JP6890715B2 - 塗布装置および塗布システム - Google Patents

Description

本発明は、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーを用いて、薄い金属板、紙およびフイルム等のシート状または長尺状の被塗工基材に、各種の液状物質を塗布する塗布装置および塗布システムに関し、特に、１つのバーで少なくとも２種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムに関する。

従来、長尺な基板の表面に、例えば、易接着層または帯電防止層といった機能性層を形成させる場合、塗布液を基板の表面に塗布し、塗布膜を形成することが行われている。基板の表面に塗布液を塗布する方法としては、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、およびバーコート法等の多数の塗布方法が知られている。長尺な基板のことをウエブともいう。また、長尺な基板のことを、単に基板ともいう。

塗布液を基板に塗布する塗布装置は、種々提案されている。例えば、塗布液を基板の上面に塗布する塗布装置が特許文献１に記載されている。特許文献１の塗布装置は、連続走行するウエブ上面に塗布液を介して接触して回転するバーと、バーに対してウエブの走行方向の上流側に設けられていて、塗布液をバーとの間を通して、ウエブ方向へ流通させる堰板とを有する。特許文献１の塗布装置では、堰板と堰板に最も近接するバーの端縁部間の距離をＡとし、堰板とウエブ間の距離をＢとしたときに、Ａは０．５〜５ｍｍであり、Ｂは０．５〜５ｍｍであり、Ｂ≦Ａである。

特開２０１５−７７５８９号公報 特開２００２−１５９８９９号公報

上述の特許文献１の塗布装置では、基板の上面に、１種類の塗布液しか塗布できない。このため、塗布液交換時に品種切り替えによる製造ロスが発生する。
また、１種類の塗布液しか塗布できないため、塗布液を塗布して切り出したサンプルは１種類の機能しかなく、幅方向に機能違いのサンプルを並べて製品を作製する場合、サンプルの貼合工程が必要となる。このため、製造原価が高くなる。
さらに、ウエブが樹脂であると、ウエブの進行方向に対して直交方向（以下、幅方向）へ引き延ばす延伸工程が設けられている場合がある。この場合、ウエブ厚みを幅方向に均一にするには、延伸前に幅方向に均一な塗布液を塗布する必要がある。このため、製品幅以上に、塗布液を広く塗布する必要があり、最終的に製品幅外へも機能性を持たせる塗布液を塗布することがある。しかし、製品幅外のウエブは廃却することがあり、製品幅外への塗布液が無駄になることと、塗布液混入により製品幅外のウエブを再利用できないことがある。このため、得率が低下する。

上述のことから、２種類以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することも要求されているが、特許文献１の塗布装置では対応できない。
そこで、２種類以上の機能を塗布できる装置として、特許文献２のようにリバース塗布方式のものがある。しかしながら、リバース塗布方式はウエブ背面へバックアップロール（以下、ロール）を設けて、ウエブの変位変動を防止しなければならないことから、構成上、ウエブ背面にロールが必要であり、１つの塗布部でウエブの上面と下面への同時塗布が不可能である。そのため、乾燥設備等、多くの設備投資が必要となったり、設備が大型化したりするという問題がある。
このように、２種類以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置として、十分なものがないのが現状である。

本発明の目的は、１つのバーで少なくとも２種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムを提供することにある。

上述の目的を達成するために、本発明は、特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、バーに対して基板の走行方向の上流に設けられ、塗布液をバーとの間を通して、基板の走行方向へ流通させる堰板とを有する塗布装置であって、バーを回転可能に支持する本体ブロックと、バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、堰板毎に設けられ、堰板に塗布液を供給する複数の供給部とを有する、塗布装置を提供するものである。

バーの長手方向における堰板の間隔が３ｍｍ以上であることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれバーの長手方向における位置を変えることができることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれバーとの間に液溜り部を有し、複数の堰板は、それぞれ液溜り部の容量を変えることができることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれ基板の走行方向に対して移動可能であり、バーと堰板との走行方向の距離を変えることができることが好ましい。

走行方向と走行方向に直交する高さ方向とで構成される平面における、液溜り部の断面積Ｓが２０ｍｍ^２以上１００ｍｍ^２以下であり、液溜り部の断面積Ｓは、平面における、バーの走行方向の上流側の周面と、バーの回転中心を通りバーの走行方向の上流側の端面と堰板との最短距離を通る線と、最短距離を通る線と堰板との交点を通り、かつ基板の面に垂直な線と、基板とで囲まれた部分の面積であることが好ましい。
複数の堰板は、それぞれバーの長手方向の両端部に側板が設けられていることが好ましい。
複数の堰板のうち、隣接する堰板の間に面する、堰板のバーの長手方向の端部に側板が設けられていることが好ましい。
塗布液を貯留する送液貯留部を、本体ブロック、または各堰板に有することが好ましい。
また、本発明の塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する塗布システムを提供するものである。

本発明によれば、１つのバーで少なくとも２種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができる塗布装置を提供できる。
また、基板の両方の面に同時に、少なくとも２種の塗布液をパターン状に塗布することができる塗布システムを提供できる。

本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的斜視図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的側面図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第２の例を示す模式的斜視図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的斜視図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的側面図である。 本発明の実施形態の塗布システムの第１の例を示す模式図である。 本発明の実施形態の塗布システムの第２の例を示す模式図である。

以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の塗布装置および塗布システムを詳細に説明する。
なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
なお、以下において数値範囲を示す「〜」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α〜数値βとは、εの範囲は数値αと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばα≦ε≦βである。
「具体的な数値で表された角度」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。

（塗布装置の第１の例）
図１は本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的斜視図であり、図２は本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的側面図である。
図１に示す塗布装置１０は、特定の走行方向Ｄ１に連続走行する長尺な基板３０の上面３０ａまたは横面に塗布液Ｍを塗布するものであり、１つのバー１２で少なくとも２種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布することができる。
横面とは、図１に示す状態の基板３０を走行方向Ｄ１を中心として９０°、高さ方向Ｄ３に回転させると上面３０ａは横を向くが、このときの上面３０ａのことを横面という。
高さ方向Ｄ３とは、基板３０の上面３０ａまたは横面に垂直な方向である。また、横面は基板３０の向きが変わるが、この場合、横面の高さ方向Ｄ３は、図１の基板３０の状態では、幅方向Ｄ２に該当する。なお、幅方向Ｄ２とは、走行方向Ｄ１と基板３０の上面３０ａ内で直交する方向のことである。

塗布装置１０について、１つのバー１２で３種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布するものを例にして説明する。塗布装置１０は、例えば、走行方向Ｄ１と直交する幅方向Ｄ２に伸びる長尺な、１つのバー１２と、本体ブロック１４と、３つの堰板１６と、３つの供給管２０と、３つの供給部２２とを有する。また、塗布装置１０は、複数の堰板１６は、それぞれバー１２との間に、塗布液Ｍを溜める液溜り部１７（図２参照）と、送液貯留部２４とを有する。

塗布装置１０は、バー１２に対して長尺な基板３０の走行方向Ｄ１の上流に設けられ、塗布液Ｍをバー１２との間を通して、長尺な基板３０に流通させる堰板１６を、上述のように、例えば、３つ有するものである。３つの堰板１６は、１つのバー１２に対して、バー１２の長手方向に沿って、すなわち、幅方向Ｄ２に沿って、互いに隙間２７をあけて離間して配置されている。３つの堰板１６に、それぞれ供給管２０が設けられており、各供給管２０に、供給部２２が接続されている。
堰板１６の数は、複数であれば、同時に塗布するパターン数に応じて適宜決定されるものであり、その数は、特に限定されるものではない。

バー１２は、走行方向Ｄ１と直交する幅方向Ｄ２に伸びる長尺な部材であり、例えば、円柱状である。バー１２は、後述のように本体ブロック１４によって回動可能に支持される。バー１２の長手方向と、幅方向Ｄ２とは平行な関係にある。
バー１２は、特定の走行方向Ｄ１に連続走行する長尺な基板３０の上面３０ａまたは横面に塗布液Ｍを介して接触可能であり、かつ回転中心Ｃｒで回転するものである。バー１２の回転方向は、特に限定されるものではなく、基板３０の走行方向Ｄ１に対して同方向であっても、反対方向であってもよい。

バー１２の直径は１ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、より好ましくは６ｍｍ〜１３ｍｍである。バー１２の直径を上述の範囲とすることにより、塗布液Ｍの塗布面に縦筋が発生することを抑制することもできる。
バー１２の表面は、平滑に仕上げられていてもよいが、円周方向に一定間隔で溝が設けられていてもよく、またワイヤが密に巻回されていてもよい。いわゆるワイヤーバーであってもよい。この場合、バーに巻回するワイヤの直径は、０．０５〜０．５ｍｍであることが好ましく、特に０．０５〜０．２ｍｍであることが好ましい。なお、溝が設けられたバー１２およびワイヤが巻回されたバー１２においては、溝の深さを浅くまたはワイヤを細くすることにより、塗布液Ｍの塗り付けを薄くでき、溝の深さを深くまたはワイヤを太くすることにより、塗布液Ｍの塗り付けを厚くできる。

バーの幅は、基板３０の幅と同一の長さであっても良いが、基板３０の幅よりも長いことが好ましい。また、バーに溝またはワイヤを設ける場合、溝またはワイヤを設ける範囲は、基板３０の幅以上であることが好ましい。

バーの材質は、ステンレス鋼が好ましく、特に、ＳＵＳ（Steel Use Stainless）３０４またはＳＵＳ（Steel Use Stainless）３１６が好ましい。他にも、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ６３０等が挙げられる。バーの表面には、ハードクロムメッキ、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）または窒化チタン（ＴｉＮ）等の表面処理を施してもよい。

本体ブロック１４は、バー１２を回転可能に支持するものであり、バー１２を回動可能に支持する構造を有する。
例えば、本体ブロック１４は、バー１２と接する面に円弧状の溝が形成されている。本体ブロック１４に円弧状の溝を形成することにより、基板３０の張力によるバー１２の撓みを抑制し、幅方向Ｄ２に均一な塗布膜３２ａ〜３２ｃを形成することができる。

本体ブロック１４において、バー１２に接する側と、バー１２に接さない側とは材質が同じである必要はない。例えば、バー１２がステンレス鋼等の金属製である場合、本体ブロック１４のバー１２に接する側は高分子樹脂製等とし、本体ブロック１４のバー１２に接さない側はステンレス鋼等の金属製とすることが好ましい。

本体ブロック１４の大きさは、バー１２のサイズに応じて適宜決定される。例えば、本体ブロック１４の走行方向Ｄ１の厚みは、バー１２の半径以上であり、バー１２の直径の２倍以下とすることが好ましい。また、本体ブロック１４の高さ方向Ｄ３の高さは、１０〜１００ｍｍとすることが好ましい。
さらに、本体ブロック１４の幅方向Ｄ２の幅は、特に限定されるものではなく、バー１２と同じ長さである単体のブロック構造でもよく、堰板１６と同じ長さの分割されたブロック構造でもよく、いずれの構造でもパターン塗布は可能である。塗布液が混ざることを抑制する観点からは、本体ブロック１４の構成は、分割されたブロック構造であることがより好ましい。

堰板１６は、基板３０の上面３０ａ上に配置されている。
堰板１６は、基板３０の上面３０ａ側に突出部１６ａが設けられている。突出部１６ａの上面３０ａと対向する端面１６ｃは、例えば、うねり等がなく平坦な状態の基板３０の上面３０ａと平行な面である。
堰板１６は、側面１６ｂと本体ブロック１４との間、側面１６ｂとバー１２との間にスリット１５が設けられている。スリット１５は幅方向Ｄ２に延在しており、スリット１５に塗布液Ｍが送液される。

堰板１６の端面１６ｃは、上述のように上面３０ａと平行な面としたが、これに限定されるものではなく斜面であってもよい。
堰板に突出部１６ａを設けることにより、堰板端部の厚みを所定値以下としつつ、堰板全体の剛性を高めることが可能となる。

また、本体ブロック１４と堰板１６との境界に送液貯留部２４が設けられている。送液貯留部２４はスリット１５と連通している。送液貯留部２４は、本体ブロック１４または各堰板１６に設けられていてもよく、本体ブロック１４と各堰板１６とに跨って設けられていてもよい。
送液貯留部２４は、例えば、本体ブロック１４と各堰板１６との幅方向Ｄ２に全域に亘り設けられている。
送液貯留部２４を設けることで幅方向Ｄ２に塗布液Ｍを均一に流してから基板３０へ塗布液Ｍが流れるため、塗布液Ｍを幅方向Ｄ２に均一に塗布することができる。また、送液貯留部２４がない構成とすることもできるが、この場合、送液した塗布液Ｍが幅方向Ｄ２に満たされにくくなり、送液した部分のみに塗布液Ｍが流れるため、端部２５等に空気が滞留した空気滞留部（図示せず）が生じる。この空気滞留部（図示せず）に送液系等から持ち込まれる泡が溜り、泡ハジキを抑制する効果が小さく、最終的に泡ハジキ故障となることがある。

供給管２０は、上述のように各堰板１６に、それぞれ設けられるものである。１つの堰板１６において、供給管２０は堰板１６を通り、送液貯留部２４に達する。例えば、１つの供給管２０に、１つの供給部２２が接続されている。
供給部２２は、上述のように各堰板１６に設けられており、各堰板１６毎に塗布液Ｍをバー１２に送液するものである。供給部２２は、塗布液Ｍを貯留するタンク（図示せず）と、塗布液Ｍを送液するためのポンプ（図示せず）と、塗布液Ｍの送液量を調整するバルブ（図示せず）と、バルブの開閉量等を調整する制御部（図示せず）とを有する。供給部２２としては、予め定められた量の液体を供給することができる公知の液体供給装置を適宜利用可能である。
各堰板１６に、それぞれ供給部２２を設けることにより、塗布液Ｍの供給量を堰板１６単位で調整することができ、塗布液Ｍのロスを減らすことができる。これにより、生産性を高くすることができる。
また、各堰板１６に、それぞれ供給部２２を設けることにより、堰板１６毎に、塗布液Ｍを変えることができ、これにより、塗布膜３２ａ〜３２ｃの組成等を変えることができる。このため、図１の塗布装置１０では、３つの堰板１６を有する構成であるが、各堰板１６の塗布液Ｍは、同じであってもよく、異なってもよい。形成される塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃは、例えば、塗布膜３２ａと塗布膜３２ｃが同じで、塗布膜３２ｂが異なる構成とすることができる。

堰板１６では、突出部を除いた全体の厚みは、５〜５０ｍｍの範囲内であることが好ましい。なお、全体の厚みは、走行方向Ｄ１の長さのことである。
また、堰板１６の高さ方向Ｄ３の長さは、１０〜１００ｍｍであることが好ましい。
堰板１６の幅は、特に限定されるものではなく、堰板１６の幅と同等の幅で塗布が可能である。このため、堰板１６の幅は、塗布膜の幅に応じて適宜決定される。
また、本体ブロック１４が、上述のように分割されたブロック構造である場合、堰板１６の幅は本体ブロック１４と同じとすることもできる。
幅方向Ｄ２の堰板１６の隙間２７の間隔δは、３ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５ｍｍ以上である。間隔δが狭いと、隣接する堰板１６の塗布液Ｍが混ざることがある。隙間２７の間隔δの上限は、特に限定されるものではなく、基板の幅と、塗布膜の数、および塗布膜の配置等に応じて適宜設定されるものである。

堰板１６について、材質は、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または樹脂である。金属としては、例えば、ステンレス鋼が挙げられ、特に、ＳＵＳ（Steel Use Stainless）３０４またはＳＵＳ（Steel Use Stainless）３１６を用いることが好ましい。
これ以外に、堰板としては、金属にハードクロムメッキまたはダイヤモンドライクカーボン処理したものでもよい。

バー１２の上流側、すなわち、基板３０のバー１２への進入側に設けられる堰板１６は、塗布液Ｍの内圧を高めることができる。このため、エアー同伴によるハジキを抑制することができる。エアー同伴によるハジキについては後に詳細に説明する。また、エアー同伴によるハジキのことを、単にエアー同伴ハジキともいう。

塗布装置１０では、走行方向Ｄ１と高さ方向Ｄ３とで構成される平面ＰＬにおける、液溜り部１７の断面積Ｓが２０ｍｍ^２以上１００ｍｍ^２以下であることが好ましく、より好ましくは３０ｍｍ^２以上５０ｍｍ^２以下である。液溜り部１７の断面積Ｓとは、バーの走行方向の上流側の周面と、バーの回転中心を通りバーの走行方向の上流側の端面と堰板との最短距離を通る線と、最短距離を通る線と堰板との交点を通り、かつ基板の面に垂直な線と、基板とで囲まれた部分の面積であり、図２に示す符号Ｓの領域の面積である。
バー１２の回転により塗布液Ｍが掻き上げられるが、液溜り部１７の断面積Ｓが２０ｍｍ^２満であると、塗布液Ｍの掻き上げ量＞塗布液Ｍの供給量となり、液切れ故障（液の供給量が不足することにより発生する薄塗りによる故障）が発生する。また、液溜り部１７の断面積Ｓが１００ｍｍ^２を超えると、塗布液の内圧が小さくなり、基板３０に同伴されてもってくるエアー圧に液圧が負けてハジキ故障（ウエブに同伴されて持ちこまれるエアーにより発生する薄塗りによる故障）が発生する。

塗布装置１０では、複数の堰板１６は、それぞれ液溜り部１７の容量を変えることができることが好ましい。すなわち、上述の液溜り部１７の断面積Ｓを変えることができることが好ましい。
複数の堰板１６は、それぞれ基板３０の走行方向Ｄ１に対して移動可能であり、バー１２と堰板１６との走行方向Ｄ１の距離を変えることができる。この場合、例えば、堰板１６と本体ブロック１４とをボルト（図示せず）で固定する構成とし、ボルトを締めるか、緩めるかして、バー１２と堰板１６との走行方向Ｄ１の距離を変える構成とする。

バー１２の走行方向Ｄ１の上流側の端面１２ａと、堰板１６との最短距離である距離Ｂが０．０５ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが好ましい。
バー１２の走行方向Ｄ１の上流側の端面１２ａと、堰板１６との距離Ｂが０．０５ｍｍ未満では、バー１２と堰板１６の間のスリット１５から塗布液Ｍが幅方向Ｄ２に均一に供給されない。
一方、堰板１６との距離Ｂが２ｍｍ以下を超えると、塗布液Ｍの内圧を高めにくくなり、エアー同伴ハジキが発生しやくなる。より好ましくは、バー１２の走行方向Ｄ１の上流側の端面１２ａと、堰板１６との距離Ｂは０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下である。

また、堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａが０．２ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが好ましい。
堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａが０．２ｍｍ未満では、走行方向Ｄ１の上流側へ流れる塗布液Ｍがなくなり、塗布液Ｍの液切れが発生しやすくなる。
一方、堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａが２ｍｍを超えると、塗布液Ｍの内圧を高めにくくなり、エアー同伴ハジキが発生しやくなる。より好ましくは、堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａは０．４ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
また、堰板１６と長尺な基板３０との距離Ａとは、堰板１６の最下部と基板３０の最上部との間の長さのことであり、堰板１６と基板３０との最短距離のことである。図２の構成では堰板１６の端面１６ｃと基板３０の上面３０ａとの最短距離である。

（塗布方法）
次に、塗布装置１０の塗布方法について説明する。
供給部２２から供給管２０を介して堰板１６に塗布液Ｍを供給し、送液貯留部２４を経てスリット１５に塗布液Ｍを満たす。そして、バー１２を回転させる。特定の走行速度で、走行方向Ｄ１に基板３０を連続走行させ、連続走行する基板３０の上面３０ａに、堰板１６毎に塗布液Ｍを介してバー１２を接触させ、基板３０の上面３０ａに、各堰板１６に応じた塗布液Ｍを塗布し、１つのバー１２で３種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布する。しかも、各パターンの混ざりがなく塗布できる。これにより、１つのバー１２で、基板３０に幅方向Ｄ２に異なる３つの塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃを隙間３３をあけて同時にストライプ状にパターン形成することができる。この場合、互いに塗布液が混じることなく塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃを形成することができる。

塗布装置１０の塗布方法について、基板３０の上面３０ａに塗布することについて説明したが、基板３０の横面にも上述のようにして塗布することができる。基板３０の下面３０ｂにも上述のようにして塗布することができる。

塗布装置１０では、１つのバー１２で３種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布して、基板３０の幅方向Ｄ２に並んだ３つの塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃをストライプ状に形成することができる。これにより、基板３０の幅方向Ｄ２に機能違いのサンプルを並べた製品を作製することができる。この場合、サンプルの貼合工程が不要となり、幅方向Ｄ２に機能違いのサンプルを並べた製品の製造原価を低くできる。
また、樹脂の基板３０に対して、幅方向Ｄ２に引き延ばす延伸工程を実施する場合、製品幅外の領域に塗布液として、例えば、不純物を含まない液を塗布することにより、製品幅外の基板３０を回収することができ、製品幅外の基板３０が無駄になることを抑制することができる。これにより、得率の低下を抑制することができ、生産性を向上させることができる。
しかも、塗布装置１０の堰板１６は、塗布液Ｍの内圧を高めるため、上流側からのエアーの進入が抑制され、エアー同伴ハジキを抑制する。
また、送液貯留部２４を設けており、泡ハジキの発生が抑制され、塗布液Ｍを基板３０の幅方向Ｄ２に均一に塗布できる。しかも、液切れの発生を抑制することができる。

（塗布装置の第２の例）
次に、塗布装置の第２の例について説明する。
図３は本発明の実施形態の塗布装置の第２の例を示す模式的斜視図である。
なお、図３に示す塗布装置１０において、図１および図２に示す塗布装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。

図３に示す塗布装置１１は、図１に示す塗布装置１０に比して、堰板１６の間隔δが異なる点、および堰板１６がバー１２の長手方法、すなわち、幅方向Ｄ２に移動可能である点が異なり、それ以外の構成は図１に示す塗布装置１０と同じであるため、その詳細な説明は省略する。図３に示す塗布装置１１は、図１に示す塗布装置１０の効果を得ることができる。

塗布装置１１のように、複数の堰板１６は、それぞれ、バー１２の長手方法における位置、すなわち、幅方向Ｄ２における位置を変えることができることが好ましい。これにより、塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃの基板３０の幅方向Ｄ２における形成位置を変えることができ、塗布膜３２ａ、３２ｂ間の隙間３３の間隔、および塗布膜３２ｂ、３２ｃ間の隙間３３の間隔を変えることができる。このことにより、３つの塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃで形成されるストライプ状のパターンの幅方向の位置を変えることができる。
また、基板３０の幅が変わった場合にも、堰板１６の幅方向Ｄ２の位置を変えることにより、基板３０の幅に対応することができる。例えば、基板３０の幅が狭くなった場合には、両側の堰板１６と、中央の堰板１６との隙間２７を狭くする。基板３０の幅が広くなった場合には、両側の堰板１６と、中央の堰板１６との隙間２７を広くする。
堰板１６の幅方向Ｄ２における位置を変える場合、例えば、本体ブロック１４が分割されたブロック構造である場合、堰板１６は本体ブロック１４と一緒に幅方向Ｄ２に移動する。
また、本体ブロック１４が単体のブロック構造である場合、堰板１６だけが幅方向Ｄ２に移動する。
堰板１６の幅方向Ｄ２の位置を変える場合、例えば、堰板１６に幅方向Ｄ２に伸びる長穴（図示せず）を設けて幅方向Ｄ２に動かせるようにする。なお、堰板１６は、例えば、ボルト（図示せず）を用いて固定する。

（塗布装置の第３の例）
図４は本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的斜視図であり、図５は本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的側面図である。
なお、図４および図５に示す塗布装置１０において、図１および図２に示す塗布装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図４に示す塗布装置１１ａは、図１に示す塗布装置１０に比して、堰板１６の間隔δが異なる点、および側板２６を有する点が異なり、それ以外の構成は図１に示す塗布装置１０と同じであるため、その詳細な説明は省略する。図４および図５に示す塗布装置１１ａは、図１に示す塗布装置１０の効果を得ることができる。

塗布装置１１ａでは、複数の堰板１６は、それぞれバー１２の長手方向の両端部に側板２６が設けられている。すなわち、複数の堰板１６は、それぞれバー１２の幅方向Ｄ２の両側の端部２５に側板２６が設けられている。
図５に示す側板２６は、端部２５から塗布液Ｍが流れでないように端部２５を覆うものであり、その形状は図５に示す形状に特に限定されるものではない。例えば、側板２６は基板３０と接触しない構成であり、側板２６の基板３０の上面３０ａ側の上辺２６ａは、バー１２と基板３０とが最接近した位置から端面１６ｃに向って、基板３０の上面３０ａとの距離が増加するように傾斜している。

側板２６を設けることにより、塗布液Ｍの利用効率を高めることができる。一方、側板２６がないと端部２５から流れ出る塗布液Ｍがあり、塗布に必要な塗布液Ｍの量が多くなる。
また、側板２６がないと端部２５に塗布液Ｍが流れでてしまい、塗布液Ｍの液切れが発生しやすくなる。このため、均一に塗布するための塗布液Ｍの送液量が多くなる。塗布液Ｍの送液量が多くなることで堰板１６とバー１２の間の液溜り部１７の塗布液Ｍの流速が上昇し、隣の堰板１６の塗布液Ｍと混ざりやすくなる。
側板２６の材質は特に限定されるものではなく、塗布液Ｍに応じたものが適宜選択される。側板２６は、例えば、ＳＵＳ（Steel Use Stainless）等の金属または樹脂等で構成される。

なお、側板２６は、全ての堰板１６の幅方向の端部２５に設けることに限定されるものではない。両側の堰板１６の幅方向Ｄ２の外側の端部２５では、塗布液Ｍが流れても、隣の堰板１６の塗布液Ｍと混ざることがないため、複数の堰板１６のうち、隣接する堰板１６の間に面する、堰板１６のバー１２の長手方向の端部２５に、側板２６が設けられていればよい。すなわち、堰板１６の隙間２７にある端部２５にだけ側板２６を設ける構成であればよい。
また、塗布装置１１ａは、図３に示す塗布装置１１と同じく、堰板１６が幅方向Ｄ２に移動可能である構成でもよい。
なお、上述のいずれの塗布装置１０、１１、１１ａも送液貯留部２４を設ける構成としたが、これに限定されるものではなく、送液貯留部２４が設けられていない構成でもよいが、この場合、空気滞留部（図示せず）に送液系等から持ち込まれる泡が溜まるため、泡ハジキを抑制する効果が小さい。

次に、塗布システムについて説明する。
（塗布システム）
図６は本発明の実施形態の塗布システムの第１の例を示す模式図であり、図７は本発明の実施形態の塗布システムの第２の例を示す模式図である。
なお、図６および図７に示す塗布システム４０において、図１および図２に示す塗布装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。

塗布システム４０は、上述の塗布装置１０を、基板３０を挟んで対向して配置し、基板３０の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布するものである。塗布装置１０の回転中心Ｃｒは、走行方向Ｄ１の位置をずらして配置されている。
塗布システム４０では、基板３０の両面に、複数の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができる。
塗布システム４０は、１つの乾燥部４２を有する。乾燥部４２の構成は、特に限定されるものではなく、例えば、温風により乾燥するものである。
乾燥部４２により、基板３０の両面に、ストライプ状にパターン塗布された塗布液が乾燥され、複数の塗布膜が形成される。
塗布システム４０の同時とは、時間が同じではなく、一度のプロセスであることを意味する。
塗布システム４０では、１つの基板３０の両面に、複数の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布し、１つの乾燥部４２で乾燥させて、１つの基板３０の両面に、複数のストライプ状の塗布膜を形成することができる。これに対して、上述のリバース塗布方式のでは、ウエブの上面と下面への同時塗布が不可能であるため、乾燥部を設ける場合、乾燥部を２つ設ける必要があり、多くの設備投資が必要であり、かつ設備の大型化を招く。このように、塗布システム４０では、１つの乾燥部４２で済み、乾燥設備等、多くの設備投資が不要であり、設備を安価に構築でき、かつ設備の大型化を抑制することができる。

塗布システム４０の塗布装置１０の配置は、図６に示す配置に限定されるものではなく、図７に示す配置でもよい。図７に示す塗布システム４０は、図６に示す塗布システム４０の塗布装置１０を、高さ方向Ｄ３に回転させて、基板３０の上面３０ａを、横に向かせた構成である。
なお、塗布システム４０は、上述の塗布装置１０に限定されるものではなく、上述の塗布装置１１および塗布装置１１ａを用いることもできる。

次に、上述の塗布装置１０、１１、１１ａおよび塗布システム４０に用いられる基板３０および塗布液Ｍについて説明する。

（基板）
基板としては、ガラス材、金属材、合金材、紙、プラスチックフィルム、レジンコーティッド紙、合成紙および布等が挙げられる。プラスチックフィルムの材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体、６，６−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が挙げられる。また、レジンコーティッド紙に用いられる樹脂としては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィンを代表例として例示できる。

基板の厚さは特に限定されないが、厚さが０．０１〜１．５ｍｍのものが取扱い、および汎用性の観点から好ましく用いられる。

基板は、張力を加えた状態でバーに塗布液を介して接触する。基板と、水平面とのなす角度は、バーの上流側および下流側のいずれにおいても０°〜１０°であることが好ましく、０°〜５°であることがより好ましい。基板の角度を上述の範囲とすることにより、塗布面を均一にすることができ、かつバーの摩耗等を抑制することができる。
基板の形態としては、特に限定されるものではなく、シート状、および連続帯状等が挙げられる。なお、連続帯状の基板、すなわち、長尺な基板のことをウエブという。

（塗布液）
塗布液は、各種の液状物質のことである。
塗布液において、溶媒は、例えば、水、および有機溶剤である。有機溶剤は、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピレングリコール（ＭＦＧ）およびメタノール等である。
バインダーは、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等のポリマーまたはモノマー等を含む。また、塗布液には、固形分として、例えば、酸化ケイ素粒子および酸化チタン粒子等を含んでもよい。
塗布液の粘度は、７×１０^−４〜０．４Ｐａ・ｓ（０．７〜４００ｃＰ（センチポアズ））、塗布量は０．１〜２００ｍｌ（ミリリットル）／ｍ^２（１〜２００ｃｃ／ｍ^２）、塗布速度は１〜４００ｍ／分において適用可能である。
好ましくは、粘度は１×１０^−３〜０．１Ｐａ・ｓ（１〜１００ｃＰ）であり、塗布量は１〜１００ｍｌ／ｍ^２（１〜１００ｃｃ／ｍ^２）であり、塗布速度は１〜２００ｍ／分である。

また、塗布液としては、上述のもの以外に、基板に塗布し、乾燥させて皮膜を形成することに使用される溶液が挙げられる。具体的には、感光層形成液および感熱層形成液のほか、基板の表面に中間層を形成して製版層の接着を改善する中間層形成液、平版印刷原版基板の製版面を酸化から保護するポリビニルアルコール水溶液、写真フィルムにおける感光層を形成するのに使用される写真フィルム用感光剤コロイド液、印画紙の感光層の形成に使用される印画紙用感光剤コロイド液、録音テープ、ビデオテープ、およびフロッピーディスクの磁性層の形成に使用される磁性層形成液、ならびに金属の塗装に使用される各種塗料等が挙げられる。

（用途）
塗布装置および塗布方法は、金属、紙、布、およびフイルム等にバーを用いて液膜を塗布して製品を製作するあらゆる分野に適用可能であり、用途は特に限定されるものではない。
塗布装置および塗布方法の用途としては、例えば、写真フィルム等の感光材料の製造、録音テープ等の磁気記録材料の製造、およびカラー鉄板等の塗装金属薄板の製造等、バーを用いて塗布を行う場合に使用できる。したがって、基板としては、従来技術の欄で述べた支持体基板のほか、支持体基板の目立てした側の面に感光性または感熱性の製版面を形成した平版印刷原版基板、写真フィルム用基材、印画紙用バライタ紙、録音テープ用基材、ビデオテープ用基材、フロッピー（登録商標）ディスク用基材等、金属、プラスチック、または紙等からなり、連続した帯状で、かつ可撓性を有する基材等が挙げられる。
また、塗布液としては、上述のもの以外に、基板に塗布し、乾燥させて皮膜を形成することに使用される溶液が挙げられ、具体的には、感光層形成液および感熱層形成液のほか、基板の表面に中間層を形成して製版層の接着を改善する中間層形成液、平版印刷原版基板の製版面を酸化から保護するポリビニルアルコール水溶液、写真フィルムにおける感光層を形成するのに使用される写真フィルム用感光剤コロイド液、印画紙の感光層を形成するのに使用される印画紙用感光剤コロイド液、録音テープ、ビデオテープ、フロッピーディスクの磁性層を形成するのに使用される磁性層形成液、および金属の塗装に使用される各種塗料等が挙げられる。

また、塗布装置および塗布方法を用いることにより、基板の両面に塗布面を効率良く形成することが可能となる。従来は、均一な塗布膜を形成する場合には、下面塗布装置が用いられることが多く、この場合、第１の下面塗布工程を設けた後、基板搬送ロールで搬送方向を変え、再度、第２の下面塗布工程を設ける必要があった。このため、両面に塗布面を形成するまでの搬送距離が長くなり、塗布液の塗布スペースが広く必要とされていた。
しかし、塗布装置および塗布方法を用いることにより、上面塗布においても均一な塗布膜を形成することが可能となった。このため、基板の両面に塗布面を形成する場合、従来の下面塗布と上述の塗布装置を用いた上面塗布を同時に行うことができ、塗布スペースを省スペース化することができる。これにより、製膜工程を簡略化することができ、製造コストを抑制することも可能となる。

本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の塗布装置および塗布システムについて詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
本実施例では、実施例１〜１３および比較例１の塗布装置を用いて基板に塗布液を塗布し、パターン塗布性、液の混ざり、液切れ、およびハジキを評価した。

塗布装置は、バー径を直径１０ｍｍとし、幅を８００ｍｍとした。また、バー回転数を１５００回転／分（ｒｐｍ）とした。塗布は、１次側基板進入角度を３°とし、定常部の膜厚が５μｍとなるように実施した。なお、１次側基板進入角度とは、基板がバーの上流側から進入する角度のことである。基板の走行速度を１２０ｍ／分とした。
基板には、幅が７００ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いた。
塗布液には、ポリエステル樹脂、架橋剤、および界面活性剤を水に溶解して調製したものを用いた。なお、塗布液は、組成物量を調整し、粘度が２ｍＰａ・ｓとなるようにした。塗布液の表面張力は４０ｍＮ／ｍであった。

次に、評価項目であるパターン塗布性、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて説明する。なお、パターン塗布性、液切れおよびハジキの各評価項目では、目視観察しているが、その目視観察時間は、１サンプル当り、１分間とした。

（パターン塗布性）
パターン塗布性は、塗布膜を目視観察し、以下に示すパターン塗布性評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
パターン塗布性評価基準
Ａ：パターン塗布できる
Ｂ：パターン塗布できない

（液の混ざり）
液の混ざりは、塗布後の塗布液を回収し、回収後に、回収液を塗布して塗布膜を得た。この塗布膜の成分を蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）測定で特定した。
液の混ざりは、特定した成分の結果に基づき、以下に示す液の混ざり評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
液の混ざり評価基準
Ａ：コンタミネーション率０％
Ｂ：コンタミネーション率０％超２０％未満
Ｃ：コンタミネーション率２０％以上

（液切れ）
液切れは、塗布膜を目視観察し、目視評価後に故障箇所に対して、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）による元素分析を実施した。
液切れは、元素分析の結果に基づき、以下に示す液の混ざり評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
液切れ評価基準
Ａ：特定元素１００％含有
Ｂ：特定元素８０％以上１００％未満含有
Ｃ：特定元素８０％未満含有

（ハジキ）
ハジキは、塗布膜を目視観察し、目視評価後に故障箇所に対して、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）による元素分析を実施した。
ハジキは、元素分析の結果に基づき、以下に示すハジキ評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
ハジキ評価基準
Ａ：特定元素１００％含有
Ｂ：特定元素８０％以上１００％未満含有
Ｃ：特定元素８０％未満含有

以下、実施例１〜１３および比較例１について説明する。なお、下記表１において、塗布条件の欄の「−」は該当するものがないことを示す。
（実施例１）
実施例１は、図１および図２に示す塗布装置の構成において、堰板の数を２とした。第１の堰板の幅を１００ｍｍとし、第２の堰板の幅を３００ｍｍとし、第１の堰板と第２の堰板の間隔δを１ｍｍとした。
第１の堰板の送液量を１００ｃｃ／ｍｉｎとし、第２の堰板の送液量を３００ｃｃ／ｍｉｎとした。また、液溜り部の断面積Ｓを１０ｍｍ^２とした。実施例１では、側板を設けていない。
（実施例２）
実施例２は、図１および図２に示す塗布装置の構成とし、堰板の数は３である。第１の堰板の幅を１００ｍｍとし、第２の堰板の幅を３００ｍｍとし、第３の堰板の幅を１００ｍｍとし、堰板の間隔δを１ｍｍとした。
第１の堰板の送液量を１００ｃｃ／ｍｉｎとし、第２の堰板の送液量を３００ｃｃ／ｍｉｎとし、第３の堰板の送液量を１００ｃｃ／ｍｉｎとした。また、液溜り部の断面積Ｓを１０ｍｍ^２とした。実施例２では、側板を設けていない。

（実施例３）
実施例３は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが１２０ｍｍ^２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例４）
実施例４は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが１００ｍｍ^２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例５）
実施例５は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが２０ｍｍ^２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例６）
実施例６は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが３０ｍｍ^２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例７）
実施例７は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ^２である点以外は実施例２と同じとした。

（実施例８）
実施例８は、実施例２に比して、堰板の間隔δが３ｍｍである点、および液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ^２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例９）
実施例９は、実施例２に比して、堰板の間隔δが３ｍｍである点、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ^２である点、および側板を有する点以外は実施例２と同じとした。
（実施例１０）
実施例１０は、実施例２に比して、堰板の間隔δが５ｍｍである点、および液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ^２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例１１）
実施例１１は、実施例２に比して、堰板の間隔δが５ｍｍである点、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ^２である点、および側板を有する点以外は実施例２と同じとした。
（実施例１２）
実施例１２は、実施例２に比して、堰板の間隔δが５ｍｍである点、送液量が異なる点、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ^２である点、および側板を有する点以外は実施例２と同じとした。
実施例１２では、第１の堰板の送液量を７０ｃｃ／ｍｉｎとし、第２の堰板の送液量を２２０ｃｃ／ｍｉｎとし、第３の堰板の送液量を７０ｃｃ／ｍｉｎとした。
（実施例１３）
実施例１３は、実施例１２に比して、側板がない点以外は実施例１２と同じとした。

（比較例１）
比較例１は、図１および図２に示す塗布装置の構成において、堰板の数を１とし、実施例１の第２の堰板に相当するものしかない構成である。比較例１は、送液量を３００ｃｃ／ｍｉｎとし、液溜り部の断面積Ｓを１０ｍｍ^２とした。比較例１は、塗布膜が１つしか形成されないため、液の混ざりが生じない。このため、液の混ざりの評価結果の欄には「−」と記した。

表１に示すように、実施例１〜１３は、２種以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができた。なお、比較例１は、堰板が１つの構成であり、２種以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布できなかった。
実施例１および実施例２は、液溜り部の断面積Ｓが小さく液切れが生じた。また、実施例１および実施例２は、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例３は、液溜り部の断面積Ｓが大き過ぎハジキが生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例４は、液溜り部の断面積Ｓが好ましい範囲の上限であり、ハジキが若干生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例５は、液溜り部の断面積Ｓが好ましい範囲の下限であり、液切れが若干生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例６および実施例７は、液溜り部の断面積Ｓが好ましい範囲にあり、液切れおよびハジキについて良好な結果が得られた。また、実施例６および実施例７は、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
実施例８は、堰板の間隔δが好ましい範囲の下限であり、液の混ざりについて実施例７よりも良好な結果を得ることができた。実施例９は、堰板の間隔δが好ましい範囲の下限であり、かつ側板を有するものであり、液の混ざりについて実施例８よりも、さらに良好な結果を得ることができた。

実施例１０は、堰板の間隔δが好ましい範囲にあり、液の混ざりについてさらに良好な結果を得ることができた。
実施例１１は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、かつ側板を有するものであり、液の混ざりについてさらに良好な結果を得ることができた。
実施例１２は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、かつ側板を有するものであり、送液量を少なくしても、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて、良好な結果を得ることができた。これにより、塗布液の損失を小さくできる。
実施例１３は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、送液量を少なくした場合、側板がないため、液切れについて、良好な結果を得ることができなかった。
なお、実施例９の塗布装置を用いて、塗布システムを構成し、基板の両面に同時塗布しところ、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて、良好な結果を得ることができた。

１０、１１、１１ａ 塗布装置
１２ バー
１２ａ 端面
１４ 本体ブロック
１５ スリット
１６ 堰板
１６ａ 突出部
１６ｂ 側面
１６ｃ 端面
１７ 液溜り部
２０ 供給管
２２ 供給部
２４ 送液貯留部
２５ 端部
２６ 側板
２７ 隙間
３０ 基板
３０ａ 上面
３０ｂ 下面
３２ａ、３２ｂ、３２ｃ 塗布膜
３３ 隙間
４０ 塗布システム
４２ 乾燥部
Ａ 距離
Ｂ 距離
Ｃｒ 回転中心
Ｄ１ 走行方向
Ｄ２ 幅方向
Ｄ３ 高さ方向
Ｍ 塗布液
ＰＬ 平面
δ 間隔
Ｓ 断面積

Claims (10)

1. 特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、前記走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、
   前記バーに対して前記基板の前記走行方向の上流に設けられ、前記塗布液を前記バーとの間を通して、前記基板の前記走行方向へ流通させる堰板とを有する塗布装置であって、
   前記バーを回転可能に支持する本体ブロックを有し、
   前記バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、
   前記堰板毎に設けられ、前記堰板に前記塗布液を供給する複数の供給部とを有する、塗布装置。
2. 前記バーの前記長手方向における前記堰板の間隔が３ｍｍ以上である、請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記複数の堰板は、それぞれ前記バーの前記長手方向における位置を変えることができる、請求項１または２記載の塗布装置。
4. 前記複数の堰板は、それぞれ前記バーとの間に液溜り部を有し、
   前記複数の堰板は、それぞれ前記液溜り部の容量を変えることができる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
5. 前記複数の堰板は、それぞれ前記基板の前記走行方向に対して移動可能であり、前記バーと前記堰板との前記走行方向の距離を変えることができる、請求項４に記載の塗布装置。
6. 前記走行方向と前記走行方向に直交する高さ方向とで構成される平面における、前記液溜り部の断面積Ｓが２０ｍｍ^２以上１００ｍｍ^２以下であり、
   前記液溜り部の前記断面積Ｓは、前記平面における、前記バーの前記走行方向の上流側の周面と、
   前記バーの回転中心を通り前記バーの前記走行方向の上流側の端面と前記堰板との最短距離を通る線と、
   前記最短距離を通る線と前記堰板との交点を通り、かつ前記基板の面に垂直な線と、
   前記基板とで囲まれた部分の面積である、請求項４に記載の塗布装置。
7. 前記複数の堰板は、それぞれ前記バーの前記長手方向の両端部に側板が設けられている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の塗布装置。
8. 前記複数の堰板のうち、隣接する堰板の間に面する、前記堰板の前記バーの前記長手方向の端部に側板が設けられている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の塗布装置。
9. 前記塗布液を貯留する送液貯留部を、前記本体ブロック、または前記各堰板に有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の塗布装置。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、
    前記基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する、塗布システム。

Images