JPH02207865A - 磁気記録媒体の製造方法及び装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法及び装置Info
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- JPH02207865A JPH02207865A JP2916989A JP2916989A JPH02207865A JP H02207865 A JPH02207865 A JP H02207865A JP 2916989 A JP2916989 A JP 2916989A JP 2916989 A JP2916989 A JP 2916989A JP H02207865 A JPH02207865 A JP H02207865A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は、塗布方法及びその装置(例えば、磁性層用塗
料等の塗布方法及びその装置)に関するものである。
料等の塗布方法及びその装置)に関するものである。
口、従来技術
磁気記録媒体は、支持体上に磁性塗布液を塗布すること
によって得られるが、その塗布方式としては、ロールコ
ート、グラビアコート、エクストルージョンコートが一
般的である。この中でも、エクストルージョン(押し出
し)コートは、均一な塗布膜厚が得られるので優れてい
る。
によって得られるが、その塗布方式としては、ロールコ
ート、グラビアコート、エクストルージョンコートが一
般的である。この中でも、エクストルージョン(押し出
し)コートは、均一な塗布膜厚が得られるので優れてい
る。
ところで、主として磁気記録媒体の製造を目的としたエ
クストルージョンコート法における従来技術として、特
開昭57−84771号、同5B−104666号、同
60−238179号公報記載のものが知られている。
クストルージョンコート法における従来技術として、特
開昭57−84771号、同5B−104666号、同
60−238179号公報記載のものが知られている。
上記のエクストルージョンコート法は、確かに均一な塗
布膜厚を得ることができるけれども、良好な塗布条件が
狭い範囲でしか得ることができず、高粘度、薄膜塗布及
び高速塗布条件下では、所望の塗布を行い得ない。
布膜厚を得ることができるけれども、良好な塗布条件が
狭い範囲でしか得ることができず、高粘度、薄膜塗布及
び高速塗布条件下では、所望の塗布を行い得ない。
特に、薄膜塗布時に、ベースフィルム上に付着している
異物、塵埃や磁性塗料中の凝集物などが、エクストルー
ダーのバックェツジ面上に付着したり引っ掛かったりし
て、塗膜が白く抜けたり、スジ状の塗布欠陥が生じてい
た。また、塗布ムラが多く生じ、RF比出力の電磁変換
特性の劣化を招いていた。
異物、塵埃や磁性塗料中の凝集物などが、エクストルー
ダーのバックェツジ面上に付着したり引っ掛かったりし
て、塗膜が白く抜けたり、スジ状の塗布欠陥が生じてい
た。また、塗布ムラが多く生じ、RF比出力の電磁変換
特性の劣化を招いていた。
ハ0発明の目的
本発明の目的は、均一塗布が可能で、スジ状の塗布故障
(欠陥)等を防止できるような塗布方法及びその装置を
提供することである。
(欠陥)等を防止できるような塗布方法及びその装置を
提供することである。
二1発明の構成
本発明は、塗布液吐出口から塗布液を吐出して被塗布体
に塗布液を塗布し、次いで既塗布の前記被塗布体をバッ
クェツジ面に沿って移送する塗布方法において、前記バ
ックェツジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0μm以
下としたことを特徴とする塗布方法に係るものである。
に塗布液を塗布し、次いで既塗布の前記被塗布体をバッ
クェツジ面に沿って移送する塗布方法において、前記バ
ックェツジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0μm以
下としたことを特徴とする塗布方法に係るものである。
また、本発明は、塗布液を吐出して被塗布体に塗布液を
塗布する塗布液吐出口と、この塗布液吐出口に対して未
塗布の前記被塗布体が移送されてくる側に形成されたフ
ロントエツジ面と、前記塗布液吐出口に対して既塗布の
前記被塗布体が移送される側に形成されたバックェツジ
面とを有する塗布装置において、前記バックェツジ面の
中心線平均粗さ(Ra)が5.0μm以下であることを
特徴とする塗布装置に係るものである。
塗布する塗布液吐出口と、この塗布液吐出口に対して未
塗布の前記被塗布体が移送されてくる側に形成されたフ
ロントエツジ面と、前記塗布液吐出口に対して既塗布の
前記被塗布体が移送される側に形成されたバックェツジ
面とを有する塗布装置において、前記バックェツジ面の
中心線平均粗さ(Ra)が5.0μm以下であることを
特徴とする塗布装置に係るものである。
ホ、実施例
以下、本発明の詳細な説明する。
第1図は押し出しコーク−(エクストルージョンコータ
ー)1を示す斜視図であり、第2図は第1図の■−■線
矢視断面図である。
ー)1を示す斜視図であり、第2図は第1図の■−■線
矢視断面図である。
この押し出しコーター1は、先端(塗布面)の方がくさ
び状にすぼまった略直方体の形状をしており、コーター
本体2内に長手方向に向かって円筒形の液溜まり3が形
成されている。この液溜まり部3へと液導入口10から
矢印Aで示すように塗布液が導入される。液溜まり3か
らコーター先端部へ向かってスリット(液送り孔)4が
設けられ、スリット4の末端に塗布液吐出ロアが設けら
れている。液溜まり3へと導入された塗布液は、スリッ
ト4内を矢印日のように押し出され、塗布液吐出ロアか
ら矢印Cのように押し出される。塗布液吐出ロアの第2
図において上側にはフロントエツジ面5が形成され、同
図において下側にはバックェツジ面6が形成されている
。このフロントエツジ面5、バックェツジ面6に沿って
、可撓性非磁性ベースフィルム8が矢印Oのように送ら
れ、ベースフィルム8の表面に塗布液吐出ロアより吐出
された磁性塗料が塗られ、磁性塗料塗布層9が形成され
る。
び状にすぼまった略直方体の形状をしており、コーター
本体2内に長手方向に向かって円筒形の液溜まり3が形
成されている。この液溜まり部3へと液導入口10から
矢印Aで示すように塗布液が導入される。液溜まり3か
らコーター先端部へ向かってスリット(液送り孔)4が
設けられ、スリット4の末端に塗布液吐出ロアが設けら
れている。液溜まり3へと導入された塗布液は、スリッ
ト4内を矢印日のように押し出され、塗布液吐出ロアか
ら矢印Cのように押し出される。塗布液吐出ロアの第2
図において上側にはフロントエツジ面5が形成され、同
図において下側にはバックェツジ面6が形成されている
。このフロントエツジ面5、バックェツジ面6に沿って
、可撓性非磁性ベースフィルム8が矢印Oのように送ら
れ、ベースフィルム8の表面に塗布液吐出ロアより吐出
された磁性塗料が塗られ、磁性塗料塗布層9が形成され
る。
ここで注目すべきことは、バックェツジ面6の中心線平
均粗さ(Ra)を5.0μm以下としたことである。
均粗さ(Ra)を5.0μm以下としたことである。
即ち、本発明者は、エクストルージョンコーターにより
磁性層を形成する際、前述のように、磁性塗膜中に細か
いスジ状のムラや、スジ状の故障が発生するのを防止す
べく研究を重ねていたが、その研究の過程で、コーター
ヘッドのエツジ面の表面状態に特に着目した。そして、
バックェツジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0pm
以下(より好ましくは3μm以下、更に好ましくはlμ
m以下)とすることで、上記の問題を解決できることを
発見したのである。つまり、塗膜欠陥を防止するうえで
、塗布直後にベースフィルムが追随すべきバックェツジ
面の表面状態が致命的に重要だったのであり、Raを上
記のように限定することで、細かいスジ状の塗布ムラが
防止され、またスジ状の故障の原因となるような異物が
バックェツジ面に引っ掛からないのである。
磁性層を形成する際、前述のように、磁性塗膜中に細か
いスジ状のムラや、スジ状の故障が発生するのを防止す
べく研究を重ねていたが、その研究の過程で、コーター
ヘッドのエツジ面の表面状態に特に着目した。そして、
バックェツジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0pm
以下(より好ましくは3μm以下、更に好ましくはlμ
m以下)とすることで、上記の問題を解決できることを
発見したのである。つまり、塗膜欠陥を防止するうえで
、塗布直後にベースフィルムが追随すべきバックェツジ
面の表面状態が致命的に重要だったのであり、Raを上
記のように限定することで、細かいスジ状の塗布ムラが
防止され、またスジ状の故障の原因となるような異物が
バックェツジ面に引っ掛からないのである。
バックェツジ面の中心線平均粗さ(Ra )は、できる
だけ小さいほうが好ましいが、加工精度上0.1pm以
下とするのは難しい。
だけ小さいほうが好ましいが、加工精度上0.1pm以
下とするのは難しい。
ここで、中心線平均粗さ(Ra )とは、JISB
0601 (1976)、4頁に定義されている様に、
[粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さlの部分を
抜き取り、この゛抜き取りの中心線をY軸、縦倍率の方
向をY軸とし、粗さ曲線をy=r(X)で表した時、次
の式で与えられるRaの°値をマイクロメートル単位(
μ)で表したものを意味する。
0601 (1976)、4頁に定義されている様に、
[粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さlの部分を
抜き取り、この゛抜き取りの中心線をY軸、縦倍率の方
向をY軸とし、粗さ曲線をy=r(X)で表した時、次
の式で与えられるRaの°値をマイクロメートル単位(
μ)で表したものを意味する。
バックェツジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0 μ
m以下とするには、バックェツジ面を例えば平面研削盤
(トイシ円周を使用して作業を行う横軸平面研削盤等)
等により表面加工すればよい。
m以下とするには、バックェツジ面を例えば平面研削盤
(トイシ円周を使用して作業を行う横軸平面研削盤等)
等により表面加工すればよい。
第3図は他のコーターヘッドのエツジ部周辺を示す要部
拡大断面図である。
拡大断面図である。
この押し出しコーター21は、上流側表面にフロントエ
ツジ面25、下流側表面にバックェツジ面26を有し、
それらの間に塗布液溜まり(図示省略)を連通ずるスリ
ット4を有している。
ツジ面25、下流側表面にバックェツジ面26を有し、
それらの間に塗布液溜まり(図示省略)を連通ずるスリ
ット4を有している。
フロントエツジ面25の下流端Eにおける接線llより
、バックェツジ面26の一部が突出(第3図ではほぼ上
方に突出)するようにしている。
、バックェツジ面26の一部が突出(第3図ではほぼ上
方に突出)するようにしている。
支持体は、矢印Oで示すように、フロントエツジ面25
に沿ってせり上がりから下流端Eを通って、スリット4
及び塗布液吐出ロアを越えて、バックェツジ面26の塗
布液槽要分上方をめぐりながら右方へ抜けて行く。
に沿ってせり上がりから下流端Eを通って、スリット4
及び塗布液吐出ロアを越えて、バックェツジ面26の塗
布液槽要分上方をめぐりながら右方へ抜けて行く。
バックェツジ面26の曲率半径rは、3〜IOMが好ま
しい。
しい。
本例のコーターヘッドでも、バックェツジ面26の中心
線平均粗さ(Ra)を、本発明の構成に従い、5,01
1m以下としている。また、フロントエツジ面25の下
流端Eにおける接線らに対し、バックェツジ面26の一
部(第3図の例では大部分)が第3図においてほぼ上方
へと突出しているので、フロントエツジ面25に沿って
送られてきた非磁性ベースフィルムが下流端Eに当たる
力は、バックェツジ面26の方へと塗布液を介して分散
されるものと考えられる。従って、非磁性ベースフィル
ムが急角度の下流端Eにより削られることが少なくなり
、これにより生ずるいわゆるベース屑の発生を抑制しう
るものと考えられる。
線平均粗さ(Ra)を、本発明の構成に従い、5,01
1m以下としている。また、フロントエツジ面25の下
流端Eにおける接線らに対し、バックェツジ面26の一
部(第3図の例では大部分)が第3図においてほぼ上方
へと突出しているので、フロントエツジ面25に沿って
送られてきた非磁性ベースフィルムが下流端Eに当たる
力は、バックェツジ面26の方へと塗布液を介して分散
されるものと考えられる。従って、非磁性ベースフィル
ムが急角度の下流端Eにより削られることが少なくなり
、これにより生ずるいわゆるベース屑の発生を抑制しう
るものと考えられる。
第4図は、磁気テープ等の磁気記録媒体の製造装置を示
す概略図である。
す概略図である。
磁気記録媒体は一般に、磁性粉を含有した磁性塗料ヲベ
ースフィルム上に塗布し、乾燥後に加圧、加熱下でのカ
レンダー処理により磁性層表面を平滑化する工程を経て
製造される。
ースフィルム上に塗布し、乾燥後に加圧、加熱下でのカ
レンダー処理により磁性層表面を平滑化する工程を経て
製造される。
第4図の製造装置においては、まず供給ロール12から
繰出されたフィルム状支持体8は、押し出しコータ1(
21)により磁性塗料を塗布した後、配向磁石13によ
り配向され、乾燥器14に導入され、ここで上下に配し
たノズルから熱風を吹付けて乾燥する。次に、乾燥され
た磁性層付きの支持体8はカレンダーロール18の組合
せからなるカレンダ一部17に導かれ、ここでカレンダ
ー処理された後に、巻取ロール19に巻き取られる。な
お、押し出しコータは模式的に示してあって、第1図〜
第3図に示したもののうちいずれであってもよい。磁気
塗料は、図示しないインラインミキサーを通して押し出
しコーターへと供給してもよい。なお、図中、Oは非磁
性ベースフィルムの搬送方向を示す。
繰出されたフィルム状支持体8は、押し出しコータ1(
21)により磁性塗料を塗布した後、配向磁石13によ
り配向され、乾燥器14に導入され、ここで上下に配し
たノズルから熱風を吹付けて乾燥する。次に、乾燥され
た磁性層付きの支持体8はカレンダーロール18の組合
せからなるカレンダ一部17に導かれ、ここでカレンダ
ー処理された後に、巻取ロール19に巻き取られる。な
お、押し出しコータは模式的に示してあって、第1図〜
第3図に示したもののうちいずれであってもよい。磁気
塗料は、図示しないインラインミキサーを通して押し出
しコーターへと供給してもよい。なお、図中、Oは非磁
性ベースフィルムの搬送方向を示す。
本発明に係る塗布方法及びその装置により製造されるべ
き磁気記録媒体は、例えば第5図に示すように、ポリエ
チレンテレフタレート等の非磁性支持体31上に磁性層
33を有し、必要あればこの磁性層33とは反対側の面
にBC層32が設けられている構成のものである。また
、第6図に示すように第5図の磁気記録媒体の磁性層3
3上にオーバーコート層(00層)34を設けてもよい
。
き磁気記録媒体は、例えば第5図に示すように、ポリエ
チレンテレフタレート等の非磁性支持体31上に磁性層
33を有し、必要あればこの磁性層33とは反対側の面
にBC層32が設けられている構成のものである。また
、第6図に示すように第5図の磁気記録媒体の磁性層3
3上にオーバーコート層(00層)34を設けてもよい
。
また、第5図、第6図の磁気記録媒体は、磁性層33と
支持体31との間に下引き層(図示せず)を設けたもの
であってよく、或いは下引き層を設けなくても良い。ま
た支持体にコロナ放電処理を施しても良い。
支持体31との間に下引き層(図示せず)を設けたもの
であってよく、或いは下引き層を設けなくても良い。ま
た支持体にコロナ放電処理を施しても良い。
次に、磁性塗料の材料等について述べる。
磁性塗料中のバインダー樹脂として少なくともポリウレ
タンを使用できるが、これは、ポリオールとポリイソシ
アネートとの反応によって合成できる。ポリウレタンと
共に、フェノキシ樹脂及び/又は塩化ビニル系共重合体
も含有せしめれば、磁性層に適用する場合に磁性粉の分
散性が向上し、その機械的強度が増大する。また、使用
される磁性粉末、特に強磁性粉末としては、7FezO
xCo含有7−Fe、Ox 、Fe50. 、Co含有
Feze4等の酸化鉄磁性粉;Fe、Ni、Co、Fe
−Ni−Co合金、Fe−Ni合金、FeA2合金、F
e−An!−Ni合金、Fe−Af−Co合金、Fe−
Mn−Zn合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe−An−
Ni−Co合金、Fe−AJ!−Ni−Cr合金、Fe
−Aj!−Co−Cr合金、Fe−Co−Ni−Cr合
金、Fe−C。
タンを使用できるが、これは、ポリオールとポリイソシ
アネートとの反応によって合成できる。ポリウレタンと
共に、フェノキシ樹脂及び/又は塩化ビニル系共重合体
も含有せしめれば、磁性層に適用する場合に磁性粉の分
散性が向上し、その機械的強度が増大する。また、使用
される磁性粉末、特に強磁性粉末としては、7FezO
xCo含有7−Fe、Ox 、Fe50. 、Co含有
Feze4等の酸化鉄磁性粉;Fe、Ni、Co、Fe
−Ni−Co合金、Fe−Ni合金、FeA2合金、F
e−An!−Ni合金、Fe−Af−Co合金、Fe−
Mn−Zn合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe−An−
Ni−Co合金、Fe−AJ!−Ni−Cr合金、Fe
−Aj!−Co−Cr合金、Fe−Co−Ni−Cr合
金、Fe−C。
−Ni−P合金、Go−Ni合金等Fe、Ni、Go等
を主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁性粉が挙げら
れる。
を主成分とするメタル磁性粉等各種の強磁性粉が挙げら
れる。
磁性塗料中にはまた、潤滑剤(例えばシリコーンオイル
、グラファイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン、炭素原子数12〜20の一塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)や、炭素原子総数13〜40個の脂肪酸エ
ステル等)、研磨剤(例えば溶融アルミナ)、帯電防止
剤(例えばカーボンブラシ、グラファイト)等を添加し
てよい。
、グラファイト、二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン、炭素原子数12〜20の一塩基性脂肪酸(例えばス
テアリン酸)や、炭素原子総数13〜40個の脂肪酸エ
ステル等)、研磨剤(例えば溶融アルミナ)、帯電防止
剤(例えばカーボンブラシ、グラファイト)等を添加し
てよい。
また、支持体の素材としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリプロピレン等のプラスチック、An!、、Z
n等の金属、ガラス、BNSSiカーバイド、磁器、陶
器等のセラミックなどが使用される。
ート、ポリプロピレン等のプラスチック、An!、、Z
n等の金属、ガラス、BNSSiカーバイド、磁器、陶
器等のセラミックなどが使用される。
上記の磁性層の塗布形成時には、塗料中に架橋剤として
の多官能イソシアネートを所定量添加してもよい。
の多官能イソシアネートを所定量添加してもよい。
なお、陰性官能基含有樹脂の商品名としては、r400
Xll0 AJ (日本ゼオン社製)、rMR−1
10J(日本ゼオン社製)、r T I M −300
54(三洋化成社製)、r U R−8300J、r
U R−8600J、[バイロン530J(東洋紡社製
)等が挙げられる。
Xll0 AJ (日本ゼオン社製)、rMR−1
10J(日本ゼオン社製)、r T I M −300
54(三洋化成社製)、r U R−8300J、r
U R−8600J、[バイロン530J(東洋紡社製
)等が挙げられる。
以下、具体的な実験例について説明するが、本発明の実
施の態様はこれにより限定されない。なお、1部」は「
重量部」を表すものとする。
施の態様はこれにより限定されない。なお、1部」は「
重量部」を表すものとする。
まず、支持体上に磁性層を次の要領で形成した。
r−Fezes 100部(
Hc、TOO0eSBET値25rd/g)ウレタン樹
脂 7部(日本ポリウレタン
社製のN3132)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
20部(ユニオンカーバイド社製のVAGH)ア
ルミナ粉末(α−A/!、O,) ’を部ミ
リスチン酸 0.65部ステア
リン酸 0.35部オレイン酸
0.65部ステアリン酸
ブチル 1部ポリイソシアネート
io部トルエン
150部メチルエチルケトン
150部カーボンブラック
5部上記組成の磁性塗料をポリイソシアネート
無添加でサンドミルで分散させ、しかる後にポリイソシ
アネートを添加し、調合した。そして1.各磁性塗料ヲ
ポリエチレンテレフタレートベースフイルム上に、第3
図に示した如き押し出しコータでエクストルージョン塗
布した。しかる後に、乾燥処理、カレンダー処理(80
°C170kg/d)後に巻き取り、70℃、20時間
キュア処理を行った。
Hc、TOO0eSBET値25rd/g)ウレタン樹
脂 7部(日本ポリウレタン
社製のN3132)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
20部(ユニオンカーバイド社製のVAGH)ア
ルミナ粉末(α−A/!、O,) ’を部ミ
リスチン酸 0.65部ステア
リン酸 0.35部オレイン酸
0.65部ステアリン酸
ブチル 1部ポリイソシアネート
io部トルエン
150部メチルエチルケトン
150部カーボンブラック
5部上記組成の磁性塗料をポリイソシアネート
無添加でサンドミルで分散させ、しかる後にポリイソシ
アネートを添加し、調合した。そして1.各磁性塗料ヲ
ポリエチレンテレフタレートベースフイルム上に、第3
図に示した如き押し出しコータでエクストルージョン塗
布した。しかる後に、乾燥処理、カレンダー処理(80
°C170kg/d)後に巻き取り、70℃、20時間
キュア処理を行った。
押し出しコーターのバックェツジ部は、横軸平面研削盤
にて研削し、下記表に示すような各中心線平均粗さ(R
a )を有するものとした。
にて研削し、下記表に示すような各中心線平均粗さ(R
a )を有するものとした。
以上のようにして得られた幅広のフィルムを3インチ幅
に断裁し、ビデオテープとした。このテープについて、
下記のようにして各特性を測定した。測定結果は下記表
に示す。
に断裁し、ビデオテープとした。このテープについて、
下記のようにして各特性を測定した。測定結果は下記表
に示す。
塗布ムラ:
塗布長5 m s塗布幅450aaに亘って透過光及び
反射光にて目視で観察した。
反射光にて目視で観察した。
◎・・・・・・・・・なし
○・・・・・・・・・僅かにあり
Δ・・・・・・・・・少しあり
×・・・・・・・・・多い
スジ故障数:
塗布長10000 m 、塗布幅450m+aについて
、透過光にて塗布層中のスジ故障の本数をカウントした
。
、透過光にて塗布層中のスジ故障の本数をカウントした
。
RF出カニ
RF出力測定用VTRデツキを用いて4MHzでのRF
比出力測定し、100回再生後の値を示した(但し、実
施例による場合を基準値(OdB)とした)。
比出力測定し、100回再生後の値を示した(但し、実
施例による場合を基準値(OdB)とした)。
中心線平均粗さ(Ra):
小板研究所製の三次元表面粗さ計(3FK)にて測定し
た(カットオフは0.25aum) 、 Raは、支持
体の幅手方向へと向かって計5ケ所でバックェツジ面を
測定し、その平均値を表示した。
た(カットオフは0.25aum) 、 Raは、支持
体の幅手方向へと向かって計5ケ所でバックェツジ面を
測定し、その平均値を表示した。
表
上記表に示す結果より、
塗布ムラ:
以下のことが解る。
Raが5.0μmを越えると、細かいスジ状の塗布ムラ
が非常に多(なる。
が非常に多(なる。
スジ故障:
Raが太き(なると、バックェツジ面に異物が引っ掛か
り易く、この異物からスジ状の故障が起きる。
り易く、この異物からスジ状の故障が起きる。
RF出カニ
塗布ムラの影響から、比較例の製造方法ではRF比出力
劣化する。
劣化する。
以上の実施例は種々変更できる。
例えば、押し出しコーターのヘッド、フロントエツジ面
、バックェツジ面の形状、寸法等は種々変更でき、また
押し出しコーター全体の寸法、形状、構造、液溜まり、
スリット、塗布液吐出口等の寸法、形状等も種々変更で
きる。
、バックェツジ面の形状、寸法等は種々変更でき、また
押し出しコーター全体の寸法、形状、構造、液溜まり、
スリット、塗布液吐出口等の寸法、形状等も種々変更で
きる。
塗布液としては、磁性塗料のみならず、磁気記録媒体の
バックコート層用塗料、下引き層相塗料、オーバーコー
ト要用塗料等をも含み、蒸着等による金属薄膜を有する
磁気記録媒体のオーバーコ、−ト層用塗料、バックコー
ト層用塗料等にも適用できる。磁気記録媒体としては、
磁気テープのみならず、シート状のもの、ディスク状の
もの、カード状のもの等も例示できる。磁気記録媒体の
製造時において、配向、乾燥、カレンダー処理等の順序
等も変更できる。
バックコート層用塗料、下引き層相塗料、オーバーコー
ト要用塗料等をも含み、蒸着等による金属薄膜を有する
磁気記録媒体のオーバーコ、−ト層用塗料、バックコー
ト層用塗料等にも適用できる。磁気記録媒体としては、
磁気テープのみならず、シート状のもの、ディスク状の
もの、カード状のもの等も例示できる。磁気記録媒体の
製造時において、配向、乾燥、カレンダー処理等の順序
等も変更できる。
押し出しコーターとして、二つの又は三つ以上の塗布液
吐出口をもつ押し出しコーターにも本発明を適用しうる
。更に、塗布装置として、上記のように連続的に塗布液
を押し出して支持体表面に塗布するものの他、例えば傾
斜面を塗布液にスライド(流下)させ、その圧力で塗布
液を塗布液吐出口より吐出させ、支持体上に塗布するも
のも含む。
吐出口をもつ押し出しコーターにも本発明を適用しうる
。更に、塗布装置として、上記のように連続的に塗布液
を押し出して支持体表面に塗布するものの他、例えば傾
斜面を塗布液にスライド(流下)させ、その圧力で塗布
液を塗布液吐出口より吐出させ、支持体上に塗布するも
のも含む。
本発明は種々の塗布方法及びその装置に適用できる。
へ0発明の効果
本発明に係る塗布方法及びその装置によれば、バックェ
ツジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0μm以下とし
ているので、バックェツジ面に沿って移送される被塗布
体上の塗布液層に、細かいスジ状の塗布ムラが生ずるの
を防止できる。また、バックェツジ面が粗(ないので、
これに異物が引っ掛かり難く、従ってかかる異物に起因
するスジ状の塗布故障(欠陥)を防止できる。
ツジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0μm以下とし
ているので、バックェツジ面に沿って移送される被塗布
体上の塗布液層に、細かいスジ状の塗布ムラが生ずるの
を防止できる。また、バックェツジ面が粗(ないので、
これに異物が引っ掛かり難く、従ってかかる異物に起因
するスジ状の塗布故障(欠陥)を防止できる。
図面は実施例を示すものであって、
第1図はエクストルージョンコーター(押し出しコータ
ーヘッド)を示す斜視図、 第2図は第1図の■−■線矢視断面図、第3図は他のコ
ーターヘッドのエツジ面周辺を示す要部拡大断面図、 第4図は磁気記録媒体の製造装置の一例を示す概略図、 第5図、第6図はそれぞれ磁気記録媒体の一例を示す一
部断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 1.21・・・・・・・・・押し出しコーター(コータ
ーヘッド) 2・・・・・・・・・コーターヘット本体3・・・・・
・・・・液溜まり 4・・・・・・・・・スリット 5.25・・・・・・・・・フロントエツジ面6.26
・・・・・・・・・バックェツジ面7・・・・・・・・
・塗布液吐出口 8・・・・・・・・・被磁性支持体 9・・・・・・・・・磁性塗料塗布層 A、B、C・・・・・・・・・磁性塗料の流れO・・・
・・・・・・非磁性支持体の移送方向である。
ーヘッド)を示す斜視図、 第2図は第1図の■−■線矢視断面図、第3図は他のコ
ーターヘッドのエツジ面周辺を示す要部拡大断面図、 第4図は磁気記録媒体の製造装置の一例を示す概略図、 第5図、第6図はそれぞれ磁気記録媒体の一例を示す一
部断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 1.21・・・・・・・・・押し出しコーター(コータ
ーヘッド) 2・・・・・・・・・コーターヘット本体3・・・・・
・・・・液溜まり 4・・・・・・・・・スリット 5.25・・・・・・・・・フロントエツジ面6.26
・・・・・・・・・バックェツジ面7・・・・・・・・
・塗布液吐出口 8・・・・・・・・・被磁性支持体 9・・・・・・・・・磁性塗料塗布層 A、B、C・・・・・・・・・磁性塗料の流れO・・・
・・・・・・非磁性支持体の移送方向である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、塗布液吐出口から塗布液を吐出して被塗布体に塗布
液を塗布し、次いで既塗布の前記被塗布体をバックエッ
ジ面に沿って移送する塗布方法において、前記バックエ
ッジ面の中心線平均粗さ(Ra)を5.0μm以下とし
たことを特徴とする塗布方法。 2、塗布液を吐出して被塗布体に塗布液を塗布する塗布
液吐出口と、この塗布液吐出口に対して未塗布の前記被
塗布体が移送されてくる側に形成されたフロントエッジ
面と、前記塗布液吐出口に対して既塗布の前記被塗布体
が移送される側に形成されたバックエッジ面とを有する
塗布装置において、前記バックエッジ面の中心線平均粗
さ(Ra)が5.0μm以下であることを特徴とする塗
布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1029169A JP2670834B2 (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 磁気記録媒体の製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1029169A JP2670834B2 (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 磁気記録媒体の製造方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02207865A true JPH02207865A (ja) | 1990-08-17 |
JP2670834B2 JP2670834B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=12268739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1029169A Expired - Lifetime JP2670834B2 (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 磁気記録媒体の製造方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2670834B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05220437A (ja) * | 1992-02-13 | 1993-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
JPH05220438A (ja) * | 1992-02-13 | 1993-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
US5545256A (en) * | 1993-10-15 | 1996-08-13 | Konica Corporation | Coating apparatus |
US5547510A (en) * | 1993-04-08 | 1996-08-20 | Konica Corporation | Coating apparatus |
US6447611B1 (en) * | 1998-11-27 | 2002-09-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus |
US6652653B2 (en) * | 1998-11-10 | 2003-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating apparatus, method for producing color filter substrate by use of the coating apparatus, and liquid-crystal display apparatus using the color filter substrate produced by the method |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6078664A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布方法 |
-
1989
- 1989-02-08 JP JP1029169A patent/JP2670834B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6078664A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布方法 |
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US6652653B2 (en) * | 1998-11-10 | 2003-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating apparatus, method for producing color filter substrate by use of the coating apparatus, and liquid-crystal display apparatus using the color filter substrate produced by the method |
US6447611B1 (en) * | 1998-11-27 | 2002-09-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2670834B2 (ja) | 1997-10-29 |
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---|---|---|---|
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