JP2572325B2 - 塗布方法及び装置 - Google Patents
塗布方法及び装置Info
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- JP2572325B2 JP2572325B2 JP3335576A JP33557691A JP2572325B2 JP 2572325 B2 JP2572325 B2 JP 2572325B2 JP 3335576 A JP3335576 A JP 3335576A JP 33557691 A JP33557691 A JP 33557691A JP 2572325 B2 JP2572325 B2 JP 2572325B2
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- coating
- liquid
- slit
- coating liquid
- reservoir
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗布方法及び装置に関
し、特に走行する可撓性支持体表面に向けて連続的に押
出した塗布液を一定量均一に塗布するエクストルージョ
ン型塗布ヘッドを用いた塗布方法及び装置に関するもの
である。
し、特に走行する可撓性支持体表面に向けて連続的に押
出した塗布液を一定量均一に塗布するエクストルージョ
ン型塗布ヘッドを用いた塗布方法及び装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来技術】従来、走行する可撓性支持体（以下、ウエ
ブと言う）に磁性塗布液等の塗布液を塗布する塗布方法
としては、例えばエクストルージョン型塗布装置、カー
テンフロー型塗布装置、ブレードドクター型塗布装置、
スライドコート型塗布装置などを用いたものが一般的で
ある。この中でも、エクストルージョン型塗布装置を用
いた塗布方法は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で
用いられている。
ブと言う）に磁性塗布液等の塗布液を塗布する塗布方法
としては、例えばエクストルージョン型塗布装置、カー
テンフロー型塗布装置、ブレードドクター型塗布装置、
スライドコート型塗布装置などを用いたものが一般的で
ある。この中でも、エクストルージョン型塗布装置を用
いた塗布方法は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で
用いられている。
【０００３】しかしながら、上記の如きエクストルージ
ョン型塗布装置は、良好な塗布条件が狭い範囲でしか得
ることができず、高粘度、薄膜塗布及び高速塗布条件下
では所望の塗布を行い得ないという課題を有していた。
特に、磁気記録媒体の製造方法においては、ウェブの厚
さが極めて薄いことや、強磁性塗布液が揺変性、所謂チ
キソトロピックな性質を有していると共に、磁気記録媒
体の高記録密度化を進める結果、磁性体の改良が進み、
高ＳBET 値の酸化磁性粉やバリウムフェライト材料の使
用が図られ、磁性塗布液が高粘度化しているために、塗
布層の薄層化や塗布スピードのアップに伴い塗布層の縦
スジや色ムラ（厚みムラ）の発生が塗布幅全域に広がる
傾向にある。
ョン型塗布装置は、良好な塗布条件が狭い範囲でしか得
ることができず、高粘度、薄膜塗布及び高速塗布条件下
では所望の塗布を行い得ないという課題を有していた。
特に、磁気記録媒体の製造方法においては、ウェブの厚
さが極めて薄いことや、強磁性塗布液が揺変性、所謂チ
キソトロピックな性質を有していると共に、磁気記録媒
体の高記録密度化を進める結果、磁性体の改良が進み、
高ＳBET 値の酸化磁性粉やバリウムフェライト材料の使
用が図られ、磁性塗布液が高粘度化しているために、塗
布層の薄層化や塗布スピードのアップに伴い塗布層の縦
スジや色ムラ（厚みムラ）の発生が塗布幅全域に広がる
傾向にある。
【０００４】これは、塗布ヘッドの液溜めの内径が小さ
過ぎたり、スリットの塗布幅が広すぎたりすると、前記
液溜め内において液供給側から他方の側へ向けて塗布液
の圧力が大きく降下し、塗布ヘッド先端部のスリットか
ら吐出される塗布液の量が塗布ヘッドの幅方向に大きく
変化する為である。この様な解析の結果、特開平１−１
８０２６６号公報に開示されているような提案がされて
いる。これは、エクストルージョン型の塗布ヘッドにお
いて、塗布量、スリットすき間量、スリット長さ、スリ
ット吐出幅及び液溜めの内径を所定の関係式を満足する
ように設定することにより、上記塗布ヘッドの幅方向の
塗布量の変化を抑え、塗布膜の膜厚を均一化しようとし
たものである。
過ぎたり、スリットの塗布幅が広すぎたりすると、前記
液溜め内において液供給側から他方の側へ向けて塗布液
の圧力が大きく降下し、塗布ヘッド先端部のスリットか
ら吐出される塗布液の量が塗布ヘッドの幅方向に大きく
変化する為である。この様な解析の結果、特開平１−１
８０２６６号公報に開示されているような提案がされて
いる。これは、エクストルージョン型の塗布ヘッドにお
いて、塗布量、スリットすき間量、スリット長さ、スリ
ット吐出幅及び液溜めの内径を所定の関係式を満足する
ように設定することにより、上記塗布ヘッドの幅方向の
塗布量の変化を抑え、塗布膜の膜厚を均一化しようとし
たものである。
【０００５】しかしながら、この様な関係式に従って塗
布装置を設定すると、実際にはスリット長さを極めて長
くするか、或はスリット間すき間を極めて狭く設定する
必要が出てくる。すなわち、前者の場合は塗布装置のノ
ズル部分が非常に大きくなってしまうし、後者の場合は
スリットに異物がトラップして塗布面に縦スジの発生が
極めて多くなり現実性に乏しい。また、上記関係式は塗
布液が液溜め内においてポアズイユの流れに従うものと
して設定した式であり、実際の塗布液は非ニュートン性
の強い流体であって、液流速によっても液物性を支配す
る見掛け粘度が変化するし、液溜め内やスリット内にお
いても見掛け粘度が変化するので、塗布装置の各部分の
寸法のみのパラメータによる上記関係式を基にして塗布
装置を設定しても、均一な膜厚を得るための効果は乏し
いものであった。
布装置を設定すると、実際にはスリット長さを極めて長
くするか、或はスリット間すき間を極めて狭く設定する
必要が出てくる。すなわち、前者の場合は塗布装置のノ
ズル部分が非常に大きくなってしまうし、後者の場合は
スリットに異物がトラップして塗布面に縦スジの発生が
極めて多くなり現実性に乏しい。また、上記関係式は塗
布液が液溜め内においてポアズイユの流れに従うものと
して設定した式であり、実際の塗布液は非ニュートン性
の強い流体であって、液流速によっても液物性を支配す
る見掛け粘度が変化するし、液溜め内やスリット内にお
いても見掛け粘度が変化するので、塗布装置の各部分の
寸法のみのパラメータによる上記関係式を基にして塗布
装置を設定しても、均一な膜厚を得るための効果は乏し
いものであった。
【０００６】そこで、特開平３−２０２１７１号公報に
開示されているように、塗布量、スリットすき間量、ス
リット長さ、スリット吐出幅、液溜めの内径及び塗布液
粘度を所定の関係式を満足するように設定し、塗布液の
塗布時における揺変性による液物性をも考慮した塗布装
置によって、色ムラや縦スジの発生を効果的に抑えるこ
とができ、従来以上に高品質な塗布層が形成でき電磁変
換特性にすぐれた磁気記録媒体を製造可能な塗布装置を
提供することができた。
開示されているように、塗布量、スリットすき間量、ス
リット長さ、スリット吐出幅、液溜めの内径及び塗布液
粘度を所定の関係式を満足するように設定し、塗布液の
塗布時における揺変性による液物性をも考慮した塗布装
置によって、色ムラや縦スジの発生を効果的に抑えるこ
とができ、従来以上に高品質な塗布層が形成でき電磁変
換特性にすぐれた磁気記録媒体を製造可能な塗布装置を
提供することができた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
如き塗布装置においても、均一な膜厚を得るための最適
範囲が広いとは言えず、塗布膜厚、塗布スピード及び塗
布液種等の塗布条件によって塗布ヘッドの形状が決めら
れてしまう。即ち、前記特開平３−２０２１７１号公報
に開示された関係式に従って塗布装置を設定しても、前
記塗布条件が変更されると塗布ヘッドを作り直さなけれ
ばならず、設定変更が困難なので、塗布ヘッドの制作コ
ストが上昇するといった問題がある。
如き塗布装置においても、均一な膜厚を得るための最適
範囲が広いとは言えず、塗布膜厚、塗布スピード及び塗
布液種等の塗布条件によって塗布ヘッドの形状が決めら
れてしまう。即ち、前記特開平３−２０２１７１号公報
に開示された関係式に従って塗布装置を設定しても、前
記塗布条件が変更されると塗布ヘッドを作り直さなけれ
ばならず、設定変更が困難なので、塗布ヘッドの制作コ
ストが上昇するといった問題がある。
【０００８】従って、本発明の目的は上記課題を解消す
ることにあり、作り直すことなくあらゆる塗布条件に対
して対応可能な塗布ヘッドを用いて、色ムラや縦スジの
発生を効果的に抑えることができ、塗布膜の膜厚を均一
化することができる安価で容易な塗布方法及び装置を提
供することである。
ることにあり、作り直すことなくあらゆる塗布条件に対
して対応可能な塗布ヘッドを用いて、色ムラや縦スジの
発生を効果的に抑えることができ、塗布膜の膜厚を均一
化することができる安価で容易な塗布方法及び装置を提
供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、液
溜めに供給した塗布液の一部を一端から排出すると共
に、連続的に移動している可撓性帯状支持体の表面に対
向せしめたスリット先端部から塗布液を連続的に排出す
ることにより前記支持体の表面に前記塗布液の薄膜を層
設する塗布方法において、前記スリットのすき間量を
ｄ、塗布液供給側端における前記液溜めから前記スリッ
ト先端部までのスリット深さをＬ1 、塗布液排出側端に
おける前記液溜めから前記スリット先端部までのスリッ
ト深さをＬ2 、前記スリットの吐出幅をｗ、前記液溜め
内での塗布液粘度をηp 、前記スリット内での塗布液粘
度をηs 、前記液溜め内での塗布液の平均流量をＱ、前
記スリットからの塗布液の吐出流量をｑ、前記液溜め内
における塗布液の圧力損失係数をｆ(p) としたときに、
溜めに供給した塗布液の一部を一端から排出すると共
に、連続的に移動している可撓性帯状支持体の表面に対
向せしめたスリット先端部から塗布液を連続的に排出す
ることにより前記支持体の表面に前記塗布液の薄膜を層
設する塗布方法において、前記スリットのすき間量を
ｄ、塗布液供給側端における前記液溜めから前記スリッ
ト先端部までのスリット深さをＬ1 、塗布液排出側端に
おける前記液溜めから前記スリット先端部までのスリッ
ト深さをＬ2 、前記スリットの吐出幅をｗ、前記液溜め
内での塗布液粘度をηp 、前記スリット内での塗布液粘
度をηs 、前記液溜め内での塗布液の平均流量をＱ、前
記スリットからの塗布液の吐出流量をｑ、前記液溜め内
における塗布液の圧力損失係数をｆ(p) としたときに、
【００１０】
【数３】
【００１１】上記数式３を満足するように前記液溜まり
内に交換可能な抵抗体を挿入して液溜まり内の流動抵抗
を調整することを特徴とする塗布方法により達成され
る。又、本発明の上記目的は、液溜めに供給した塗布液
の一部を一端から排出すると共に、連続的に移動してい
る可撓性帯状支持体の表面に対向せしめたスリット先端
部から塗布液を連続的に排出することにより前記支持体
の表面に前記塗布液の薄膜を層設する塗布装置であっ
て、前記液溜め内には交換可能な円柱状の抵抗体が挿入
されており、前記スリットのすき間量をｄ、塗布液供給
側端における前記液溜めから前記スリット先端部までの
スリット深さをＬ1 、塗布液排出側端における前記液溜
めから前記スリット先端部までのスリット深さをＬ2 、
前記スリットの吐出幅をｗ、前記液溜め内での塗布液粘
度をηp 、前記スリット内での塗布液粘度をηs 、前記
液溜め内での塗布液の平均流量をＱ、前記スリットから
の塗布液の吐出流量をｑ、前記液溜めの内径をＤ、前記
抵抗体の直径をＲ、前記液溜めの内径比（Ｒ／Ｄ）をｋ
としたときに、
内に交換可能な抵抗体を挿入して液溜まり内の流動抵抗
を調整することを特徴とする塗布方法により達成され
る。又、本発明の上記目的は、液溜めに供給した塗布液
の一部を一端から排出すると共に、連続的に移動してい
る可撓性帯状支持体の表面に対向せしめたスリット先端
部から塗布液を連続的に排出することにより前記支持体
の表面に前記塗布液の薄膜を層設する塗布装置であっ
て、前記液溜め内には交換可能な円柱状の抵抗体が挿入
されており、前記スリットのすき間量をｄ、塗布液供給
側端における前記液溜めから前記スリット先端部までの
スリット深さをＬ1 、塗布液排出側端における前記液溜
めから前記スリット先端部までのスリット深さをＬ2 、
前記スリットの吐出幅をｗ、前記液溜め内での塗布液粘
度をηp 、前記スリット内での塗布液粘度をηs 、前記
液溜め内での塗布液の平均流量をＱ、前記スリットから
の塗布液の吐出流量をｑ、前記液溜めの内径をＤ、前記
抵抗体の直径をＲ、前記液溜めの内径比（Ｒ／Ｄ）をｋ
としたときに、
【００１２】
【数４】
【００１３】上記数式４を満足するように選定されたこ
とを特徴とする塗布装置によっても達成される。
とを特徴とする塗布装置によっても達成される。
【００１４】
【実施態様】以下、添付した図面に基づいて本発明の実
施態様を詳細に説明する。図１及び図２は本発明方法を
実施するためのエクストルージョン型の塗布ヘッドを示
すものであり、バッキングロール７により支持されて一
定速度で移送されるウエブ４の表面に対し、下方より僅
少の間隙（通常、２〜１５０mm）をもって塗布ヘッド４
０のスリット２の先端部を垂直に対向させるとともに、
前記ウエブ４の表面に対する塗布液の吐出流量ｑよりも
多い供給量Ｑ1 をもって、給液ノズル１２から塗布液３
を液溜め１０内に連続して圧送し、該塗布液３の一部は
前記給液ノズル１２から前記ウエブ４の幅方向に最も離
れた位置即ち前記液溜め１０の他方端に取付けた排液ノ
ズル４１を介して、外部排液手段である引抜ポンプＰ2
の力により前記液溜め１０内の過剰塗布液を抜き取るよ
うになされている。そこで、前記塗布液３は前記液溜め
１０内全域に充満した後、この過剰塗布液の引き抜きに
よりその液圧分布が前記ウエブ４の幅方向にて厳密には
均一化されずに排液ノズル４１側に向かって徐々に圧力
低下が生じる液圧分布の不均一化や液凝集等の問題があ
る程度改善される。
施態様を詳細に説明する。図１及び図２は本発明方法を
実施するためのエクストルージョン型の塗布ヘッドを示
すものであり、バッキングロール７により支持されて一
定速度で移送されるウエブ４の表面に対し、下方より僅
少の間隙（通常、２〜１５０mm）をもって塗布ヘッド４
０のスリット２の先端部を垂直に対向させるとともに、
前記ウエブ４の表面に対する塗布液の吐出流量ｑよりも
多い供給量Ｑ1 をもって、給液ノズル１２から塗布液３
を液溜め１０内に連続して圧送し、該塗布液３の一部は
前記給液ノズル１２から前記ウエブ４の幅方向に最も離
れた位置即ち前記液溜め１０の他方端に取付けた排液ノ
ズル４１を介して、外部排液手段である引抜ポンプＰ2
の力により前記液溜め１０内の過剰塗布液を抜き取るよ
うになされている。そこで、前記塗布液３は前記液溜め
１０内全域に充満した後、この過剰塗布液の引き抜きに
よりその液圧分布が前記ウエブ４の幅方向にて厳密には
均一化されずに排液ノズル４１側に向かって徐々に圧力
低下が生じる液圧分布の不均一化や液凝集等の問題があ
る程度改善される。
【００１５】そして、この構成に加えて本発明の特徴的
な構成、すなわち、前記スリット２の深さ、言い換える
と前記液溜め１０から塗布ヘッド先端までのスリット長
さが、前記給液ノズル１２側から前記排液ノズル４１側
に向かって徐々に小さくなるように構成されていると共
に、前記液溜め１０内には交換可能な円柱状の抵抗体で
あるシャフト１が塗布幅方向に亘って挿入されており、
該液溜め１０が二重円管状に構成されている。更に、各
部分の寸法設定は下記数式５を満足するように構成され
ている。
な構成、すなわち、前記スリット２の深さ、言い換える
と前記液溜め１０から塗布ヘッド先端までのスリット長
さが、前記給液ノズル１２側から前記排液ノズル４１側
に向かって徐々に小さくなるように構成されていると共
に、前記液溜め１０内には交換可能な円柱状の抵抗体で
あるシャフト１が塗布幅方向に亘って挿入されており、
該液溜め１０が二重円管状に構成されている。更に、各
部分の寸法設定は下記数式５を満足するように構成され
ている。
【００１６】
【数５】
【００１７】なお、上記数式５中におけるＤは前記液溜
め１０の内径、ｄは前記スリット２のすき間量、Ｌ1 は
塗布液供給側端における前記液溜め１０から前記スリッ
ト先端部までのスリット深さ、Ｌ2 は塗布液排出側端に
おける前記液溜め１０から前記スリット先端部までのス
リット深さ、ｗは前記スリット２の吐出幅、ηp は前記
液溜め内１０での塗布液粘度、ηs は前記スリット２内
での塗布液粘度、ｋは前記シャフト１の直径をＲとした
時の前記液溜め１０の内径比（Ｒ／Ｄ）である。
め１０の内径、ｄは前記スリット２のすき間量、Ｌ1 は
塗布液供給側端における前記液溜め１０から前記スリッ
ト先端部までのスリット深さ、Ｌ2 は塗布液排出側端に
おける前記液溜め１０から前記スリット先端部までのス
リット深さ、ｗは前記スリット２の吐出幅、ηp は前記
液溜め内１０での塗布液粘度、ηs は前記スリット２内
での塗布液粘度、ｋは前記シャフト１の直径をＲとした
時の前記液溜め１０の内径比（Ｒ／Ｄ）である。
【００１８】また、粘度に関する取り扱いについては、
磁性体やカーボンブラックを溶剤中に分散させた前記塗
布液３はカッソンの式(N.Cassonにより提唱された式)
により表現できる物性を有している。すなわち、各粘度
ηは下記数式６によって表される。
磁性体やカーボンブラックを溶剤中に分散させた前記塗
布液３はカッソンの式(N.Cassonにより提唱された式)
により表現できる物性を有している。すなわち、各粘度
ηは下記数式６によって表される。
【００１９】
【数６】
【００２０】次に、前記液溜め１０内の剪断速度γp に
ついては、そのモデルとして二重円管の層流・完全発達
流の速度プロフィールを考える。このときの平均流量を
Ｑ、管外径をＤ、管内径をＲとしてその内径比（Ｒ／
Ｄ）をｋとすると、下記数式７に示す如く剪断速度γp
は該液溜め１０の径Ｄ、平均流量Ｑ及び内径比ｋによっ
て表すことができる。
ついては、そのモデルとして二重円管の層流・完全発達
流の速度プロフィールを考える。このときの平均流量を
Ｑ、管外径をＤ、管内径をＲとしてその内径比（Ｒ／
Ｄ）をｋとすると、下記数式７に示す如く剪断速度γp
は該液溜め１０の径Ｄ、平均流量Ｑ及び内径比ｋによっ
て表すことができる。
【００２１】
【数７】
【００２２】また、前記スリット２内における剪断速度
γs については、スリットの幅ｄは極めて狭いので、流
速のモデルとしてスリット中央を頂点とした二等辺三角
形状プロフィールを仮定することができる。そして、中
心線よりの距離ｙにおける任意の点の流速ｕは;
γs については、スリットの幅ｄは極めて狭いので、流
速のモデルとしてスリット中央を頂点とした二等辺三角
形状プロフィールを仮定することができる。そして、中
心線よりの距離ｙにおける任意の点の流速ｕは;
【００２３】
【数８】
【００２４】となるので、剪断速度γs は；
【００２５】
【数９】
【００２６】となる。尚、ｑは前記スリット２からの塗
布液３の吐出流量を示すものである。又、本発明におけ
る基本的な考え方は、前記塗布液３が塗布装置の各径路
を通過するときに生じる圧力損失差を考慮して吐出量分
布の均一化を図っているのである。すなわち、図５の塗
布ヘッド内におけるスリット２及び液溜め１０の流路モ
デルを参考にして説明すると、経路Ａと経路Ｃ＋Ｂを考
え、この両者の圧力損失差から導いたスリット幅方向に
おける塗布液の吐出量分布のばらつきの比率は；
布液３の吐出流量を示すものである。又、本発明におけ
る基本的な考え方は、前記塗布液３が塗布装置の各径路
を通過するときに生じる圧力損失差を考慮して吐出量分
布の均一化を図っているのである。すなわち、図５の塗
布ヘッド内におけるスリット２及び液溜め１０の流路モ
デルを参考にして説明すると、経路Ａと経路Ｃ＋Ｂを考
え、この両者の圧力損失差から導いたスリット幅方向に
おける塗布液の吐出量分布のばらつきの比率は；
【００２７】
【数１０】
【００２８】として計算して絶対値を採ればよく、すな
わち、
わち、
【００２９】
【数１１】
【００３０】となる。尚、上記各経路Ａ，Ｂ，Ｃ内の圧
力損失であるζA ，ζB ，ζC は上記数式７及び数式９
より、
力損失であるζA ，ζB ，ζC は上記数式７及び数式９
より、
【００３１】
【数１２】
【００３２】となる。そこで、このζA ，ζB ，ζCを
前記数式１１に代入して前記数式５を導き出すことがで
きる。そして、膜厚の変動率としては通常、±５％程度
を基準とすることにより、高品質な塗布膜が得られるこ
とが知られている。従って、前記数式５の許容値を±５
％に設定し、これを基準にして前記塗布ヘッド４０を構
成することにより、極めて高精度の塗布を行うことがで
きる。
前記数式１１に代入して前記数式５を導き出すことがで
きる。そして、膜厚の変動率としては通常、±５％程度
を基準とすることにより、高品質な塗布膜が得られるこ
とが知られている。従って、前記数式５の許容値を±５
％に設定し、これを基準にして前記塗布ヘッド４０を構
成することにより、極めて高精度の塗布を行うことがで
きる。
【００３３】更に、上記数式５中における下記数式１３
を、液溜め内の寸法形状及び抵抗体の寸法形状により各
々決定される液溜め内における塗布液の圧力損失係数ｆ
(p)とすれば、上記数式５を下記数式１４に示す如き一
般式として表すことができる。
を、液溜め内の寸法形状及び抵抗体の寸法形状により各
々決定される液溜め内における塗布液の圧力損失係数ｆ
(p)とすれば、上記数式５を下記数式１４に示す如き一
般式として表すことができる。
【００３４】
【数１３】
【００３５】
【数１４】
【００３６】上記のように構成された塗布ヘッド４０を
用いた本実施態様の送液系の概略図を図４に示す。スト
ックタンク２０内に貯蔵されている前記塗布液３は給液
ポンプＰ1 により送り出され、このとき流量計ＦＭ1に
て計量しつつフィルタｆを通り前記塗布ヘッド４０に送
り込まれる。又これと同時に、前記排液ノズル４１から
塗布ヘッド内の塗布液３の一部は給液系とは別系統の外
部排液手段である引抜ポンプＰ2 により流量計ＦＭ2 で
計量されつつ引き抜かれる。従って、前記スリット２か
ら流出する前記塗布液３の吐出流量（ｑ）は、前記流量
計ＦＭ1 とＦＭ2 との流量差（Ｑ1 −Ｑ2 ）で現される
量が前記ウエブ４に塗布されることになる。
用いた本実施態様の送液系の概略図を図４に示す。スト
ックタンク２０内に貯蔵されている前記塗布液３は給液
ポンプＰ1 により送り出され、このとき流量計ＦＭ1に
て計量しつつフィルタｆを通り前記塗布ヘッド４０に送
り込まれる。又これと同時に、前記排液ノズル４１から
塗布ヘッド内の塗布液３の一部は給液系とは別系統の外
部排液手段である引抜ポンプＰ2 により流量計ＦＭ2 で
計量されつつ引き抜かれる。従って、前記スリット２か
ら流出する前記塗布液３の吐出流量（ｑ）は、前記流量
計ＦＭ1 とＦＭ2 との流量差（Ｑ1 −Ｑ2 ）で現される
量が前記ウエブ４に塗布されることになる。
【００３７】なお、送液ポンプＰ1 ならびに引抜ポンプ
Ｐ2については、送液が滑らかで安定したものが望まし
く、どのような型式のポンプでもよく特に限定するもの
ではない。特に、前記引抜ポンプＰ2 においては、前記
排液ノズル４１から塗布液３を引き抜く作用を有する手
段であれば、塗布液３の循環用のポンプであってもよ
く、又他の送液手段であってもよい。
Ｐ2については、送液が滑らかで安定したものが望まし
く、どのような型式のポンプでもよく特に限定するもの
ではない。特に、前記引抜ポンプＰ2 においては、前記
排液ノズル４１から塗布液３を引き抜く作用を有する手
段であれば、塗布液３の循環用のポンプであってもよ
く、又他の送液手段であってもよい。
【００３８】上記のように構成された塗布装置によれ
ば、前記塗布ヘッド４０のスリット２から吐出する液量
は送液ポンプＰ1 及び引抜ポンプＰ2 によって微調整で
きて、しかも液溜め内における液流速もコントロールが
し易いだけでなく、前記スリット２の深さが液供給側と
液排出側とで適宜変えた構成としたことで、前記スリッ
ト２から流出する塗布液３の流出抵抗を、前記液溜め１
０内における塗布液３に生じる圧力変動に対応させた状
態として、スリット幅方向における前記塗布液３の流出
量分布を均一に保つことができる。更に、前記シャフト
１の径を適宜変更することにより、前記液溜め１０内の
塗布液３の圧力損失ζC を変更することができるので、
塗布条件が変更されても色ムラや縦スジの発生を効果的
に抑えることができ、塗布膜の膜厚を均一化することが
できる上記数式５を満足する塗布ヘッド４０の設定変更
が容易である。
ば、前記塗布ヘッド４０のスリット２から吐出する液量
は送液ポンプＰ1 及び引抜ポンプＰ2 によって微調整で
きて、しかも液溜め内における液流速もコントロールが
し易いだけでなく、前記スリット２の深さが液供給側と
液排出側とで適宜変えた構成としたことで、前記スリッ
ト２から流出する塗布液３の流出抵抗を、前記液溜め１
０内における塗布液３に生じる圧力変動に対応させた状
態として、スリット幅方向における前記塗布液３の流出
量分布を均一に保つことができる。更に、前記シャフト
１の径を適宜変更することにより、前記液溜め１０内の
塗布液３の圧力損失ζC を変更することができるので、
塗布条件が変更されても色ムラや縦スジの発生を効果的
に抑えることができ、塗布膜の膜厚を均一化することが
できる上記数式５を満足する塗布ヘッド４０の設定変更
が容易である。
【００３９】また、前記液溜め１０内に前記シャフト１
を配設したことにより、該液溜め１０内の塗布液３の剪
断速度が上昇して分散性が向上し、磁性層の電磁変換特
性が向上する。本発明は上記実施態様の塗布装置に限ら
れるものではなく、種々の塗布装置に適用することがで
きることは勿論である。
を配設したことにより、該液溜め１０内の塗布液３の剪
断速度が上昇して分散性が向上し、磁性層の電磁変換特
性が向上する。本発明は上記実施態様の塗布装置に限ら
れるものではなく、種々の塗布装置に適用することがで
きることは勿論である。
【００４０】例えば、図３に示した本発明の他の実施態
様に基づく塗布ヘッド３０は、前記シャフト１の代わり
に抵抗体としてスタチックミキサー２１を液溜め８内に
配設したものであり、上記塗布ヘッド４０と同様に、前
記ウエブ４の表面に対する塗布液の吐出流量ｑよりも多
い供給量Ｑ1 をもって、給液ノズル５から塗布液３を液
溜め８内に連続して圧送し、該塗布液３の一部は排液ノ
ズル６を介して外部排液手段により前記液溜め８内の過
剰塗布液を抜き取るようになされている。
様に基づく塗布ヘッド３０は、前記シャフト１の代わり
に抵抗体としてスタチックミキサー２１を液溜め８内に
配設したものであり、上記塗布ヘッド４０と同様に、前
記ウエブ４の表面に対する塗布液の吐出流量ｑよりも多
い供給量Ｑ1 をもって、給液ノズル５から塗布液３を液
溜め８内に連続して圧送し、該塗布液３の一部は排液ノ
ズル６を介して外部排液手段により前記液溜め８内の過
剰塗布液を抜き取るようになされている。
【００４１】そして、この構成に加えて本発明の特徴的
な構成、すなわち、前記スリット９の深さが、前記給液
ノズル５側から前記排液ノズル６側に向かって徐々に小
さくなるように構成されていると共に、前記液溜め８内
には交換可能な抵抗体であるスタチックミキサー２１が
塗布幅方向に亘って挿入されている。更に、各部分の寸
法設定は下記数式１５を満足するように構成されてい
る。
な構成、すなわち、前記スリット９の深さが、前記給液
ノズル５側から前記排液ノズル６側に向かって徐々に小
さくなるように構成されていると共に、前記液溜め８内
には交換可能な抵抗体であるスタチックミキサー２１が
塗布幅方向に亘って挿入されている。更に、各部分の寸
法設定は下記数式１５を満足するように構成されてい
る。
【００４２】
【数１５】
【００４３】なお、上記数式１５中におけるｄは前記ス
リット９のすき間量、Ｌ1 は塗布液供給側端における前
記液溜め８から前記スリット先端部までのスリット深
さ、Ｌ2 は塗布液排出側端における前記液溜め８から前
記スリット先端部までのスリット深さ、ｗは前記スリッ
ト９の吐出幅、ηp は前記液溜め８内での塗布液粘度、
ηs は前記スリット内９での塗布液粘度、ｆ(p) は前記
液溜め８内における塗布液３の圧力損失係数である。
リット９のすき間量、Ｌ1 は塗布液供給側端における前
記液溜め８から前記スリット先端部までのスリット深
さ、Ｌ2 は塗布液排出側端における前記液溜め８から前
記スリット先端部までのスリット深さ、ｗは前記スリッ
ト９の吐出幅、ηp は前記液溜め８内での塗布液粘度、
ηs は前記スリット内９での塗布液粘度、ｆ(p) は前記
液溜め８内における塗布液３の圧力損失係数である。
【００４４】従って、上記実施態様の塗布ヘッド４０と
同様に、前記スタチックミキサー２１の形状を適宜変更
することにより、前記液溜め８内の塗布液３の圧力損失
係数ｆ(p) を変更することができるので、塗布条件が変
更されても色ムラや縦スジの発生を効果的に抑えること
ができ、塗布膜の膜厚を均一化することができる上記数
式１５を満足する塗布ヘッド３０の設定変更が容易であ
る。
同様に、前記スタチックミキサー２１の形状を適宜変更
することにより、前記液溜め８内の塗布液３の圧力損失
係数ｆ(p) を変更することができるので、塗布条件が変
更されても色ムラや縦スジの発生を効果的に抑えること
ができ、塗布膜の膜厚を均一化することができる上記数
式１５を満足する塗布ヘッド３０の設定変更が容易であ
る。
【００４５】また、前記液溜め８内に前記スタチックミ
キサー２１を配設したことにより、該液溜め８内の塗布
液３の剪断速度が上昇して分散性が向上し、磁性層の電
磁変換特性が向上する。なお、前記給液ノズル５，１２
及び前記排液ノズル６，４１は、それぞれ前記給液ノズ
ル５，１２が前記液溜め８，１０のほぼ中央に位置し、
前記排液ノズル６，４１が前記液溜め８，１０の両端部
に位置した構成であっても良い。又、前記排液ノズル
６，４１が前記液溜め８、１０の端部に限らず、その近
傍の塗布ヘッドブロックに流路を透設してた構成であっ
ても良い。
キサー２１を配設したことにより、該液溜め８内の塗布
液３の剪断速度が上昇して分散性が向上し、磁性層の電
磁変換特性が向上する。なお、前記給液ノズル５，１２
及び前記排液ノズル６，４１は、それぞれ前記給液ノズ
ル５，１２が前記液溜め８，１０のほぼ中央に位置し、
前記排液ノズル６，４１が前記液溜め８，１０の両端部
に位置した構成であっても良い。又、前記排液ノズル
６，４１が前記液溜め８、１０の端部に限らず、その近
傍の塗布ヘッドブロックに流路を透設してた構成であっ
ても良い。
【００４６】なお、図２においては、前記塗布ヘッド４
０を上向きに設けたものを図示したが、必要に応じ前記
塗布ヘッド４０を垂直下向きに前記ウエブ４に対向せし
めることも可能であることは勿論である。更に、本発明
は上記実施態様のようにバッキングロール７が設けられ
た塗布方法に限られるものではなく、該バッキングロー
ル７を配置せずに前記ウエブ４をヘッド先端に直接接す
るように配置し、塗布液３の吐出圧によりヘッド先端と
ウエブ４との所望の間隙を形成しつつ塗布する塗布方法
にも適用可能である。
０を上向きに設けたものを図示したが、必要に応じ前記
塗布ヘッド４０を垂直下向きに前記ウエブ４に対向せし
めることも可能であることは勿論である。更に、本発明
は上記実施態様のようにバッキングロール７が設けられ
た塗布方法に限られるものではなく、該バッキングロー
ル７を配置せずに前記ウエブ４をヘッド先端に直接接す
るように配置し、塗布液３の吐出圧によりヘッド先端と
ウエブ４との所望の間隙を形成しつつ塗布する塗布方法
にも適用可能である。
【００４７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の塗布方法及
び装置は塗布ヘッドにおけるスリットのすき間量、前記
スリットの吐出幅等の構成を、前記液溜め内での塗布液
粘度ηp や塗布液の圧力損失係数ｆ(p) 、及び前記スリ
ット内での塗布液粘度ηs のごとく実際の塗布における
極めて重要な要素を考慮した式に基づいて設定すると共
に、該液溜まり内に交換可能な抵抗体を挿入して液溜ま
り内の流動抵抗を調整可能としたので、該塗布ヘッドは
あらゆる塗布条件に対しても作り直すことなく前記式に
対応し、塗布面全域にわたって膜厚が安定し、且つ色ム
ラや縦スジのない高精度の塗布を行うことができる。
び装置は塗布ヘッドにおけるスリットのすき間量、前記
スリットの吐出幅等の構成を、前記液溜め内での塗布液
粘度ηp や塗布液の圧力損失係数ｆ(p) 、及び前記スリ
ット内での塗布液粘度ηs のごとく実際の塗布における
極めて重要な要素を考慮した式に基づいて設定すると共
に、該液溜まり内に交換可能な抵抗体を挿入して液溜ま
り内の流動抵抗を調整可能としたので、該塗布ヘッドは
あらゆる塗布条件に対しても作り直すことなく前記式に
対応し、塗布面全域にわたって膜厚が安定し、且つ色ム
ラや縦スジのない高精度の塗布を行うことができる。
【００４８】従って、色ムラや縦スジの発生を効果的に
抑えることができ、塗布膜の膜厚を均一化することがで
きる良好な塗布状態を広範囲な塗布条件に対して対応さ
せることができる安価で容易な塗布方法及び装置を提供
することができる。
抑えることができ、塗布膜の膜厚を均一化することがで
きる良好な塗布状態を広範囲な塗布条件に対して対応さ
せることができる安価で容易な塗布方法及び装置を提供
することができる。
【００４９】
【実施例】次に、実施例により本発明塗布方法及び装置
の新規な効果を一層明確にする。下記表に示す各組成の
成分を各々ボールミルに入れて十分に混合分散させたの
ち、それぞれにエポキシ樹脂（エポキシ当量５００）を
３０重量部を加えて均一に混合分散させて磁性塗布液
（磁性分散液）Ａ，Ｂとした。
の新規な効果を一層明確にする。下記表に示す各組成の
成分を各々ボールミルに入れて十分に混合分散させたの
ち、それぞれにエポキシ樹脂（エポキシ当量５００）を
３０重量部を加えて均一に混合分散させて磁性塗布液
（磁性分散液）Ａ，Ｂとした。
【００５０】 ＜磁性塗布液Ａ＞ ・γ−Ｆｅ2 Ｏ3 粉末 ３００重量部 （長径方向の平均粒径：０．５μｍの針状粒子 抗磁力：３２０エルステッド） ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０重量部 （共重合比： ８７：１３ 重合度：４００） ・導電性カーボン ２０重量部 ・ポリアミド樹脂 １５重量部 （アミン価：３００） ・レシチン ６重量部 ・シリコンオイル ３重量部 （ジメチルポリシロキサン） ・キシロール ３００重量部 ・メチルイソブチルケトン ３００重量部 ・ｎ−ブタノール １００重量部
【００５１】 ＜磁性塗布液Ｂ＞ ・強磁性金属微粉末 １００重量部 （組成：Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４ 抗磁力：１６００エルステッド ＢＥＴ比表面積：６０ｍ2 ／ｇ 針状比：１０） ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 １２重量部 （重合度：３００） ・ポリエステルポリウレタン樹脂 ３重量部 ・α−アルミナ ２重量部 （粒子サイズ：０．３μｍ） ・カーボンブラック ０．５重量部 （粒子サイズ：０．１μｍ） ・ブチルステアレート １重量部 ・ステアリン酸 ２重量部 ・メチルエチルケトン ２００重量部
【００５２】こうして得られた磁性塗布液Ａ，Ｂの平衡
粘度を参考のために島津製作所の島津レオメータＲＭ−
１により測定したところ剪断速度が１０ sec-1において
それぞれ２４，２１poise を示した。また、それぞれの
磁性塗布液Ａ，Ｂのカッソン係数は以下の通りであっ
た。 磁性塗布液Ａ Ｓ1/2 ＝０．３５６×γ1/2 ＋１４．１３８ 磁性塗布液Ｂ Ｓ1/2 ＝０．２０９×γ1/2 ＋１４．０８５ 更に、塗布装置としては基本的構成が上記実施態様の図
１、図２及び図４に示す塗布ヘッド４０を用い、抵抗体
であるシャフト１の径を２，５mmと変えると共に、スリ
ット２からの塗布液の吐出流量ｑをそれぞれ３００，５
００，１０００，２０００，３０００cc／分と変えて上
記磁性塗布液Ａ，Ｂを下記塗布条件でそれぞれウエブ４
上へ塗布してサンプルの磁気テープを作成した。
粘度を参考のために島津製作所の島津レオメータＲＭ−
１により測定したところ剪断速度が１０ sec-1において
それぞれ２４，２１poise を示した。また、それぞれの
磁性塗布液Ａ，Ｂのカッソン係数は以下の通りであっ
た。 磁性塗布液Ａ Ｓ1/2 ＝０．３５６×γ1/2 ＋１４．１３８ 磁性塗布液Ｂ Ｓ1/2 ＝０．２０９×γ1/2 ＋１４．０８５ 更に、塗布装置としては基本的構成が上記実施態様の図
１、図２及び図４に示す塗布ヘッド４０を用い、抵抗体
であるシャフト１の径を２，５mmと変えると共に、スリ
ット２からの塗布液の吐出流量ｑをそれぞれ３００，５
００，１０００，２０００，３０００cc／分と変えて上
記磁性塗布液Ａ，Ｂを下記塗布条件でそれぞれウエブ４
上へ塗布してサンプルの磁気テープを作成した。
【００５３】＜塗布条件＞ ・塗膜厚が３μｍとなるように塗布速度を変えてサンプ
ルを作成した。 ・ウエブの厚さ：１５μｍ ・スリットの吐出幅（ｗ）：５００mm ・スリットのすき間量（ｄ）：０．３mm ・液溜め内径（Ｄ）：１５mm ・塗布液供給側スリット深さを（Ｌ1 ）：６０mm ・塗布液排出側スリット深さを（Ｌ2 ）：５０mm
ルを作成した。 ・ウエブの厚さ：１５μｍ ・スリットの吐出幅（ｗ）：５００mm ・スリットのすき間量（ｄ）：０．３mm ・液溜め内径（Ｄ）：１５mm ・塗布液供給側スリット深さを（Ｌ1 ）：６０mm ・塗布液排出側スリット深さを（Ｌ2 ）：５０mm
【００５４】そして、上記数式５に示した本発明に基づ
く塗布液の吐出量分布のばらつきの比率を各塗布条件に
ついて算出すると共に、各サンプル磁気テープの電磁変
換出力の測定及び録画／再生画面による視覚での検査を
行い評価を行った。その結果を表１に示す。尚、上記電
磁変換出力の測定にはＹＨＰ（株）製スペクトルアナラ
イザを用い、前記磁性塗布液Ａについては３．８ＭＨ
ｚ、前記磁性塗布液Ｂについては５．０ＭＨｚの信号の
出力を測定した。録画／再生画面による視覚検査ではテ
ストパターンを録画／再生し、モニター画像の解像度等
を目視評価した。
く塗布液の吐出量分布のばらつきの比率を各塗布条件に
ついて算出すると共に、各サンプル磁気テープの電磁変
換出力の測定及び録画／再生画面による視覚での検査を
行い評価を行った。その結果を表１に示す。尚、上記電
磁変換出力の測定にはＹＨＰ（株）製スペクトルアナラ
イザを用い、前記磁性塗布液Ａについては３．８ＭＨ
ｚ、前記磁性塗布液Ｂについては５．０ＭＨｚの信号の
出力を測定した。録画／再生画面による視覚検査ではテ
ストパターンを録画／再生し、モニター画像の解像度等
を目視評価した。
【００５５】更に、表１中の評価において、○は電磁変
換出力及び録画／再生画面の画像が良好であることを示
し、△は電磁変換出力が塗布幅方向に１ｄＢ以上の出力
変動有し、録画／再生画面の画像が良好であることを示
し、×は電磁変換出力及び録画／再生画面の画像が異常
であることを示す。
換出力及び録画／再生画面の画像が良好であることを示
し、△は電磁変換出力が塗布幅方向に１ｄＢ以上の出力
変動有し、録画／再生画面の画像が良好であることを示
し、×は電磁変換出力及び録画／再生画面の画像が異常
であることを示す。
【００５６】
【表１】
【００５７】表１から明らかなように、本発明に基づい
た塗布装置によれば、各塗布条件に対して最適な塗布ヘ
ッドの設定を容易に行うことができた。
た塗布装置によれば、各塗布条件に対して最適な塗布ヘ
ッドの設定を容易に行うことができた。
【図１】本発明の一実施態様に基づく塗布装置の要部を
示す部分断面斜視図である。
示す部分断面斜視図である。
【図２】本発明の一実施態様に基づく塗布装置の要部を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図３】本発明の他の実施態様に基づく塗布装置の要部
を示す部分断面斜視図である。
を示す部分断面斜視図である。
【図４】図１に示した塗布装置を用いた塗布工程の概略
図である。
図である。
【図５】本発明の塗布ヘッド内におけるスリット及び液
溜めの流路モデルを示した模式図である。
溜めの流路モデルを示した模式図である。
１ シャフト ２ スリット ３ 塗布液 ４ ウエブ ５ 給液ノズル ６ 排液ノズル ７ バッキングロール ８ 液溜め ９ スリット １０ 液溜め、 １２ 供給ノズル ２０ ストックタンク ３０ 塗布ヘッド ４０ 塗布ヘッド ４１ 排液ノズル
Claims (2)
- 【請求項１】 液溜めに供給した塗布液の一部を一端か
ら排出すると共に、連続的に移動している可撓性帯状支
持体の表面に対向せしめたスリット先端部から塗布液を
連続的に排出することにより前記支持体の表面に前記塗
布液の薄膜を層設する塗布方法において、前記スリット
のすき間量をｄ、塗布液供給側端における前記液溜めか
ら前記スリット先端部までのスリット深さをＬ1 、塗布
液排出側端における前記液溜めから前記スリット先端部
までのスリット深さをＬ2 、前記スリットの吐出幅を
ｗ、前記液溜め内での塗布液粘度をηp 、前記スリット
内での塗布液粘度をηs 、前記液溜め内での塗布液の平
均流量をＱ、前記スリットからの塗布液の吐出流量を
ｑ、前記液溜め内における塗布液の圧力損失係数をｆ
(p) としたときに、 【数１】 上記数式１を満足するように前記液溜まり内に交換可能
な抵抗体を挿入して液溜まり内の流動抵抗を調整するこ
とを特徴とする塗布方法。 - 【請求項２】 液溜めに供給した塗布液の一部を一端か
ら排出すると共に、連続的に移動している可撓性帯状支
持体の表面に対向せしめたスリット先端部から塗布液を
連続的に排出することにより前記支持体の表面に前記塗
布液の薄膜を層設する塗布装置であって、前記液溜め内
には交換可能な円柱状の抵抗体が挿入されており、前記
スリットのすき間量をｄ、塗布液供給側端における前記
液溜めから前記スリット先端部までのスリット深さをＬ
1 、塗布液排出側端における前記液溜めから前記スリッ
ト先端部までのスリット深さをＬ2 、前記スリットの吐
出幅をｗ、前記液溜め内での塗布液粘度をηp 、前記ス
リット内での塗布液粘度をηs 、前記液溜め内での塗布
液の平均流量をＱ、前記スリットからの塗布液の吐出流
量をｑ、前記液溜めの内径をＤ、前記抵抗体の直径を
Ｒ、前記液溜めの内径比（Ｒ／Ｄ）をｋとしたときに、 【数２】 上記数式２を満足するように選定されたことを特徴とす
る塗布装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3335576A JP2572325B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 塗布方法及び装置 |
| EP92120094A EP0545259B1 (en) | 1991-11-26 | 1992-11-25 | Coating method and apparatus having an exchangeable resisting body insertable in the reservoir |
| DE69217847T DE69217847T2 (de) | 1991-11-26 | 1992-11-25 | Beschichtungsmethode und Vorrichtung mit einem austauschbaren Flusswiederstandskörper welcher in die Extrusionskammer einfügbar ist |
| US08/257,506 US5501737A (en) | 1991-11-26 | 1994-06-08 | Coating method and apparatus having an exchangeable resisting body insertable in the reservoir |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3335576A JP2572325B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 塗布方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05146734A JPH05146734A (ja) | 1993-06-15 |
| JP2572325B2 true JP2572325B2 (ja) | 1997-01-16 |
Family
ID=18290130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3335576A Expired - Fee Related JP2572325B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 塗布方法及び装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5501737A (ja) |
| EP (1) | EP0545259B1 (ja) |
| JP (1) | JP2572325B2 (ja) |
| DE (1) | DE69217847T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US20170304858A1 (en) * | 2013-06-27 | 2017-10-26 | William K. Leonard | Fluid transport media |
| KR20210147306A (ko) | 2020-05-28 | 2021-12-07 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 슬롯 다이 코팅장치 |
| CN114453190B (zh) * | 2021-09-24 | 2023-05-26 | 湖南红鑫通信技术有限责任公司 | 一种电子设备制造加工用一体式点胶机构及其使用方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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