JP2630519B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチックフイルム、
紙、金属箔等を形成してなる可撓性支持体（以下、ウエ
ブという）に、少なくとも上層に磁性液をエクストルー
ジョン型塗布装置により一定量均一に塗布してなる磁気
記録媒体の製造方法に関するものである。
紙、金属箔等を形成してなる可撓性支持体（以下、ウエ
ブという）に、少なくとも上層に磁性液をエクストルー
ジョン型塗布装置により一定量均一に塗布してなる磁気
記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来、ウエブに塗布液を塗布する塗布方法
としては、エクストルージョン型塗布装置、カーテンフ
ロー型塗布装置、ブレードドクター型塗布装置、スライ
ドコート型塗布装置等を用いた塗布方法が一般的であ
る。この中でも、エクストルージョン型塗布装置を用い
た塗布方法は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で用
いられている（特開昭６０−２３８１７９号、同６３−
８８０８０号、特開平２−１７４９６５号、同２−２６
５６７２号、特公平１−４６１８６号公報等）。
としては、エクストルージョン型塗布装置、カーテンフ
ロー型塗布装置、ブレードドクター型塗布装置、スライ
ドコート型塗布装置等を用いた塗布方法が一般的であ
る。この中でも、エクストルージョン型塗布装置を用い
た塗布方法は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で用
いられている（特開昭６０−２３８１７９号、同６３−
８８０８０号、特開平２−１７４９６５号、同２−２６
５６７２号、特公平１−４６１８６号公報等）。
【０００３】前記エクストルージョン型塗布装置は、バ
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行するウエブ表面に、前記バックエッジ面とドクターエ
ッジ面との間のスロットから塗布液を連続的に吐出して
塗布液を塗布する塗布装置であり、少なくとも一つのス
ロットを有している。
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行するウエブ表面に、前記バックエッジ面とドクターエ
ッジ面との間のスロットから塗布液を連続的に吐出して
塗布液を塗布する塗布装置であり、少なくとも一つのス
ロットを有している。
【０００４】ところで、近年、磁気記録媒体の高密度化
や多層化が進み、それに伴って磁気記録媒体の製造工程
においてもウエブ上に塗布する磁性層の塗布厚みの薄層
化が必要となってきている。また、一方では生産性向上
のため、ウエブ上へ塗布液を塗布する塗布スピードのア
ップも望まれており、更に、磁性体の改良が進み、高Ｓ
BET 値の酸化磁性粉やバリウムフェライト材料の使用が
図られ、塗布液が高粘度化している。
や多層化が進み、それに伴って磁気記録媒体の製造工程
においてもウエブ上に塗布する磁性層の塗布厚みの薄層
化が必要となってきている。また、一方では生産性向上
のため、ウエブ上へ塗布液を塗布する塗布スピードのア
ップも望まれており、更に、磁性体の改良が進み、高Ｓ
BET 値の酸化磁性粉やバリウムフェライト材料の使用が
図られ、塗布液が高粘度化している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
如きエクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法で
は、良好な塗布条件が狭い範囲でしか得ることができな
いため、塗布液の良好な塗布条件が得がたい上、塗布液
の高凝集性により塗布層表面の表面性が悪化し、安定し
た良好な塗布層が得られないといった問題があった。
如きエクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法で
は、良好な塗布条件が狭い範囲でしか得ることができな
いため、塗布液の良好な塗布条件が得がたい上、塗布液
の高凝集性により塗布層表面の表面性が悪化し、安定し
た良好な塗布層が得られないといった問題があった。
【０００６】特に、少なくとも直前に塗布された湿潤状
態の下層塗布液上に磁性塗布液を塗布厚み４μｍ以下で
薄層塗布しようとすると、塗布面にスジムラが発生した
り、塗布不良を発生したりすることがあり、例えば出
力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性に悪影響を与えることに
なる。従って、従来は試行錯誤で塗布条件を定めていた
が、これでは歩留りが悪いため生産効率が良くなく、品
質も安定しなかった。
態の下層塗布液上に磁性塗布液を塗布厚み４μｍ以下で
薄層塗布しようとすると、塗布面にスジムラが発生した
り、塗布不良を発生したりすることがあり、例えば出
力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性に悪影響を与えることに
なる。従って、従来は試行錯誤で塗布条件を定めていた
が、これでは歩留りが悪いため生産効率が良くなく、品
質も安定しなかった。
【０００７】そこで本発明者らは、塗布性、特に電磁変
換特性を規定する塗布条件の要因について鋭意検討の結
果、バックエッジ面やドクターエッジ面の形状もさるこ
とながら、最終的にはスロット出口近傍及びその下流側
での磁性塗布液の流動性であることを見出した。特に、
少なくとも直前に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に
塗布厚みが４μｍ以下の磁性塗布液をウエブ上に塗布す
る場合において、スロット出口近傍の磁性塗布液の引き
延ばしが急激であると、スロット出口部において渦領域
やそれによる滞留部をを生じ易く、界面の不整や塗布液
中及びウエブ上の異物トラップによるスジが発生し易
い。
換特性を規定する塗布条件の要因について鋭意検討の結
果、バックエッジ面やドクターエッジ面の形状もさるこ
とながら、最終的にはスロット出口近傍及びその下流側
での磁性塗布液の流動性であることを見出した。特に、
少なくとも直前に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に
塗布厚みが４μｍ以下の磁性塗布液をウエブ上に塗布す
る場合において、スロット出口近傍の磁性塗布液の引き
延ばしが急激であると、スロット出口部において渦領域
やそれによる滞留部をを生じ易く、界面の不整や塗布液
中及びウエブ上の異物トラップによるスジが発生し易
い。
【０００８】従って、本発明の目的は上記課題を解消す
ることにあり、磁気記録媒体の塗布条件を明らかにし、
少なくとも直前に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に
磁性塗布液を重層塗布した際の塗布性及び磁気記録媒体
の電磁変換特性が、十分に満足できる磁気記録媒体の製
造方法を提供することにある。
ることにあり、磁気記録媒体の塗布条件を明らかにし、
少なくとも直前に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に
磁性塗布液を重層塗布した際の塗布性及び磁気記録媒体
の電磁変換特性が、十分に満足できる磁気記録媒体の製
造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、バ
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布液
を連続的に押出して該支持体表面に塗布液を塗布するエ
クストルージョン型塗布装置によって、予め塗布された
湿潤状態の下層塗布液上に塗布厚みが４μｍ以下の磁性
塗布液を逐次重層塗布する磁気記録媒体の製造方法にお
いて、前記支持体の走行速度をＶ、前記スロット出口部
での前記磁性塗布液の平均線速度をυとしたとき、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を逐次重層塗布することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法により達成される。
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布液
を連続的に押出して該支持体表面に塗布液を塗布するエ
クストルージョン型塗布装置によって、予め塗布された
湿潤状態の下層塗布液上に塗布厚みが４μｍ以下の磁性
塗布液を逐次重層塗布する磁気記録媒体の製造方法にお
いて、前記支持体の走行速度をＶ、前記スロット出口部
での前記磁性塗布液の平均線速度をυとしたとき、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を逐次重層塗布することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法により達成される。
【００１０】又、或いは一つのバックエッジ面及び複数
のドクターエッジ面に沿って連続的に走行する可撓性支
持体の表面に複数のスロット先端部から各々塗布液を連
続的に押出して該支持体表面に各塗布液を同時重層塗布
するエクストルージョン型塗布装置によって、下層塗布
液上に塗布厚みが４μｍ以下の磁性塗布液を同時重層塗
布する磁気記録媒体の製造方法において、前記支持体の
走行速度をＶ、前記スロット出口部での前記磁性塗布液
の平均線速度をυとしたとき、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を同時重層塗布することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法により達成される。
のドクターエッジ面に沿って連続的に走行する可撓性支
持体の表面に複数のスロット先端部から各々塗布液を連
続的に押出して該支持体表面に各塗布液を同時重層塗布
するエクストルージョン型塗布装置によって、下層塗布
液上に塗布厚みが４μｍ以下の磁性塗布液を同時重層塗
布する磁気記録媒体の製造方法において、前記支持体の
走行速度をＶ、前記スロット出口部での前記磁性塗布液
の平均線速度をυとしたとき、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を同時重層塗布することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法により達成される。
【００１１】尚、上記スロット出口部での前記磁性塗布
液の平均線速度υは、エクストルージョン型塗布装置を
用いてウエブ上に磁性塗布液を塗布する際のエクストル
ージョンヘッドの形状、塗布速度、塗布液の供給量、塗
布厚み及び物性等の諸条件により決定されるが、前記ス
ロット出口部での単位幅当たりの流量をＱ、前記スロッ
ト出口部の間隔をＬとした時、下記(2) 式よりほぼ近似
値を得ることができる。
液の平均線速度υは、エクストルージョン型塗布装置を
用いてウエブ上に磁性塗布液を塗布する際のエクストル
ージョンヘッドの形状、塗布速度、塗布液の供給量、塗
布厚み及び物性等の諸条件により決定されるが、前記ス
ロット出口部での単位幅当たりの流量をＱ、前記スロッ
ト出口部の間隔をＬとした時、下記(2) 式よりほぼ近似
値を得ることができる。
【００１２】υ＝Ｑ／Ｌ・・・(2)
【００１３】
【実施態様】以下、本発明に基づく磁気記録媒体の製造
方法の一実施態様を添付図面に基づいて詳細に説明す
る。
方法の一実施態様を添付図面に基づいて詳細に説明す
る。
【００１４】図１及び図２は本発明の磁気記録媒体の製
造方法の一例を示す説明図であり、ウェブ上に磁性塗布
液を塗布するエクストルージョン型塗布装置の一例を示
すものである。
造方法の一例を示す説明図であり、ウェブ上に磁性塗布
液を塗布するエクストルージョン型塗布装置の一例を示
すものである。
【００１５】エクストルージョンヘッド１は、図１に示
す様な給液系２、ポケット部３、スロット部４、ドクタ
ーエッジ部５及びバックエッジ部６から成り、一定速度
（Ｖ1 ) で搬送されるウエブ７の表面に予め塗布された
磁性塗布液又は非磁性塗布液からなる湿潤状態の下層塗
布液８の上に磁性塗布液からなる塗布厚みが４μｍ以下
の上層塗布液９を均一な厚さｔ1 （ウェット厚み）に逐
次重層塗布するものである。
す様な給液系２、ポケット部３、スロット部４、ドクタ
ーエッジ部５及びバックエッジ部６から成り、一定速度
（Ｖ1 ) で搬送されるウエブ７の表面に予め塗布された
磁性塗布液又は非磁性塗布液からなる湿潤状態の下層塗
布液８の上に磁性塗布液からなる塗布厚みが４μｍ以下
の上層塗布液９を均一な厚さｔ1 （ウェット厚み）に逐
次重層塗布するものである。
【００１６】前記給液系２は、前記エクストルージョン
ヘッド１の躯体よりも外部にあって前記上層塗布液９を
連続的にかつ一定の流量で送液可能な定量送液ポンプ手
段（図示せず）、並びに前記エクストルージョンヘッド
１の躯体内部を前記ウエブ７の幅方向に透設した前記ポ
ケット部３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材を
夫々具備して成っている。
ヘッド１の躯体よりも外部にあって前記上層塗布液９を
連続的にかつ一定の流量で送液可能な定量送液ポンプ手
段（図示せず）、並びに前記エクストルージョンヘッド
１の躯体内部を前記ウエブ７の幅方向に透設した前記ポ
ケット部３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材を
夫々具備して成っている。
【００１７】前記スロット部４は、前記ポケット部３か
ら前記ウエブ７に向け、開口幅（Ｌ1 ）をもって前記エ
クストルージョンヘッド１の躯体内部を貫通しかつ前記
ポケット部３と同じように前記ウエブ７の幅方向に延長
された比較的狭い流路であり、前記ウエブ７の幅方向の
開口長さは塗布幅とほぼ等しい。
ら前記ウエブ７に向け、開口幅（Ｌ1 ）をもって前記エ
クストルージョンヘッド１の躯体内部を貫通しかつ前記
ポケット部３と同じように前記ウエブ７の幅方向に延長
された比較的狭い流路であり、前記ウエブ７の幅方向の
開口長さは塗布幅とほぼ等しい。
【００１８】前記ドクターエッジ部５は、前記スロット
部４の出口から前記ウエブ７の下流側に位置し、且つ前
記ウエブ７に対向するエッジ面５ａ全域が、曲率半径
（Ｒ1）のまるみ（湾曲）を持った断面形状をもって形
成されている。
部４の出口から前記ウエブ７の下流側に位置し、且つ前
記ウエブ７に対向するエッジ面５ａ全域が、曲率半径
（Ｒ1）のまるみ（湾曲）を持った断面形状をもって形
成されている。
【００１９】一方、前記バックエッジ部６は、前記スロ
ット部４の出口から前記ウエブ７の上流側に位置し、且
つ前記ウエブ７に対向するエッジ面を有している。そこ
で、上記エクストルージョンヘッド１によって前記ウエ
ブ７上に上層塗布液９を塗布する際のスロット部４の出
口での前記上層塗布液９の単位幅当たりの流量Ｑ1 は、
下記(3) 式より得ることができる。
ット部４の出口から前記ウエブ７の上流側に位置し、且
つ前記ウエブ７に対向するエッジ面を有している。そこ
で、上記エクストルージョンヘッド１によって前記ウエ
ブ７上に上層塗布液９を塗布する際のスロット部４の出
口での前記上層塗布液９の単位幅当たりの流量Ｑ1 は、
下記(3) 式より得ることができる。
【００２０】Ｑ1 ＝Ｖ1 ×ｔ1 ・・・(3) 従って、本実施態様における前記上層塗布液９の平均線
速度υ1 は、下記(4)式よりほぼ近似値を得ることがで
きる。
速度υ1 は、下記(4)式よりほぼ近似値を得ることがで
きる。
【００２１】υ1 ＝Ｑ1 ／Ｌ1 ・・・(4) 但し、平均線速度υ1 は、上記(3) 式および(4) 式に限
らず他の方法によって近似値を推定或いは測定すること
も可能である。
らず他の方法によって近似値を推定或いは測定すること
も可能である。
【００２２】そこで、この様にして得られた前記上層塗
布液９の平均線速度υ1 の近似値とウエブ７の搬送速度
Ｖ1 より、本発明において定める塗布液の引き延ばし流
動指数ε1 を求め、この引き延ばし流動指数ε1 が６０
０以下となる様な塗布条件で前記ウエブ７上に上層塗布
液９を塗布すれば良い。
布液９の平均線速度υ1 の近似値とウエブ７の搬送速度
Ｖ1 より、本発明において定める塗布液の引き延ばし流
動指数ε1 を求め、この引き延ばし流動指数ε1 が６０
０以下となる様な塗布条件で前記ウエブ７上に上層塗布
液９を塗布すれば良い。
【００２３】即ち、前記引き延ばし流動指数ε1 は、ス
ロット部４出口近傍及びその下流側での上層塗布液９の
流動性を規定するものであり、塗布時の急激な引き延ば
しによる渦領域やそれによる滞留部を生じ易く、界面の
不整や塗布液中及びウエブ上の異物トラップによるスジ
が発生し易い塗布厚みが４μｍ以下の上層塗布液９の流
動指標を規定することにより、良好な電磁変換特性を得
ることができる塗布条件を最適に設定することができ
る。
ロット部４出口近傍及びその下流側での上層塗布液９の
流動性を規定するものであり、塗布時の急激な引き延ば
しによる渦領域やそれによる滞留部を生じ易く、界面の
不整や塗布液中及びウエブ上の異物トラップによるスジ
が発生し易い塗布厚みが４μｍ以下の上層塗布液９の流
動指標を規定することにより、良好な電磁変換特性を得
ることができる塗布条件を最適に設定することができ
る。
【００２４】尚、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、
上記実施態様におけるエクストルージョンヘッドの形状
に限定されるものではなく、異なるバックエッジ面形状
及びドクターエッジ面形状を有するエクストルージョン
ヘッドについても適用できることは勿論である。
上記実施態様におけるエクストルージョンヘッドの形状
に限定されるものではなく、異なるバックエッジ面形状
及びドクターエッジ面形状を有するエクストルージョン
ヘッドについても適用できることは勿論である。
【００２５】また、上記実施態様においては予め塗布さ
れた湿潤状態の下層塗布液８の上に図１に示したエクス
トルージョンヘッド１により上層塗布液９を逐次重層塗
布したが、例えば図３に示した様なエクストルージョン
ヘッド１０を用いて下層塗布液８と上層塗布液９を同時
重層塗布することも可能である。
れた湿潤状態の下層塗布液８の上に図１に示したエクス
トルージョンヘッド１により上層塗布液９を逐次重層塗
布したが、例えば図３に示した様なエクストルージョン
ヘッド１０を用いて下層塗布液８と上層塗布液９を同時
重層塗布することも可能である。
【００２６】前記エクストルージョンヘッド１０は、第
１スロット部１５、第２スロット部１４、バックエッジ
部１３、第１ドクターエッジ部１１及び第２ドクターエ
ッジ部１２を有し、一定速度（Ｖ2 ) で搬送されるウエ
ブ７の表面に磁性塗布液又は非磁性塗布液からなる下層
塗布液８と磁性塗布液からなる塗布厚みが４μｍ以下の
上層塗布液９とを均一な厚さに同時重層塗布するもので
ある。
１スロット部１５、第２スロット部１４、バックエッジ
部１３、第１ドクターエッジ部１１及び第２ドクターエ
ッジ部１２を有し、一定速度（Ｖ2 ) で搬送されるウエ
ブ７の表面に磁性塗布液又は非磁性塗布液からなる下層
塗布液８と磁性塗布液からなる塗布厚みが４μｍ以下の
上層塗布液９とを均一な厚さに同時重層塗布するもので
ある。
【００２７】前記第１スロット部１５及び前記第２スロ
ット部１４は、図示しない各ポケット部から前記ウエブ
７に向け、開口幅（Ｌ3 ）及び開口幅（Ｌ2 ）をもって
各々前記エクストルージョンヘッド１０の躯体内部を貫
通しかつ前記ウエブ７の幅方向に延長された比較的狭い
流路であり、夫々の前記ウエブ７の幅方向の開口長さは
塗布幅とほぼ等しい。
ット部１４は、図示しない各ポケット部から前記ウエブ
７に向け、開口幅（Ｌ3 ）及び開口幅（Ｌ2 ）をもって
各々前記エクストルージョンヘッド１０の躯体内部を貫
通しかつ前記ウエブ７の幅方向に延長された比較的狭い
流路であり、夫々の前記ウエブ７の幅方向の開口長さは
塗布幅とほぼ等しい。
【００２８】前記第１ドクターエッジ部１１は、前記第
１スロット部１５の出口から前記ウエブ７の下流側に位
置し、且つ前記ウエブ７に対向するエッジ面１１ａ全域
が、曲率半径（Ｒ3 ）のまるみ（湾曲）を持った断面形
状をもって形成されている。又、前記第２ドクターエッ
ジ部１２は、前記第１スロット部１５の下流側に位置す
る前記第２スロット部１４の出口より前記ウエブ７の下
流側に位置し、且つ前記ウエブ７に対向するエッジ面１
２ａ全域が、曲率半径（Ｒ2 ）のまるみ（湾曲）を持っ
た断面形状をもって形成されている。なお、前記第１ド
クターエッジ部１１及び第２ドクターエッジ部１２は曲
面あるいは平面さらに平面の組み合わせであってもよ
く、特に限定するものではない。
１スロット部１５の出口から前記ウエブ７の下流側に位
置し、且つ前記ウエブ７に対向するエッジ面１１ａ全域
が、曲率半径（Ｒ3 ）のまるみ（湾曲）を持った断面形
状をもって形成されている。又、前記第２ドクターエッ
ジ部１２は、前記第１スロット部１５の下流側に位置す
る前記第２スロット部１４の出口より前記ウエブ７の下
流側に位置し、且つ前記ウエブ７に対向するエッジ面１
２ａ全域が、曲率半径（Ｒ2 ）のまるみ（湾曲）を持っ
た断面形状をもって形成されている。なお、前記第１ド
クターエッジ部１１及び第２ドクターエッジ部１２は曲
面あるいは平面さらに平面の組み合わせであってもよ
く、特に限定するものではない。
【００２９】一方、前記バックエッジ部１３は、前記第
１スロット部１５の出口から前記ウエブ７の上流側に位
置し、且つ前記ウエブ７に対向するエッジ面を有してい
る。そこで、上記エクストルージョンヘッド１０によっ
て前記ウエブ７上に前記下層塗布液８及び前記上層塗布
液９を同時重層塗布する際の前記第２スロット部１４の
出口での前記上層塗布液９の単位幅当たりの流量Ｑ
2 は、該上層塗布液９を均一な厚さｔ2 （ウェット厚
み）で塗布しようとすると下記(5) 式より得ることがで
きる。
１スロット部１５の出口から前記ウエブ７の上流側に位
置し、且つ前記ウエブ７に対向するエッジ面を有してい
る。そこで、上記エクストルージョンヘッド１０によっ
て前記ウエブ７上に前記下層塗布液８及び前記上層塗布
液９を同時重層塗布する際の前記第２スロット部１４の
出口での前記上層塗布液９の単位幅当たりの流量Ｑ
2 は、該上層塗布液９を均一な厚さｔ2 （ウェット厚
み）で塗布しようとすると下記(5) 式より得ることがで
きる。
【００３０】Ｑ2 ＝Ｖ2 ×ｔ2 ・・・(5) 従って、本実施態様における前記上層塗布液９の平均線
速度υ2 は、下記(6)式よりほぼ近似値を得ることがで
きる。
速度υ2 は、下記(6)式よりほぼ近似値を得ることがで
きる。
【００３１】υ2 ＝Ｑ2 ／Ｌ2 ・・・(6) 但し、平均線速度υ2 は、上記(5) 式および(6) 式に限
らず他の方法によって近似値を推定或いは測定すること
も可能である。
らず他の方法によって近似値を推定或いは測定すること
も可能である。
【００３２】そこで、この様にして得られた前記上層塗
布液９の平均線速度υ2 の近似値とウエブ７の搬送速度
Ｖ2 より、本発明において定める塗布液の引き延ばし流
動指数ε2 を求め、この引き延ばし流動指数ε2 が６０
０以下となる様な塗布条件で前記ウエブ７上に前記下層
塗布液８及び上層塗布液９を塗布すれば良い。
布液９の平均線速度υ2 の近似値とウエブ７の搬送速度
Ｖ2 より、本発明において定める塗布液の引き延ばし流
動指数ε2 を求め、この引き延ばし流動指数ε2 が６０
０以下となる様な塗布条件で前記ウエブ７上に前記下層
塗布液８及び上層塗布液９を塗布すれば良い。
【００３３】即ち、前記引き延ばし流動指数ε2 は、前
記第２スロット部１４の出口近傍及びその下流側での上
層塗布液９の流動性を規定するものであり、塗布時の急
激な引き延ばしによる渦領域やそれによる滞留部を生じ
易く、界面の不整や塗布液中及びウエブ上の異物トラッ
プによるスジが発生し易い塗布厚みが４μｍ以下の上層
塗布液９の流動指標を規定することにより、良好な電磁
変換特性を得ることができる同時重層塗布条件を最適に
設定することができる。
記第２スロット部１４の出口近傍及びその下流側での上
層塗布液９の流動性を規定するものであり、塗布時の急
激な引き延ばしによる渦領域やそれによる滞留部を生じ
易く、界面の不整や塗布液中及びウエブ上の異物トラッ
プによるスジが発生し易い塗布厚みが４μｍ以下の上層
塗布液９の流動指標を規定することにより、良好な電磁
変換特性を得ることができる同時重層塗布条件を最適に
設定することができる。
【００３４】上記実施態様においては、２層同時重層塗
布方法について述べたが、３層以上の同時重層塗布方法
についても同様に塗布条件を設定することが可能であ
る。また、前記各実施態様においては、夫々ウエブ７上
に下層塗布液８及び上層塗布液９を直接塗布したが、予
めウエブ７表面に施した湿潤状態又は乾燥状態の下塗り
層の上に、前記下層塗布液８及び上層塗布液９を塗布し
ても良い。
布方法について述べたが、３層以上の同時重層塗布方法
についても同様に塗布条件を設定することが可能であ
る。また、前記各実施態様においては、夫々ウエブ７上
に下層塗布液８及び上層塗布液９を直接塗布したが、予
めウエブ７表面に施した湿潤状態又は乾燥状態の下塗り
層の上に、前記下層塗布液８及び上層塗布液９を塗布し
ても良い。
【００３５】更に、本発明に用いる可撓性支持体として
は、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム、
紙、金属シート等が挙げられる。
は、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム、
紙、金属シート等が挙げられる。
【００３６】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、バ
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布液
を連続的に押出して該支持体表面に塗布液を塗布するエ
クストルージョン型塗布装置によって、少なくとも直前
に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に塗布厚みが４μ
ｍ以下の磁性塗布液を重層塗布する磁気記録媒体の製造
方法において、前記支持体の走行速度をＶ、前記スロッ
ト出口部での前記磁性塗布液の平均線速度をυとしたと
き、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を塗布する。
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行する可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布液
を連続的に押出して該支持体表面に塗布液を塗布するエ
クストルージョン型塗布装置によって、少なくとも直前
に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に塗布厚みが４μ
ｍ以下の磁性塗布液を重層塗布する磁気記録媒体の製造
方法において、前記支持体の走行速度をＶ、前記スロッ
ト出口部での前記磁性塗布液の平均線速度をυとしたと
き、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を塗布する。
【００３７】即ち、前記引き延ばし流動指数εは、少な
くとも直前に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に塗布
される前記磁性塗布液のスロット出口近傍及びその下流
側での流動性を規定するものであり、塗布時の急激な引
き延ばしによる渦領域やそれによる滞留部を生じ易く、
界面の不整や塗布液中及びウエブ上の異物トラップによ
るスジが発生し易い薄層塗布における前記磁性塗布液の
流動指標を規定することにより、良好な電磁変換特性を
得ることができる塗布条件を最適に設定することができ
る。
くとも直前に塗布された湿潤状態の下層塗布液上に塗布
される前記磁性塗布液のスロット出口近傍及びその下流
側での流動性を規定するものであり、塗布時の急激な引
き延ばしによる渦領域やそれによる滞留部を生じ易く、
界面の不整や塗布液中及びウエブ上の異物トラップによ
るスジが発生し易い薄層塗布における前記磁性塗布液の
流動指標を規定することにより、良好な電磁変換特性を
得ることができる塗布条件を最適に設定することができ
る。
【００３８】従って、少なくとも直前に塗布された湿潤
状態の下層塗布液上に磁性塗布液を塗布した際の塗布性
及び磁気記録媒体の電磁変換特性が、十分に満足できる
磁気記録媒体の製造方法を提供することができる。
状態の下層塗布液上に磁性塗布液を塗布した際の塗布性
及び磁気記録媒体の電磁変換特性が、十分に満足できる
磁気記録媒体の製造方法を提供することができる。
【００３９】
【実施例】以下、本発明の一実施例により本発明の新規
な効果をより明確にする。 〔塗布液〕下記組成成分の塗布液を各々ボールミルに入
れて１０．５時間混合分散して塗布液Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを
調製した。
な効果をより明確にする。 〔塗布液〕下記組成成分の塗布液を各々ボールミルに入
れて１０．５時間混合分散して塗布液Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを
調製した。
【００４０】 塗布液Ａ （組成） ・Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ（９２：４：４の重量比）粉末 ３００ 重量部 （長径方向の平均粒径０．２０μｍの針状粒子、 抗磁力１６００エルステッド） ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０ 重量部 （共重合比８７：１３、重合度４００） ・導電性カーボン ２０ 重量部 ・ポリアミド樹脂（アミン価３００） １５ 重量部 ・レシチン ６ 重量部 ・シリコンオイル（ジメチルポリシロキサン） ３ 重量部 ・シクロヘキサノン ３００ 重量部 ・メチルエチルケトン ３００ 重量部 ・ｎ−ブタノール １００ 重量部 上記塗布液Ａの粘度を測定した結果、剪断速度が５×１
０2 ｓｅｃ-1において０．９ｐｏｉｓｅを示した。
０2 ｓｅｃ-1において０．９ｐｏｉｓｅを示した。
【００４１】 塗布液Ｂ （組成） ・α−Ｆｅ2 Ｏ3 の粉末 ３００ 重量部 （長径方向の平均粒径０．２７μｍの針状粒子） ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０ 重量部 （共重合比８７：１３、重合度４００） ・導電性カーボン ２０ 重量部 ・ポリアミド樹脂（アミン価３００） １５ 重量部 ・レシチン ６ 重量部 ・シリコンオイル（ジメチルポリシロキサン） ３ 重量部 ・キシロール ３００ 重量部 ・メチルイソフブチルケトン ３００ 重量部 ・ｎ−ブタノール １００ 重量部 上記塗布液Ｂの粘度を測定した結果、剪断速度が５×１
０2 ｓｅｃ-1において０．７ｐｏｉｓｅを示した。
０2 ｓｅｃ-1において０．７ｐｏｉｓｅを示した。
【００４２】 塗布液Ｃ （組成） ・Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ（９２：４：４の重量比）粉末 ３００ 重量部 （長径方向の平均粒径０．２０μｍの針状粒子、 抗磁力３２０エルステッド） ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０ 重量部 （共重合比８７：１３、重合度４００） ・導電性カーボン ２０ 重量部 ・ポリアミド樹脂（アミン価３００） １５ 重量部 ・レシチン ６ 重量部 ・シリコンオイル（ジメチルポリシロキサン） ３ 重量部 ・シクロヘキサノン ５００ 重量部 ・ｎ−ブタノール １００ 重量部 上記塗布液Ｃの粘度を測定した結果、剪断速度が５×１
０2 ｓｅｃ-1において１．４ｐｏｉｓｅを示した。
０2 ｓｅｃ-1において１．４ｐｏｉｓｅを示した。
【００４３】 塗布液Ｄ （組成） ・ＴｉＯ2 粉末 ３００ 重量部 （平均一次粒径：０．０５μｍ、ＳBET 値：１８ｍ2 ／ｇ） ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０ 重量部 （共重合比８７：１３、重合度４００） ・導電性カーボン ２０ 重量部 ・ポリアミド樹脂（アミン価３００） １５ 重量部 ・レシチン ６ 重量部 ・シリコンオイル（ジメチルポリシロキサン） ３ 重量部 ・シクロヘキサノン ５００ 重量部 ・ｎ−ブタノール １００ 重量部 上記塗布液Ｃの粘度を測定した結果、剪断速度が５×１
０2 ｓｅｃ-1において０．９ｐｏｉｓｅを示した。
０2 ｓｅｃ-1において０．９ｐｏｉｓｅを示した。
【００４４】〔実施例１〕厚さ１０μｍ、幅３００mmの
ポリエチレンテレフタレート支持体上に、エクストルー
ジョンヘッドによって予め上記塗布液Ｂ（塗布量：１０
ｃｃ／ｍ2 ）を下層塗布液として塗布した後、湿潤状態
の前記下層塗布液の上に夫々スロット幅（Ｌ1 ）を０．
２５，０．５，１．０，２．０，３．０mmとした５つの
上記実施態様のエクストルージョンヘッド１を用いて磁
性塗布液である上記塗布液Ａを上層塗布液として逐次重
層塗布し、各試料を作製した。但し、前記上層塗布液の
塗布条件は、塗布部張力を５kg／３００mm幅とし、塗布
速度（Ｖ1 ）を夫々３００，６００ｍ／min 、塗布厚み
（ｔ1 ）を夫々４．０，３．０，２．０，１．０μｍと
した。又、前記エクストルージョンヘッドのドクターエ
ッジ面の曲率半径（Ｒ1 ）を２．５０mm、ドクターエッ
ジの幅（ウエブ走行方向幅）を０．７５mmとした。
ポリエチレンテレフタレート支持体上に、エクストルー
ジョンヘッドによって予め上記塗布液Ｂ（塗布量：１０
ｃｃ／ｍ2 ）を下層塗布液として塗布した後、湿潤状態
の前記下層塗布液の上に夫々スロット幅（Ｌ1 ）を０．
２５，０．５，１．０，２．０，３．０mmとした５つの
上記実施態様のエクストルージョンヘッド１を用いて磁
性塗布液である上記塗布液Ａを上層塗布液として逐次重
層塗布し、各試料を作製した。但し、前記上層塗布液の
塗布条件は、塗布部張力を５kg／３００mm幅とし、塗布
速度（Ｖ1 ）を夫々３００，６００ｍ／min 、塗布厚み
（ｔ1 ）を夫々４．０，３．０，２．０，１．０μｍと
した。又、前記エクストルージョンヘッドのドクターエ
ッジ面の曲率半径（Ｒ1 ）を２．５０mm、ドクターエッ
ジの幅（ウエブ走行方向幅）を０．７５mmとした。
【００４５】そして、前記各エクストルージョンヘッド
の各塗布条件毎に製造された磁性層表面を観察し、その
結果を下記表１に示すと共に、ＲＦ出力を調べて図４に
示した。尚、ＲＦ出力については、ＲＦ出力測定用ＶＴ
Ｒデッキを用い、３．５ＭHzの出力を測定した。なお、
試料No．１の出力を０ｄＢとした。
の各塗布条件毎に製造された磁性層表面を観察し、その
結果を下記表１に示すと共に、ＲＦ出力を調べて図４に
示した。尚、ＲＦ出力については、ＲＦ出力測定用ＶＴ
Ｒデッキを用い、３．５ＭHzの出力を測定した。なお、
試料No．１の出力を０ｄＢとした。
【００４６】
【表１】
【００４７】注）×…微細スジが多数発生し、目視でも
面粗れが分かる。 △…微細スジが若干発生している。 ○…微細スジの発生がない。
面粗れが分かる。 △…微細スジが若干発生している。 ○…微細スジの発生がない。
【００４８】〔実施例２〕厚さ１０μｍ、幅３００mmの
ポリエチレンテレフタレート支持体上に、上記実施態様
のエクストルージョンヘッド１０を用いて上記塗布液Ｂ
（塗布量：１０ｃｃ／ｍ2 ）を下層塗布液として、磁性
塗布液である上記塗布液Ａを上層塗布液として同時重層
塗布し、前記エクストルージョンヘッドの第２スロット
部のスロット幅（Ｌ2 ）を夫々０．２５，０．５，１．
０，２．０，３．０mmとした以外は上記実施例１と同条
件で各試料を作製した。但し、前記エクストルージョン
ヘッドの第１ドクターエッジ部のエッジ面の曲率半径
（Ｒ3 ）を１．７５mm、第１ドクターエッジ部の幅（ウ
エブ走行方向幅）を０．５７mmとし、第２ドクターエッ
ジ部のエッジ面の曲率半径（Ｒ2 ）を３．５０mm、第２
ドクターエッジ部の幅（ウエブ走行方向幅）を１．１４
mmとした。
ポリエチレンテレフタレート支持体上に、上記実施態様
のエクストルージョンヘッド１０を用いて上記塗布液Ｂ
（塗布量：１０ｃｃ／ｍ2 ）を下層塗布液として、磁性
塗布液である上記塗布液Ａを上層塗布液として同時重層
塗布し、前記エクストルージョンヘッドの第２スロット
部のスロット幅（Ｌ2 ）を夫々０．２５，０．５，１．
０，２．０，３．０mmとした以外は上記実施例１と同条
件で各試料を作製した。但し、前記エクストルージョン
ヘッドの第１ドクターエッジ部のエッジ面の曲率半径
（Ｒ3 ）を１．７５mm、第１ドクターエッジ部の幅（ウ
エブ走行方向幅）を０．５７mmとし、第２ドクターエッ
ジ部のエッジ面の曲率半径（Ｒ2 ）を３．５０mm、第２
ドクターエッジ部の幅（ウエブ走行方向幅）を１．１４
mmとした。
【００４９】そして、前記各エクストルージョンヘッド
の各塗布条件毎に製造された磁性層表面を観察し、その
結果を下記表２に示すと共に、ＲＦ出力を調べて図５に
示した。ＲＦ出力の測定方法は、実施例１と同様とし
た。
の各塗布条件毎に製造された磁性層表面を観察し、その
結果を下記表２に示すと共に、ＲＦ出力を調べて図５に
示した。ＲＦ出力の測定方法は、実施例１と同様とし
た。
【００５０】
【表２】
【００５１】注）×…微細スジが発生し、目視でも面粗
れが分かる。 △…微細スジが若干発生する。 ○…微細スジの発生がない。
れが分かる。 △…微細スジが若干発生する。 ○…微細スジの発生がない。
【００５２】〔実施例３〕前記下層塗布液を上記塗布液
Ｄとし、前記上層塗布液を磁性塗布液である上記塗布液
Ｃとした以外は、上記実施例２と同条件で各試料を作製
した。
Ｄとし、前記上層塗布液を磁性塗布液である上記塗布液
Ｃとした以外は、上記実施例２と同条件で各試料を作製
した。
【００５３】そして、前記各エクストルージョンヘッド
の各塗布条件毎に製造された磁性層表面を観察し、その
結果を下記表３に示すと共に、ＲＦ出力を調べて図６に
示した。ＲＦ出力の測定方法は、実施例１，２と同様と
した。
の各塗布条件毎に製造された磁性層表面を観察し、その
結果を下記表３に示すと共に、ＲＦ出力を調べて図６に
示した。ＲＦ出力の測定方法は、実施例１，２と同様と
した。
【００５４】
【表３】
【００５５】注）×…微細スジが発生し、目視でも面粗
れが分かる。 △…微細スジが若干発生する。 ○…微細スジの発生がない。
れが分かる。 △…微細スジが若干発生する。 ○…微細スジの発生がない。
【００５６】上記各実施例から明らかな様に、塗布厚み
が４μｍ以下の磁性塗布液を上層塗布液として湿潤状態
の下層塗布液上に逐次重層塗布する場合や、前記上層塗
布液と下層塗布液を同時重層塗布する場合は、前記磁性
塗布液の引き延ばし流動指数εが６００以上の塗布条件
においては、微細スジが発生し、電磁変換特性も良くな
かった。
が４μｍ以下の磁性塗布液を上層塗布液として湿潤状態
の下層塗布液上に逐次重層塗布する場合や、前記上層塗
布液と下層塗布液を同時重層塗布する場合は、前記磁性
塗布液の引き延ばし流動指数εが６００以上の塗布条件
においては、微細スジが発生し、電磁変換特性も良くな
かった。
【００５７】従って、塗布厚みが４μｍ以下の磁性塗布
液を上層塗布液として湿潤状態の下層塗布液上に塗布す
る場合や、前記上層塗布液と下層塗布液を同時重層塗布
する場合において、微細スジが発生せず良好な電磁変換
特性を有する磁性層を得る為には、前記磁性塗布液の引
き延ばし流動指数εが６００以下となるようにすれば良
いことがわかる。
液を上層塗布液として湿潤状態の下層塗布液上に塗布す
る場合や、前記上層塗布液と下層塗布液を同時重層塗布
する場合において、微細スジが発生せず良好な電磁変換
特性を有する磁性層を得る為には、前記磁性塗布液の引
き延ばし流動指数εが６００以下となるようにすれば良
いことがわかる。
【図１】本発明の塗布方法の一例を示すエクストルージ
ョン型塗布装置の部分断面図である。
ョン型塗布装置の部分断面図である。
【図２】図１のエクストルージョン型塗布装置のドクタ
ーエッジ部の部分拡大断面図である。
ーエッジ部の部分拡大断面図である。
【図３】本発明の他の塗布方法の一例を示すエクストル
ージョン型塗布装置のドクターエッジ部の部分拡大断面
図である。
ージョン型塗布装置のドクターエッジ部の部分拡大断面
図である。
【図４】本発明の実施例１における引き延し流動指数と
ＲＦ出力との相関図である。
ＲＦ出力との相関図である。
【図５】本発明の実施例２における引き延し流動指数と
ＲＦ出力との相関図である。
ＲＦ出力との相関図である。
【図６】本発明の実施例３における引き延し流動指数と
ＲＦ出力との相関図である。
ＲＦ出力との相関図である。
１ エクストルージョンヘッド ２ 給液系 ３ ポケット部 ４ スロット部 ５ ドクターエッジ部 ６ バックエッジ部 ７ ウエブ ８ 下層塗布液 ９ 上層塗布液 １０ エクストルージョンヘッド １１ 第１ドクターエッジ部 １２ 第２ドクターエッジ部 １３ バックエッジ部 １４ 第２スロット部 １５ 第１スロット部
Claims (2)
- 【請求項１】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行する可撓性支持体の表面にスロット
先端部から塗布液を連続的に押出して該支持体表面に塗
布液を塗布するエクストルージョン型塗布装置によっ
て、予め塗布された湿潤状態の下層塗布液上に塗布厚み
が４μｍ以下の磁性塗布液を逐次重層塗布する磁気記録
媒体の製造方法において、前記支持体の走行速度をＶ、
前記スロット出口部での前記磁性塗布液の平均線速度を
υとしたとき、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を逐次重層塗布することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 一つのバックエッジ面及び複数のドクタ
ーエッジ面に沿って連続的に走行する可撓性支持体の表
面に複数のスロット先端部から各々塗布液を連続的に押
出して該支持体表面に各塗布液を同時重層塗布するエク
ストルージョン型塗布装置によって、下層塗布液上に塗
布厚みが４μｍ以下の磁性塗布液を同時重層塗布する磁
気記録媒体の製造方法において、前記支持体の走行速度
をＶ、前記スロット出口部での前記磁性塗布液の平均線
速度をυとしたとき、 ε＝Ｖ／υ・・・(1) 上記(1) 式により求められる前記スロット出口部から押
出されて前記支持体上に塗布完了するまでの前記磁性塗
布液の引き延ばし流動指数εが６００以下となるように
前記磁性塗布液を同時重層塗布することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3235684A JP2630519B2 (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| EP92114235A EP0529516B1 (en) | 1991-08-23 | 1992-08-20 | Method for manufacturing magnetic recording medium |
| US07/932,688 US5304393A (en) | 1991-08-23 | 1992-08-20 | Method for manufacturing magnetic recording medium |
| DE69224246T DE69224246T2 (de) | 1991-08-23 | 1992-08-20 | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsmediums |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3235684A JP2630519B2 (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05208165A JPH05208165A (ja) | 1993-08-20 |
| JP2630519B2 true JP2630519B2 (ja) | 1997-07-16 |
Family
ID=16989681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3235684A Expired - Fee Related JP2630519B2 (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5304393A (ja) |
| EP (1) | EP0529516B1 (ja) |
| JP (1) | JP2630519B2 (ja) |
| DE (1) | DE69224246T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19504930A1 (de) * | 1995-02-15 | 1996-08-22 | Basf Magnetics Gmbh | Vorrichtung zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers |
| JPH09141172A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-03 | Sony Corp | 塗布装置 |
| JP4264887B2 (ja) * | 2003-10-03 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 塗布方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE560654A (ja) * | 1956-09-11 | 1900-01-01 | ||
| JPS5617661A (en) * | 1979-07-23 | 1981-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Painting method |
| JPS62121929A (ja) * | 1985-11-21 | 1987-06-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS62212933A (ja) * | 1986-03-13 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0693297B2 (ja) * | 1987-01-30 | 1994-11-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US4994306A (en) * | 1989-03-13 | 1991-02-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for applying plural liquids to continuously moving nonmagnetic carrier |
-
1991
- 1991-08-23 JP JP3235684A patent/JP2630519B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-08-20 US US07/932,688 patent/US5304393A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-20 DE DE69224246T patent/DE69224246T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-20 EP EP92114235A patent/EP0529516B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0529516A1 (en) | 1993-03-03 |
| JPH05208165A (ja) | 1993-08-20 |
| EP0529516B1 (en) | 1998-01-28 |
| US5304393A (en) | 1994-04-19 |
| DE69224246D1 (de) | 1998-03-05 |
| DE69224246T2 (de) | 1998-05-14 |
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