてもよい。又平滑化され
た塗布膜を有するウエブは次いで乾燥されるが、
前記の如き磁性体層の場合には乾燥前に磁場配向
等の処理を行うこともできる。
本発明で用いられる塗布機は塗布液によつて異
なるが、ステンレススチールが一般に用いられ
る。又スムーザー３６は同様に少くとも塗布膜と
の接触面がSUS−304、430等のステンレススチ
ールであることが好ましく、塗布機と一体に作ら
れていてもよい。又特にスムーザー３６の磨耗耐
久性を上げるため、一般名称で言われる超硬材、
例えばGTi−30等及びセラミツク、他窒化、浸
炭、ハードクロムメツキ等表面硬化処理した材料
が好ましい。
なるが、ステンレススチールが一般に用いられ
る。又スムーザー３６は同様に少くとも塗布膜と
の接触面がSUS−304、430等のステンレススチ
ールであることが好ましく、塗布機と一体に作ら
れていてもよい。又特にスムーザー３６の磨耗耐
久性を上げるため、一般名称で言われる超硬材、
例えばGTi−30等及びセラミツク、他窒化、浸
炭、ハードクロムメツキ等表面硬化処理した材料
が好ましい。
なお、本発明の好ましい態様においては、コイ
ルバーの最上面とスムーザーの最上面がほぼ同一
レベルにある。又スムーザーの有効長（スムーザ
ーの上表面のウエブの走行方向における長さ）が
約１〜30mm、スムーザーの上表面がウエブの走行
方向に半径５〜30mmの円弧状（断面）又は160°〜
178°の内角をもつ二面以上からなる多角面（断
面）をなしていることが好ましい。
ルバーの最上面とスムーザーの最上面がほぼ同一
レベルにある。又スムーザーの有効長（スムーザ
ーの上表面のウエブの走行方向における長さ）が
約１〜30mm、スムーザーの上表面がウエブの走行
方向に半径５〜30mmの円弧状（断面）又は160°〜
178°の内角をもつ二面以上からなる多角面（断
面）をなしていることが好ましい。
以上、主として磁気記録媒体の製造を例にとつ
て本発明を説明したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、本明細書中で定義した種々の塗
布液の塗布に用いることができる。
て本発明を説明したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、本明細書中で定義した種々の塗
布液の塗布に用いることができる。
第１図は従来の塗布工程の１態様を示す説明
図、第２図は本発明で用いられるコイルバーの１
例を示す部分断面図、第３図は本発明の１態様を
示す説明図である。 図中、１はウエブ、２，３２は塗布機、６，３
３はコイルバー、３１はスロツト、３６はスムー
ザーである。
図、第２図は本発明で用いられるコイルバーの１
例を示す部分断面図、第３図は本発明の１態様を
示す説明図である。 図中、１はウエブ、２，３２は塗布機、６，３
３はコイルバー、３１はスロツト、３６はスムー
ザーである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ コイルバーの直前に塗布部、直後にスムーザ
ーを配設し、連続的に走行するウエブに塗布液を
塗布液直ちにコイルバーで余剰塗着分を掻き落と
すと共に該ウエブを気相を経ずに直ちにスムーザ
ーにて平滑化を行うことを特徴とする塗布方法。 ２ 上方に塗布液供給口を有するエクストルダー
型塗布機の該供給口の後方に隣接してコイルバー
を配設し、且つコイルバーの後方に隣接してスム
ーザーを配設し、連続的に走行するウエブに塗布
液を塗布後直ちにコイルバーで余剰塗着分を掻き
落とすと共に該ウエブを気相を経ずに直ちに該ス
ムーザーに移行するように構成したことを特徴と
する塗布装置。 ３ コイルバーの最上面がスムーザーの最上面と
ほぼ同一レベルにある特許請求の範囲第２項に記
載の塗布装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083236A JPS58223459A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 塗布方法及び装置 |
| US06/495,929 US4521459A (en) | 1982-05-19 | 1983-05-19 | Coating method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083236A JPS58223459A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 塗布方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58223459A JPS58223459A (ja) | 1983-12-26 |
| JPH0361508B2 true JPH0361508B2 (ja) | 1991-09-20 |
Family
ID=13796685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57083236A Granted JPS58223459A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 塗布方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4521459A (ja) |
| JP (1) | JPS58223459A (ja) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6135879A (ja) * | 1984-07-28 | 1986-02-20 | Jujo Paper Co Ltd | 塗布装置 |
| DE3623402A1 (de) * | 1985-07-31 | 1987-05-21 | Jagenberg Ag | Verfahren und vorrichtung zum kontinuierlichen aufbringen einer gleichmaessigen beschichtung auf eine ueber eine gegenwalze laufende materialbahn, insbesondere papier- oder kartonbahn |
| JPH027663Y2 (ja) * | 1985-09-06 | 1990-02-23 | ||
| JPS63176289A (ja) * | 1987-01-14 | 1988-07-20 | 日立エレベ−タサ−ビス株式会社 | マンコンベアの安全装置 |
| DE3751172T2 (de) * | 1987-04-16 | 1995-11-09 | Yasui Seiki Kk | Speiseanordnung für eine Beschichtungsvorrichtung. |
| JP2622694B2 (ja) * | 1987-10-02 | 1997-06-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JPH03501822A (ja) * | 1987-10-10 | 1991-04-25 | ツインマー，ヨハネス | 塗着装置 |
| JPH0199472U (ja) * | 1987-12-24 | 1989-07-04 | ||
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| FI97817C (fi) * | 1993-10-27 | 1997-02-25 | Valmet Paper Machinery Inc | Menetelmä ja sovitelma liikkuvan radan päällystämiseksi |
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| JP4249565B2 (ja) * | 2003-08-08 | 2009-04-02 | Ｔｄｋ株式会社 | バー塗布方法 |
| US7819790B2 (en) | 2004-02-20 | 2010-10-26 | Dixie Consumer Products Llc | Apparatus for making paperboard pressware with controlled blank feed |
| JP2008006378A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Fujifilm Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
| JP5356125B2 (ja) * | 2009-06-25 | 2013-12-04 | 富士フイルム株式会社 | バー塗布装置及びバー塗布方法 |
| JP5300101B2 (ja) * | 2011-08-26 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2285041A (en) * | 1938-08-08 | 1942-06-02 | Mayer | Coating machine |
| SE360408B (ja) * | 1968-12-30 | 1973-09-24 | Waertsilae Oy Ab | |
| DE2914531C2 (de) * | 1979-04-10 | 1982-04-08 | Jagenberg-Werke AG, 4000 Düsseldorf | Vorrichtung zum kontinuierlichen Aufbringen einer gleichmäßigen Beschichtung auf eine Materialbahn |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP57083236A patent/JPS58223459A/ja active Granted
-
1983
- 1983-05-19 US US06/495,929 patent/US4521459A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4521459A (en) | 1985-06-04 |
| JPS58223459A (ja) | 1983-12-26 |
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