JPH07256187A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH07256187A
JPH07256187A JP6077771A JP7777194A JPH07256187A JP H07256187 A JPH07256187 A JP H07256187A JP 6077771 A JP6077771 A JP 6077771A JP 7777194 A JP7777194 A JP 7777194A JP H07256187 A JPH07256187 A JP H07256187A
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Ryuji Hosogaya
隆二 細萱
Eizo Tsunoda
栄蔵 角田
Akira Hatakeyama
明 畠山
Yoshihisa Oosawa
義比佐 大澤
Hideki Tanaka
英樹 田中
Seiichi Tobisawa
飛沢  誠一
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    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/848Coating a support with a magnetic layer by extrusion
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 塗膜の塗布ムラ、塗布スジ不良等の発生を未
然に防止することができるとともに、膜厚変動のない均
一な塗膜形成が可能な塗布装置を提供する。 【構成】 スリットから塗布液を連続的に吐出して支持
体表面に塗布する押出し塗布ヘッドを備えた塗布装置に
おいて、前記スリットを塗布液流入口端から塗布液吐出
口端に向けて拡大するテーパー状をなすよう形成すると
ともに、塗布液流入口端のスリット間隔幅(d1 )と塗
布液吐出口端のスリット間隔幅(d2 )を下記の条件 5%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦20% を満足するよう形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は塗布装置に係り、特に、
塗膜の塗布ムラ、塗布スジ不良等の発生を未然に防止す
ることができるとともに、膜厚変動のない均一な塗膜形
成が可能な塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、支持体上に塗布液を塗布する方法
として、ロールコート法、グラビアコート法、スライド
ビードコート法、ドクターコート法等の種々の方法が用
いられているが、生産性や操作性が高く塗布膜の厚さ制
御性に優れることから、近年、押出し塗布法が注目され
ている。
【0003】押出し塗布法は、サポートロール等の搬送
手段の間において、支持体に対して所定の張力がかかる
ように押出し塗布ヘッドのエッジ面を押し付け、塗布液
供給用スリットから押出される塗布液の押出し量の変化
に応じて押出し塗布ヘッドと支持体との間隔を変化させ
ることで、所定の膜厚となるように制御して塗布を行う
ものである。
【0004】押出し塗布に用いられる押出し塗布ヘッド
は、通常フロントエッジ(支持体搬送方向上流側)とバ
ックエッジ(支持体搬送方向下流側)からなり、このフ
ロントエッジとバックエッジの間にポケット(塗布液だ
まり)とそれに連なるスリットが形成されている。そし
て、外部の塗布液供給系から上記ポケットにいったん塗
布液が送り込まれ、この時の塗布液の流体圧力に応じた
流量でスリットから塗布液が吐出され、支持体表面を塗
布するようになっている。
【0005】これら従来の押出し塗布ヘッドにおいて
は、スリットは通常、対向する2平面が互いに平行、あ
るいはテーパー状をなして形成されている。
【0006】スリットがテーパー状をなすものとして、
例えば特開昭63−20069号、特開昭63−200
70号、特開平1−184071号公報等において種々
のものが提案されているが、これら従来のものはいずれ
も、塗布液流入口(ポケットとの境界部)から塗布液吐
出口に向って狭まったテーパー状をなすよう構成されて
おり、このように構成することにより、スリットからの
塗布液吐出時の圧力損失を小さくして塗布膜変動を抑
え、均一な塗膜形成を得ようとしている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで押出し塗布工
程の実際においては、塗布工程を一時中断させ、ある時
間経過後に再び塗布を開始させるような場合が起こり得
るが、このような場合、塗布停止がある時間以上に及ぶ
と、押出し塗布装置のポケット内に貯留する塗布溶液の
ゲル化等により凝集物を生成することがある。そして塗
布再開後、塗布液の流れによってこの凝集物がポケット
からスリットの塗布液流入口を通ってスリット内に送り
込まれることとなる。
【0008】しかしながら、上記従来のいずれの押出し
塗布装置においても、スリットが塗布液吐出口へ向って
狭まったテーパー状をなすため、塗布液流入口からスリ
ット内に送り込まれた凝集物が塗布液吐出口でひっかか
って排出され難く、これが原因となって塗布ムラや塗布
スジ不良等が発生し、均一な塗膜厚が得られないという
問題がある。
【0009】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、スリット内に流入された凝集物等をスムーズにス
リットから排出することができ、これによって塗膜の塗
布ムラ、塗布スジ不良等の発生を未然に防止し、しかも
膜厚変動の少ない均一な塗膜形成が可能な塗布装置を提
供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によれば、スリットから塗布液を連続的に吐
出して支持体表面に塗布する押出し塗布ヘッドを備えた
塗布装置において、前記スリットは塗布液流入口端から
塗布液吐出口端に向けて拡大するテーパー状をなすとと
もに、塗布液流入口端のスリット間隔幅(d1 )と塗布
液吐出口端のスリット間隔幅(d2 )が下記の条件 5%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦20% を満足するよう形成されていることを特徴とする塗布装
置が提供される。
【0011】スリットの形状を上記のように設定するこ
とによって、スリット内に流入された凝集物等をスムー
ズにスリットから排出することができ、これによって塗
膜の塗布ムラ、塗布スジ不良等の発生を未然に防止する
ことができ、しかも膜厚変動の少ない均一な塗膜形成が
可能となる。
【0012】以下、本発明の具体的構成について説明す
る。
【0013】図1は本発明の塗布装置の一例を示す概略
構成図である。図1において、塗布装置1は押出し塗布
ヘッド2および乾燥装置3を備え、この押出し塗布ヘッ
ド2の上流側には塗布前の支持体4が巻かれた繰出しロ
ール5が配設され、乾燥装置の3の下流側には搬送され
てくる塗布後の支持体4を巻取る巻取りロール6が配設
されている。なお、図中7はガイドロールである。
【0014】図2は上記押出し塗布ヘッド2の外観斜視
図を示し、図3は図2に示された押出し塗布ヘッドの断
面図を示す。図2、3において、押出し塗布ヘッド2は
フロントエッジ10とバックエッジ11からなり、フロ
ントエッジ10とバックエッジ11との間には、ポケッ
ト(塗布液だまり)12とそれに連通してスリット13
が押出し塗布ヘッド2の長手方向に全幅にわたって形成
されている。このポケット12は、バックエッジ11の
壁面所定箇所に開口する塗布液用流路(図示せず)に連
通し、外部の塗布液供給系(図示せず)からこの塗液用
流路を通してポケット12にいったん塗布液が送り込ま
れ、この時の塗布液の流体圧力に応じた流量でスリット
13から塗布液が支持体表面に吐出されるようになって
いる。
【0015】スリット13は、フロントエッジ10のな
す内壁面10aとバックエッジ11のなす内壁面11a
とが所定間隔隔離対向して形成されてなる。本発明で
は、このスリット13の形状が、ポケット12との境界
部にあたる塗布液流入口端13aから塗布液吐出口端1
3bに向けて拡大するテーパー状をなすとともに、塗布
液流入口端13aのスリット間隔幅(d1 )と塗布液吐
出口端13bのスリット間隔幅(d2 )が下記の条件 5%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦20% を満足するよう形成されていることを特徴とする。ここ
で、上記スリット間隔幅(d1 )は、スリットの塗布液
流入口端13aにおける前記2つの内壁面10a、11
aの隔離距離を意味し、上記スリット間隔幅(d2
は、スリットの塗布液吐出口端13bにおける前記2つ
の内壁面10a、11aの隔離距離を意味する。なお上
記条件は、より好ましくは、 7%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦15% に設定される。スリット間隔幅をこのように設定するの
は、{[(d2 −d1 )/d1 ]×100}(テーパー
量)が5%未満では、ある時間塗布停止後に再び塗布を
開始した場合、塗布液凝集物等がスリットから排出する
のが困難となり塗布スジ不良の原因となるからであり、
一方、20%を超えると塗布液が均一に流動しにくくな
るため塗布ムラの原因となるからである。
【0016】また本発明においては、スリット13の塗
布液流入口端13aのスリット間隔幅(d1 )が0.0
5〜0.2mmであることが好ましく、より好ましくは
0.1〜0.16mmである。前記スリット間隔幅(d
1 )が0.05mm未満ではある時間塗布停止後に再び
塗布を開始した場合、ポケット内の塗布液凝集物がスリ
ット塗布液流入口に留まることにより塗布スジ不良の原
因となるからであり、一方、0.2mmを超えるとスリ
ット塗布液吐出口からの塗布液量の制御が困難となるこ
とにより塗膜厚変動の原因となるからである。
【0017】なお、スリット13の長さについては、特
に限定されるものではないが、例えば磁性層塗布により
磁気記録媒体を製造する場合等においては、通常10〜
50mm程度の長さに設定される。
【0018】このような押出し塗布ヘッド2は、従来の
押出し塗布ヘッドと同様の材料、例えば、ステンレス
鋼、超硬合金材料等を用いて作成することができる。
【0019】上記の押出し塗布ヘッド2では、塗布液が
外部の塗布液供給系から塗布液用流路を介してポケット
12に供給される。ポケット12への塗布液の供給は、
ポケット12の一方の端部からの供給、ポケット12の
両端部からの供給、あるいは、ポケット12の中間部か
らの供給等、いずれの供給方法であってもよい。
【0020】このポケット12に供給された塗布液は、
スリット13の塗布液流入口端13aからスリット13
内に送られ、その先端の塗布液吐出口端13bから吐出
され、バックエッジ11と繰出しロール5から繰出され
搬送されている支持体4との間隙部分に連続的に供給さ
れる。そして、塗布液の供給量、押出し塗布ヘッド2に
対する支持体4の張力等により、支持体4とバックエッ
ジ11との間の間隙が設定され、塗布液が支持体4上に
塗着される。
【0021】ここで、スリット13が、塗布液流入口端
13aから塗布液吐出口端13bに向けて拡大するテー
パー状をなすとともに、塗布液流入口端13aのスリッ
ト間隔幅(d1 )と塗布液吐出口端13bのスリット間
隔幅(d2 )が下記の条件 5%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦20% を満足するよう形成されていることにより、さらに好ま
しくは上記スリット間隔(d1 )を幅0.05〜0.2
mmとすることにより、塗布工程を一時中断後に再び塗
布を開始させるような場合、ポケット内に貯留する塗布
溶液のゲル化等により凝集物が生成し、これが塗布液の
流れにのって塗布液流入口端13aからスリット13内
へ流入しても、この凝集物をスリット吐出口13bから
外へスムーズに排出することができる。これにより塗布
ムラや塗布スジ不良等の発生を未然に防止することがで
きる。
【0022】したがって、例えば塗布工程を中断後、あ
る時間経過後に塗布を再開するような場合、塗布再開前
に10秒間程度塗布液の吐出を行ってスリット13内の
凝集物を排出した後、塗布を再開すれば、塗布ムラや、
凝集物に起因する塗布スジ不良が発生せず、膜厚変動の
少ない均一な膜厚形成を行うことができる。
【0023】なお、図示例ではスリット13の中心線か
らフロントエッジ10、バックエッジ11に向けて等分
の割合で拡大するテーパーをなすよう形成されている
が、本発明においては、塗布液流入口端13aのスリッ
ト間隔幅(d1 )と塗布液吐出口端13bのスリット間
隔幅(d2 )が上記の条件を満足するよう形成されてい
ていればよく、さらに好ましくはスリット間隔幅(d
1 )が上記のように規制されていればよく、その形成方
法については特に限定されない。
【0024】したがって、例えば図4で示すように、一
方のエッジ、例えばフロントエッジ10の内壁面10a
がテーパー状とならずに垂直面をなし、他方のエッジ、
例えばバックエッジ11の内壁面11aがテーパー状を
なし、これら両内壁面10a、11aのなす離間距離が
それぞれ上記の条件を満足するように形成してもよい。
【0025】本発明の塗布装置に使用することのできる
支持体としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム
等のプラスチックフィルム、紙や金属箔等からなる長尺
の可撓性支持体等を挙げることができ、特に制限はな
い。また、支持体は、予め種々の処理層が形成されたも
のであってもよい。
【0026】本発明の塗布装置に使用することのできる
塗布液は、押出し塗布ヘッドによる塗布に適した塗布液
であれば特に制限はない。押出し塗布法は、塗布膜の厚
さ制御性に優れており、従来より安定した塗布膜厚さが
要求されるような用途において用いられている。このよ
うな用途の一つとして、磁気記録媒体の磁気記録層やバ
ックコート層の形成があり、磁性粉、バインダおよび溶
剤を含有する磁性塗布液、あるいは、バックコート用塗
布液は、本発明に使用することのできる塗布液の一つで
ある。
【0027】ここで、磁性塗布液の例を挙げると、磁性
粉としては、γ−Fe23 、Co含有γ−Fe2
3 、Fe34 、Co含有Fe34 、CrO2 、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物
微粉末、Fe、Co、Ni等の金属あるいはこれらの合
金微粉末、炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶剤は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶剤を目的に応じて適宜選択することができる。
また、磁性塗布液には、必要に応じて無機微粒子、潤滑
剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記のような磁
性塗布液を用いて形成される磁気記録層は、乾燥膜厚が
0.1〜6μm程度であり、この磁気記録層の30〜9
2重量%を磁性粉が占めるような構成が好ましい。ま
た、近年行われているように塗布液を湿潤状態で多層化
して塗布層を設けてもよい。この場合、塗布液は磁性液
に限定されるものではなく、非磁性液、樹脂の溶解液
等、上述の通り押出し型塗布ヘッドによる塗布に適した
塗布液ならば適用可能であり、塗布層の層構成について
も必要に応じて選択することができる。また、バックコ
ート用塗布液の例を挙げると、顔料としてはカーボンブ
ラック、α−Fe23 、TiO2 、CaO、SiO
2 、Cr23 、α−Al23、SiC、CaCO
3 、BaSO4 、ZnO、MgO、窒化ホウ素、TiC
等の非磁性無機粉末等いずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶剤は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶剤を目的に応じて適宜選択することができる。
また、バックコート用塗布液には、必要に応じて無機微
粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記
のようなバックコート用塗布液を用いて形成されるバッ
クコート層は、乾燥膜厚が0.1〜1.0μm程度であ
り、このバックコート層の30〜80重量%を顔料が占
めるような構成が好ましい。
【0028】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明する。
【0029】支持体として幅1,000mm、厚さ15
μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備し
た。また、下記の組成の原材料(1)〜(10)を混
練、分散後、濾過処理を行い、ここへさらに(11)を
添加混合し、磁性塗布液とした。 (磁性塗布液の組成) (1) Co含有γ−Fe23 100重量部 (Hc=750Oe、比表面積(BET) =43m2 /g) (2) アルミナ粉末 5重量部 (3) 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 (重合度=310、組成比=88:6:6) 10重量部 (4) ポリエステルポリウレタン樹脂 10重量部 (5) カーボンブラック 5重量部 (6) ステアリン酸 2重量部 (7) ステアリン酸ブチル 1重量部 (8) メチルエチルケトン 100重量部 (9) トルエン 100重量部 (10)シクロヘキサノン 80重量部 (11)ポリイソシアネート 4重量部実施例および比較例 上記図1〜3で示される塗布装置1および押出し塗布ヘ
ッド2を用い、上記の磁性塗布液をスリットから吐出
し、搬送速度300m/分で搬送される支持体4表面へ
の塗布を行った。
【0030】この塗布を一時停止し、1時間経過後、1
0秒間程度塗布液の吐出を行ってスリット内の凝集物を
排出した後、再び塗布を開始した。
【0031】塗布後、支持体4は乾燥装置3で乾燥され
て磁気記録層(乾燥厚3μm)が形成され、次いで巻取
りロール6に巻き取った。
【0032】この原反ロールの塗膜面の状態を目視で観
察し、下記の評価方法によって評価した。結果を表1に
示す。
【0033】なお、塗布ヘッドのスリットのテーパー量
およびスリット間隔幅(d1 )、(d2 )の測定は、三
次元測定機(FJ−604;ミツトヨ(株)製)を使用
し、フロントエッジとバックエッジの対向面の下端、上
端での離間距離を測定して行った。 (塗膜面の特性評価) [塗布スジ不良] ◎: 1,000mm幅×10,000m長において塗
布スジがまったくみられなかった 〇: 1,000mm幅×10,000m長において塗
布スジが1〜2本みられた ×: 1,000mm幅×10,000m長において塗
布スジが3本以上みられた [塗布ムラ] ◎: 塗布ムラがみられず、良好な塗膜面が得られた 〇: 塗布ムラがわずかにみられたが、生産上問題がな
かった ×: 塗布ムラが多く、不均一な塗膜面が形成された [塗膜厚変動]X線膜厚計3710A((株)理学製)
を用いて、塗布幅1,000mmに亘って幅方向の膜厚
変動を実測し、最大変動幅の値をもって膜厚変動の値と
した。具体的判断基準は以下のとおりである。
【0034】 ◎: 幅方向の塗膜厚変動が0.2μm未満 〇: 幅方向の塗膜厚変動が0.2μm以上0.4μm
未満 ×: 幅方向の塗膜厚変動が0.4μm以上
【0035】
【表1】 表1から明らかなように、本発明による塗布装置によれ
ば、一定時間塗布を停止した後に塗布を再開しても、塗
布停止塗布ムラ、塗布スジ不良の発生が少なく、また塗
膜厚変動も少ない、均一な塗膜形成が可能であることが
わかる。
【0036】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
スリットから塗布液を連続的に吐出して支持体表面に塗
布する押出し塗布ヘッドを備えた塗布装置において、前
記スリットは塗布液流入口端から塗布液吐出口端に向け
て拡大するテーパー状をなすとともに、塗布液流入口端
のスリット間隔幅(d1 )と塗布液吐出口端のスリット
間隔幅(d2 )が下記の条件 5%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦20% を満足するよう形成されているので、塗布を一時停止し
た後に再び塗布を再開させたような場合、塗布を一時停
止中にポケット内に塗布液がゲル化等により凝集して
も、これら凝集物をスリットから容易に排出させること
ができる。したがって、中断後再開された塗布において
は、上記凝集物が原因の塗布ムラ、塗布スジ不良等の発
生を防止することができ、しかも塗布膜厚変動の少な
い、均一な塗膜形成をすることができるという効果を奏
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の塗布装置の概略構成図である。
【図2】本発明の塗布装置を構成する押出し塗布ヘッド
の一例を示す外観斜視図である。
【図3】図2に示される押出し塗布ヘッドの断面図であ
る。
【図4】本発明の塗布装置を構成する押出し塗布ヘッド
の他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 …押出し塗布装置 2 …押出し塗布ヘッド 3 …乾燥装置 4 …支持体 5 …繰出しロール 6 …巻取りロール 10 …フロントエッジ 11 …バックエッジ 12 …ポケット 13 …スリット 13a …スリット塗布液流入口 13b …スリット塗布液吐出口 d1 …スリット塗布液流入口端のスリット間隔幅 d2 …スリット塗布液吐出口端のスリット間隔幅
フロントページの続き (72)発明者 畠山 明 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 大澤 義比佐 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 田中 英樹 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 飛沢 誠一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 スリットから塗布液を連続的に吐出して
    支持体表面に塗布する押出し塗布ヘッドを備えた塗布装
    置において、前記スリットは塗布液流入口端から塗布液
    吐出口端に向けて拡大するテーパー状をなすとともに、
    塗布液流入口端のスリット間隔幅(d1 )と塗布液吐出
    口端のスリット間隔幅(d2 )が下記の条件 5%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦20% を満足するよう形成されていることを特徴とする塗布装
    置。
  2. 【請求項2】 前記スリットの塗布液流入口端のスリッ
    ト間隔幅(d1 )と塗布液吐出口端のスリット間隔幅
    (d2 )が下記の条件 7%≦[(d2 −d1 )/d1 ]×100≦15% を満足するよう形成されていることを特徴とする、請求
    項1に記載の塗布装置。
  3. 【請求項3】 前記スリットの塗布液流入口端のスリッ
    ト間隔幅(d1 )が0.05〜0.2mmであることを
    特徴とする、請求項1または2に記載の塗布装置。
  4. 【請求項4】 前記スリットの塗布液流入口端のスリッ
    ト間隔幅(d1 )が0.1〜0.16mmであることを
    特徴とする、請求項3に記載の塗布装置。
JP07777194A 1994-03-25 1994-03-25 塗布装置 Expired - Lifetime JP3205460B2 (ja)

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Cited By (1)

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6419747B1 (en) * 1999-02-26 2002-07-16 The Procter & Gamble Company Extrusion die
TWI481449B (zh) * 2011-03-18 2015-04-21 Ind Tech Res Inst 塗佈元件
DE102011082630A1 (de) * 2011-09-13 2013-03-14 Acino Ag Messergießer für hochviskose Beschichtungsmassen

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0671571B2 (ja) * 1987-05-22 1994-09-14 富士写真フイルム株式会社 塗布方法及び装置
JPH04190870A (ja) * 1990-11-26 1992-07-09 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布方法及び装置
JPH05104053A (ja) * 1991-10-11 1993-04-27 Konica Corp 塗布装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017086229A1 (ja) * 2015-11-19 2017-05-26 住友電気工業株式会社 塗布装置及び塗布シートの製造方法
CN108290177A (zh) * 2015-11-19 2018-07-17 住友电气工业株式会社 涂覆装置和生产涂覆片材的方法

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