JP7137239B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Description

本発明は塗布装置及び塗布方法に関し、より詳細には、基板の周縁部に液剤を塗布することができる塗布装置及び塗布方法に関する。

電子部品の実装用基板としてガラスエポキシ材、コンポジット材、紙フェノール材などを使用したプリント配線基板が広く使用されている。ガラスエポキシ材は、ガラス繊維布を重ねたものにエポキシ樹脂を含浸させたものである。コンポジット材は、表面にガラス布、芯材にセルロース紙や不織布を配したものである。紙フェノール材は、クラフト紙にフェノール樹脂を含浸させたものである。

これらガラスエポキシ材、コンポジット材、紙フェノール材に対して切断加工を施すと、切断部に、エポキシ樹脂又はガラス繊維などからなる細かい塵埃が発生する。このような細かい塵埃は基板回路の接触不良や品質の低下などを引き起こす原因となる。そのため、基板の切断時に生じた塵埃はプリント配線基板の製造時には除去しておくことが好ましい。また、プリント配線基板の切断部端面から一旦、塵埃を取り除いておいたとしても、プリント配線基板の端面部分は脆いため、その後のエッチング工程などの基板の製造処理工程において、端面部分が崩壊して更なる塵埃が発生するおそれもあった。

そこで本件出願人は、基板の端面に膜形成液を塗布して膜を形成することで、端面部分の崩壊を防止することのできる塗布装置及び塗布方法を先に提案した（下記の特許文献１）。
特許文献１記載の塗布装置では、基板の端部を挟み得るように対向配置された一対の塗布ローラを基板周縁に沿って移動させることにより、基板の端面に膜形成液が塗布されるようになっている。

さらに近年、各種電子機器の薄形化や小型化に対応させるために、厚みが数十μｍ～数百μｍ程度の薄形の銅張積層基板（パッケージ基板とも言う）の需要が高まってきている。このような薄形基板に対しては、膜形成液を基板端面にのみ塗布することは容易ではなく、基板の端面を含む周縁部に、例えば、額縁状に塗布するような形態が望ましいと考えられた。

そこで本件出願人は、基板の端面を含む周縁部に膜形成液を額縁状に塗布して膜を形成することで、端面部分の崩壊等を防止することのできる塗布装置及び塗布方法を先に提案した（下記の特許文献２）。
特許文献２記載の塗布装置では、上下一対の塗布ヘッドの対向面に、膜形成液を溜める液溜部と、該液溜部を通過させた基板の端部に付着した前記膜形成液を薄膜状に塗工する塗工部とが装備されている。そして、前記一対の塗布ヘッドの対向面の隙間に前記基板の端部が挿し込まれた状態で、前記一対の塗布ヘッドが前記基板の周縁部に沿って移動することにより、前記基板の端面を含む周縁部に前記膜形成液が額縁状に塗布されるようになっている。

［発明が解決しようとする課題］
最近では、塗布対象となる基板の種類が増えるとともに、これら基板の製造処理工程も多様化してきている。そして、基板の種類やその製造処理工程の違いなどに応じて、前記膜形成液の基板への塗布形態も多様化してきており、上記した特許文献１、２に記載した塗布装置では上手く対応できない場合も生じてきている。
例えば、特許文献２記載の塗布装置では、例えば、厚さが０．５ｍｍ程度以上の基板に対して塗布する場合、前記一対の塗布ヘッドの液溜部と塗工部とを通過させた基板の端面に付着した膜形成液が、該端面の下の方に垂れて、端面下部の角部分に回り込んで、わずかな液だまりが生じることがある。そのため、乾燥後における基板の端面下部の角部分の塗膜の膜厚が部分的に厚くなることもあり、基板の周縁部の３面に形成された塗膜の膜厚が均一にならない場合もあるという課題があった。

また、基板の周縁部に膜形成液を塗布して塗膜を形成後、その基板の製造処理工程の最終工程において、前記基板から前記塗膜を剥離する処理を行う場合もある。このような塗膜の剥離処理を行う場合、前記塗膜の膜厚にばらつきがあると、前記塗膜をきれいに剥離することができない場合もあるという課題もあった。

さらに、特許文献２記載の塗布装置では、前記液溜部を備えた前記一対の塗布ヘッドの隙間に基板を挿し込む構成のため、前記基板の周縁部に塗布する縁幅がある程度広い場合は、所望の縁幅で比較的精度良く塗布することが可能であるが、塗布する縁幅が極めて狭い場合は、所望の縁幅で塗布することが難しいという課題もあった。

国際公開第２０１０／１３７４１８号 国際公開第２０１６／０７２２５０号

課題を解決するための手段及びその効果

本発明は上記課題に鑑みなされたものであって、基板の端面を含む基板周縁部に塗布する膜形成液の上下面塗布幅を極めて狭く、正確に制御することができ、しかも前記基板の周縁部に均一な厚さの薄い塗膜を確実に形成することができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的としている。

上記目的を達成するために本発明に係る塗布装置（１）は、基板と塗布ユニットとを相対移動させつつ、前記基板の周縁部に膜形成液を塗布する塗布装置であって、
前記塗布ユニットが、
前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液を塗布する塗布部と、
該塗布部によって塗布された前記膜形成液を、前記基板の周縁部上下面に薄膜状に伸展させる伸展部とを含んで構成されていることを特徴としている。

上記塗布装置（１）によれば、前記塗布部によって前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液が塗布され、塗布された前記膜形成液が、前記伸展部によって前記基板の周縁部上下面を含む周縁部全体に薄膜状に伸展される。そのため、前記基板の端面を含む基板周縁部に塗布する前記膜形成液の上下面塗布幅を極めて狭く、正確に制御することができ、しかも前記基板の周縁部全体に均一な厚さの薄い塗膜を確実に形成することができる。

また本発明に係る塗布装置（２）は、上記塗布装置（１）において、
前記伸展部が、
前記基板の周縁部上面に接触させる上面伸展部材と、
前記基板の周縁部端面に接触させる端面伸展部材と、
前記基板の周縁部下面に接触させる下面伸展部材とを含んで構成され、
前記上面伸展部材と前記下面伸展部材とが対向して配置され、
前記端面伸展部材が、前記上面伸展部材と前記下面伸展部材との間の空間に対向して配置されていることを特徴としている。

上記塗布装置（２）によれば、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材が前記基板の周縁部を挟み込む態様で配置されているので、前記膜形成液を前記基板の周縁部上下面を含む周縁部全体に確実に伸展させることができる。
また、前記端面伸展部材により前記基板の端面位置を規制することができるため、前記上面伸展部材及び前記下面伸展部材の幅（すなわち、前記基板の周縁部に接触させる幅）を変えることにより、前記基板の周縁部上下面への塗布幅（縁幅）を調整することができる。さらに、前記上面伸展部材及び前記下面伸展部材の幅を狭くすることにより、前記基板の周縁部上下面への塗布幅を狭くすることができ、前記基板の周縁部に極めて狭い幅で均一な厚さの薄い塗膜を形成することができ、前記基板の周縁部への様々な形態の塗膜形成ニーズに広く対応することができる。

また本発明に係る塗布装置（３）は、上記塗布装置（２）において、
前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材が、前記相対移動の方向に沿って形成された複数の微小溝を備えていることを特徴としている。

上記塗布装置（３）によれば、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材に形成された前記複数の微小溝によって、余分な膜形成液を除去しながら、前記膜形成液を前記基板の周縁部全体に薄く均一に伸展させる効果を高めることができる。また、前記複数の微小溝の深さを変えることにより、伸展後の前記膜形成液の膜厚を微調整することもできる。

また本発明に係る塗布装置（４）は、上記塗布装置（２）又は（３）において、
前記伸展部が、
前記上面伸展部材を前記下面伸展部材の方向に付勢する第１付勢機構と、
前記下面伸展部材を前記上面伸展部材の方向に付勢する第２付勢機構と、
前記端面伸展部材を前記上面伸展部材と前記下面伸展部材との間の空間の方向に付勢する第３付勢機構とのうちの少なくとも１つを備えていることを特徴としている。

上記塗布装置（４）によれば、前記第１付勢機構によって、前記上面伸展部材が前記下面伸展部材の方向に付勢され、前記第２付勢機構によって、前記下面伸展部材が前記上面伸展部材の方向に付勢される。また、前記第３付勢機構によって、前記端面伸展部材が前記上面伸展部材と前記下面伸展部材との間の空間の方向に付勢される。
したがって、前記上面伸展部材を前記基板の周縁部上面に押し当てたり、前記下面伸展部材を前記基板の周縁部下面に押し当てたり、前記端面伸展部材を前記基板の周縁部端面に押し当てることが可能となり、前記基板の周縁部全体に前記膜形成液を均一な薄膜状に伸展させる効果を高めることができる。

また本発明に係る塗布装置（５）は、上記塗布装置（２）～（４）のいずれかにおいて、
前記伸展部が、
前記上面伸展部材が取り付けられる第１取付部材と、
前記下面伸展部材が取り付けられる第２取付部材とを含み、
前記端面伸展部材が前記第１取付部材又は前記第２取付部材に取り付けられ、
前記第１取付部材が前記第２取付部材の上に上下方向に移動可能な態様で取り付けられていることを特徴としている。

上記塗布装置（５）によれば、前記上面伸展部材が前記第１取付部材に取り付けられ、前記下面伸展部材が前記第２取付部材に取り付けられ、前記端面伸展部材が前記第１取付部材又は前記第２取付部材に取り付けられ、前記第１取付部材が前記第２取付部材の上に上下方向に移動可能な態様で取り付けられているので、前記基板の厚さが異なる場合であっても柔軟に対応することができる。

また本発明に係る塗布装置（６）は、上記塗布装置（５）において、
前記第２取付部材が、前記膜形成液を回収するための回収路を備え、
前記下面伸展部材が、前記回収路内に取り付けられていることを特徴としている。

上記塗布装置（６）によれば、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材による伸展動作により前記基板から取り除かれた前記膜形成液が、前記回収路を通して回収されることとなり、前記基板から取り除かれた前記膜形成液で前記伸展部の周囲が汚染されることを防止でき、前記伸展部の周囲を清潔な状態に保つことができる。

また本発明に係る塗布装置（７）は、上記塗布装置（２）～（６）のいずれかにおいて、
前記塗布部と、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材との間に、前記塗布部によって塗布された前記膜形成液の一部を掻き取るための掻取部を備えていることを特徴としている。

上記塗布装置（７）によれば、前記基板に余分に付着した前記膜形成液が前記掻取部によって掻き取られた後、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材により前記膜形成液が伸展される。したがって、伸展処理の前に前記膜形成液の付着量を一定にすることができ、前記伸展処理の後の塗膜の品質をより安定させることができる。

また本発明に係る塗布装置（８）は、上記塗布装置（７）において、前記掻取部が、前記基板の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面を囲う形状に形成されていることを特徴としている。

上記塗布装置（８）によれば、前記掻取部が、前記基板の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面を囲う形状に形成されているので、前記膜形成液を前記基板の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面に沿って掻き取ることができる。したがって、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材による伸展処理の前に、前記基板の周縁部に前記膜形成液が均一な厚さで薄く伸展されやすい状態に整えることができる。

また本発明に係る塗布装置（９）は、上記塗布装置（７）又は（８）において、前記掻取部が、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材に隣接配置されていることを特徴としている。
上記塗布装置（９）によれば、前記掻取部と、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材とがコンパクトに配置された構成にすることができる。例えば、前記掻取部が前記伸展部に設けられた構成にすることができ、前記伸展部の機能を高めることができる。

また本発明に係る塗布装置（１０）は、上記塗布装置（１）～（９）のいずれかにおいて、前記塗布ユニットが、前記伸展部を複数備えていることを特徴としている。
上記塗布装置（１０）によれば、前記塗布ユニットが、前記伸展部を複数備えているので、これら複数の伸展部によって、前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を複数回伸展することができる。そのため、前記基板の周縁部全体に前記膜形成液を均一な厚さで薄く伸展させる効果を一層高めることができる。

また本発明に係る塗布装置（１１）は、上記塗布装置（１）～（１０）のいずれかにおいて、前記塗布部が、
外周面に環状溝が形成された塗布ローラと、
該塗布ローラの外周面に近接配設され、前記環状溝に前記膜形成液を供給する液供給部と、
前記塗布ローラの下方に配設され、該塗布ローラから垂れ落ちてくる前記膜形成液を回収する回収部とを備えていることを特徴としている。

上記塗布装置（１１）によれば、前記液供給部から前記塗布ローラの前記環状溝に前記膜形成液が供給されるので、前記基板の周縁部端面に前記環状溝を当てた状態で前記塗布ローラを転動させることにより、前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液を確実に付着させることができる。また、前記回収部によって、前記塗布ローラから垂れ落ちてくる前記膜形成液が回収されるので、前記塗布ローラの周囲を汚染することなく前記膜形成液を回収して、再利用することが可能となる。

また本発明に係る塗布装置（１２）は、上記塗布装置（１１）において、
前記液供給部が、
前記塗布ローラの前記環状溝との対向面に形成された液吐出部と、
該液吐出部に隣接配置され、前記塗布ローラの外周面に当接させる当接部材とを備えていることを特徴としている。

上記塗布装置（１２）によれば、前記液吐出部から前記環状溝に前記膜形成液を直接的に供給することができる。また、前記当接部材を前記塗布ローラの外周面に当接させることによって、前記環状溝に供給される前記膜形成液を前記環状溝内に保持させる効果を高めることができる。したがって、前記塗布ローラによる前記基板の少なくとも周縁部端面への前記膜形成液の塗布を安定して行うことができる。

また本発明に係る塗布装置（１３）は、上記塗布装置（１）～（１２）のいずれかにおいて、前記基板の角部端面に接触させて、前記伸展部によって伸展された前記膜形成液をさらに伸展させる角部伸展部を備えていることを特徴としている。

上記塗布装置（１３）によれば、前記基板の角部端面に塗布された前記膜形成液が前記角部伸展部によってさらに伸展されるので、前記膜形成液の塗布ムラが生じやすい前記基板の角部における前記膜形成液の塗布ムラを少なくすることができ、前記基板の角部における塗膜の膜厚も均一かつ薄くすることができ、塗膜品質をさらに高めることができる。

また本発明に係る塗布装置（１４）は、上記塗布装置（１３）において、前記角部伸展部を前記基板の角部端面の方向に付勢する第４付勢機構を備えていることを特徴としている。

上記塗布装置（１４）によれば、前記第４付勢機構によって、前記角部伸展部が前記基板の角部端面の方向に付勢されるので、また、前記角部伸展部が前記基板の角部端面に確実に押し当てられることとなり、例えば、前記基板の角部端面が複数回塗布される場合であっても、前記基板の角部端面の膜厚が厚くなることをより確実に防止することができる。

また本発明に係る塗布装置（１５）は、上記塗布装置（１）～（１４）のいずれかにおいて、
前記基板を支持する支持手段と、
該支持手段の周囲に前記塗布ユニットが複数配置され、これら各塗布ユニットを前記支持手段で支持された前記基板の辺に沿って移動させる移動手段と、
該移動手段と前記各塗布ユニットの動作を制御する制御手段とを備え、
該制御手段が、
前記各塗布ユニットの前記塗布部で前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液を塗布しつつ、該塗布された前記膜形成液を、前記伸展部で前記基板の周縁部上下面に薄膜状に伸展させながら、前記各塗布ユニットを前記基板の辺に沿って移動させるように前記移動手段を制御するものであることを特徴としている。

上記塗布装置（１５）によれば、前記複数の塗布ユニットで前記基板各辺の周縁部が並行して塗布され、前記基板全周を塗布する時間が大幅に短縮されることとなり、塗布効率を高めることができる。

また本発明に係る塗布装置（１６）は、上記塗布装置（１）～（１５）のいずれかにおいて、
前記塗布ユニットが、
前記膜形成液が収容される液収容部と、
該液収容部から前記塗布部に前記膜形成液を移送する移送手段とを備え、
前記液収容部が、
前記塗布部、及び前記伸展部から回収される前記膜形成液が収容されるように構成されていることを特徴としている。

上記塗布装置（１６）によれば、前記塗布ユニットが前記液収容部と前記移送手段とを備えているので、前記膜形成液を再利用する構成をユニット単位でコンパクトな構成にまとめることができ、前記塗布ユニットの移動範囲や配置場所の設計の自由度を高めることができる。

また本発明に係る塗布方法（１）は、基板の周縁部に膜形成液を塗布する塗布方法であって、
前記基板と塗布ユニットとを相対移動させつつ、前記塗布ユニットに含まれる塗布部で前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液を塗布する塗布工程と、
該塗布工程によって塗布された前記膜形成液を、前記塗布ユニットに含まれる伸展部で前記基板の周縁部上下面に薄膜状に伸展させる伸展工程とを含んでいることを特徴としている。

上記塗布方法（１）によれば、前記塗布工程によって、前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液が塗布され、塗布された前記膜形成液が、前記伸展工程によって、前記基板の周縁部上下面を含む周縁部全体に薄膜状に伸展されることとなる。そのため、前記基板の端面を含む基板周縁部に塗布する前記膜形成液の上下面塗布幅を極めて狭く、正確に制御することができ、しかも前記基板の周縁部全体に均一な厚さの薄い塗膜を確実に形成することができる。

また本発明に係る塗布方法（２）は、上記塗布方法（１）において、
前記伸展工程は、
前記伸展部を前記基板の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面のうちの少なくともいずれかの方向に押圧しながら前記膜形成液を薄膜状に伸展させる工程であることを特徴としている。

上記塗布方法（２）によれば、前記伸展工程において、前記伸展部が前記基板の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面のうちの少なくともいずれかの方向に付勢された状態で、前記膜形成液を伸展させることができ、前記基板の周縁部全体に前記膜形成液を均一な薄膜状に伸展させる工程を安定して行うことができる。

本発明の実施の形態（１）に係る塗布装置の概略構成を示す要部平面図である。 実施の形態（１）に係る塗布装置の塗布ユニットを示す要部斜視図である。 図２におけるIII-III線部分省略断面斜視図である。 図２におけるIV-IV線部分省略断面図である。 塗布ユニットで基板の周縁部に膜形成液を塗布している状態を示す部分省略平面図である。 図５におけるVI-VI線部分省略断面図である。 図５におけるVII－VII線部分省略断面図である。 図７におけるVIII－VIII線部分省略断面図である。 図５におけるIX-IX線部分省略断面図である。 塗布ユニットで塗布された基板の周縁部付近を示した部分拡大断面図であり、（ａ）は塗布ローラが通過した後の基板の断面図であり、（ｂ）は伸展部が通過した後の基板の断面図である。 実施の形態（２）に係る塗布装置の塗布ユニットを示す要部斜視図である。 塗布ユニットの角部伸展部が基板の角部端面で膜形成液を伸展している状態を示す部分省略斜視図である。 別の実施の形態に係る塗布装置を構成する塗布ユニットの伸展部を示す要部斜視図である。 伸展部の部分省略正面図である。 図１４におけるXV－XV線部分拡大断面図である。 図１４におけるXVI－XVI線部分拡大断面図である。

以下、本発明に係る塗布装置、及び塗布方法の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例を示しており、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限定されるものではない。

図１は、本発明の実施の形態（１）に係る塗布装置の概略構成を示す要部平面図である。
実施の形態（１）に係る塗布装置１０は、基板２を支持する支持テーブル（支持手段の一例）１１と、支持テーブル１１の周囲に配設された４台の塗布ユニット２０と、これら塗布ユニット２０を基板２の各辺に沿って移動させる４台の移動ユニット（移動手段の一例）１２とを備えている。さらに、塗布装置１０は、これら装置各部の動作を制御する制御部１３と、操作部１４とを含んで構成されている。

塗布装置１０は、基板２に対して塗布ユニット２０を移動させつつ、基板２の周縁部（外周縁端部ともいう）２ａに膜形成液を塗布するための装置である。塗布装置１０では、４台の塗布ユニット２０によって基板２の４辺が同時並行的に塗布される構成となっているが、別の構成例では、１台の塗布ユニット２０によって基板２の４辺が順に塗布される構成としてもよく、塗布ユニット２０は、塗布装置１０に１台以上装備されていればよい。また、別の構成例では、塗布装置１０が、塗布ユニット２０に対して基板２を移動させるように構成されてもよい。

各塗布ユニット２０は、基板２の少なくとも周縁部端面に膜形成液を塗布する塗布部３０と、塗布部３０によって塗布された膜形成液を、基板２の周縁部上下面に薄膜状に伸展させる伸展部４０とを含んで構成されている。塗布部３０と伸展部４０の構成については後述する。

制御部１３が、各塗布ユニット２０の塗布部３０による塗布動作と伸展部４０による伸展動作とを制御するとともに、各移動ユニット１２により各塗布ユニット２０を基板２の辺に沿って（矢印Ａの方向に）移動させる制御を行う。

なお、制御部１３は、各塗布ユニット２０及び各移動ユニット１２の動作を制御する他に、支持テーブル１１の動作制御（例えば、昇降制御）など、装置各部の動作を制御する機能を備えてもよい。制御部１３は、例えば、マイコン、ドライバ回路、記憶部、及び電源部など（いずれも図示せず）を含んで構成されている。

支持テーブル１１は、昇降機構（図示せず）によって下方から昇降可能に支持されている。また、支持テーブル１１に吸着機構（図示せず）が設けられてもよく、かかる場合、基板２を支持テーブル１１の上面に吸着させることが可能となる。前記吸着機構としては、例えば、支持テーブル１１に設けられた複数のエア吸気孔にエアチューブを介して真空ポンプが連結された構成などが採用できる。なお、基板２は、搬送機構（図示せず）により支持テーブル１１上の所定位置に載置されるようになっている。

移動ユニット１２は、支持テーブル１１を取り囲む態様で４台配設されており、Ｘ軸直動機構１２ａと、Ｘ軸直動機構１２ａに取り付けられたＹ軸直動機構１２ｂと、Ｘ軸直動機構１２ａに取り付けられたケーブルチェーン１２ｃとを含んで構成されている。

Ｘ軸直動機構１２ａは、塗布ユニット２０を基板２の辺（Ｘ軸方向）に沿って移動させるための装置であり、支持テーブル１１の各辺と平行に配設されたＸ軸シリンダ１２ａａと、Ｘ軸シリンダ１２ａａ上をスライド移動するＸ軸スライダ１２ａｂとを含んで構成されている。

Ｙ軸直動機構１２ｂは、塗布ユニット２０を基板２の辺に直交する方向（Ｙ軸方向）に移動させるための装置であり、Ｙ軸直動機構１２ｂは、Ｘ軸スライダ１２ａｂに取り付けられており、Ｙ軸直動機構１２ｂに塗布ユニット２０が取り付けられている。

また、操作部１４では、装置各部の動作条件の設定、各部の動作指示、動作モードの切り替えなどの各種入力を受け付けることが可能となっている。操作部１４を介して入力された操作信号や設定信号が制御部１３に出力されるようになっている。例えば、操作部１４では、塗布ユニット２０の初期位置や移動速度、膜形成液の供給速度などの各種動作条件の設定を行うことが可能になっている。

図２は、実施の形態（１）に係る塗布装置の塗布ユニットを示す要部斜視図である。図３は、図２におけるIII－III線部分省略断面斜視図であり、塗布部３０の部分省略断面斜視図である。図４は、図２におけるIV－IV線部分省略断面図であり、伸展部４０の部分省略断面図である。

塗布ユニット２０は、基板２（図１参照）の少なくとも周縁部端面に膜形成液を塗布する塗布部３０と、基板２の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面を挟み込み可能なように配置されて、塗布部３０によって塗布された膜形成液を、基板２の周縁部上下面に薄膜状に伸展させる伸展部４０とを含んで構成されている。

塗布ユニット２０は、さらに、膜形成液が収容される液収容部５０と、液収容部５０から塗布部３０にチューブ（図示せず）を介して膜形成液を移送する移送ポンプ６０（移送手段の一例）とを備えている。

これら塗布部３０、伸展部４０、液収容部５０、及び移送ポンプ６０は、移動ユニット１２のＹ軸直動機構１２ｂ（図１参照）に取り付けられた取付用部材２１に組み付けられて一体化されている。

液収容部５０は、塗布部３０及び伸展部４０の下方に配設されており、蓋５１と、下箱５２と、下箱５２が載置される箱受台５３とを備えている。箱受台５３は、下箱５２内の膜形成液が塗布部３０から伸展部４０の方向に流れるように少し傾斜させた状態で取り付けられている。蓋５１にはチューブ取付部５１ａが設けられ、移送ポンプ６０に接続されるチューブ（図示せず）がチューブ取付部５１ａに取り付けられている。また、液収容部５０には、塗布部３０及び伸展部４０で回収される膜形成液が収容され、膜形成液が塗布ユニット２０内を循環するように構成されている。

膜形成液としては、基板処理工程（エッチング工程やメッキ工程など）で剥がれない特性（酸及び／又はアルカリに対する耐性）があり、基板表面への付着性等に優れるように複数の樹脂成分が混合されたものが好ましい。例えば、水系媒体の溶剤に対し、水性ウレタン樹脂、水性スチレン樹脂及び水性増粘剤を含むコーティング剤など、目的用途に応じて調製された各種の液剤を使用することができる。また、膜形成液は、塗布する膜厚や縁幅に応じて適宜粘度が調整されてもよい。例えば、膜厚を薄くする場合は粘度を下げる調整が行われる。

図２、３に示すように、塗布部３０は、塗布ローラ３１と、液供給部３２と、回収部３３とを含んで構成されている。塗布ローラ３１は、略円盤形状であり、外周面に環状溝３１ａが形成されている。環状溝３１ａは、断面略コの字形状であるが、この形状に限定されない。また、塗布ローラ３１は、駆動モータ３４の回転軸３４ａ（図３参照）に接続されて、所定の速度で回転駆動されるように構成されている。前記所定の速度は、例えば、基板２との相対移動速度に合わせた回転速度に調整される。

液供給部３２は、塗布ローラ３１の外周面に近接配設され、環状溝３１ａに膜形成液を供給するための部材である。液供給部３２は、チューブ取付部３２ａと、液吐出部３２ｂと、当接片３２ｃとを含んで構成されている。

チューブ取付部３２ａは、移送ポンプ６０からのチューブ（図示せず）が取り付けられるＬ型管で構成されている。液吐出部３２ｂには、吐出孔３２ｂａ（図３参照）が形成されている。吐出孔３２ｂａは、チューブ取付部３２ａから塗布ローラ３１の環状溝３１ａとの対向面に向けて形成された液流路である。当接片３２ｃは、液吐出部３２ｂに隣接配置され、その先端部が塗布ローラ３１の外周面に当接された状態で取り付けられている。

回収部３３は、塗布ローラ３１の下方に一体的に取り付けられており、塗布ローラ３１から垂れ落ちてくる膜形成液を受ける受け皿部３３ａと、受け皿部３３ａの中心穴から下方に延設された管部３３ｂとを含んで構成されている。管部３３ｂの下部が液収容部５０内に挿入されて、塗布ローラ３１から垂れ落ちてきた膜形成液が受け皿部３３ａ、管部３３ｂを通じて液収容部５０に流れ落ちるように構成されている。

図２、４に示すように、伸展部４０は、基板２の周縁部上面に接触させる上面伸展部材４１と、基板２の周縁部端面に接触させる端面伸展部材４２と、基板２の周縁部下面に接触させる下面伸展部材４３とを含んで構成されている。上面伸展部材４１と下面伸展部材４３とが上下方向に対向して配置され、端面伸展部材４２が、上面伸展部材４１と下面伸展部材４３との間の空間に対向して配置されている。

また、後に説明する図７、８、９に示すように、上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３における基板２との対向面には、塗布ユニット２０の移動の方向に沿って、それぞれ複数の微小溝４１ａ、４２ａ、４３ａが形成されている。
微小溝４１ａ、４２ａ、４３ａは、例えば、断面波形状溝や断面Ｖ字状溝で構成され、これら微小溝の間隔や深さは、使用する膜形成液の粘度等の特性や形成する膜厚等に応じて適宜設定することができる。例えば、１０μｍ～５０μｍ程度の塗膜を形成する場合、溝の中心間隔を０．２ｍｍ～０．３ｍｍ程度、溝の深さを０．０５ｍｍ～０．１ｍｍ程度に設定したものを使用することが好ましい。

上面伸展部材４１と下面伸展部材４３は、例えば、直径が５ｍｍ～１５ｍｍ程度の丸棒状のバーコーターを数ミリ（例えば、１ｍｍ～５ｍｍ）幅でスライスしたような薄い円板状部材、又は半円形の円板状部材の他、湾曲面を有する薄板状部材などで構成されてもよい。
端面伸展部材４２は、例えば、直径が５ｍｍ～１５ｍｍ程度の丸棒状のバーコーターを数ミリ（例えば、５ｍｍ～１０ｍｍ）幅で切断したような短柱状の部材、半円柱状の部材などで構成されてもよい。

図２、４に示すように、伸展部４０は、上面伸展部材４１と端面伸展部材４２が取り付けられる第１取付部材４４と、下面伸展部材４３が取り付けられる第２取付部材４５とを含んで構成されている。
第１取付部材４４は、第２取付部材４５の上面に略垂直に取り付けられた軸部材４７ａ、４７ｂに挿通されて、第２取付部材４５の上に上下方向に移動可能な態様で取り付けられている。第１取付部材４４には、軸部材４７ａ、４７ｂが挿通される挿通孔が形成されている。なお、端面伸展部材４２が第２取付部材４５に取り付けられた構成としてもよい。

また、第２取付部材４５には、膜形成液を回収するための回収路４５ａが設けられており、回収路４５ａ内に下面伸展部材４３が取り付けられ、また、回収路４５ａ内に端面伸展部材４２の一部分が下面伸展部材４３に接する形態で配置されている構成となっている。

また、伸展部４０は、膜形成液を回収するための回収部４６を備えている。
回収部４６は、第２取付部材４５の回収路４５ａの下方に一体的に取り付けられており、上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３から垂れ落ちてくる膜形成液を受ける受け皿部４６ａと、受け皿部４６ａの中心穴から下方に延設された管部４６ｂとを含んで構成されている。管部４６ｂの下部が液収容部５０内に挿入されて、下面伸展部材４３から垂れ落ちてきた膜形成液が受け皿部４６ａ、管部４６ｂを通じて液収容部５０に流れ落ちるように構成されている。

さらに、図４に示すように、伸展部４０は、上面伸展部材４１を下面伸展部材４３の方向に付勢する第１付勢機構４７と、下面伸展部材４３を上面伸展部材４１の方向に付勢する第２付勢機構４８と、端面伸展部材４２を上面伸展部材４１と下面伸展部材４３との間の空間の方向に付勢する第３付勢機構４９とを備えている。

第１付勢機構４７は、軸部材４７ａ、４７ｂと、軸部材４７ａに取り付けられた第１ばね部材４７ｃとを含んで構成されており、第１ばね部材４７ｃにより第１取付部材４４が下方に押圧された状態となっている。第１ばね部材４７ｃには、例えば、圧縮コイルばねが適用されるが、第１取付部材４４を下方に押圧する弾性部材が適用可能である。

第２付勢機構４８は、直動レール部材４８ａと、直動ブロック部材４８ｂと、押さえ部材４８ｃと、第２ばね部材４８ｄと、ばね取付部４８ｅとを含んで構成されている。直動レール部材４８ａと直動ブロック部材４８ｂとにより、鉛直方向に摺動可能な直動ガイド機構が構成されている。直動レール部材４８ａは第２取付部材４５に取り付けられ、直動ブロック部材４８ｂは押さえ部材４８ｃに取り付けられている。なお、直動レール部材４８ａと直動ブロック部材４８ｂとを入れ替えて配置してもよく、直動ガイド機構は、この形態に限定されるものではない。

押さえ部材４８ｃの上部に押圧軸４８ｃａが設けられ、押圧軸４８ｃａが直動レール部材４８ａの上端部を押圧するように構成されている。また、押さえ部材４８ｃは、第３付勢機構４９の直動レール部材４９ａに取り付けられている。

第２ばね部材４８ｄは、直動レール部材４８ａを上方向に押圧するように配設されている。第２ばね部材４８ｄの下部は、第３付勢機構４９の直動レール部材４９ａの一端側に取り付けられたばね取付部４８ｅに取り付けられ、第２ばね部材４８ｄの上部は、直動レール部材４８ａの下部に取り付けられている。なお、第２ばね部材４８ｄには、例えば、圧縮コイルばねが適用されるが、第２取付部材４５に取り付けられた直動レール部材４８ａを上方に押圧する弾性部材が適用可能である。

第３付勢機構４９は、直動レール部材４９ａと、直動ブロック部材４９ｂと、第３ばね部材４９ｃと、ばね取付部４９ｄと、支持部材４９ｅとを含んで構成されている。直動レール部材４９ａと直動ブロック部材４９ｂとにより、水平方向に摺動可能な直動ガイド機構が構成されている。

ばね取付部４９ｄと支持部材４９ｅとが、取付用部材２１にそれぞれ取り付けられており、支持部材４９ｅの上に直動ブロック部材４９ｂが取り付けられ、直動ブロック部材４９ｂの上に直動レール部材４９ａが摺動可能に取り付けられている。支持部材４９ｅにより伸展部４０が支持されている。なお、直動レール部材４９ａと直動ブロック部材４９ｂとを入れ替えて配置してもよく、直動ガイド機構は、この形態に限定されるものではない。

第３ばね部材４９ｃは、直動レール部材４９ａを第２取付部材４５の方向（図４の右から左方向）に押圧するように配設されている。すなわち、直動レール部材４９ａの他端側に第３ばね部材４９ｃの一端側が取り付けられ、第３ばね部材４９ｃの他端側がばね取付部４９ｄに取り付けられている。なお、第３ばね部材４９ｃには、例えば、圧縮コイルばねが適用されるが、直動レール部材４９ａを第２取付部材４５の方向に押圧する弾性部材が適用可能である。

次に図１、図５～図１０を参照しながら、実施の形態（１）に係る塗布装置１０を用いて、基板２の周縁部へ膜形成液を塗布する方法について説明する。なお、被塗布対象の基板２として、矩形をした厚さ０．４～１．５ｍｍ前後のプリント配線基板を用いた場合について説明するが、被塗布対象の基板の種類やサイズ（大きさ、厚さ）は、これに限定されない。また、実施の形態（１）に係る塗布装置１０を用いた塗布方法は、基板製造工程の一工程として採用され得る。

図５は、塗布ユニット２０で基板２の周縁部に膜形成液を塗布している状態を示す部分省略平面図である。
図６は、図５におけるVI-VI線部分省略断面図であり、塗布ローラ３１で基板２の端面に膜形成液を塗布している状態を示す図である。
図７は、図５におけるVII－VII線部分省略断面図であり、基板２の端面に塗布された膜形成液を伸展部４０の上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３で伸展している状態を示す図である。
図８は、図７におけるVIII－VIII線部分省略断面図であり、第１取付部材４４の底面の一部を示す図である。
図９は、図５におけるIX-IX線部分省略断面図であり、上面伸展部材４１及び下面伸展部材４３の断面を含む図である。

まず、図１に示すように、支持テーブル１１上に支持された基板２のサイズ（縦、横の長さ）データに基づいて、各塗布ユニット２０の位置調整が行われる。すなわち、各塗布ユニット２０を基板２の辺に沿って移動させたときに、塗布ローラ３１の環状溝３１ａが基板２の端面に当接するように、制御部１３が移動ユニット１２（Ｘ軸直動機構１２ａ及びＹ軸直動機構１２ｂ）の動作を制御して、塗布ユニット２０を初期位置に配置する。

各塗布ユニット２０の位置調整後、制御部１３が移動ユニット１２の動作を制御して、各塗布ユニット２０を基板２の各辺に沿って（図１、図５の矢印Ａの方向に）移動させて、基板２の周縁部への膜形成液の塗布を開始する。なお、基板２の角部の形状（Ｒ形状など）を考慮して、基板２の角部では、角部の形状に沿って塗布ローラ３１を移動させるように移動ユニット１２（Ｘ軸直動機構１２ａ及びＹ軸直動機構１２ｂ）の動作を制御してもよい。

また、制御部１３は、移動ユニット１２の動作とともに、塗布部３０の駆動モータ３４の駆動を制御して、塗布ローラ３１を塗布ユニット２０の移動方向に所定の回転速度で回転させるとともに、移送ポンプ６０の駆動を制御して、所定の流量で膜形成液を塗布ローラ３１の液供給部３２に供給する制御を行う。

図５、図６に示すように、塗布ユニット２０を基板２の外周に沿って移動させる制御を行い、塗布部３０の塗布ローラ３１で基板２の少なくとも周縁部端面２ａｂに膜形成液を塗布する（塗布工程）。
すなわち、液供給部３２から塗布ローラ３１の環状溝３１ａに膜形成液を供給しつつ、基板２の周縁部端面２ａｂに塗布ローラ３１の環状溝３１ａを当てながら塗布ローラ３１を回転駆動させて、塗布ユニット２０を基板２の外周に沿って（矢印Ａの方向に）移動させる。

上記塗布工程に続いて、図５、図７に示すように、基板２の周縁部上面２ａａ、周縁部端面２ａｂ、及び周縁部下面２ａｃに、伸展部４０の上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３を押し当てた状態にして、塗布ローラ３１により基板２の周縁部端面２ａｂに塗布された膜形成液を、基板２の周縁部上面２ａａ及び周縁部下面２ａｃに薄膜状に伸展しながら、塗布ユニット２０を基板２の外周に沿って（矢印Ａの方向に）移動させる（伸展工程）。
すなわち、伸展部４０は、上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３で、基板２の周縁部２ａの３面を挟み込んだ状態のまま基板２の外周に沿って移動し、膜形成液を薄膜状に伸展する。

そして、塗布ユニット２０が基板２の一端側から他端側まで移動して、伸展部４０が基板２の他端側の角部を通過すると、基板２の周縁部２ａへの塗布を終了し、その後、移動ユニット１２を制御して、塗布ユニット２０を初期位置まで戻して、基板２への塗布を終える。その後、塗布された基板２が、移送機構（図示しない）により搬出され、次の基板２が支持テーブル１１に搬入されて、塗布ユニット２０による上記塗布工程と伸展工程とが繰り返し行われるようになっている。塗布された基板２は、例えば、乾燥装置（図示せず）などに搬入されるように構成されてもよい。

図１０は、塗布ユニット２０を用いて塗布された基板２の周縁部２ａ付近を示した拡大断面図であり、（ａ）は塗布ローラ３１が通過した後の基板２の断面図であり、（ｂ）は伸展部４０が通過した後の基板２の断面図である。

図１０（ａ）に示すように、塗布ローラ３１で膜形成液３が塗布された後は、基板２の少なくとも周縁部端面２ａｂに膜形成液３が付着した状態であり、この段階では、基板２の周縁部上面２ａａや周縁部下面２ａｃにまで膜形成液３が伸展されていない状態となっている。

図１０（ｂ）に示すように、伸展部４０の上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３で膜形成液３が伸展された後は、基板２の周縁部上面２ａａ、周縁部端面２ａｂ、及び周縁部下面２ａｃに膜形成液３が均一な厚さで薄く塗り拡げられた状態となっている。

基板２の周縁部上面２ａａへの塗布幅（伸展幅）ｗは、上面伸展部材４１の幅を狭くすることにより、０．５ｍｍ～１ｍｍ程度の極めて狭い幅にすることが可能となっている。
また、基板２の周縁部下面２ａｃへの塗布幅（伸展幅）も、下面伸展部材４３の幅を狭くすることにより、０．５ｍｍ～１ｍｍ程度の極めて狭い幅にすることが可能となっている。なお、上面伸展部材４１と下面伸展部材４３とは、常に同じ幅である必要はなく、これらの幅を変えることにより、基板２の種類やその用途などに応じて、基板２の周縁部上面２ａａへの塗布幅と基板２の周縁部下面２ａｃへの塗布幅とを変えることも可能である。

膜形成液３を乾燥した後の膜厚（塗膜の膜厚）は、伸展部４０の構成、具体的には、上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３の溝形状、移動速度、膜形成液３の粘度などを調整することにより、１０μｍ～６０μｍ程度に調整することが可能となっている。

上記実施の形態（１）に係る塗布装置１０によれば、塗布部３０によって基板２の少なくとも周縁部端面に膜形成液が塗布され、塗布された膜形成液が、伸展部４０によって基板２の周縁部上下面を含む周縁部全体に薄膜状に伸展される。伸展部４０が、上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３を備えているので、これら部材により基板２の周縁部の３面を挟み込んだ状態で、基板２の周縁部全体に膜形成液を均一な厚さで薄く伸展させることできる。

また、端面伸展部材４２により基板２の端面位置が規制されるため、上面伸展部材４１及び下面伸展部材４３の幅を変えることにより、基板２の周縁部上面及び周縁部下面への塗布幅（縁幅）を調整することができる。さらに、上面伸展部材４１及び下面伸展部材４３の幅を狭くすることにより、基板２の周縁部上面及び周縁部下面への塗布幅を０．５ｍｍ～１ｍｍ程度の極めて狭い幅にすることができ、また、１ｍｍ以上の幅にすることもできる。
したがって、基板２の端面を含む基板周縁部に塗布する膜形成液の上下面塗布幅を極めて狭く、正確に制御することができ、しかも基板２の周縁部全体に均一な厚さの薄い塗膜を確実に形成することができ、基板の周縁部への様々な形態の塗膜形成ニーズに広く対応することができる。

また、上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３に複数の微小溝４１ａ、４２ａ、４３ａが形成されているので、複数の微小溝４１ａ、４２ａ、４３ａによって、余分な膜形成液を除去しながら、膜形成液を基板２の周縁部全体に薄く均一に伸展させる効果を高めることができ、また、これら微小溝の深さを変えることにより、伸展後の膜形成液の膜厚を微調整することが可能となる。

また、伸展部４０が、第１付勢機構４７、第２付勢機構４８、及び第３付勢機構４９を備えているので、第１付勢機構４７によって、上面伸展部材４１が下面伸展部材４３の方向に付勢され、第２付勢機構４８によって、下面伸展部材４３が上面伸展部材４１の方向に付勢され、第３付勢機構４９によって、端面伸展部材４２が上面伸展部材４１と下面伸展部材４３との間の空間の方向に付勢される。
したがって、上面伸展部材４１を基板２の周縁部上面に、下面伸展部材４３を基板２の周縁部下面に、さらに、端面伸展部材４２を基板２の周縁部端面に押し当てることが可能となり、基板２の周縁部全体に膜形成液を均一な薄膜状に伸展させる効果を高めることができる。

なお、伸展部４０は、第１付勢機構４７と第２付勢機構４８と第３付勢機構４９とを備えていることが好ましいが、別の形態では、第１付勢機構４７と第３付勢機構４９とが装備された構成としてもよい（換言すれば、第２付勢機構４８が、第２ばね部材４８ｄを備えていない固定用部材で構成されてもよい）。または、第２付勢機構４８と第３付勢機構４９とが装備された構成としてもよい（換言すれば、第１付勢機構４７が、第１ばね部材４７ｃを備えていない固定用部材で構成されてもよい）。または、第１付勢機構４７と第２付勢機構４８とが装備された構成としてもよい（第３付勢機構４９が、第３ばね部材４９ｃを備えていない固定用部材で構成されてもよい）。すなわち、第１付勢機構４７、第２付勢機構４８、及び第３付勢機構４９のうちの少なくとも１つが装備された構成としてもよい。

また、伸展部４０では、上面伸展部材４１が第１取付部材４４に取り付けられ、下面伸展部材４３が第２取付部材４５に取り付けられ、端面伸展部材４２が第１取付部材４４に取り付けられ、第１取付部材４４が第２取付部材４５の上に上下方向に移動可能な態様で取り付けられているので、基板２の厚さが異なる場合であっても柔軟に対応することができる。

また、第２取付部材４５が回収路４５ａを備え、下面伸展部材４３が回収路４５ａ内に取り付けられているので、下面伸展部材４３による伸展動作により基板２から取り除かれた膜形成液が、回収路４５ａを伝って液収容部５０に回収される。これにより、基板２から取り除かれた膜形成液で伸展部４０の周囲が汚染されることを防止でき、塗布ユニット２０を清潔な状態に保つことができる。

また、塗布部３０が、環状溝３１ａが形成された塗布ローラ３１と、液吐出部３２ｂ及び当接片３２ｃを備えた液供給部３２と、回収部３３とを備えているので、液供給部３２の液吐出部３２ｂから塗布ローラ３１の環状溝３１ａに膜形成液を直接的に供給することができる。また、当接片３２ｃが塗布ローラ３１の外周面に当接されているので、環状溝３１ａに供給される膜形成液が環状溝３１ａ内に保持される効果を高めることができる。そして、基板２の端面に環状溝３１ａを当てた状態で、塗布ローラ３１を転動させることにより、基板２の少なくとも周縁部端面に膜形成液を確実かつ安定して付着させることができる。さらに、塗布ローラ３１から垂れ落ちてくる膜形成液が回収部３３を伝って液収容部５０に回収されるので、塗布ローラ３１の周囲を汚染することなく膜形成液を回収して、再利用することが可能となる。

塗布ユニット２０が、塗布部３０と、伸展部４０と、液収容部５０と、移送ポンプ６０とを備え、液収容部５０が、塗布部３０、及び伸展部４０から回収される膜形成液が収容されるように構成されているので、膜形成液を再利用する構成をユニット単位で一体化されたコンパクトな構成にすることができ、塗布ユニット２０の移動範囲や配置場所等の装置設計の自由度を高めることができる。

また、塗布装置１０が、支持テーブル１１と、４台の塗布ユニット２０と、４台の移動ユニット１２と、制御部１３とを備え、制御部１３が、各塗布ユニット２０の塗布部３０で基板２の少なくとも周縁部端面に膜形成液を塗布しつつ、伸展部４０の上面伸展部材４１、端面伸展部材４２、及び下面伸展部材４３を基板２の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面に接触させながら、各塗布ユニット２０を基板の辺に沿って移動させるように移動ユニット１２を制御するように構成されている。係る構成より、基板２の全周を塗布する時間が大幅に短縮されることとなり、塗布効率を高めることができる。

上記実施の形態（１）に係る塗布装置１０を用いることにより、基板２の端面からの塵埃等の発生を防止することができる良質な塗膜を得ることができ、基板製品の品質を向上させることができる。さらに、塵埃による製造設備の汚染も防止することができ、不良製品の発生率を大幅に減らすことができる。

図１１は、実施の形態（２）に係る塗布装置の塗布ユニットを示す要部斜視図である。なお、図１～図１０に示した実施の形態（１）に係る塗布装置１０と同一機能を有する構成部品には同一符号を付し、ここではその構成を省略する。
実施の形態（２）に係る塗布装置１０Ａでは、塗布ユニット２０Ａが、塗布部３０と伸展部４０とに加えて、さらに角部伸展部７０を備えている点が、実施の形態（１）に係る塗布装置１０と相違している。
図１２は、塗布ユニット２０Ａの角部伸展部７０が基板２の角部端面２ａｄで膜形成液を伸展している状態を示す部分省略斜視図である。

角部伸展部７０は、基板２の周縁部への塗布時に、基板２の角部端面２ａｄに接触させて、角部端面２ａｄに塗布された膜形成液を伸展するための部材である。
角部伸展部７０は、伸展ローラ７０ａ、伸展ローラ７０ａが取り付けられた直動ブロック部材７０ｂと、直動ブロック部材７０ｂをＹ軸方向にスライド移動させるための直動レール部材７０ｃとを備えている。伸展ローラ７０ａの外周面には、端面伸展部材４２と同様に、複数の微小溝が形成されている。

直動レール部材７０ｃは、伸展部４０の支持部材４９ｅに取り付けられ、直動ブロック部材７０ｂは、伸展部４０の直動ブロック部材４９ｂ（図４参照）に連結され、第３付勢機構４９の第３ばね部材４９ｃ（図４参照）により、伸展ローラ７０ａを基板２の角部端面２ａｄの方向に付勢する押圧力が付与されるように構成されている。なお、直動ブロック部材７０ｂと取付用部材２１との間に第４ばね部材（図示せず）を設けて、伸展ローラ７０ａを基板２の角部端面２ａｄの方向に付勢する押圧力が付与されるように構成してもよい。

実施の形態（２）に係る塗布装置１０Ａによれば、塗布ユニット２０Ａが、塗布部３０、及び伸展部４０に加えて、さらに伸展ローラ７０ａを備えた角部伸展部７０を備えているので、膜形成液の塗布ムラが生じやすい基板２の角部における膜形成液の塗布ムラを少なくすることができる。特に、基板２の角部が丸く加工されている場合であっても、角部分の塗膜が厚くなることを防止でき、基板２の角部における塗膜の膜厚も均一かつ薄くすることができ、塗膜品質をさらに高めることができる。

また、塗布ユニット２０Ａでは、角部伸展部７０が伸展ローラ７０ａを基板２の角部端面の方向に付勢する機構（第４付勢機構）を備えている。係る構成により、伸展ローラ７０ａが基板の角部端面２ａｄに確実に押し当てられることとなり、例えば、複数の塗布ユニット２０により、基板２の角部端面が複数回塗布される場合であっても、基板２の角部端面の膜厚が厚くなることを防止することができる。

なお、実施の形態（１）、（２）に係る塗布装置１０、１０Ａでは、塗布ユニット２０、２０Ａに伸展部４０が１つ設けられていたが、別の実施の形態では、伸展部４０が複数並べて配置された構成としてもよい。係る構成によれば、複数の伸展部４０によって、基板２の周縁部に塗布された膜形成液を複数回伸展することができるため、基板２の周縁部の３面に膜形成液を均一な厚さで薄く伸展させる効果を一層高めることができる。この場合、伸展部４０の上面伸展部材４１、及び下面伸展部材４３に同じ幅（伸展幅）のものが使用されてもよいし、異なる幅のものが使用されてもよい。

さらに伸展部４０は、上記した構成のものに限定されるものではなく、図１３に示すような伸展部４０Ａが塗布ユニット２０Ｂに組付けられてもよい。
図１３は、実施の形態（３）に係る塗布装置を構成する塗布ユニット２０Ｂの伸展部４０Ａを示す要部斜視図である。図１４は、図１３に示す伸展部４０Ａの部分省略正面図であり、図１５は、図１４におけるXV－XV線部分拡大断面図であり、図１６は、図１４におけるXVI－XVI線部分拡大断面図である。

伸展部４０Ａは、第１取付部材４４Ａ、第２取付部材４５Ａ、及び回収部４６Ａを含んで構成されている。
第１取付部材４４Ａの下面には、傾斜案内部４４ｂと、上面掻取部８１と、端面掻取部８２と、上面伸展部材４１Ａとが隣接して併設され、第２取付部材４５Ａから延設された端面伸展部材４２Ａが上面伸展部材４１Ａに接する態様で配設されている。
また、第２取付部材４５Ａの上面には、傾斜案内部４５ｂと、下面掻取部８３と、下面伸展部材４３Ａと、端面伸展部材４２Ａとが隣接して併設され、第１取付部材４４Ａから延設された端面掻取部８２が下面掻取部８３に接する態様で配設されている。
上面掻取部８１、端面掻取部８２、及び下面掻取部８３により、塗布部３０（図２参照）によって塗布された膜形成液の一部を掻き取るための掻取部８０が構成され、掻取部８０は、上面掻取部８１、端面掻取部８２、及び下面掻取部８３により、基板２の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面の３面を囲う形状に形成されている。

第１取付部材４４Ａは、第２取付部材４５Ａの上に上下方向に移動可能な態様で取り付けられており、第１ばね部材４７ｃを含む第１付勢機構４７Ａにより、第２取付部材４５Ａに付勢された状態で組付けられている。

また、第２取付部材４５Ａは、膜形成液を回収するための回収路４５ａ（図１６参照）を備え、下面伸展部材４３Ａが、回収路４５ａ内に取り付けられ、また、端面伸展部材４２Ａが回収路４５ａ内に配置されるように構成されている。

また、第２取付部材４５Ａは、第２ばね部材（図示せず）を含む第２付勢機構４８Ａにより、第１取付部材４４Ａに付勢された状態で組付けられている。
第２取付部材４５Ａに第３付勢機構４９Ａが組付けられており、第３付勢機構４９Ａが取付用部材２１（図２を参照）に取り付けられて、第３付勢機構４９Ａにより第２取付部材４５Ａが基板２の端面方向（Ｙ軸方向）に付勢された状態で組付けられている。

上記実施の形態（３）に係る塗布ユニット２０Ｂによれば、伸展部４０Ａに、付加機能としての掻取部８０と、上面伸展部材４１Ａ、端面伸展部材４２Ａ、及び下面伸展部材４３Ａとがコンパクトに一体化された構成にすることができる。
また、掻取部８０が、塗布部３０と、上面伸展部材４１Ａ、端面伸展部材４２Ａ、及び下面伸展部材４３Ａとの間に配設される構成となっているので、基板２に余分に付着した膜形成液が掻取部８０によって掻き取られた後、上面伸展部材４１Ａ、端面伸展部材４２Ａ、及び下面伸展部材４３Ａにより膜形成液が伸展される。したがって、伸展処理の前に、膜形成液の付着量を一定にすることができ、伸展処理の後の塗膜の品質をより安定させることができる。

また、掻取部８０が、基板２の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面を囲う形状に形成されているので、膜形成液を基板２の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面に沿って掻き取ることができる。したがって、上面伸展部材４１Ａ、端面伸展部材４２Ａ、及び下面伸展部材４３Ａによる伸展処理の前に、基板２の周縁部に膜形成液が均一な厚さで薄く伸展されやすい状態に整えることができる。

上記した実施の形態（１）～（３）に係る塗布装置と、該塗布装置により膜形成液が周縁部に塗布された基板２を乾燥させる乾燥装置（図示せず）とを含んだ塗布システムを構築することもできる。前記乾燥装置は、複数の基板２を収容可能な多段式の収容棚を備えた熱風乾燥装置、ＵＶ光（紫外線）を照射して膜形成液を乾燥させるＵＶ光乾燥装置などで構成できる。さらに、前記乾燥装置は、複数台の乾燥装置を含んで構成してもよく、例えば、熱風乾燥装置とＵＶ光乾燥装置とを組み合わせたシステム構成としてもよい。

実施の形態（１）～（３）に係る塗布装置による膜形成液の塗布の対象となる基板２のサイズは、例えば縦横４００～６００ｍｍ前後である。また、塗布ユニット２０、２０Ａ、２０Ｂで基板２の１辺の周縁部に膜形成液の塗布に要する時間は、例えば１０秒～２０秒程度に設定することが可能である。なお、基板２のサイズは、上記したサイズに限定されるものではなく、さらに大型のものでもよいし、小型のものでもよく、基板２のサイズに適合可能な構成にすることができる。
また、被塗布対象の基板２は、プリント配線基板（片面、両面、多層、ビルドアップ基板を含む）に限定されるものではなく、金属基板、パッケージ基板（銅張積層基板）、セラミック基板、フレキシブル基板、ガラス基板など、各種の電子部品などが搭載される電子回路基板も塗布対象となる。

２ 基板
２ａ 周縁部
２ａａ 周縁部上面
２ａｂ 周縁部端面
２ａｃ 周縁部下面
２ａｄ 角部端面
３ 膜形成液
１０、１０Ａ 塗布装置
１１ 支持テーブル
１２ 移動ユニット
１２ａ Ｘ軸直動機構
１２ａａ Ｘ軸シリンダ
１２ａｂ Ｘ軸スライダ
１２ｂ Ｙ軸直動機構
１２ｃ ケーブルチェーン
１３ 制御部
１４ 操作部
２０、２０Ａ、２０Ｂ 塗布ユニット
２１ 取付用部材
３０ 塗布部
３１ 塗布ローラ
３１ａ 環状溝
３２ 液供給部
３２ａ チューブ取付部
３２ｂ 液吐出部
３２ｂａ 吐出孔
３２ｃ 当接片
３３ 回収部
３３ａ 受け皿部
３３ｂ 管部
３４ 駆動モータ
３４ａ 回転軸
４０、４０Ａ 伸展部
４１、４１Ａ 上面伸展部材
４２、４２Ａ 端面伸展部材
４３、４３Ａ 下面伸展部材
４１ａ、４２ａ、４３ａ 微小溝
４４、４４Ａ 第１取付部材
４４ｂ 傾斜案内部
４５、４５Ａ 第２取付部材
４５ａ 回収路
４５ｂ 傾斜案内部
４６、４６Ａ 回収部
４６ａ 受け皿部
４６ｂ 管部
４７、４７Ａ 第１付勢機構
４７ａ、４７ｂ 軸部材
４７ｃ 第１ばね部材
４８、４８Ａ 第２付勢機構
４８ａ 直動レール部材
４８ｂ 直動ブロック部材
４８ｃ 押さえ部材
４８ｃａ 押圧軸
４８ｄ 第２ばね部材
４８ｅ ばね取付部
４９、４９Ａ 第３付勢機構
４９ａ 直動レール部材
４９ｂ 直動ブロック部材
４９ｃ 第３ばね部材
４９ｄ ばね取付部
４９ｅ 支持部材
５０ 液収容部
５１ 蓋
５１ａ チューブ取付部
５２ 下箱
５３ 箱受台
６０ 移送ポンプ
７０ 角部伸展部
７０ａ 伸展ローラ
７０ｂ 直動ブロック部材
７０ｃ 直動レール部材
８０ 掻取部
８１ 上面掻取部
８２ 端面掻取部
８３ 下面掻取部

Claims (16)

1. 基板と塗布ユニットとを相対移動させつつ、前記基板の周縁部に膜形成液を塗布する塗布装置であって、
   前記塗布ユニットが、
   前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液を塗布する塗布部と、
   該塗布部によって塗布された前記膜形成液を、少なくとも前記周縁部端面に向けて付勢しながら、前記基板の周縁部上下面に幅狭でかつ薄膜状に伸展させる伸展部とを含んで構成され、
   前記伸展部が、
   前記基板の周縁部上面に接触させる円弧状外周面を有する幅０．５～１ｍｍの上面伸展部材と、
   前記基板の周縁部端面に接触させる円弧状外周面を有する端面伸展部材と、
   前記基板の周縁部下面に接触させる円弧状外周面を有する幅０．５～１ｍｍの下面伸展部材とを含んで構成され、
   前記上面伸展部材の円弧状外周面と前記下面伸展部材の円弧状外周面とが互いに押圧するように対向して配置され、
   前記端面伸展部材の円弧状外周面が、前記上面伸展部材と前記下面伸展部材との間に挟み込まれる前記基板の前記周縁部端面に向けて押圧するように配置されていることを特徴とする塗布装置。
2. 前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材が、前記相対移動の方向に沿って形成された複数の微小溝を備えていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
3. 前記伸展部が、
   前記上面伸展部材の円弧状外周面を前記下面伸展部材の方向に付勢する第１付勢機構と、
   前記下面伸展部材の円弧状外周面を前記上面伸展部材の方向に付勢する第２付勢機構と、
   前記端面伸展部材の円弧状外周面を前記上面伸展部材と前記下面伸展部材との間に挟み込まれる前記基板の前記周縁部端面の方向に付勢する第３付勢機構とを備えていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の塗布装置。
4. 前記伸展部が、
   前記上面伸展部材が取り付けられる第１取付部材と、
   前記下面伸展部材が取り付けられる第２取付部材とを含み、
   前記端面伸展部材が前記第１取付部材又は前記第２取付部材に取り付けられ、
   前記第１付勢機構が、前記第１取付部材に形成された挿通孔に挿通されて、前記第２取付部材に取り付けられた軸部材と、該軸部材の上端側に前記第１取付部材を押圧するように取り付けられた第１ばね部材とを備え、
   前記第１取付部材が前記第２取付部材の上に上下方向に移動可能な態様で取り付けられ、
   前記第２付勢機構が、前記第２取付部材に取り付けられた、鉛直方向に摺動可能な直動ガイド機構と、該直動ガイド機構を鉛直方向に押圧するように配設された第２ばね部材とを備え、
   前記第３付勢機構が、前記第２付勢機構に取り付けられた、水平方向に摺動可能な直動ガイド機構と、該直動ガイド機構を水平方向に押圧するように配設された第３ばね部材とを備えていることを特徴とする請求項３記載の塗布装置。
5. 前記第２取付部材が、前記膜形成液を回収するための回収路を備え、
   前記下面伸展部材が、前記回収路内に取り付けられていることを特徴とする請求項４記載の塗布装置。
6. 前記塗布部と、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材との間に、前記塗布部によって塗布された前記膜形成液の一部を掻き取るための掻取部を備えていることを特徴とする請求項１～５のいずれかの項に記載の塗布装置。
7. 前記掻取部が、前記基板の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面を囲う形状に形成されていることを特徴とする請求項６記載の塗布装置。
8. 前記掻取部が、前記上面伸展部材、前記端面伸展部材、及び前記下面伸展部材に隣接配置されていることを特徴とする請求項６又は請求項７記載の塗布装置。
9. 前記塗布ユニットが、前記伸展部を複数備えていることを特徴とする請求項１～８のいずれかの項に記載の塗布装置。
10. 前記塗布部が、
    外周面に環状溝が形成された塗布ローラと、
    該塗布ローラの外周面に近接配設され、前記環状溝に前記膜形成液を供給する液供給部と、
    前記塗布ローラの下方に配設され、該塗布ローラから垂れ落ちてくる前記膜形成液を回収する回収部とを備え、
    前記基板の前記周縁部端面に前記環状溝を当てながら前記塗布ローラを回転可能に構成されていることを特徴とする請求項１～９のいずれかの項に記載の塗布装置。
11. 前記液供給部が、
    前記塗布ローラの前記環状溝との対向面に形成された液吐出部と、
    該液吐出部に隣接配置され、前記塗布ローラの外周面に当接させる当接部材とを備えていることを特徴とする請求項１０記載の塗布装置。
12. 前記基板の角部端面に接触させて、前記伸展部によって伸展された前記膜形成液をさらに伸展させる角部伸展部を備えていることを特徴とする請求項１～１１のいずれかの項に記載の塗布装置。
13. 前記角部伸展部を前記基板の角部端面の方向に付勢する第４付勢機構を備えていることを特徴とする請求項１２記載の塗布装置。
14. 前記基板を支持する支持手段と、
    該支持手段の周囲に前記塗布ユニットが複数配置され、これら各塗布ユニットを前記支持手段で支持された前記基板の辺に沿って移動させる移動手段と、
    該移動手段と前記各塗布ユニットの動作を制御する制御手段とを備え、
    該制御手段が、
    前記各塗布ユニットの前記塗布部で前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液を塗布しつつ、該塗布された前記膜形成液を、前記伸展部で前記基板の周縁部上下面に薄膜状に伸展させながら、前記各塗布ユニットを前記基板の辺に沿って移動させるように前記移動手段を制御するものであることを特徴とする請求項１～１３のいずれかの項に記載の塗布装置。
15. 前記塗布ユニットが、
    前記膜形成液が収容される液収容部と、
    該液収容部から前記塗布部に前記膜形成液を移送する移送手段とを備え、
    前記液収容部が、
    前記塗布部、及び前記伸展部から回収される前記膜形成液が収容されるように構成されていることを特徴とする請求項１～１４のいずれかの項に記載の塗布装置。
16. 基板の周縁部に膜形成液を塗布する塗布方法であって、
    前記基板と塗布ユニットとを相対移動させつつ、前記塗布ユニットに含まれる塗布部で前記基板の少なくとも周縁部端面に前記膜形成液を塗布する塗布工程と、
    該塗布工程によって塗布された前記膜形成液を、前記塗布ユニットに含まれる伸展部で、少なくとも前記周縁部端面に向けて付勢しながら、前記基板の周縁部上下面に幅狭でかつ薄膜状に伸展させる伸展工程とを含み、
    前記塗布工程は、
    前記塗布部を構成する塗布ローラの環状溝に前記膜形成液を供給しつつ、前記基板の周縁部端面に前記塗布ローラの前記環状溝を当てながら前記塗布ローラを回転させて、前記基板の外周に沿って移動させながら塗布する工程を含み、
    前記伸展工程は、
    前記伸展部を構成する円弧状外周面を有する幅０．５～１ｍｍの上面伸展部材と、円弧状外周面を有する端面伸展部材と、前記上面伸展部材の円弧状外周面と互いに押圧するように対向配置された、円弧状外周面を有する幅０．５～１ｍｍの下面伸展部材とで、前記基板の周縁部を挟み込む態様で、前記基板の周縁部上面、周縁部端面、及び周縁部下面の方向に押圧しながら前記膜形成液を薄膜状に伸展させる工程を含んでいることを特徴とする塗布方法。

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