JP2645613B2 - 磁気記録媒体の塗布方法 - Google Patents
磁気記録媒体の塗布方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチックフイルム、
紙、金属箔等を形成してなる可撓性支持体（以下、ウエ
ブという）に、少なくとも磁性体及びバインダーを含む
磁性液を塗布する塗布方法に関するものである。
紙、金属箔等を形成してなる可撓性支持体（以下、ウエ
ブという）に、少なくとも磁性体及びバインダーを含む
磁性液を塗布する塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来、ウエブに塗布液を塗布する塗布方法
としては、エクストルージョン型塗布装置、カーテンフ
ロー型塗布装置、ブレードドクター型塗布装置、スライ
ドコート型塗布装置等を用いた塗布方法が一般的であ
る。この中でも、エクストルージョン型塗布装置を用い
た塗布方法は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で用
いられている（特開昭５７−８４７７１号、同５８−１
０４６６６号、同６０−２３８１７９号公報等）。
としては、エクストルージョン型塗布装置、カーテンフ
ロー型塗布装置、ブレードドクター型塗布装置、スライ
ドコート型塗布装置等を用いた塗布方法が一般的であ
る。この中でも、エクストルージョン型塗布装置を用い
た塗布方法は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で用
いられている（特開昭５７−８４７７１号、同５８−１
０４６６６号、同６０−２３８１７９号公報等）。
【０００３】しかしながら、上記の如きエクストルージ
ョン型塗布装置を用いた塗布方法では、良好な塗布条件
が狭い範囲でしか得ることができない。
ョン型塗布装置を用いた塗布方法では、良好な塗布条件
が狭い範囲でしか得ることができない。
【０００４】ところで、近年、磁気記録媒体の高密度化
や多層化が進み、それに伴って磁気記録媒体の製造工程
においてもウエブ上に塗布する磁性層の塗布厚みの薄層
化が必要となってきている。また、一方では生産性向上
のため、ウエブ上へ塗布液を塗布する塗布スピードのア
ップも望まれており、更に、磁性体の改良が進み、高Ｓ
BET 値の酸化磁性粉やバリウムフェライト材料の使用が
図られ、塗布液が高粘度化している。
や多層化が進み、それに伴って磁気記録媒体の製造工程
においてもウエブ上に塗布する磁性層の塗布厚みの薄層
化が必要となってきている。また、一方では生産性向上
のため、ウエブ上へ塗布液を塗布する塗布スピードのア
ップも望まれており、更に、磁性体の改良が進み、高Ｓ
BET 値の酸化磁性粉やバリウムフェライト材料の使用が
図られ、塗布液が高粘度化している。
【０００５】このため、塗布液の良好な塗布条件が得が
たい上、塗布液の高凝集性により塗布層表面の表面性が
悪化し、安定した良好な塗布層が得られないといった問
題があった。
たい上、塗布液の高凝集性により塗布層表面の表面性が
悪化し、安定した良好な塗布層が得られないといった問
題があった。
【０００６】そこで、特開平１−１８９３６９号公報に
開示されているように、スロット内の塗布液の流動性を
規定することにより、塗布性、特に電磁変換特性を向上
させる塗布装置が提案されている。
開示されているように、スロット内の塗布液の流動性を
規定することにより、塗布性、特に電磁変換特性を向上
させる塗布装置が提案されている。
【０００７】これは、スロットの出口端幅、スロット内
における塗布液の平均流速及び塗布液の平均粘度によつ
て得られる流動指標より塗布液の流動性を規定し、塗布
装置の設計条件を規定するものである。
における塗布液の平均流速及び塗布液の平均粘度によつ
て得られる流動指標より塗布液の流動性を規定し、塗布
装置の設計条件を規定するものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
塗布装置を用いても必ず良好な塗布層を得ることができ
るとは言いがたく、特に磁性体のＳBET 値が高くて粘度
の高い塗布液（ＳBET 値が４５ｍ2 ／ｇ以上）ほど所望
の電磁変換特性を得ることが難しかった。
塗布装置を用いても必ず良好な塗布層を得ることができ
るとは言いがたく、特に磁性体のＳBET 値が高くて粘度
の高い塗布液（ＳBET 値が４５ｍ2 ／ｇ以上）ほど所望
の電磁変換特性を得ることが難しかった。
【０００９】そこで本発明者らは、塗布性、特に電磁変
換特性を規定する塗布条件の要因について鋭意検討の結
果、これはスロット内での塗布液の流動性もさることな
がら、最終的には塗布液のドクターエッジ面上での流動
性であることを見出した。即ち、前記スロット内での塗
布液の流動性を規定しても、該塗布液は塗布液の再凝集
性等によりドクターエッジ面上で流動性が変化してしま
うので、磁性層表面に微細なスジ状の面粗れが発生して
磁気記録媒体の電磁変換特性を低下させる。従って、ド
クターエッジ面上での塗布液の最終的な流動性が重要と
なる。
換特性を規定する塗布条件の要因について鋭意検討の結
果、これはスロット内での塗布液の流動性もさることな
がら、最終的には塗布液のドクターエッジ面上での流動
性であることを見出した。即ち、前記スロット内での塗
布液の流動性を規定しても、該塗布液は塗布液の再凝集
性等によりドクターエッジ面上で流動性が変化してしま
うので、磁性層表面に微細なスジ状の面粗れが発生して
磁気記録媒体の電磁変換特性を低下させる。従って、ド
クターエッジ面上での塗布液の最終的な流動性が重要と
なる。
【００１０】したがって、本発明の目的は上記問題点を
解消することにあり、磁気記録媒体の塗布条件を明らか
にし、塗布性、特に磁性体のＳBET 値が高くて粘度の高
い塗布液を塗布した際の磁気記録媒体の電磁変換特性
が、十分に満足できる磁気記録媒体の塗布方法を提供す
ることにある。
解消することにあり、磁気記録媒体の塗布条件を明らか
にし、塗布性、特に磁性体のＳBET 値が高くて粘度の高
い塗布液を塗布した際の磁気記録媒体の電磁変換特性
が、十分に満足できる磁気記録媒体の塗布方法を提供す
ることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、バ
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体表面にスロット先端部からＳBET 値
（単位質量当たりの表面積である比表面積）が４５ｍ2
／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性体のＳBET 値に対
する単位重量当たりの主バインダーの添加量が２．３ｍ
ｇ／ｍ2 以上である塗布液を連続的に押出して該支持体
表面に塗布液を塗布する磁気記録媒体の塗布方法であっ
て、前記ドクターエッジ面の支持体走行方向におけるド
クターエッジ面上長さをＬ、前記ドクターエッジ面上に
おける前記塗布液の平均流速をＶ、前記ドクターエッジ
面上における前記塗布液の剪断速度をΓとしたとき、
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体表面にスロット先端部からＳBET 値
（単位質量当たりの表面積である比表面積）が４５ｍ2
／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性体のＳBET 値に対
する単位重量当たりの主バインダーの添加量が２．３ｍ
ｇ／ｍ2 以上である塗布液を連続的に押出して該支持体
表面に塗布液を塗布する磁気記録媒体の塗布方法であっ
て、前記ドクターエッジ面の支持体走行方向におけるド
クターエッジ面上長さをＬ、前記ドクターエッジ面上に
おける前記塗布液の平均流速をＶ、前記ドクターエッジ
面上における前記塗布液の剪断速度をΓとしたとき、
【００１２】
【００１３】上記(1) 式により求められる流動指数Ａが
１００以上となる様に前記塗布液を塗布することを特徴
とする磁気記録媒体の塗布方法により達成される。
１００以上となる様に前記塗布液を塗布することを特徴
とする磁気記録媒体の塗布方法により達成される。
【００１４】尚、上記ドクターエッジ面上長さＬ、前記
ドクターエッジ面上における塗布液の平均流速Ｖおよび
剪断速度Γは、エクストルージョンヘッドを用いてウエ
ブ上に磁性塗布液を塗布する際の前記エクストルージョ
ンヘッドの形状、塗布速度、塗布液の供給液圧、塗布厚
み及び物性等の諸条件により決定される。
ドクターエッジ面上における塗布液の平均流速Ｖおよび
剪断速度Γは、エクストルージョンヘッドを用いてウエ
ブ上に磁性塗布液を塗布する際の前記エクストルージョ
ンヘッドの形状、塗布速度、塗布液の供給液圧、塗布厚
み及び物性等の諸条件により決定される。
【００１５】
【実施態様】以下、本発明に基づく塗布方法の一実施態
様を添付図面に基づいて詳細に説明する。
様を添付図面に基づいて詳細に説明する。
【００１６】図１及び図２は本発明の塗布方法の一例を
示す説明図であり、本発明で用いるエクストルージョン
型塗布装置の一例を示すものである。エクストルージョ
ンヘッド１は、図１に示す様な給液系２、ポケット部
３、スロット部４、ドクターエッジ部５及びバックエッ
ジ部６から成り、一定速度（Ｒ）で搬送されるウエブ８
上にＳBET 値（単位質量当たりの表面積である比表面
積）が４５ｍ2 ／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性体
のＳBET 値に対する単位重量当たりの主バインダーの添
加量が２．３ｍｇ／ｍ2 以上である磁性塗布液９を均一
な厚さに塗布するものである。
示す説明図であり、本発明で用いるエクストルージョン
型塗布装置の一例を示すものである。エクストルージョ
ンヘッド１は、図１に示す様な給液系２、ポケット部
３、スロット部４、ドクターエッジ部５及びバックエッ
ジ部６から成り、一定速度（Ｒ）で搬送されるウエブ８
上にＳBET 値（単位質量当たりの表面積である比表面
積）が４５ｍ2 ／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性体
のＳBET 値に対する単位重量当たりの主バインダーの添
加量が２．３ｍｇ／ｍ2 以上である磁性塗布液９を均一
な厚さに塗布するものである。
【００１７】前記給液系２は、前記エクストルージョン
ヘッド１の躯体よりも外部にあって前記磁性塗布液９を
連続的にかつ一定の流量で送液可能な定量送液ポンプ手
段（図示せず）、並びに前記エクストルージョンヘッド
１の躯体内部を前記ウエブ８の幅方向に透設した前記ポ
ケット部３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材を
夫々具備して成っている。
ヘッド１の躯体よりも外部にあって前記磁性塗布液９を
連続的にかつ一定の流量で送液可能な定量送液ポンプ手
段（図示せず）、並びに前記エクストルージョンヘッド
１の躯体内部を前記ウエブ８の幅方向に透設した前記ポ
ケット部３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材を
夫々具備して成っている。
【００１８】前記スロット部４は、前記ポケット部３か
ら前記ウエブ８に向け、開口幅をもって前記エクストル
ージョンヘッド１の躯体内部を貫通しかつ前記ポケット
部３と同じように前記ウエブ８の幅方向に延長された比
較的狭い流路であり、前記ウエブ８の幅方向の開口長さ
は塗布幅とほぼ等しい。
ら前記ウエブ８に向け、開口幅をもって前記エクストル
ージョンヘッド１の躯体内部を貫通しかつ前記ポケット
部３と同じように前記ウエブ８の幅方向に延長された比
較的狭い流路であり、前記ウエブ８の幅方向の開口長さ
は塗布幅とほぼ等しい。
【００１９】前記ドクターエッジ部５は、前記スロット
部４の出口から前記ウエブ８の下流側に位置し、且つ前
記ウエブ８に対向するエッジ面７全域が、三角形状の断
面形状をもって形成され、その突出頂角θは135 度以上
の鈍角に設定される。更に、前記突出頂角の頂点の上流
側エッジ面長さ l1 は0.5 〜15mmの範囲に設定され、前
記頂点の下流側エッジ面長さ l2 は0.1 〜2 mmの範囲に
設定される。
部４の出口から前記ウエブ８の下流側に位置し、且つ前
記ウエブ８に対向するエッジ面７全域が、三角形状の断
面形状をもって形成され、その突出頂角θは135 度以上
の鈍角に設定される。更に、前記突出頂角の頂点の上流
側エッジ面長さ l1 は0.5 〜15mmの範囲に設定され、前
記頂点の下流側エッジ面長さ l2 は0.1 〜2 mmの範囲に
設定される。
【００２０】一方、前記バックエッジ部６は、前記スロ
ット部４の出口から前記ウエブ８の上流側に位置し、且
つ前記ウエブ８に対向するエッジ面を有している。そこ
で、上記エクストルージョンヘッド１によって前記ウエ
ブ８上に塗布液９を塗布する際の前記エッジ面７と前記
ウエブ８表面との間隙である液厚みはｈとなる。
ット部４の出口から前記ウエブ８の上流側に位置し、且
つ前記ウエブ８に対向するエッジ面を有している。そこ
で、上記エクストルージョンヘッド１によって前記ウエ
ブ８上に塗布液９を塗布する際の前記エッジ面７と前記
ウエブ８表面との間隙である液厚みはｈとなる。
【００２１】従って、本発明における支持体走行方向の
上記ドクターエッジ面上長さＬ、前記ドクターエッジ面
上の塗布液の平均流速Ｖおよび剪断速度Γは、下式より
ほぼ近似値を得ることができる。
上記ドクターエッジ面上長さＬ、前記ドクターエッジ面
上の塗布液の平均流速Ｖおよび剪断速度Γは、下式より
ほぼ近似値を得ることができる。
【００２２】 Ｌ＝ l1 ＋ l2 ・・・(2) Ｖ＝Ｒ／２ ・・・(3) Γ＝Ｒ／２ｈ ・・・(4)
【００２３】但し、上記平均流速Ｖおよび剪断速度Γ
は、上記(3) 式および(4) 式に限らず他の方法によって
近似値を推定或いは測定することも可能である。
は、上記(3) 式および(4) 式に限らず他の方法によって
近似値を推定或いは測定することも可能である。
【００２４】そこで、この様にして得られた前記ドクタ
ーエッジ面上長さＬ、前記ドクターエッジ面上における
塗布液の平均流速Ｖおよび剪断速度Γの近似値より、本
発明において定める流動指数Ａを求め、この流動指数Ａ
が100 以上となる様な塗布条件で前記ウエブ８上に磁性
塗布液９を塗布すれば良い。特に、前記剪断速度Γは２
×104 （sec -1）以上となる様に塗布条件を設定するこ
とが好ましい。
ーエッジ面上長さＬ、前記ドクターエッジ面上における
塗布液の平均流速Ｖおよび剪断速度Γの近似値より、本
発明において定める流動指数Ａを求め、この流動指数Ａ
が100 以上となる様な塗布条件で前記ウエブ８上に磁性
塗布液９を塗布すれば良い。特に、前記剪断速度Γは２
×104 （sec -1）以上となる様に塗布条件を設定するこ
とが好ましい。
【００２５】即ち、前記流動指数Ａは塗布液のドクター
エッジ面上での流動性を規定するものであり、塗布液の
再凝集性等によりドクターエッジ面上で流動性が変化し
易い高ＳBET 値で粘度の高い磁性塗布液の流動性を正確
に表すことができるので、特に電磁変換特性を規定する
塗布条件を最適に設定することができる。
エッジ面上での流動性を規定するものであり、塗布液の
再凝集性等によりドクターエッジ面上で流動性が変化し
易い高ＳBET 値で粘度の高い磁性塗布液の流動性を正確
に表すことができるので、特に電磁変換特性を規定する
塗布条件を最適に設定することができる。
【００２６】尚、本発明の塗布方法は、上記実施態様に
おけるエクストルージョンヘッドの形状に限定されるも
のではなく、異なるバックエッジ面形状及びドクターエ
ッジ面形状を有するエクストルージョンヘッドについて
も適用できることは勿論である。例えば、前記ドクター
エッジ面の上流側エッジ面形状が前記スロット部の出口
端部に連続する湾曲面に構成され、下流側エッジ面形状
が前記上流側エッジ面の接線上をドクターエッジ下流に
延長してなる平面により構成されたドクターエッジ面形
状の場合、支持体走行方向における前記上流側エッジ面
の湾曲面長さと下流側エッジ面の面長さとの和により、
支持体走行方向の上記ドクターエッジ面上長さＬを求め
ることができる。
おけるエクストルージョンヘッドの形状に限定されるも
のではなく、異なるバックエッジ面形状及びドクターエ
ッジ面形状を有するエクストルージョンヘッドについて
も適用できることは勿論である。例えば、前記ドクター
エッジ面の上流側エッジ面形状が前記スロット部の出口
端部に連続する湾曲面に構成され、下流側エッジ面形状
が前記上流側エッジ面の接線上をドクターエッジ下流に
延長してなる平面により構成されたドクターエッジ面形
状の場合、支持体走行方向における前記上流側エッジ面
の湾曲面長さと下流側エッジ面の面長さとの和により、
支持体走行方向の上記ドクターエッジ面上長さＬを求め
ることができる。
【００２７】また、本発明に用いる可撓性支持体として
は、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム、
紙、金属シート等が挙げられる。
は、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム、
紙、金属シート等が挙げられる。
【００２８】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体の塗布方法は、バ
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体表面にスロット先端部からＳBET 値
（単位質量当たりの表面積である比表面積）が４５ｍ2
／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性体のＳBET 値に対
する単位重量当たりの主バインダーの添加量が２．３ｍ
ｇ／ｍ2 以上である塗布液を連続的に押出して該支持体
表面に塗布液を塗布する磁気記録媒体の塗布方法であっ
て、前記ドクターエッジ面の支持体走行方向におけるド
クターエッジ面上長さをＬ、前記ドクターエッジ面上に
おける前記塗布液の平均流速をＶ、前記ドクターエッジ
面上における前記塗布液の剪断速度をΓとしたとき、
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体表面にスロット先端部からＳBET 値
（単位質量当たりの表面積である比表面積）が４５ｍ2
／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性体のＳBET 値に対
する単位重量当たりの主バインダーの添加量が２．３ｍ
ｇ／ｍ2 以上である塗布液を連続的に押出して該支持体
表面に塗布液を塗布する磁気記録媒体の塗布方法であっ
て、前記ドクターエッジ面の支持体走行方向におけるド
クターエッジ面上長さをＬ、前記ドクターエッジ面上に
おける前記塗布液の平均流速をＶ、前記ドクターエッジ
面上における前記塗布液の剪断速度をΓとしたとき、
【００２９】
【００３０】上記(1) 式により求められる流動指数Ａが
１００以上となる様に前記塗布液を塗布する。
１００以上となる様に前記塗布液を塗布する。
【００３１】即ち、前記流動指数Ａは塗布液のドクター
エッジ面上での流動性を規定するものであり、塗布液の
再凝集性等によりドクターエッジ面上で流動性が変化し
易い高ＳBET 値で粘度の高い磁性塗布液の流動性を正確
に表すことができる。
エッジ面上での流動性を規定するものであり、塗布液の
再凝集性等によりドクターエッジ面上で流動性が変化し
易い高ＳBET 値で粘度の高い磁性塗布液の流動性を正確
に表すことができる。
【００３２】従って、塗布性、特に磁性体のＳBET 値が
高くて粘度の高い塗布液を塗布した際の磁気記録媒体の
電磁変換特性が、十分に満足できる磁気記録媒体の塗布
方法を提供することができる。
高くて粘度の高い塗布液を塗布した際の磁気記録媒体の
電磁変換特性が、十分に満足できる磁気記録媒体の塗布
方法を提供することができる。
【００３３】
【実施例】以下、本発明の一実施例により本発明の新規
な効果をより明確にする。
な効果をより明確にする。
【００３４】〔塗布液〕 下記組成成分の磁性塗布液をボールミルに入れて１０．
５時間混合分散して塗布液Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを調製した。
但し、該塗布液Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは、それぞれ分散される
合金磁性体のＳBET 値が４５，５０，５５，６０ｍ2 ／
ｇのものを使用し、更に主バインダーである塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体及びウレタンを表１の組成として
各々合金磁性体毎に４つの塗布液を作製した。
５時間混合分散して塗布液Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを調製した。
但し、該塗布液Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは、それぞれ分散される
合金磁性体のＳBET 値が４５，５０，５５，６０ｍ2 ／
ｇのものを使用し、更に主バインダーである塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体及びウレタンを表１の組成として
各々合金磁性体毎に４つの塗布液を作製した。
【００３５】 （組成） ・合金磁性体（メタル磁性粉、金属Ｆｅ） １００ 重量部 ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 Ｘ 重量部 （スルフォン酸ソーダ、エポキシ基含有） ・ウレタン（スルフォン酸基含有ポリウレタン） Ｙ 重量部 ・硬化剤（コロネートＬ） ５ 重量部 ・ステアリン酸 ０．５ 重量部 ・オレイン酸 ０．５ 重量部 ・ブチルステアレート １ 重量部 ・カーボンブラック（平均粒径＝80ｍμｍ） １ 重量部 ・研磨剤（αＡｌ2 Ｏ3 ） １０ 重量部 ・メチルエチルケトン １８０ 重量部 ・シクロヘキサノン １２０ 重量部
【００３６】
【表１】
【００３７】〔実施例１〕 厚さ２０μｍ、幅３００mmのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に、上記実施態様に記載したエクストルージ
ョン型塗布装置を用いて上記塗布液Ｎｏ．Ａ１〜Ｄ４を
塗布した。但し、塗布条件は、前記エクストルージョン
ヘッドのドクターエッジ面上長さＬを１mm、スロット幅
を０．６mm、塗布速度を１００ｍ／分、塗布部張力を４
ｋｇ／３００mm幅、塗布液の塗布厚を１０μｍとした。
ト支持体上に、上記実施態様に記載したエクストルージ
ョン型塗布装置を用いて上記塗布液Ｎｏ．Ａ１〜Ｄ４を
塗布した。但し、塗布条件は、前記エクストルージョン
ヘッドのドクターエッジ面上長さＬを１mm、スロット幅
を０．６mm、塗布速度を１００ｍ／分、塗布部張力を４
ｋｇ／３００mm幅、塗布液の塗布厚を１０μｍとした。
【００３８】そして、前記各塗布液毎に製造された磁性
層表面を観察すると共に、電磁変換特性を調べて各塗布
液毎に評価した。その結果を下記表２に示す。
層表面を観察すると共に、電磁変換特性を調べて各塗布
液毎に評価した。その結果を下記表２に示す。
【００３９】
【表２】
【００４０】注）×…微細スジが発生し、目視でも面粗
れが分かる。 △…微細スジが若干発生するが、電磁変換特性に問題な
し。 ○…微細スジの発生がなく、電磁変換特性も問題なし。 ◎…微細スジの発生がなく、良好な電磁変換特性が得ら
れる。
れが分かる。 △…微細スジが若干発生するが、電磁変換特性に問題な
し。 ○…微細スジの発生がなく、電磁変換特性も問題なし。 ◎…微細スジの発生がなく、良好な電磁変換特性が得ら
れる。
【００４１】上記実施例１から明らかな様に、磁性体の
ＳBET 値が４５ｍ2 ／ｇ以上の粘度の高い塗布液の場
合、該磁性体に対する単位重量当たりの主バインダーの
添加量が２．３ｍｇ／ｍ2 未満の塗布液においては、微
細スジが発生し、電磁変換特性も良くなかった。
ＳBET 値が４５ｍ2 ／ｇ以上の粘度の高い塗布液の場
合、該磁性体に対する単位重量当たりの主バインダーの
添加量が２．３ｍｇ／ｍ2 未満の塗布液においては、微
細スジが発生し、電磁変換特性も良くなかった。
【００４２】従って、磁性体のＳBET 値が４５ｍ2 ／ｇ
以上の粘度の高い塗布液の場合、微細スジが発生せず良
好な電磁変換特性を有する磁性層を得る為には、該磁性
体に対する単位重量当たりの主バインダーの添加量が、
少なくとも２．３ｍｇ／ｍ2 以上であることが好まし
い。
以上の粘度の高い塗布液の場合、微細スジが発生せず良
好な電磁変換特性を有する磁性層を得る為には、該磁性
体に対する単位重量当たりの主バインダーの添加量が、
少なくとも２．３ｍｇ／ｍ2 以上であることが好まし
い。
【００４３】〔実施例２〕 厚さ２０μｍ、幅３００mmのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に、上記実施態様に記載したエクストルージ
ョン型塗布装置を用いて上記塗布液Ｎｏ．Ａ３（ＳBET
値：４５ｍ2 ／ｇ）を塗布した。但し、塗布条件は、前
記エクストルージョンヘッドのドクターエッジ面上長さ
Ｌを各々１，２，４，１０mm、スロット幅を０．６，
０．３mm、塗布速度を各々５０，１００，２００ｍ／
分、塗布部張力を４ｋｇ／３００mm幅、塗布液の塗布厚
を１０，３０，５０μｍとした。
ト支持体上に、上記実施態様に記載したエクストルージ
ョン型塗布装置を用いて上記塗布液Ｎｏ．Ａ３（ＳBET
値：４５ｍ2 ／ｇ）を塗布した。但し、塗布条件は、前
記エクストルージョンヘッドのドクターエッジ面上長さ
Ｌを各々１，２，４，１０mm、スロット幅を０．６，
０．３mm、塗布速度を各々５０，１００，２００ｍ／
分、塗布部張力を４ｋｇ／３００mm幅、塗布液の塗布厚
を１０，３０，５０μｍとした。
【００４４】そして、前記各塗布条件で製造された磁性
層表面を観察すると共に、電磁変換特性を調べて各塗布
条件毎に評価した。その結果を下記表３〜表６に示す。
尚、各塗布条件における塗布液のスロット内剪断速度及
びドクターエッジ上における粘度も併記した（以下、同
様）。
層表面を観察すると共に、電磁変換特性を調べて各塗布
条件毎に評価した。その結果を下記表３〜表６に示す。
尚、各塗布条件における塗布液のスロット内剪断速度及
びドクターエッジ上における粘度も併記した（以下、同
様）。
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】
【００４７】
【表５】
【００４８】
【表６】
【００４９】注）×…微細スジが発生し、目視でも面粗
れが分かる。 △…微細スジが若干発生するが、電磁変換特性に問題な
し。 ○…微細スジの発生がなく、電磁変換特性も問題なし。 ◎…微細スジの発生がなく、良好な電磁変換特性が得ら
れる。
れが分かる。 △…微細スジが若干発生するが、電磁変換特性に問題な
し。 ○…微細スジの発生がなく、電磁変換特性も問題なし。 ◎…微細スジの発生がなく、良好な電磁変換特性が得ら
れる。
【００５０】〔実施例３〕 前記塗布液を塗布液Ｎｏ．Ｄ３（ＳBET 値：６０ｍ2 ／
ｇ）に変えた以外は上記実施例２の塗布条件と同様にし
て塗布し、前記各塗布条件で製造された磁性層表面を観
察すると共に、電磁変換特性を調べて各塗布条件毎に評
価した。その結果を下記表７〜表１０に示す。
ｇ）に変えた以外は上記実施例２の塗布条件と同様にし
て塗布し、前記各塗布条件で製造された磁性層表面を観
察すると共に、電磁変換特性を調べて各塗布条件毎に評
価した。その結果を下記表７〜表１０に示す。
【００５１】
【表７】
【００５２】
【表８】
【００５３】
【表９】
【００５４】
【表１０】
【００５５】注）×…微細スジが発生し、目視でも面粗
れが分かる。 △…微細スジが若干発生するが、電磁変換特性に問題な
し。 ○…微細スジの発生がなく、電磁変換特性も問題なし。 ◎…微細スジの発生がなく、良好な電磁変換特性が得ら
れる。
れが分かる。 △…微細スジが若干発生するが、電磁変換特性に問題な
し。 ○…微細スジの発生がなく、電磁変換特性も問題なし。 ◎…微細スジの発生がなく、良好な電磁変換特性が得ら
れる。
【００５６】即ち、上記実施例２及び実施例３から明ら
かな様に、磁性体のＳBET 値が４５ｍ2 ／ｇ以上で且つ
該磁性体に対する単位重量当たりの主バインダーの添加
量が２．３ｍｇ／ｍ2 以上の粘度の高い塗布液の場合、
本発明の塗布方法に基づく流動指数Ａが１００以上の塗
布液においては、微細スジが発生せず良好な電磁変換特
性を有する磁性層を得ることができる。更に、前記スロ
ット内において予め１０００（１／sec ）以上の剪断速
度を付与される際には、前記流動指数Ａが８０以上の塗
布液においても、ほぼ良好な磁性層を得ることができる
ことが分かった。
かな様に、磁性体のＳBET 値が４５ｍ2 ／ｇ以上で且つ
該磁性体に対する単位重量当たりの主バインダーの添加
量が２．３ｍｇ／ｍ2 以上の粘度の高い塗布液の場合、
本発明の塗布方法に基づく流動指数Ａが１００以上の塗
布液においては、微細スジが発生せず良好な電磁変換特
性を有する磁性層を得ることができる。更に、前記スロ
ット内において予め１０００（１／sec ）以上の剪断速
度を付与される際には、前記流動指数Ａが８０以上の塗
布液においても、ほぼ良好な磁性層を得ることができる
ことが分かった。
【図１】本発明の塗布方法の一例を示すエクストルージ
ョン型塗布装置の部分断面図である。
ョン型塗布装置の部分断面図である。
【図２】図１のエクストルージョン型塗布装置のドクタ
ーエッジ部の部分拡大断面図である。
ーエッジ部の部分拡大断面図である。
１ エクストルージョンヘッド ２ 給液系 ３ ポケット部 ４ スロット部 ５ ドクターエッジ部 ６ バックエッジ部 ７ エッジ面 ８ ウエブ ９ 塗布液
Claims (2)
- 【請求項１】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行する可撓性支持体表面にスロット先
端部からＳBET 値（単位質量当たりの表面積である比表
面積）が４５ｍ2 ／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性
体のＳBET 値に対する単位重量当たりの主バインダーの
添加量が２．３ｍｇ／ｍ2 以上である塗布液を連続的に
押出して該支持体表面に塗布液を塗布する磁気記録媒体
の塗布方法であって、前記ドクターエッジ面の支持体走
行方向におけるドクターエッジ面上長さをＬ、前記ドク
ターエッジ面上における前記塗布液の平均流速をＶ、前
記ドクターエッジ面上における前記塗布液の剪断速度を
Γとしたとき、 上記(1) 式により求められる流動指数Ａが１００以上と
なる様に前記塗布液を塗布することを特徴とする磁気記
録媒体の塗布方法。 - 【請求項２】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行する可撓性支持体表面にスロット先
端部からＳBET 値（単位質量当たりの表面積である比表
面積）が４５ｍ2 ／ｇ以上の磁性体を含み、且つ該磁性
体のＳBET 値に対する単位重量当たりの主バインダーの
添加量が２．３ｍｇ／ｍ2 以上であり、前記スロット内
において予め１０００（１／sec ）以上の剪断速度を付
与された塗布液を連続的に押出して該支持体表面に塗布
液を塗布する磁気記録媒体の塗布方法であって、前記ド
クターエッジ面の支持体走行方向におけるドクターエッ
ジ面上長さをＬ、前記ドクターエッジ面上における前記
塗布液の平均流速をＶ、前記ドクターエッジ面上におけ
る前記塗布液の剪断速度をΓとしたとき、 上記(1) 式により求められる流動指数Ａが８０以上とな
る様に前記塗布液を塗布することを特徴とする磁気記録
媒体の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41590590A JP2645613B2 (ja) | 1990-01-08 | 1990-12-28 | 磁気記録媒体の塗布方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60190 | 1990-01-08 | ||
| JP2-601 | 1990-01-08 | ||
| JP41590590A JP2645613B2 (ja) | 1990-01-08 | 1990-12-28 | 磁気記録媒体の塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04129027A JPH04129027A (ja) | 1992-04-30 |
| JP2645613B2 true JP2645613B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=26333615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41590590A Expired - Fee Related JP2645613B2 (ja) | 1990-01-08 | 1990-12-28 | 磁気記録媒体の塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2645613B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0542635B1 (en) * | 1991-10-15 | 1999-06-09 | Eastman Kodak Company | Magnetic dispersion coating method and apparatus having high shear regions |
| US8907477B2 (en) | 2010-01-05 | 2014-12-09 | Fuji Electric Co., Ltd. | Unit for semiconductor device and semiconductor device |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP41590590A patent/JP2645613B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04129027A (ja) | 1992-04-30 |
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