JP2565412B2 - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

Info

Publication number
JP2565412B2
JP2565412B2 JP2095059A JP9505990A JP2565412B2 JP 2565412 B2 JP2565412 B2 JP 2565412B2 JP 2095059 A JP2095059 A JP 2095059A JP 9505990 A JP9505990 A JP 9505990A JP 2565412 B2 JP2565412 B2 JP 2565412B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
back edge
web
support
head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2095059A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03293054A (ja
Inventor
徳夫 柴田
章弘 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2095059A priority Critical patent/JP2565412B2/ja
Priority to US07/683,166 priority patent/US5167712A/en
Priority to DE69130027T priority patent/DE69130027T2/de
Priority to EP91105781A priority patent/EP0451841B1/en
Publication of JPH03293054A publication Critical patent/JPH03293054A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2565412B2 publication Critical patent/JP2565412B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G03C2001/7459Extrusion coating
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G03C2001/7466Geometry and shape of application devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はプラスチックフイルム、紙、金属箔等を形成
してなる可撓性支持体(以下、ウエブという)に、写真
感光液、磁性液、表面保護液等の塗布液を塗布する塗布
方法及び装置に関するものである。
(従来技術) 従来、ウエブに塗布液を塗布する塗布装置としては、
ロール型塗布装置、ビード型塗布装置、スライドコート
型塗布装置、エクストルージョン型塗布装置等がある
が、何れの塗布装置も前記ウエブの巾より広い巾方向寸
法を持ち、且つ塗布液が塗布される塗布部分の巾は前記
ウエブの巾より狭く、前記ウエブの塗布面両端部には数
mm乃至十数mmの塗布液が塗布されない部分が生じる。
従って、なかでも特開昭57−84771号、同59−94657号
公報等に開示されているエクストルージョン型塗布装置
の様に、塗布ヘッドをパスローラー間に装架され走行し
ている前記ウエブに押しつけながら塗布液を塗布する場
合には、前記ウエブと前記塗布ヘッドとの間隙が極めて
狭いので、前記ウエブ両端の塗布液未塗布部と前記塗布
ヘッドとが接触してしまう。
そこで、前記塗布ヘッドは前記未塗布部のウエブ表面
を削り取り、削り取られた該削りカスは前記塗布ヘッド
の塗布部エッジ両端に付着する。また、前記ウエブ表面
に付着していた異物も前記塗布ヘッドの塗布部エッジに
捕捉される。
そして、この様に前記塗布部両端に堆積した付着物は
前記ウエブの両端を押上げるので、前記ウエブに塗布さ
れる塗布液の巾方向の塗布厚みが均一にならず、前記ウ
エブの両端近傍の塗布層が圧塗りになってしまうという
問題があった。
そこで、上記問題点を解消するため特開昭61−257268
号公報に開示されている様に、可撓性帯状支持体に塗布
液を塗布する直前に該支持体面の塗布液が塗布されるべ
き部分の両側端外側の塗布液が塗布されない部分に予め
溶剤を塗布する塗布方法や、特開平2−52069号公報に
開示されている様に、可撓性支持体の未塗布部に対応す
る塗布ヘッド先端部両端面に、前記塗布ヘッドの先端中
央部分から両端方向に前記支持体より離れる方向に形成
された傾斜部又は段差部を設け、前記可撓性支持体の未
塗布部表面と塗布ヘッド先端部両端面との間に間隙を形
成した塗布装置等が提案されている。
しかしながら、前記特開昭61−257268号公報に開示さ
れた様に溶媒等をプレコートする塗布方法では、ウエブ
の走行に伴うバタツキ、蛇行等の外乱により、前記溶媒
が前記ウエブ表面の塗布部に侵入したり、或いは前記ウ
エブ裏面に裏回りしたりし易く、塗布ムラの一因となり
易い。又、前記プレコート層はバックエッジ、ドクター
エッジ部(何れもヘッド先端部)で幅が広がるが、未塗
布部の幅が狭くなったり、前記ドクターエッジの掻き落
とし力が強くなると、前記溶媒の濡れ幅を適切に制御し
にくい等の問題があった。
そこで、この様な滲み出しが、例えば磁気記録媒体の
製造工程において発生すると、非磁性支持体を走行させ
ている搬送ロールに磁性塗布液が付着し、前記支持体を
汚すと共に、その後の表面処理工程におけるカレンダー
ロールをも汚すことになる。その結果、表面処理工程後
の前記支持体表面に異物による傷跡が付き、磁気記録特
性を低下させるといった問題が生じる。
また、前記特開平2−52069号公報に開示された様に
可撓性支持体の未塗布部に対応する塗布ヘッド先端部両
端面に、前記塗布ヘッドの先端中央部から両端方向に前
記支持体より離れる方向に形成された傾斜部又は段差部
を設けた塗布装置では、前記ウエブが薄手(厚さ:15〜4
0μm)の可撓性支持体の場合、該ウエブの腰が弱くそ
の両端部は前記塗布ヘッド先端方向に大きく撓んでしま
う。このため、前記ウエブの両端部が前記塗布ヘッド先
端部両端面に形成された傾斜部又は段差部のエッジに接
触して前記ウエブの削れが生じるといった問題が発生し
た。
特に近年、VTR用磁気記録媒体のウエブであるポリエ
チレンテレフタレートベース(以下、PETベースとい
う)には、球形SiO2から成るフィラーを添加したPETベ
ースが用いられることがある。これは、前記磁気記録媒
体を磁気記録再生装置にかけて走行させた際に、該磁気
記録媒体と前記磁気記録再生装置のガイドポール等の接
触部との接触抵抗を軽減し、テープ走行を安定化させる
ためである。ところが、この様なフィラーを添加された
PETベースはそれ自身の剛性が低いので、前記塗布装置
等により塗布液を塗布しようとした場合、前記PETベー
スの両端部は前記塗布ヘッド先端方向に大きく撓み易
い。そして、該PETベースが前記塗布ヘッド先端部に接
触した場合に前記フィラーが剥脱し易く、前記塗布ヘッ
ド先端部への削れ粉の堆積が著しいといった問題があっ
た。
そこで更に、上記塗布方法や塗布装置の欠点を補うた
め、特願昭63−320546号明細書に記載されている様に、
可撓性支持体の両端未塗布部に対応する前記塗布ヘッド
先端部両端面に、前記可撓性支持体の走行方向に沿て延
びる凹部を形成すると共に、該凹部を構成する塗布ヘッ
ド両側端側の肩部が前記可撓性支持体の両端縁を支持す
るように構成した塗布装置が提案された。従って、薄手
の可撓性支持体においても、その塗布部側近傍未塗布部
が前記塗布ヘッド先端によって削り取られたり、前記可
撓性支持体表面に付着していた異物が前記塗布ヘッドの
両端に捕捉されたりするのを防ぐことができた。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、前記特願昭63−320546号明細書に記載
されている様に、可撓性支持体の両端未塗布部に対応す
る前記塗布ヘッド先端部両端面に、前記可撓性支持体の
走行方向に沿って延びる凹部を形成すると共に、該凹部
を構成する塗布ヘッド両側端側の肩部が前記可撓性支持
体の両端縁を支持するように構成した塗布装置では、前
記可撓性支持体の両端未塗布部が少なくともその塗布部
側近傍で塗布ヘッド先端部両端面と摺動することのない
ように支持しなければならないので、前記可撓性支持体
の厚みによって、前記凹部の幅や前記肩部の高さが決ま
ってしまう。従って、異なった厚み及び材質の可撓性支
持体毎に塗布ヘッドの調整が必要となり、生産性が良く
ないという問題がある。
そこで本発明の目的は、上記塗布装置における課題を
解消し、撓み易い薄手のウエブに対しても塗布厚みが均
一で表面性の良い塗布層を形成すると共に塗布液の滲み
出しが起こり難い塗布装置を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明に係る上記目的は、パスローラー間に装架され
て連続的に走行する可撓性帯状支持体表面にエクストル
ージョン型塗布ヘッドのスロット先端部を押し付けなが
ら塗布液を塗布する塗布装置において、前記可撓性帯状
支持体の両端未塗布部に対応する前記塗布ヘッドのバッ
クエッジ先端部両端面が、前記支持体面の塗布液が塗布
されるべき部分に対応する前記バックエッジ先端中央部
分と段差部を介して連設されて成り、前記支持体の両端
未塗布部にプレコートされた溶剤が前記段差部によって
前記支持体面の塗布液が塗布されるべき部分に拡散する
ことを防ぐことを特徴とする塗布装置により達成され
る。
(実施態様) 以下、添付図面に基づいて本発明の一実施態様を詳細
に説明する。
第1図は、本発明の一実施態様に基づく塗布装置にお
けるエクストルージョン型塗布ヘッド1の斜視図であ
る。
前記塗布ヘッド1は、可撓性支持体(ウエブ)2の幅
よりも広い幅方向寸法を有しており、該幅方向に亘って
塗布液を吐出するスロット3を構成するバックエッジ4
とドクターエッジ5が形成されている。前記スロット3
は、前記塗布ヘッド1の内部に形成された液溜まり13に
連通しており、該液溜まり13側方の側板11に設けられた
塗布液供給口9より供給された塗布液は、前記スロット
3の幅方向に亘って均一な圧力で吐出される。
また、該スロット3の幅方向両端部には、塗布幅を設
定して塗布液が吐出されないようにする規制板6が嵌め
られている。従って、前記ウエブ2の塗布面両側端に
は、それぞれ未塗布部が形成される。
そして、前記ウエブ2の塗布液が塗布されるべき部分
に対応する前記バックエッジ4のバックエッジ先端中央
部分には、前記ウエブ2の両端未塗布部に対応するバッ
クエッジ先端部端面7から段差部15を以て前記ウエブ2
に対して間隙を有するように凹部8が形成されている。
また、前記ウエブ2の両端未塗布部には、予め酢酸ブチ
ルやメチルエチルケトン等の溶剤14が塗布される。そこ
で、走行する前記ウエブ2表面に前記塗布ヘッド1のス
ロット先端部を押し付けながら塗布液を塗布して塗布層
10を形成する。
ここで、前記溶剤14の塗布幅は、前記ウエブ2の両端
未塗布部に塗布される際には該未塗布部の幅よりもかな
り狭い塗布幅であるが、該溶剤14は前記塗布ヘッド1の
スロット先端部に達すると、第2図に示すよに、前記バ
ックエッジ先端部端面7によって押し拡げられ、前記ウ
エブ2の両端未塗布部と前記塗布ヘッド1のスロット先
端部との接触部を潤滑する。
ところで、この様に前記ウエブ2の両端未塗布部にプ
レコート塗布される前記溶剤14の濡れ幅は適切に制御し
にくく、ウエブの走行に伴うバタツキ、蛇行等の外乱に
より濡れ幅が乱れ易い。即ち、従来の塗布装置において
は、前記バックエッジ4のバックエッジ先端中央部分と
バックエッジ先端部両端面とが同一面で形成されてお
り、ウエブ表面に対する間隙が等しいので、前記溶剤14
の濡れ幅が乱れると、該溶剤14が前記ウエブ2の塗布液
が施されるべき部分に滲み出してしまい、この滲み出し
の上に前記塗布層10が塗布されてしまう。
しかしながら、上記本発明の塗布装置によれば、前記
バックエッジ先端中央部分は、前記凹部8によって、段
差部1を境に前記バックエッジ先端部端面7よりも前記
ウエブ2に対して大きな間隙を有するように構成されて
いるので、前記バックエッジ先端部端面7によって押し
拡げられた前記溶剤14は前記段部15より内方の塗布幅方
向に拡がり難い。そこで、前記溶剤14の濡れ幅を制御す
る際に、前記ウエブ2の塗布液が施されるべき部分に対
する溶剤の滲み出しを防ぐ為のマージンを大きく採るこ
とができ、前記溶剤14の塗布位置をウエブ2の端縁より
離すことができる。
即ち、前記溶剤14が前記ウエブ2表面の塗布液が施さ
れるべき部分に侵入して塗布ムラの一因となるのを防ぐ
と共に、前記溶剤14が前記ウエブ2裏面に裏回りするの
を防ぐことができる。
従って、前記ウエブ2の塗布液が施されるべき部分や
裏面への前記溶剤14の滲み出しを生じることなく、前記
ウエブ2の両端未塗布部にプレコート塗布が可能とな
り、前記ウエブ2の両端未塗布部と前記塗布ヘッド1の
スロット先端部との接触を防ぐことができる。そこで、
前記ウエブ2の未塗布部が前記塗布ヘッド1のスロット
先端部によって削り取られたり、前記ウエブ2表面に付
着していた異物が前記塗布ヘッド1のバックエッジ4及
びドクターエッジ5の両端に補足されたりするのを防ぐ
ことができるので、前記塗布ヘッド1の両端に堆積した
付着物が前記ウエブ2の両端を押し上げて前記ウエブ2
に塗布される塗布液の幅方向の塗布厚みを不均一にする
のを防止することができる。
次に、本発明の他の実施態様に基づく塗布装置におけ
るエクストルージョン型塗布ヘッド16を第3図に示す。
該エクストルージョン型塗布ヘッド16は、上記実施態
様におけるエクストルージョン型塗布ヘッド1とほぼ同
様のバックエッジ4、ドクターエッジ5及び規制板6等
により構成されている。
そして、前記バックエッジ4のウエブ2の塗布液が施
されるべき部分に対応するバックエッジ先端中央部分に
は、前記ウエブ2の両端未塗布部に対応するバックエッ
ジ先端部端面7に隣接し、前記ウエブ2の走行方向に沿
って延びる断面矩形状の溝部17が段差部15を介して設け
られている。また、前記ウエブ2の両端未塗布部には、
上記実施態様と同様に、予め酢酸ブチルやメチルエチル
ケトン等の溶剤14が塗布される。そこで、走行する前記
ウエブ2表面に前記塗布ヘッド16のスロット先端部を押
し付けながら塗布液を塗布して塗布層10を形成する。
そこで、上記実施態様におけるエクストルージョン型
塗布ヘッド1と同様に、前記バックエッジ先端中央部分
のバックエッジ先端部端面7に隣接する部分は、前記溝
部17によって、前記段差部15を境に前記バックエッジ先
端部端面7よりも前記ウエブ2に対して大きな間隙を有
するように構成されているので、前記バックエッジ先端
部端面7によって押し拡げられた前記溶剤14は前記段差
部15より内方の塗布幅方向に拡がり難い。
従って、前記ウエブ2の塗布液が施されるべき部分や
裏面への前記溶剤14の滲み出しを生じることなく、前記
ウエブ2の両端未塗布部にプレコート塗布が可能とな
り、前記塗布層10近傍の前記未塗布部は、前記塗布ヘッ
ド11のバックエッジ4及びドクターエッジ5に接触する
ことがないので、前記ウエブ2に塗布される塗布液の幅
方向の塗布厚みを不均一にするのを防止することが出来
る。
尚、上記実施態様において形成された断面矩形状の凹
部8及び溝部17の深さ(即ち、前記段差部15の高さ)
は、5〜200μm程度に形成されるのが好ましい。
また、上記実施態様において形成された断面矩形状の
凹部8及び溝部17の断面形状は、本発明の趣旨に基づ
き、断面V字形状や断面半円形状等の種々の形状を採り
うることはいうまでもなく、前記塗布ヘッドのバックエ
ッジ先端部両端面が、前記支持体面の塗布液が施される
べき部分に対応する前記バックエッジ先端中央部分の少
なくとも前記バックエッジ先端部両端面に隣接する部分
よりも前記可撓性帯状支持体表面に近接するように形成
されていれば良い。
更に、塗布装置も上記エクストルージョン型塗布ヘッ
ドに限らず、連続的に走行する可撓性支持体表面に塗布
ヘッドのスロット先端部を押し付けながら塗布液を塗布
する塗布装置であれば、他の塗布装置を用いることもで
きる。
(発明の効果) 以上述べた様に、本発明によれば、連続的に走行する
可撓性帯状支持体表面に塗布ヘッドのスロット先端部を
押し付けながら塗布液を塗布する塗布装置において、前
記可撓性帯状支持体の両端未塗布部に対応する前記塗布
ヘッドのバックエッジ先端部両端面が、前記支持体面の
塗布液が施されるべき部分に対応する前記バックエッジ
先端中央部分の少なくとも前記バックエッジ先端部両端
面に隣接する部分よりも前記可撓性帯状支持体表面に近
接するように形成されると共に、該可撓性帯状支持体に
塗布液を塗布する直前に該支持体面の塗布液が施される
べき部分の両側端外側の塗布液が施されない部分に予め
溶剤を塗布しながら塗布液を塗布する。
そこで、前記可撓性帯状支持体の塗布液が施されるべ
き部分や裏面への前記溶剤の滲み出しを生じることな
く、前記可撓性帯状支持体の両端未塗布部にプレコート
塗布が可能となり、前記可撓性帯状支持体の両端未塗布
部と前記塗布ヘッドのスロット先端部との接触を防ぐこ
とができる。即ち、薄手の可撓性支持体においても、そ
の塗布部側近傍未塗布部が前記塗布ヘッド先端によって
削り取られたり、前記可撓性支持体表面に付着していた
異物が前記塗布ヘッドの両端に捕捉されたりするのを防
ぐことができるので、前記塗布ヘッドの両端に堆積した
付着物が前記可撓性支持体の両端を押上げて前記可撓性
支持体に塗布される塗布液の巾方向の塗布厚みを不均一
にするのを防止することが出来る。
従って、塗布厚みが均一で表面性の良い塗布層を形成
すると共に塗布液の滲み出しの無い良好な塗布方法及び
装置を提供することが出来る。
(実施例) 以下、本発明の一実施例により本発明の効果をより明
確にする。
上記第1図に示した本発明に基づく塗布装置を用い
て、厚さ10μm,巾500mmのポリエチレンテレフタレート
支持体上に、塗布量:17cc/m2,塗布速度:250m/分,塗布
部張力:20kg/m,塗布巾:485mmとなるように磁性塗布液を
塗布した。該磁性塗布液は、下記第1表に示す組成成分
の磁性塗布液をボールミルに入れて10.5時間混合分散し
て塗布液を調製した。こうして得られた磁性塗布液の粘
度をリングコーン型粘度計により測定したところ剪断速
度が700sec-1においては1.9poiseを示した。
そして、上記塗布条件により長さ8000mの磁気記録媒
体を作成し、前記支持体両端の塗布層近傍未塗布部にお
ける削れ発生状況の観察及び塗布層の平均厚みに対する
塗布層側端部の厚塗り度の測定及び支持体未塗布部の溶
剤と塗布層の混合度合いの観察を行った。その結果を実
施例1として第2表に示す。但し、前記段差部15の高さ
は50μmとし、前記支持体両端の未塗布部にプレコート
塗布する為の溶剤にはメチルイソブチケトンを用いた。
第 1 表 組成 ・γ−Fe2O3(長径方向の平均粉径0.6μ,Hc 320 Oe)30
0重量部 ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(共重合比87:13,重
合度450) 40重量部 ・導電性カーボン 20重量部 ・ステアリン酸 7重量部 ・シリコンオイル 3重量部 ・溶媒 キシロール 300重量部 メチルイソブチレケトン 400重量部 更に、特開昭61−257268号公報に記載されている塗布
方法及び特開平2−52069号明細書に記載されているエ
クストルージョン型ヘッド両端部に高さ50μmの段差部
を形成した塗布装置それぞれについて、前記実施例1と
同様の塗布条件により長さ8000mの磁気記録媒体を作成
し、前記支持体両端の塗布層近傍未塗布部における削れ
発生状況の観察及び塗布層の平均厚みに対する塗布層側
端部の厚塗り度の測定及び支持体未塗布部の溶剤と塗布
層の混合度合いの観察を行った。その結果をそれぞれ比
較例1,2として第2表に示す。
第2表から明らかなように、本発明における塗布装置
を用いた実施例1では、従来の塗布装置を用いた比較例
1および比較例2に比べて、未塗布部における削れの発
生及び塗布層の平均厚みに対する塗布層側端部の厚塗り
度が改善され、支持体未塗布部の溶剤と塗布層の混合も
抑止されている。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施態様に基づく塗布装置における
エクストルージョン型塗布ヘッドの斜視図、第2図は第
1図に示すエクストルージョン型塗布ヘッドの部分断面
図、第3図は本発明の他の実施態様に基づく塗布装置に
おけるエクストルージョン型塗布ヘッドの斜視図であ
る。 (図中の符号) 1,16……エクストルージョン型塗布ヘッド 2……ウエブ、3……スロット 4……バックエッジ、5……ドクターエッジ 6……規制板 7……バックエッジ先端部端面 8……凹部、9……給液口 10……塗布層、11……側板 13……液溜まり、14……溶剤 15……段差部、17……溝部

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】パスローラー間に装架されて連続的に走行
    する可撓性帯状支持体表面にエクストルージョン型塗布
    ヘッドのスロット先端部を押し付けながら塗布液を塗布
    する塗布装置において、前記可撓性帯状支持体の両端未
    塗布部に対応する前記塗布ヘッドのバックエッジ先端部
    両端面が、前記支持体面の塗布液が塗布されるべき部分
    に対応する前記バックエッジ先端中央部分と段差部を介
    して連設されて成り、前記支持体の両端未塗布部にプレ
    コートされた溶剤が前記段差部によって前記支持体面の
    塗布液が塗布されるべき部分に拡散することを防ぐこと
    を特徴とする塗布装置。
  2. 【請求項2】前記バックエッジ先端中央部分が、前記バ
    ックエッジ先端部両端面から前記段差部を以て全体的に
    凹部を形成する請求項1に記載した塗布装置。
  3. 【請求項3】前記バックエッジ先端中央部分が、前記バ
    ックエッジ先端部両端面から前記段差部を以て形成され
    た溝部を介して、前記先端部両端面と連設された請求項
    1に記載した塗布装置。
  4. 【請求項4】前記段差部の高さが5乃至200μmの範囲
    内に設定された請求項1に記載した塗布装置。
JP2095059A 1990-04-12 1990-04-12 塗布装置 Expired - Fee Related JP2565412B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2095059A JP2565412B2 (ja) 1990-04-12 1990-04-12 塗布装置
US07/683,166 US5167712A (en) 1990-04-12 1991-04-10 Device for applying a liquid to a flexible carrier
DE69130027T DE69130027T2 (de) 1990-04-12 1991-04-11 Vorrichtung zum Auftragen einer Flüssigkeit auf einen flexiblen Träger
EP91105781A EP0451841B1 (en) 1990-04-12 1991-04-11 Device for applying a liquid to a flexible carrier

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2095059A JP2565412B2 (ja) 1990-04-12 1990-04-12 塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03293054A JPH03293054A (ja) 1991-12-24
JP2565412B2 true JP2565412B2 (ja) 1996-12-18

Family

ID=14127466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2095059A Expired - Fee Related JP2565412B2 (ja) 1990-04-12 1990-04-12 塗布装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5167712A (ja)
EP (1) EP0451841B1 (ja)
JP (1) JP2565412B2 (ja)
DE (1) DE69130027T2 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5435847A (en) * 1989-09-01 1995-07-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Coating apparatus
JP2572325B2 (ja) * 1991-11-26 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 塗布方法及び装置
EP0575879A2 (en) * 1992-06-24 1993-12-29 E.I. Du Pont De Nemours And Company Pretreated substrate for slide bead coating
JP3122568B2 (ja) * 1993-10-19 2001-01-09 富士写真フイルム株式会社 塗布装置
US5494518A (en) * 1994-05-31 1996-02-27 Nordson Corporation Slot coating die head support structure
JP3275202B2 (ja) * 1996-08-30 2002-04-15 東京エレクトロン株式会社 薄膜形成装置
US6117490A (en) * 1996-10-02 2000-09-12 Matsushita Electric Industrial Co, Ltd. Coating material application method and an apparatus for use in such a method
JP4419468B2 (ja) * 2003-08-08 2010-02-24 Tdk株式会社 バー塗布装置
JP4249565B2 (ja) * 2003-08-08 2009-04-02 Tdk株式会社 バー塗布方法
JP4264312B2 (ja) * 2003-08-08 2009-05-13 Tdk株式会社 バー塗布方法
JP2021154195A (ja) * 2020-03-26 2021-10-07 ノードソン コーポレーションNordson Corporation ノズル、接着剤塗布ヘッド、接着剤塗布装置及びおむつ製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4299186A (en) * 1977-01-17 1981-11-10 International Business Machines Corporation Method and apparatus for applying a viscous fluid to a substrate
JPS5784771A (en) * 1980-11-13 1982-05-27 Fuji Photo Film Co Ltd Coater
JPS61257268A (ja) * 1985-05-10 1986-11-14 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布方法
JPH0824874B2 (ja) * 1988-08-15 1996-03-13 富士写真フイルム株式会社 塗布装置
JPH0759311B2 (ja) * 1988-12-21 1995-06-28 富士写真フイルム株式会社 塗布方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0451841A3 (en) 1992-09-23
JPH03293054A (ja) 1991-12-24
DE69130027D1 (de) 1998-10-01
DE69130027T2 (de) 1999-01-07
EP0451841A2 (en) 1991-10-16
US5167712A (en) 1992-12-01
EP0451841B1 (en) 1998-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6033723A (en) Method and apparatus for coating plurality of wet layers on flexible elongated web
JP2565412B2 (ja) 塗布装置
JPH0824874B2 (ja) 塗布装置
US5118525A (en) Method for manufacturing magnetic recording medium while preventing damage to same caused by scraping by coating head
JPH05104053A (ja) 塗布装置
US6153265A (en) Extrusion-type coating equipment for uniformly applying a coating fluid to a support surface
US5620514A (en) Differential-speed gravure coating of magnetizable layers in the manufacture of magnetic recording media
JP2691443B2 (ja) 2層塗布方法とその装置
JPH0615066B2 (ja) 塗布方法
US4302486A (en) Method of solvent coating with gravure roll in combination with sheathed elastomeric roll and apparatus
JPH0759311B2 (ja) 塗布方法及び装置
JP2001321707A (ja) 塗料の塗布装置と塗布方法
US5114753A (en) Method and apparatus for coating web while preventing contact of edge portions thereof with coating head
US5203922A (en) Application device
US20020072458A1 (en) Device to reduce electrostatic pattern transfer in coating processes
JP2841231B2 (ja) 塗布方法
JP3114324B2 (ja) 塗布装置
JPH1176898A (ja) 塗布装置
JP2000237663A (ja) 塗布装置及び塗布方法
US20030054095A1 (en) Method of deciding coating condition in manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium
JPH05329417A (ja) 塗布装置及び塗布方法
JPH0822411B2 (ja) 塗布装置
JPH11169768A (ja) 塗布装置
JP2841230B2 (ja) 塗布方法
JPH05114134A (ja) 磁気記録媒体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370