JP2754038B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JP2754038B2 JP2754038B2 JP13218089A JP13218089A JP2754038B2 JP 2754038 B2 JP2754038 B2 JP 2754038B2 JP 13218089 A JP13218089 A JP 13218089A JP 13218089 A JP13218089 A JP 13218089A JP 2754038 B2 JP2754038 B2 JP 2754038B2
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- Japan
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- coating
- layer
- web
- edge surface
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ウェブに先に塗布した塗布層上に押出し型
塗布ヘッドから塗布液を押出し塗布して複数層の塗布層
を得る場合における塗布装置に関する。
塗布ヘッドから塗布液を押出し塗布して複数層の塗布層
を得る場合における塗布装置に関する。
磁気記録媒体を製造する際の磁性塗料の塗布、写真感
光材料の塗布、感熱記録材料の塗布などに際して、塗布
ヘッドの狭いスロットから塗布液を押出しながらウェブ
に対して塗布する押出し塗布方法（エクストルージョン
コート法）を用いることが知られている。
光材料の塗布、感熱記録材料の塗布などに際して、塗布
ヘッドの狭いスロットから塗布液を押出しながらウェブ
に対して塗布する押出し塗布方法（エクストルージョン
コート法）を用いることが知られている。
この押出し塗布方法は、ロールコート法、グラビアコ
ート法、スライドコート法、あるいはドクターコート法
を付加した方法などに対して膜厚制御性に優れるなどの
利点がある。
ート法、スライドコート法、あるいはドクターコート法
を付加した方法などに対して膜厚制御性に優れるなどの
利点がある。
近年、たとえば、磁気記録媒体においては、下塗層、
中間層を形成することや、これらの上に磁性層を形成す
ること、また磁性層を複数化することが行われている。
中間層を形成することや、これらの上に磁性層を形成す
ること、また磁性層を複数化することが行われている。
このような、複数の塗布層を積み重ねる場合、従来の
一般的方法は、一層目塗布を行いその塗料を乾燥させた
のち、二層目を塗布しこれを乾燥させる、いわゆるウェ
ット・オン・ドライ方式である。
一般的方法は、一層目塗布を行いその塗料を乾燥させた
のち、二層目を塗布しこれを乾燥させる、いわゆるウェ
ット・オン・ドライ方式である。
しかし、このウェット・オン・ドライ方式では、ライ
ン長が長くなる、上層用の塗布液中の溶媒が下層を溶解
させることがある、良好な塗布性が得られないなどの理
由によって、近似は、一層目の塗布液が乾燥していない
状態で二層目の塗布液を塗布する、いわゆるウェット・
オン・ウェット方式がよいとされつつある。
ン長が長くなる、上層用の塗布液中の溶媒が下層を溶解
させることがある、良好な塗布性が得られないなどの理
由によって、近似は、一層目の塗布液が乾燥していない
状態で二層目の塗布液を塗布する、いわゆるウェット・
オン・ウェット方式がよいとされつつある。
また、重層塗布方法に関しては、いくつかの提案があ
るが、特に上層を押出し塗布装置によって塗布するもの
については、たとえば特開昭62−124631号、同63−1640
23号公報記載の技術を挙げることができる。
るが、特に上層を押出し塗布装置によって塗布するもの
については、たとえば特開昭62−124631号、同63−1640
23号公報記載の技術を挙げることができる。
さらに、単層塗布において種々の提案があり、特開昭
62−117666号、57−84771号、58−104666号、58−18907
0号、59−94657号および58−202075号などがある。前記
特開昭62−117666号では、フロントエッジ面の終端とウ
ェブとの間に塗布液の液溜まりを保持することが好まし
いことを開示している。
62−117666号、57−84771号、58−104666号、58−18907
0号、59−94657号および58−202075号などがある。前記
特開昭62−117666号では、フロントエッジ面の終端とウ
ェブとの間に塗布液の液溜まりを保持することが好まし
いことを開示している。
しかしながら、これらの各提案においては、先に塗布
した塗布層上に押出し塗布ヘッドから塗布する際に、そ
の塗布ヘッドの形状を如何にすべきかについて、なんら
の開示がない。
した塗布層上に押出し塗布ヘッドから塗布する際に、そ
の塗布ヘッドの形状を如何にすべきかについて、なんら
の開示がない。
たとえば、特開昭62−117666号は、単層塗布における
条件とともにその塗布ヘッド形状を示しているが、その
バックエッジ面は面一であるとともに、バックエッジ面
の終端における接線上にフロントエッジ面のエッジが一
致している。
条件とともにその塗布ヘッド形状を示しているが、その
バックエッジ面は面一であるとともに、バックエッジ面
の終端における接線上にフロントエッジ面のエッジが一
致している。
一方、二層目を押出し塗布する場合における塗布ヘッ
ドは、一層目の塗布ヘッドと同一のものを用いるのが通
常である。また、一層目の塗布ヘッドとしては、支持体
に同伴するエアが塗布液に混入して泡故障を防止し、塗
布液が上流側に流出することを防止するために、塗布ヘ
ッドをウェブに対して強く押し込み、塗布ヘッドのフロ
ントエッジ面にウェブが接触するようにしているが、こ
の態様を、そして公知形状の塗布ヘッドを二層目の塗布
に適用すると、一層面の塗膜を掻き落とすことに伴うス
ジ故障や、膜厚ムラなどの塗布性の悪化を招くととも
に、これを防止しようとすれば、塗布可能領域が狭く、
条件設定範囲の自由度が小さい。
ドは、一層目の塗布ヘッドと同一のものを用いるのが通
常である。また、一層目の塗布ヘッドとしては、支持体
に同伴するエアが塗布液に混入して泡故障を防止し、塗
布液が上流側に流出することを防止するために、塗布ヘ
ッドをウェブに対して強く押し込み、塗布ヘッドのフロ
ントエッジ面にウェブが接触するようにしているが、こ
の態様を、そして公知形状の塗布ヘッドを二層目の塗布
に適用すると、一層面の塗膜を掻き落とすことに伴うス
ジ故障や、膜厚ムラなどの塗布性の悪化を招くととも
に、これを防止しようとすれば、塗布可能領域が狭く、
条件設定範囲の自由度が小さい。
さらに、前記特開昭62−117666号公報では、スロット
近くにおいてウェブとの間で液溜まりを形成するが好ま
しいとしているが、実際にその形状の塗布ヘッドにて塗
布することを試みても、ウェブの搬送に伴う張力の微妙
な変動や、速度変化、搬送ロールのブレなどによるウェ
ブの振動、塗布液の供給量の僅かな変動により、液溜ま
りを保持することは困難であり、ウェブとフロントエッ
ジ面とが接触してしまう。
近くにおいてウェブとの間で液溜まりを形成するが好ま
しいとしているが、実際にその形状の塗布ヘッドにて塗
布することを試みても、ウェブの搬送に伴う張力の微妙
な変動や、速度変化、搬送ロールのブレなどによるウェ
ブの振動、塗布液の供給量の僅かな変動により、液溜ま
りを保持することは困難であり、ウェブとフロントエッ
ジ面とが接触してしまう。
そこで、本発明の主たる目的は、ウェット・オン・ウ
ェット塗布方式において、スジ故障などの塗布故障がな
く、良好な塗布性を得ることができるとともに、塗布可
能領域の広く、塗布条件の設定の自由度が大きい塗布装
置を提供することにある。
ェット塗布方式において、スジ故障などの塗布故障がな
く、良好な塗布性を得ることができるとともに、塗布可
能領域の広く、塗布条件の設定の自由度が大きい塗布装
置を提供することにある。
上記課題は、連続的に走行している可撓性ウェブに、
先に塗布した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール
間に配された押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗
布液が未乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しな
い状態で、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する塗
布装置において； 前記当該塗布ヘッドのバックエッジ面のウェブが離れ
る離間終端における接線よりフロントエッジ面が後退し
ていることで解決できる。
先に塗布した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール
間に配された押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗
布液が未乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しな
い状態で、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する塗
布装置において； 前記当該塗布ヘッドのバックエッジ面のウェブが離れ
る離間終端における接線よりフロントエッジ面が後退し
ていることで解決できる。
また、特にフロントエッジ面が先に塗布した塗布層に
非接触となる位置関係に配置されていることが好まし
い。
非接触となる位置関係に配置されていることが好まし
い。
本発明によると、第２図のように、上層塗布用の塗布
ヘッド5Bのバックエッジ面51aのウェブ１が離れる離間
終端Ｙにおける接線ｌよりフロントエッジ面50aが後
退、つまりウェブ１からより離れる方向に位置している
ので、第３図のように、塗布ヘッド5Bをそのフロントエ
ッジ面50aが下層用塗布液10に接触する寸前までウェブ
に対して押し込むことができ、しかもその押し込み範囲
内においてフロントエッジ面50aが下層用塗布液10に接
触させないで、塗布を行うことができるから、下層塗布
液を掻き落とすことがない。
ヘッド5Bのバックエッジ面51aのウェブ１が離れる離間
終端Ｙにおける接線ｌよりフロントエッジ面50aが後
退、つまりウェブ１からより離れる方向に位置している
ので、第３図のように、塗布ヘッド5Bをそのフロントエ
ッジ面50aが下層用塗布液10に接触する寸前までウェブ
に対して押し込むことができ、しかもその押し込み範囲
内においてフロントエッジ面50aが下層用塗布液10に接
触させないで、塗布を行うことができるから、下層塗布
液を掻き落とすことがない。
さらに、下層用塗布液10は未乾燥であるため、上層用
塗布液20の下層用塗布液10に対する漏れ性が良好である
から、フロントエッジ面50aが下層用塗布液10に接触し
なくとも、エアの書き込みがなくなる。
塗布液20の下層用塗布液10に対する漏れ性が良好である
から、フロントエッジ面50aが下層用塗布液10に接触し
なくとも、エアの書き込みがなくなる。
このように、塗布性を悪化させる要因が殆どないた
め、塗布可能領域が広く、塗布設定条件の自由度が大き
い。
め、塗布可能領域が広く、塗布設定条件の自由度が大き
い。
以下本発明をさらに詳説する。
第１図は磁気記録媒体の製造設備の全体図で、下層お
よび上層とも押出し型塗布ヘッドにより塗布する例であ
る。
よび上層とも押出し型塗布ヘッドにより塗布する例であ
る。
可撓性支持体（ウェブ）１は、巻き出しロール1Aから
巻き出され、第１サポートロール２、第２サポートロー
ル３および第３サポートロール４に案内され、磁気配向
手段５を通って、乾燥機７により乾燥されたのち、カレ
ンダー８によりカレンダー処理され、巻取りロール1Bに
巻き取られる。
巻き出され、第１サポートロール２、第２サポートロー
ル３および第３サポートロール４に案内され、磁気配向
手段５を通って、乾燥機７により乾燥されたのち、カレ
ンダー８によりカレンダー処理され、巻取りロール1Bに
巻き取られる。
第１サポートロール２と第２サポートロール３との間
において、上流側塗布ヘッド5Aがウェブ１を押し込むよ
うに配設され、また第２サポートロール３と第３サポー
トロール４との間には下流側塗布ヘッド5Bが下層塗布済
のウェブに対して押し込むように配設されている。
において、上流側塗布ヘッド5Aがウェブ１を押し込むよ
うに配設され、また第２サポートロール３と第３サポー
トロール４との間には下流側塗布ヘッド5Bが下層塗布済
のウェブに対して押し込むように配設されている。
各塗布ヘッド5Aまたは5Bは、フロントエッジ部材50と
バックエッジ部材51とを備え、それらの間に液溜め部52
に連通するスロット53を有する。塗布液は、ポンプによ
り液溜め部52に圧送され、スロット53から背面が支持さ
れていない状態のウェブ１に対して塗布がなされる。
バックエッジ部材51とを備え、それらの間に液溜め部52
に連通するスロット53を有する。塗布液は、ポンプによ
り液溜め部52に圧送され、スロット53から背面が支持さ
れていない状態のウェブ１に対して塗布がなされる。
本発明においては、連続的に走行している背面非支持
の可撓性ウェブ１に、まず第１サポートロール２と第２
サポートロール３との間に配された上流側第１塗布ヘッ
ド5Aから下層用塗布液10を塗布して下層の塗布を行い、
次いでその塗布液10が未乾燥状態において、第２サポー
トロール３と第３サポートロール４との間に配された下
流側第２塗布ヘッド5Bから上層用塗布液20を塗布して積
層塗布する、いわゆるウェット・オン・ウェット塗布が
なされる。
の可撓性ウェブ１に、まず第１サポートロール２と第２
サポートロール３との間に配された上流側第１塗布ヘッ
ド5Aから下層用塗布液10を塗布して下層の塗布を行い、
次いでその塗布液10が未乾燥状態において、第２サポー
トロール３と第３サポートロール４との間に配された下
流側第２塗布ヘッド5Bから上層用塗布液20を塗布して積
層塗布する、いわゆるウェット・オン・ウェット塗布が
なされる。
第２塗布ヘッド5Bの形状は、第２図のように、そのバ
ックエッジ面51aのウェブ１が離れる離間終端Ｙにおけ
る接線ｌよりフロントエッジ面50aが後退している。
ックエッジ面51aのウェブ１が離れる離間終端Ｙにおけ
る接線ｌよりフロントエッジ面50aが後退している。
また、このことは第２図のように、接線ｌと、離間終
端Ｙからフロントエッジ面50aに引いた接線Ｌとのなす
角度θが、θ＞０度であることを意味する。角度θはよ
り好ましくは５度以上である。角度θの上限としては、
フロントエッジ面50aが塗布時において下層用塗布液10
から離れ過ぎると、上層用塗布液20を押出したとき上流
側に溜まったり、流れ出したりしてしまい、所望の塗布
膜厚で塗布ができにくくなるため、ほぼ30度である。
端Ｙからフロントエッジ面50aに引いた接線Ｌとのなす
角度θが、θ＞０度であることを意味する。角度θはよ
り好ましくは５度以上である。角度θの上限としては、
フロントエッジ面50aが塗布時において下層用塗布液10
から離れ過ぎると、上層用塗布液20を押出したとき上流
側に溜まったり、流れ出したりしてしまい、所望の塗布
膜厚で塗布ができにくくなるため、ほぼ30度である。
さらに、第３図のように、フロントエッジ面50aは、
塗布状態において、下層用塗布液10と非接触であるのが
好ましい。この条件であると、塗布液10が掻き落とされ
ることがない。
塗布状態において、下層用塗布液10と非接触であるのが
好ましい。この条件であると、塗布液10が掻き落とされ
ることがない。
第４図のような塗布ヘッド形状とする場合、本発明に
いう離間終端Ｙは図示の位置である。
いう離間終端Ｙは図示の位置である。
上記例においては、下層塗布に当たり、塗布ヘッド5A
による押出し塗布を行っているが、グラビアコート法な
どの他の塗布方法でもよい。下層および上層をともに押
出し塗布方法を採用するとき、上流側塗布ヘッド5Aと下
流側塗布ヘッド5Bとは、その少なくともエッジ面が同一
形状であってもよいが、前述のように、上流側塗布ヘッ
ド5Aでは、エアの巻き込み防止の点でそのフロントエッ
ジ面がウェブに当接するようにすることが望まれる。
による押出し塗布を行っているが、グラビアコート法な
どの他の塗布方法でもよい。下層および上層をともに押
出し塗布方法を採用するとき、上流側塗布ヘッド5Aと下
流側塗布ヘッド5Bとは、その少なくともエッジ面が同一
形状であってもよいが、前述のように、上流側塗布ヘッ
ド5Aでは、エアの巻き込み防止の点でそのフロントエッ
ジ面がウェブに当接するようにすることが望まれる。
下層用塗布液と上層用塗布液とは同じのほか、異なっ
ていてもよい。たとえば、磁気記録媒体を得るにあた
り、下層が下引き層、上層が磁性層、あるいは下層が磁
性層、上層が保護層の場合である。両層が磁性層である
とき、各磁性塗料の性状が異なっていてもよい。
ていてもよい。たとえば、磁気記録媒体を得るにあた
り、下層が下引き層、上層が磁性層、あるいは下層が磁
性層、上層が保護層の場合である。両層が磁性層である
とき、各磁性塗料の性状が異なっていてもよい。
次に本発明の実施例を示し、本発明の効果を明かにす
る。
る。
14μｍ厚のポリエチレンテレフタレートからなる支持
体に、次記の各磁性塗料を、塗布速度200m/分で、乾燥
膜厚として、下層を3.5μｍ、上層を1.0μｍに塗布した
ときにおける、第２塗布ヘッド部における下層液の掻き
落とし状況、塗布後のスジ故障や塗布ムラを調べたとこ
ろ、第１表の結果が得られた。組成中、部とは全て重量
部である。
体に、次記の各磁性塗料を、塗布速度200m/分で、乾燥
膜厚として、下層を3.5μｍ、上層を1.0μｍに塗布した
ときにおける、第２塗布ヘッド部における下層液の掻き
落とし状況、塗布後のスジ故障や塗布ムラを調べたとこ
ろ、第１表の結果が得られた。組成中、部とは全て重量
部である。
＜上層＞ ★Co含有磁性酸化鉄（Hc＝900Oe,BET値45m2/g）150部 ★ポリウレタン樹脂 10部 ★塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂 20部 ★アルミナ粉末 10部 ★ミリスチン酸 2部 ★ステアリン酸ブチル 1部 ★ポリイソシアネート 10部 ★トルエン 200部 ★メチルエチルケトン 200部 ★カーボンブラック 10部 ＜下層＞ γ−Fe2O3粉末（Hc＝700Oe,BET値25m2/g） 100部 ★α−Al3O3 8部 ★カーボンブラック 5部 ★塩化ビニル共重合体 20部 ★ポリウレタン樹脂 7部 ★ブチルステアレート 1部 ★ミルスチン酸 0.65部 ★ステアリン酸 0.35部 ★メチルエチルケトン 150部 ★トルエン 150部 ★オレイン酸 0.65部 ★ポリイソシアネート 10部 〔発明の効果〕 以上のとおり、本発明によれば、ウェット・オン・ウ
ェット塗布方式において、スジ故障などの塗布故障がな
く、良好な塗布性を得ることができるとともに、塗布可
能領域の広く、塗布条件の設定の自由度が大きい塗布装
置を提供される。
ェット塗布方式において、スジ故障などの塗布故障がな
く、良好な塗布性を得ることができるとともに、塗布可
能領域の広く、塗布条件の設定の自由度が大きい塗布装
置を提供される。
第１図は磁気記録媒体の製造装置の全体図、第２図は下
流側塗布ヘッドの形状図、第３図は下流側塗布ヘッドに
よる塗布状況断面図、第４図は他の塗布ヘッド形状図で
ある。 １……ウェブ、２……第１サポートロール ３……第２サポートロール ４……第３サポートロール 5A,5B……塗布ヘッド 10……下層用塗布液 20……上層用塗布液、ｌ……接線
流側塗布ヘッドの形状図、第３図は下流側塗布ヘッドに
よる塗布状況断面図、第４図は他の塗布ヘッド形状図で
ある。 １……ウェブ、２……第１サポートロール ３……第２サポートロール ４……第３サポートロール 5A,5B……塗布ヘッド 10……下層用塗布液 20……上層用塗布液、ｌ……接線
フロントページの続き (72)発明者 飛沢 誠一 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株 式会社内 (72)発明者 双木 武政 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株 式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】連続的に走行している可撓性ウェブに、先
に塗布した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール間
に配された押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗布
液が未乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しない
状態で、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する塗布
装置において； 前記当該塗布ヘッドのバックエッジ面のウェブが離れる
離間終端における接線よりフロントエッジ面が後退して
いることを特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】フロントエッジ面が先に塗布した塗布層に
非接触となる位置関係にある請求項１記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13218089A JP2754038B2 (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13218089A JP2754038B2 (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03153A JPH03153A (ja) | 1991-01-07 |
| JP2754038B2 true JP2754038B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=15075254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13218089A Expired - Lifetime JP2754038B2 (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2754038B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3309717B2 (ja) * | 1996-06-26 | 2002-07-29 | 三菱電機株式会社 | 集積回路の配線の製造方法 |
| JP4614504B2 (ja) * | 2000-07-05 | 2011-01-19 | 大日本印刷株式会社 | 塗工装置 |
| JP4831448B2 (ja) * | 2001-02-19 | 2011-12-07 | 大日本印刷株式会社 | 塗工装置 |
-
1989
- 1989-05-25 JP JP13218089A patent/JP2754038B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03153A (ja) | 1991-01-07 |
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