WO2019181916A1 - 塗布装置および塗布システム - Google Patents

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WO2019181916A1
WO2019181916A1 PCT/JP2019/011382 JP2019011382W WO2019181916A1 WO 2019181916 A1 WO2019181916 A1 WO 2019181916A1 JP 2019011382 W JP2019011382 W JP 2019011382W WO 2019181916 A1 WO2019181916 A1 WO 2019181916A1
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WO
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coating
bar
substrate
liquid
plate
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PCT/JP2019/011382
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信幸 曽根
裕介 池山
篤 大島
孝博 坂本
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富士フイルム株式会社
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C1/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
    • B05C1/04—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length
    • B05C1/08—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C1/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
    • B05C1/04—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length
    • B05C1/16—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length only at particular parts of the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/04—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to opposite sides of the work

Definitions

  • the present invention applies various liquid substances to a sheet-like or long-shaped substrate to be coated such as a thin metal plate, paper and film, using a long bar extending in the width direction orthogonal to the running direction.
  • the present invention relates to a coating apparatus and a coating system that simultaneously apply a pattern of at least two kinds of coating liquids in a stripe pattern with one bar.
  • a coating solution is applied to the surface of the substrate to form a coating film.
  • a method for applying a coating solution to the surface of a substrate many coating methods such as a roll coating method, a die coating method, a spray coating method, and a bar coating method are known.
  • a long substrate is also called a web.
  • a long substrate is also simply referred to as a substrate.
  • Patent Document 1 discloses a coating apparatus that applies a coating solution to the upper surface of a substrate.
  • the coating apparatus of Patent Document 1 is provided on the upper surface of a continuously running web via a coating liquid and rotating on the upper surface of the web in the running direction of the web. And a weir plate that circulates in the web direction.
  • A when the distance between the barrier plate and the edge of the bar closest to the barrier plate is A and the distance between the barrier plate and the web is B, A is 0.5 to 5 mm. And B is 0.5 to 5 mm, and B ⁇ A.
  • An object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating system that simultaneously apply a pattern of at least two types of coating liquids in a stripe pattern with a single bar.
  • the present invention provides a width direction orthogonal to the traveling direction that rotates in contact with at least one surface of a long substrate continuously traveling in a specific traveling direction via a coating solution.
  • a coating apparatus having a long elongated bar and a weir plate provided upstream of the bar in the running direction of the substrate and allowing the coating liquid to flow between the bars in the running direction of the substrate,
  • a coating having a main body block that is rotatably supported, a plurality of barrier plates arranged along the longitudinal direction of the bar, and a plurality of supply portions that are provided for each barrier plate and supply a coating liquid to the barrier plates.
  • a device is provided.
  • the distance between the barrier plates in the longitudinal direction of the bar is 3 mm or more. It is preferable that the position of the plurality of barrier plates in the longitudinal direction of the bar can be changed. It is preferable that each of the plurality of barrier plates has a liquid reservoir between each of the bars, and each of the plurality of barrier plates can change the capacity of the liquid reservoir. It is preferable that the plurality of dam plates are movable with respect to the traveling direction of the substrate, and the distance between the bar and the dam plate in the traveling direction can be changed.
  • the cross-sectional area S of the liquid reservoir in the plane constituted by the traveling direction and the height direction orthogonal to the traveling direction is 20 mm 2 or more and 100 mm 2 or less, and the cross-sectional area S of the liquid reservoir is in the plane of the bar Passes through the circumferential surface on the upstream side in the running direction, the line passing through the center of rotation of the bar and passing through the shortest distance between the end face on the upstream side in the running direction of the bar and the barrier plate, and the intersection of the line passing through the shortest distance and the barrier plate And an area of a portion surrounded by a line perpendicular to the surface of the substrate and the substrate.
  • the plurality of dam plates are preferably provided with side plates at both ends in the longitudinal direction of the bar.
  • a side plate is preferably provided at an end portion in the longitudinal direction of the bar of the barrier plate facing between adjacent barrier plates. It is preferable that the main body block or each dam plate has a liquid feeding storage section for storing the coating liquid.
  • the present invention provides a coating system in which the coating apparatus of the present invention is disposed so as to face each other with a substrate interposed therebetween, and a coating solution is applied to both surfaces of the substrate simultaneously in a pattern.
  • the coating device which can carry out pattern coating of the at least 2 sorts of coating liquid simultaneously in stripe form with one bar can be provided. Further, it is possible to provide a coating system capable of coating at least two kinds of coating liquids on both surfaces of the substrate at the same time in a pattern.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing a first example of the coating apparatus according to the embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a schematic side view showing a first example of the coating apparatus according to the embodiment of the present invention.
  • the coating apparatus 10 shown in FIG. 1 applies the coating liquid M to the upper surface 30a or the lateral surface of a long substrate 30 that continuously travels in a specific traveling direction D1, and at least two types of coating are performed with one bar 12.
  • the liquid M can be simultaneously applied in a stripe pattern.
  • the horizontal surface means that when the substrate 30 in the state shown in FIG. 1 is rotated by 90 ° about the traveling direction D1 and in the height direction D3, the upper surface 30a faces sideways.
  • the upper surface 30a at this time is called a horizontal surface.
  • the height direction D3 is a direction perpendicular to the upper surface 30a or the lateral surface of the substrate 30. Further, the orientation of the substrate 30 changes on the lateral surface.
  • the height direction D3 of the lateral surface corresponds to the width direction D2 in the state of the substrate 30 of FIG.
  • the width direction D2 is a direction orthogonal to the traveling direction D1 within the upper surface 30a of the substrate 30.
  • the coating apparatus 10 will be described using an example in which three kinds of coating liquids M are simultaneously applied in a stripe pattern with one bar 12.
  • the coating device 10 includes, for example, one long bar 12 extending in a width direction D2 orthogonal to the traveling direction D1, a main body block 14, three dam plates 16, three supply pipes 20, and three supplies. Part 22. Further, in the coating apparatus 10, the plurality of dam plates 16 each have a liquid reservoir 17 (see FIG. 2) that stores the coating liquid M and a liquid feeding reservoir 24 between the bars 12.
  • the coating device 10 is provided upstream of the running direction D1 of the long substrate 30 with respect to the bar 12, and the weir plate 16 that circulates the coating solution M between the bar 12 and the long substrate 30 is described above.
  • the three barrier plates 16 are arranged with respect to one bar 12 along the longitudinal direction of the bar 12, that is, along the width direction D2, with a gap 27 therebetween.
  • Supply pipes 20 are provided on the three dam plates 16, and a supply unit 22 is connected to each supply pipe 20. If there are a plurality of barrier plates 16, the number of barrier plates 16 is appropriately determined according to the number of patterns to be applied simultaneously, and the number is not particularly limited.
  • the bar 12 is a long member extending in the width direction D2 orthogonal to the traveling direction D1, and has a columnar shape, for example.
  • the bar 12 is rotatably supported by the main body block 14 as will be described later.
  • the longitudinal direction of the bar 12 and the width direction D2 are in a parallel relationship.
  • the bar 12 can contact the upper surface 30a or the lateral surface of the long substrate 30 that continuously travels in the specific traveling direction D1 via the coating liquid M, and rotates at the rotation center Cr.
  • the rotation direction of the bar 12 is not particularly limited, and may be the same direction as the traveling direction D1 of the substrate 30 or the opposite direction.
  • the diameter of the bar 12 is preferably 1 mm to 20 mm, more preferably 6 mm to 13 mm. By setting the diameter of the bar 12 in the above-described range, it is possible to suppress the occurrence of vertical stripes on the coating surface of the coating liquid M.
  • the surface of the bar 12 may be finished smoothly, but grooves may be provided at regular intervals in the circumferential direction, and the wire may be wound tightly.
  • a so-called wire bar may be used.
  • the diameter of the wire wound around the bar is preferably 0.05 to 0.5 mm, and particularly preferably 0.05 to 0.2 mm.
  • the application of the coating liquid M can be thinned by reducing the depth of the groove or by thinning the wire.
  • the coating liquid M can be applied thickly by deepening or thickening the wire.
  • the width of the bar may be the same as the width of the substrate 30, but is preferably longer than the width of the substrate 30. Moreover, when providing a groove
  • the material of the bar is preferably stainless steel, and particularly SUS (SteelStUse Stainless) 304 or SUS (Steel Use Stainless) 316. In addition, SUS430, SUS630, etc. are mentioned.
  • the surface of the bar may be subjected to a surface treatment such as hard chrome plating, diamond-like carbon (DLC), or titanium nitride (TiN).
  • the main body block 14 supports the bar 12 rotatably, and has a structure that supports the bar 12 rotatably.
  • the main body block 14 has an arc-shaped groove formed on the surface in contact with the bar 12.
  • the side that contacts the bar 12 and the side that does not contact the bar 12 do not have to be made of the same material.
  • the bar 12 is made of metal such as stainless steel
  • the side of the main body block 14 that contacts the bar 12 is made of polymer resin
  • the side of the main body block 14 that does not contact the bar 12 is made of metal such as stainless steel. It is preferable that
  • the size of the main body block 14 is appropriately determined according to the size of the bar 12.
  • the thickness of the main body block 14 in the running direction D1 is preferably not less than the radius of the bar 12 and not more than twice the diameter of the bar 12.
  • the height of the main body block 14 in the height direction D3 is preferably 10 to 100 mm.
  • the width of the body block 14 in the width direction D2 is not particularly limited, and may be a single block structure having the same length as the bar 12 or a divided block structure having the same length as the barrier plate 16.
  • pattern coating is possible with any structure. From the viewpoint of suppressing mixing of the coating liquid, the configuration of the main body block 14 is more preferably a divided block structure.
  • the dam plate 16 is disposed on the upper surface 30 a of the substrate 30.
  • the dam plate 16 is provided with a protrusion 16 a on the upper surface 30 a side of the substrate 30.
  • the end surface 16c facing the upper surface 30a of the protruding portion 16a is, for example, a surface parallel to the upper surface 30a of the substrate 30 in a flat state without waviness or the like.
  • the barrier plate 16 is provided with slits 15 between the side surface 16 b and the main body block 14 and between the side surface 16 b and the bar 12.
  • the slit 15 extends in the width direction D ⁇ b> 2, and the coating liquid M is sent to the slit 15.
  • the end surface 16c of the weir plate 16 is a surface parallel to the upper surface 30a as described above, but is not limited to this and may be a slope.
  • a liquid feeding storage section 24 is provided at the boundary between the main body block 14 and the barrier plate 16.
  • the liquid feeding storage unit 24 communicates with the slit 15.
  • the liquid feeding storage unit 24 may be provided in the main body block 14 or each dam plate 16, or may be provided across the main body block 14 and each dam plate 16.
  • the liquid feeding storage part 24 is provided over the whole area in the width direction D2 of the main body block 14 and each barrier plate 16, for example.
  • An air retention portion (not shown) in which air has accumulated in the portion 25 or the like is generated. Bubbles brought in from the liquid feeding system or the like accumulate in this air retention part (not shown), and the effect of suppressing the bubble repellency is small, which may eventually cause a bubble repellency failure.
  • the supply pipe 20 is provided on each barrier plate 16 as described above. In one dam plate 16, the supply pipe 20 passes through the dam plate 16 and reaches the liquid feeding storage unit 24.
  • one supply unit 22 is connected to one supply pipe 20.
  • the supply part 22 is provided in each dam plate 16 as described above, and feeds the coating liquid M to the bar 12 for each dam plate 16.
  • the supply unit 22 has a tank (not shown) for storing the coating liquid M, a pump (not shown) for feeding the coating liquid M, and a valve (not shown) for adjusting the liquid feeding amount of the coating liquid M. And a control unit (not shown) for adjusting the opening / closing amount of the valve and the like.
  • a known liquid supply device that can supply a predetermined amount of liquid can be used as appropriate.
  • the supply amount of the coating liquid M can be adjusted in units of the barrier plate 16, and the loss of the coating liquid M can be reduced. Thereby, productivity can be made high.
  • the coating liquid M can be changed for each barrier plate 16, thereby changing the composition and the like of the coating films 32a to 32c.
  • the coating apparatus 10 of FIG. 1 is configured to have three barrier plates 16, the coating liquid M of each barrier plate 16 may be the same or different.
  • the coating films 32a, 32b, and 32c to be formed may have a configuration in which the coating film 32a and the coating film 32c are the same, but the coating film 32b is different.
  • the total thickness of the weir plate 16 excluding the protrusions is preferably in the range of 5 to 50 mm. In addition, the whole thickness is the length of the running direction D1.
  • the length of the weir plate 16 in the height direction D3 is preferably 10 to 100 mm.
  • the width of the weir plate 16 is not particularly limited, and application can be performed with a width equivalent to the width of the weir plate 16. For this reason, the width of the barrier plate 16 is appropriately determined according to the width of the coating film. Further, when the main body block 14 has a block structure divided as described above, the width of the barrier plate 16 may be the same as that of the main body block 14.
  • the interval ⁇ of the gap 27 of the weir plate 16 in the width direction D2 is preferably 3 mm or more, and more preferably 5 mm or more. When the interval ⁇ is narrow, the coating liquid M on the adjacent weir plate 16 may be mixed.
  • the upper limit of the gap ⁇ of the gap 27 is not particularly limited, and is appropriately set according to the width of the substrate, the number of coating films, the arrangement of the coating films, and the like.
  • the material for the weir plate 16 is not particularly limited, and is, for example, metal or resin.
  • the metal include stainless steel, and SUS (Steel Use Stainless) 304 or SUS (Steel Use Stainless) 316 is particularly preferable.
  • the barrier plate may be one obtained by treating a metal with hard chrome plating or diamond-like carbon.
  • the weir plate 16 provided on the upstream side of the bar 12, that is, on the entry side of the substrate 30 to the bar 12, can increase the internal pressure of the coating liquid M. For this reason, the repelling by air accompanying can be suppressed.
  • the repelling with air will be described in detail later.
  • repelling with air is also simply referred to as air repelling.
  • the cross-sectional area S of the liquid reservoir 17 in the plane PL constituted by the traveling direction D1 and the height direction D3 is preferably 20 mm 2 or more and 100 mm 2 or less, more preferably 30 mm 2 or more and 50 mm or less. 2 or less.
  • the cross-sectional area S of the liquid reservoir 17 is a line passing through the shortest distance between the circumferential surface on the upstream side in the running direction of the bar, the end surface on the upstream side in the running direction of the bar and the weir plate through the rotation center of the bar, This is the area of the portion surrounded by the substrate passing through the intersection of the line passing through the shortest distance and the weir plate and perpendicular to the surface of the substrate, and is the area of the region S shown in FIG.
  • the coating liquid M is scraped up by the rotation of the bar 12, but if the cross-sectional area S of the liquid reservoir 17 is less than 20 mm 2 , the scraping amount of the coating liquid M> the supply amount of the coating liquid M and the liquid breakage failure ( (Failure due to thin coating caused by insufficient supply of liquid) occurs. Further, when the cross-sectional area S of the liquid reservoir 17 exceeds 100 mm 2 , the internal pressure of the coating liquid becomes small, the liquid pressure is lost to the air pressure accompanying the substrate 30, and a repelling failure (accompanied by the web). Failure due to light coating caused by air generated).
  • the plurality of barrier plates 16 can change the capacity of the liquid reservoir 17. That is, it is preferable that the cross-sectional area S of the liquid reservoir 17 can be changed.
  • Each of the plurality of barrier plates 16 is movable with respect to the traveling direction D1 of the substrate 30, and the distance in the traveling direction D1 between the bar 12 and the barrier plate 16 can be changed.
  • the dam plate 16 and the main body block 14 are fixed with bolts (not shown), and the bolts are tightened or loosened to increase the distance in the traveling direction D1 between the bar 12 and the dam plate 16. Change the configuration.
  • the distance B which is the shortest distance between the upstream end surface 12a of the bar 12 in the traveling direction D1 and the barrier plate 16, is preferably 0.05 mm or more and 2 mm or less.
  • the distance B between the upstream end surface 12a of the running direction D1 of the bar 12 and the barrier plate 16 is less than 0.05 mm, the coating liquid M is uniformly distributed in the width direction D2 from the slit 15 between the bar 12 and the barrier plate 16. Not supplied.
  • the distance B with the barrier plate 16 exceeds 2 mm or less, it becomes difficult to increase the internal pressure of the coating liquid M, and air-accompanying repelling is likely to occur.
  • the distance B between the end face 12a on the upstream side in the traveling direction D1 of the bar 12 and the barrier plate 16 is not less than 0.1 mm and not more than 1 mm.
  • the distance A between the barrier plate 16 and the long substrate 30 is preferably 0.2 mm or more and 2 mm or less. If the distance A between the weir plate 16 and the long substrate 30 is less than 0.2 mm, the coating liquid M that flows upstream in the traveling direction D1 disappears, and the coating liquid M easily breaks. On the other hand, if the distance A between the weir plate 16 and the long substrate 30 exceeds 2 mm, it becomes difficult to increase the internal pressure of the coating liquid M, and air entrainment repelling is likely to occur. More preferably, the distance A between the barrier plate 16 and the long substrate 30 is not less than 0.4 mm and not more than 1 mm.
  • the distance A between the barrier plate 16 and the long substrate 30 is the length between the lowermost portion of the barrier plate 16 and the uppermost portion of the substrate 30, and is the shortest distance between the barrier plate 16 and the substrate 30. It is distance. In the configuration of FIG. 2, this is the shortest distance between the end surface 16 c of the barrier plate 16 and the upper surface 30 a of the substrate 30.
  • the coating liquid M is supplied from the supply unit 22 to the dam plate 16 through the supply pipe 20, and the slit 15 is filled with the coating liquid M through the liquid feeding storage unit 24. Then, the bar 12 is rotated. The substrate 30 is continuously run in the running direction D1 at a specific running speed, the bar 12 is brought into contact with the upper surface 30a of the continuously running substrate 30 via the coating liquid M for each barrier plate 16, and the upper surface 30a of the substrate 30 is contacted.
  • the coating liquid M corresponding to each barrier plate 16 is applied, and three kinds of coating liquids M are simultaneously applied in a stripe pattern with one bar 12. Moreover, each pattern can be applied without being mixed.
  • the three coating films 32a, 32b, and 32c that are different in the width direction D2 can be simultaneously formed in a stripe pattern with the gap 33 with the single bar 12 in the width direction D2.
  • the coating films 32a, 32b, and 32c can be formed without mixing the coating liquid with each other.
  • the application method of the application apparatus 10 has been described as applying to the upper surface 30a of the substrate 30, it can also be applied to the lateral surface of the substrate 30 as described above. It can apply
  • three coating liquids M are simultaneously applied in a stripe pattern by one bar 12, and three coating films 32 a, 32 b, 32 c arranged in the width direction D ⁇ b> 2 of the substrate 30 are formed in a stripe pattern. be able to.
  • substrate 30 is producible.
  • the sample bonding step is not necessary, and the manufacturing cost of a product in which samples having different functions are arranged in the width direction D2 can be reduced.
  • the substrate outside the product width. 30 can be collected, and waste of the substrate 30 outside the product width can be suppressed. Thereby, the fall of a yield can be suppressed and productivity can be improved.
  • the weir plate 16 of the coating apparatus 10 increases the internal pressure of the coating liquid M, the entry of air from the upstream side is suppressed, and air entrainment repelling is suppressed.
  • the liquid supply storage part 24 is provided, generation
  • FIG. occurrence of liquid breakage can be suppressed.
  • FIG. 3 is a schematic perspective view showing a second example of the coating apparatus according to the embodiment of the present invention.
  • the same components as those in the coating apparatus 10 shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
  • the coating apparatus 11 shown in FIG. 3 is different from the coating apparatus 10 shown in FIG. 1 in that the interval ⁇ of the barrier plate 16 is different, and the barrier plate 16 is movable in the longitudinal direction of the bar 12, that is, in the width direction D2. Since the other configuration is the same as that of the coating apparatus 10 shown in FIG. 1, detailed description thereof is omitted.
  • the coating apparatus 11 shown in FIG. 3 can obtain the effect of the coating apparatus 10 shown in FIG.
  • the some dam plate 16 can each change the position in the longitudinal method of the bar
  • burr 12 ie, the position in the width direction D2.
  • the formation position of the coating films 32a, 32b, and 32c in the width direction D2 of the substrate 30 can be changed, and the gap 33 between the coating films 32a and 32b and the gap 33 between the coating films 32b and 32c.
  • the position in the width direction of the stripe pattern formed by the three coating films 32a, 32b, and 32c can be changed.
  • the width of the substrate 30 can be accommodated by changing the position of the barrier plate 16 in the width direction D2.
  • the gap 27 between the dam plates 16 on both sides and the central dam plate 16 is narrowed.
  • the width of the substrate 30 is increased, the gap 27 between the barrier plates 16 on both sides and the central barrier plate 16 is increased.
  • the dam plate 16 in the width direction D2 is changed, for example, when the main body block 14 has a divided block structure, the dam plate 16 moves in the width direction D2 together with the main body block 14. Further, when the main body block 14 has a single block structure, only the barrier plate 16 moves in the width direction D2.
  • a long hole (not shown) extending in the width direction D2 is provided in the dam plate 16 so as to be movable in the width direction D2.
  • the barrier plate 16 is fixed using, for example, a bolt (not shown).
  • FIG. 4 is a schematic perspective view showing a third example of the coating apparatus according to the embodiment of the present invention
  • FIG. 5 is a schematic side view showing a third example of the coating apparatus according to the embodiment of the present invention.
  • symbol is attached
  • the coating apparatus 11a shown in FIG. 4 is different from the coating apparatus 10 shown in FIG. 1 in that the interval ⁇ of the weir plate 16 is different and that the side plate 26 is provided.
  • Other configurations are the same as those shown in FIG. Since it is the same as the apparatus 10, the detailed description is abbreviate
  • the coating apparatus 11a shown in FIGS. 4 and 5 can obtain the effects of the coating apparatus 10 shown in FIG.
  • the plurality of barrier plates 16 are provided with side plates 26 at both ends in the longitudinal direction of the bar 12, respectively. That is, each of the plurality of barrier plates 16 is provided with the side plates 26 at the end portions 25 on both sides in the width direction D2 of the bar 12.
  • the side plate 26 shown in FIG. 5 covers the end 25 so that the coating liquid M does not flow from the end 25, and its shape is not particularly limited to the shape shown in FIG.
  • the side plate 26 is configured not to contact the substrate 30, and the upper side 26 a of the side plate 26 on the upper surface 30 a side of the substrate 30 faces the end surface 16 c from the position where the bar 12 and the substrate 30 are closest to each other. It inclines so that the distance with 30a may increase.
  • the utilization efficiency of the coating liquid M can be increased.
  • the side plate 26 is not provided, the coating liquid M flows to the end portion 25, and the coating liquid M is likely to run out. For this reason, the liquid feeding amount of the coating liquid M for uniformly coating increases.
  • the material of the side plate 26 is not particularly limited, and a material corresponding to the coating liquid M is appropriately selected.
  • the side plate 26 is made of, for example, a metal such as SUS (Steel Use Stainless) or a resin.
  • the side plates 26 are not limited to being provided at the end portions 25 in the width direction of all the barrier plates 16. Since the coating liquid M does not mix with the coating liquid M of the adjacent barrier plate 16 at the end 25 outside the width direction D2 of the barrier plates 16 on both sides, the adjacent one of the plurality of barrier plates 16 is adjacent.
  • the side plate 26 should just be provided in the edge part 25 of the longitudinal direction of the bar 12 of the barrier plate 16 facing between the barrier plates 16 to be performed. That is, the side plate 26 may be provided only at the end portion 25 in the gap 27 of the barrier plate 16.
  • the coating device 11a may have a configuration in which the barrier plate 16 is movable in the width direction D2, similarly to the coating device 11 shown in FIG.
  • FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a first example of the coating system according to the embodiment of the present invention
  • FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a second example of the coating system according to the embodiment of the present invention.
  • the same components as those of the coating apparatus 10 shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
  • the coating system 40 is configured such that the above-described coating apparatus 10 is disposed so as to face each other with the substrate 30 interposed therebetween, and the coating liquid is applied to both surfaces of the substrate 30 simultaneously in a pattern.
  • the rotation center Cr of the coating device 10 is arranged by shifting the position in the traveling direction D1.
  • a plurality of coating liquids can be simultaneously applied in a stripe pattern on both surfaces of the substrate 30.
  • the coating system 40 has one drying unit 42.
  • the structure of the drying part 42 is not specifically limited, For example, it dries with warm air.
  • the drying unit 42 dries the coating liquid applied in a stripe pattern on both surfaces of the substrate 30 to form a plurality of coating films.
  • the simultaneous application system 40 means that the time is not the same, but a single process.
  • a plurality of coating liquids are simultaneously applied in a stripe pattern on both surfaces of one substrate 30 and dried in one drying unit 42, and a plurality of stripe coatings are applied on both surfaces of one substrate 30.
  • a film can be formed.
  • simultaneous application to the upper surface and the lower surface of the web is impossible, so when providing a drying section, it is necessary to provide two drying sections, which requires a lot of capital investment. This is necessary and causes an increase in the size of the equipment.
  • only one drying unit 42 is required, and a large amount of capital investment such as a drying facility is unnecessary, the facility can be constructed at a low cost, and an increase in the size of the facility can be suppressed.
  • the arrangement of the coating apparatus 10 of the coating system 40 is not limited to the arrangement shown in FIG. 6 and may be the arrangement shown in FIG.
  • the coating system 40 shown in FIG. 7 has a configuration in which the coating device 10 of the coating system 40 shown in FIG. 6 is rotated in the height direction D3 so that the upper surface 30a of the substrate 30 faces sideways.
  • the coating system 40 is not limited to the above-mentioned coating apparatus 10, The above-mentioned coating apparatus 11 and the coating apparatus 11a can also be used.
  • substrate examples include glass materials, metal materials, alloy materials, paper, plastic films, resin-coated paper, synthetic paper, and cloth.
  • plastic film materials include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, vinyl polymers such as polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, and polystyrene, polyamides such as 6,6-nylon and 6-nylon, polyethylene terephthalate, and polyethylene-2. , 6-Naphthalate and other polyesters, polycarbonate, cellulose triacetate, cellulose diacetate and other cellulose acetates.
  • resin used for resin coated paper polyolefin including polyethylene can be illustrated as a representative example.
  • the thickness of the substrate is not particularly limited, but a substrate having a thickness of 0.01 to 1.5 mm is preferably used from the viewpoint of handling and versatility.
  • the substrate comes into contact with the bar through the coating liquid in a state where tension is applied.
  • the angle formed between the substrate and the horizontal plane is preferably 0 ° to 10 °, more preferably 0 ° to 5 °, both upstream and downstream of the bar. By making the angle of the substrate within the above range, the coated surface can be made uniform and the wear of the bar can be suppressed.
  • the form of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a sheet form and a continuous band form. A continuous belt-like substrate, that is, a long substrate is called a web.
  • the coating liquid refers to various liquid substances.
  • the solvent is, for example, water or an organic solvent.
  • the organic solvent include methyl ethyl ketone (MEK), methyl propylene glycol (MFG), and methanol.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • MFG methyl propylene glycol
  • the binder includes a polymer or monomer such as polyurethane, polyester, polyolefin, acrylic, polyvinyl alcohol (PVA), or the like.
  • the coating liquid may contain, for example, silicon oxide particles and titanium oxide particles as a solid content.
  • the viscosity of the coating solution is 7 ⁇ 10 ⁇ 4 to 0.4 Pa ⁇ s (0.7 to 400 cP (centipoise)), and the coating amount is 0.1 to 200 ml (milliliter) / m 2 (1 to 200 cc / m 2 ).
  • the coating speed can be applied at 1 to 400 m / min.
  • the viscosity is 1 ⁇ 10 ⁇ 3 to 0.1 Pa ⁇ s (1 to 100 cP)
  • the coating amount is 1 to 100 ml / m 2 (1 to 100 cc / m 2 )
  • the coating speed is 1 to 200 m. / Min.
  • examples of the coating solution include solutions used for coating a substrate and drying it to form a film.
  • the intermediate layer forming solution that improves the adhesion of the plate making layer by forming an intermediate layer on the surface of the substrate, the plate making surface of the lithographic printing plate substrate is protected from oxidation.
  • a magnetic layer forming solution used for forming a magnetic layer of a floppy disk and various paints used for metal coating.
  • the coating apparatus and the coating method can be applied to all fields in which a product is manufactured by applying a liquid film to a metal, paper, cloth, film, or the like using a bar, and the application is not particularly limited.
  • Applications of the coating apparatus and coating method include, for example, the production of photosensitive materials such as photographic films, the production of magnetic recording materials such as recording tape, and the production of coated metal thin plates such as colored iron plates. Can be used in cases.
  • a lithographic printing original plate substrate having a photosensitive or heat-sensitive plate-making surface formed on the surface of the support substrate that is conspicuous, a photographic film base material Barite paper for photographic paper, base material for recording tape, base material for video tape, base material for floppy (registered trademark) disk, etc., made of metal, plastic, paper, etc.
  • the base material which has is mentioned.
  • examples of the coating solution include solutions used to form a film by applying to a substrate and drying. Specifically, a photosensitive layer forming solution and a thermosensitive layer forming solution are used.
  • aqueous solution of polyvinyl alcohol for protecting the plate making surface of the lithographic printing plate substrate from oxidation
  • a photosensitive layer in a photographic film Used for forming the magnetic layer of photographic film colloid solution used for photographic film, colloid solution for photographic paper used for forming photographic paper photosensitive layer, recording tape, video tape, floppy disk. Magnetic layer forming liquid, and various paints used for metal coating.
  • the coating apparatus and the coating method it is possible to efficiently form the coating surface on both surfaces of the substrate.
  • a lower surface coating apparatus is often used. In this case, after the first lower surface coating step is provided, the transport direction is changed by the substrate transport roll, and the first coating is performed again. It was necessary to provide two lower surface coating steps. For this reason, the conveyance distance until the coating surface is formed on both sides becomes long, and a coating space for the coating solution is widely required.
  • a coating apparatus and a coating method it has become possible to form a uniform coating film even in top surface coating.
  • coating using the above-mentioned coating device can be performed simultaneously, and an application space can be saved. Thereby, the film forming process can be simplified, and the manufacturing cost can be suppressed.
  • the present invention is basically configured as described above. Although the coating apparatus and the coating system of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements or modifications may be made without departing from the gist of the present invention. Of course.
  • the coating solution was applied to the substrate using the coating apparatus of Examples 1 to 13 and Comparative Example 1, and the pattern coating property, mixing of the solution, running out of liquid, and repellency were evaluated.
  • the coating device had a bar diameter of 10 mm and a width of 800 mm.
  • the bar rotation speed was set to 1500 rotations / minute (rpm).
  • the application was performed so that the primary side substrate entrance angle was 3 ° and the film thickness of the stationary part was 5 ⁇ m.
  • the primary substrate entrance angle is an angle at which the substrate enters from the upstream side of the bar.
  • the running speed of the substrate was 120 m / min.
  • As the substrate a polyethylene terephthalate (PET) film having a width of 700 mm was used.
  • PET polyethylene terephthalate
  • As the coating solution a solution prepared by dissolving a polyester resin, a crosslinking agent, and a surfactant in water was used.
  • the coating liquid adjusted the amount of composition so that a viscosity might be set to 2 mPa * s.
  • the surface tension of the coating solution was 40 mN / m.
  • Pattern applicability The pattern coatability was evaluated by visually observing the coating film and using the following pattern coatability evaluation criteria. The results are shown in Table 1 below. Pattern application evaluation criteria A: Pattern application is possible B: Pattern application is not possible
  • Example 1 “-” in the column of coating condition indicates that there is no corresponding item.
  • Example 1 the number of barrier plates was set to 2 in the configuration of the coating apparatus shown in FIGS. 1 and 2.
  • the width of the first dam plate was 100 mm
  • the width of the second dam plate was 300 mm
  • the distance ⁇ between the first dam plate and the second dam plate was 1 mm.
  • the liquid feeding amount of the first dam plate was 100 cc / min
  • the liquid feeding amount of the second dam plate was 300 cc / min.
  • the cross-sectional area S of the liquid reservoir was 10 mm 2 .
  • the side plate is not provided.
  • Example 2 is the configuration of the coating apparatus shown in FIGS. 1 and 2, and the number of barrier plates is three.
  • the width of the first dam plate was 100 mm
  • the width of the second dam plate was 300 mm
  • the width of the third dam plate was 100 mm
  • the distance ⁇ between the dam plates was 1 mm.
  • the first dam plate feed rate was 100 cc / min
  • the second dam plate feed rate was 300 cc / min
  • the third dam plate feed rate was 100 cc / min.
  • the cross-sectional area S of the liquid reservoir was 10 mm 2 .
  • the side plate is not provided.
  • Example 3 was the same as Example 2 except that the cross-sectional area S of the liquid reservoir was 120 mm 2 compared to Example 2.
  • Example 4 Example 4 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 100 mm 2 were the same as in Example 2.
  • Example 5 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir has a except a 20 mm 2 same as Example 2.
  • Example 6 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 30 mm 2 were the same as in Example 2.
  • Example 7 is different from the second embodiment, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 50 mm 2 were the same as in Example 2.
  • Example 8 is different from the embodiment 2, a point spacing of the sheathing board ⁇ is 3 mm, and the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 50 mm 2 were the same as in Example 2.
  • Example 9 Example 9 is the same as Example 2 except that the distance ⁇ between the weir plates is 3 mm, the cross-sectional area S of the liquid reservoir is 50 mm 2 , and has side plates as compared to Example 2. It was. (Example 10)
  • Example 10 is different from the embodiment 2, a point spacing of the sheathing board ⁇ is 5 mm, and the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion except a 50 mm 2 were the same as in Example 2.
  • Example 11 is the same as Example 2 except that the distance ⁇ between the weir plates is 5 mm, the cross-sectional area S of the liquid reservoir is 50 mm 2 , and the side plate is provided as compared with Example 2. It was.
  • Example 12 Example 12 is different from Example 2 in that the distance ⁇ between the weir plates is 5 mm, the amount of liquid feeding is different, the cross-sectional area S of the liquid reservoir is 50 mm 2 , and the side plate is provided. The other conditions were the same as in Example 2.
  • the first dam plate feed rate was 70 cc / min
  • the second dam plate feed rate was 220 cc / min
  • the third dam plate feed rate was 70 cc / min.
  • Example 13 was the same as Example 12 except that there was no side plate compared to Example 12.
  • Comparative Example 1 is a configuration in which the number of barrier plates is one in the configuration of the coating apparatus shown in FIGS. 1 and 2 and corresponds only to the second barrier plate of Example 1.
  • the liquid feeding amount was 300 cc / min, and the cross-sectional area S of the liquid reservoir was 10 mm 2 .
  • Comparative Example 1 since only one coating film is formed, no liquid mixing occurs. For this reason, “-” is written in the column of the evaluation result of the mixture of liquids.
  • Example 1 As shown in Table 1, in Examples 1 to 13, two or more coating solutions could be simultaneously applied in a stripe pattern. In Comparative Example 1, there was one barrier plate, and two or more coating solutions could not be applied in a stripe pattern at the same time.
  • Example 1 and Example 2 the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion was small, and liquid breakage occurred. In Example 1 and Example 2, the interval ⁇ of the weir plates was narrow, and liquid mixing occurred. In Example 3, the cross-sectional area S of the liquid reservoir portion was too large, and repelling occurred, and the interval ⁇ of the weir plates was narrow and liquid mixing occurred.
  • Example 4 the cross-sectional area S of the liquid reservoir was the upper limit of the preferable range, repellency was slightly generated, and the interval ⁇ of the weir plates was narrow and liquid was mixed.
  • Example 5 the cross-sectional area S of the liquid reservoir is the lower limit of the preferable range, the liquid breakage occurred slightly, and the interval ⁇ of the weir plates was narrow and liquid mixing occurred.
  • Example 6 and Example 7 the cross-sectional area S of the liquid reservoir was in a preferable range, and good results were obtained with respect to liquid breakage and repellency. Moreover, in Example 6 and Example 7, the interval ⁇ of the weir plates was narrow, and liquid mixing occurred.
  • Example 8 the distance ⁇ of the weir plates was the lower limit of the preferable range, and better results than in Example 7 could be obtained with respect to liquid mixing.
  • Example 9 the interval ⁇ of the weir plates is the lower limit of the preferable range, and the side plates are provided, and a better result than in Example 8 was obtained with respect to the mixing of the liquid.
  • Example 10 the interval ⁇ of the weir plates was in a preferable range, and a better result was obtained with respect to the mixing of the liquids.
  • Example 11 the interval ⁇ of the weir plates is in a preferable range and the side plates are provided, and even better results were obtained regarding the mixing of the liquids.
  • Example 12 the interval ⁇ of the weir plates is in a preferable range, and the side plates are provided, and good results can be obtained with respect to mixing of liquid, running out of liquid, and repellency even if the amount of liquid feeding is reduced. I was able to. Thereby, the loss of a coating liquid can be made small.
  • Example 13 the interval ⁇ of the weir plates is in a preferable range, and when the amount of liquid feeding is reduced, there is no side plate, so that a satisfactory result could not be obtained for the liquid breakage.
  • the coating system of Example 9 was comprised and it apply

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

１つのバーで少なくとも２種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムを提供する。塗布装置は特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、バーに対して基板の走行方向の上流に設けられ、塗布液をバーとの間を通して、基板の走行方向へ流通させる堰板とを有する。塗布装置はバーを回転可能に支持する本体ブロックと、バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、堰板毎に設けられ、堰板に塗布液を供給する複数の供給部とを有する。塗布システムは塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する。

Description

塗布装置および塗布システム
　本発明は、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーを用いて、薄い金属板、紙およびフイルム等のシート状または長尺状の被塗工基材に、各種の液状物質を塗布する塗布装置および塗布システムに関し、特に、１つのバーで少なくとも２種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムに関する。
　従来、長尺な基板の表面に、例えば、易接着層または帯電防止層といった機能性層を形成させる場合、塗布液を基板の表面に塗布し、塗布膜を形成することが行われている。基板の表面に塗布液を塗布する方法としては、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、およびバーコート法等の多数の塗布方法が知られている。長尺な基板のことをウエブともいう。また、長尺な基板のことを、単に基板ともいう。
　塗布液を基板に塗布する塗布装置は、種々提案されている。例えば、塗布液を基板の上面に塗布する塗布装置が特許文献１に記載されている。特許文献１の塗布装置は、連続走行するウエブ上面に塗布液を介して接触して回転するバーと、バーに対してウエブの走行方向の上流側に設けられていて、塗布液をバーとの間を通して、ウエブ方向へ流通させる堰板とを有する。特許文献１の塗布装置では、堰板と堰板に最も近接するバーの端縁部間の距離をＡとし、堰板とウエブ間の距離をＢとしたときに、Ａは０．５～５ｍｍであり、Ｂは０．５～５ｍｍであり、Ｂ≦Ａである。
特開２０１５－７７５８９号公報 特開２００２－１５９８９９号公報
　上述の特許文献１の塗布装置では、基板の上面に、１種類の塗布液しか塗布できない。このため、塗布液交換時に品種切り替えによる製造ロスが発生する。
　また、１種類の塗布液しか塗布できないため、塗布液を塗布して切り出したサンプルは１種類の機能しかなく、幅方向に機能違いのサンプルを並べて製品を作製する場合、サンプルの貼合工程が必要となる。このため、製造原価が高くなる。
　さらに、ウエブが樹脂であると、ウエブの進行方向に対して直交方向（以下、幅方向）へ引き延ばす延伸工程が設けられている場合がある。この場合、ウエブ厚みを幅方向に均一にするには、延伸前に幅方向に均一な塗布液を塗布する必要がある。このため、製品幅以上に、塗布液を広く塗布する必要があり、最終的に製品幅外へも機能性を持たせる塗布液を塗布することがある。しかし、製品幅外のウエブは廃却することがあり、製品幅外への塗布液が無駄になることと、塗布液混入により製品幅外のウエブを再利用できないことがある。このため、得率が低下する。
　上述のことから、２種類以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することも要求されているが、特許文献１の塗布装置では対応できない。
　そこで、２種類以上の機能を塗布できる装置として、特許文献２のようにリバース塗布方式のものがある。しかしながら、リバース塗布方式はウエブ背面へバックアップロール（以下、ロール）を設けて、ウエブの変位変動を防止しなければならないことから、構成上、ウエブ背面にロールが必要であり、１つの塗布部でウエブの上面と下面への同時塗布が不可能である。そのため、乾燥設備等、多くの設備投資が必要となったり、設備が大型化したりするという問題がある。
　このように、２種類以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置として、十分なものがないのが現状である。
　本発明の目的は、１つのバーで少なくとも２種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布する塗布装置および塗布システムを提供することにある。
　上述の目的を達成するために、本発明は、特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、バーに対して基板の走行方向の上流に設けられ、塗布液をバーとの間を通して、基板の走行方向へ流通させる堰板とを有する塗布装置であって、バーを回転可能に支持する本体ブロックと、バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、堰板毎に設けられ、堰板に塗布液を供給する複数の供給部とを有する、塗布装置を提供するものである。
　バーの長手方向における堰板の間隔が３ｍｍ以上であることが好ましい。
　複数の堰板は、それぞれバーの長手方向における位置を変えることができることが好ましい。
　複数の堰板は、それぞれバーとの間に液溜り部を有し、複数の堰板は、それぞれ液溜り部の容量を変えることができることが好ましい。
　複数の堰板は、それぞれ基板の走行方向に対して移動可能であり、バーと堰板との走行方向の距離を変えることができることが好ましい。
　走行方向と走行方向に直交する高さ方向とで構成される平面における、液溜り部の断面積Ｓが２０ｍｍ２以上１００ｍｍ２以下であり、液溜り部の断面積Ｓは、平面における、バーの走行方向の上流側の周面と、バーの回転中心を通りバーの走行方向の上流側の端面と堰板との最短距離を通る線と、最短距離を通る線と堰板との交点を通り、かつ基板の面に垂直な線と、基板とで囲まれた部分の面積であることが好ましい。
　複数の堰板は、それぞれバーの長手方向の両端部に側板が設けられていることが好ましい。
　複数の堰板のうち、隣接する堰板の間に面する、堰板のバーの長手方向の端部に側板が設けられていることが好ましい。
　塗布液を貯留する送液貯留部を、本体ブロック、または各堰板に有することが好ましい。
　また、本発明の塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する塗布システムを提供するものである。
　本発明によれば、１つのバーで少なくとも２種の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができる塗布装置を提供できる。
　また、基板の両方の面に同時に、少なくとも２種の塗布液をパターン状に塗布することができる塗布システムを提供できる。
本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的斜視図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的側面図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第２の例を示す模式的斜視図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的斜視図である。 本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的側面図である。 本発明の実施形態の塗布システムの第１の例を示す模式図である。 本発明の実施形態の塗布システムの第２の例を示す模式図である。
　以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の塗布装置および塗布システムを詳細に説明する。
　なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
　なお、以下において数値範囲を示す「～」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α～数値βとは、εの範囲は数値αと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばα≦ε≦βである。
　「具体的な数値で表された角度」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
（塗布装置の第１の例）
　図１は本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的斜視図であり、図２は本発明の実施形態の塗布装置の第１の例を示す模式的側面図である。
　図１に示す塗布装置１０は、特定の走行方向Ｄ１に連続走行する長尺な基板３０の上面３０ａまたは横面に塗布液Ｍを塗布するものであり、１つのバー１２で少なくとも２種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布することができる。
　横面とは、図１に示す状態の基板３０を走行方向Ｄ１を中心として９０°、高さ方向Ｄ３に回転させると上面３０ａは横を向くが、このときの上面３０ａのことを横面という。
　高さ方向Ｄ３とは、基板３０の上面３０ａまたは横面に垂直な方向である。また、横面は基板３０の向きが変わるが、この場合、横面の高さ方向Ｄ３は、図１の基板３０の状態では、幅方向Ｄ２に該当する。なお、幅方向Ｄ２とは、走行方向Ｄ１と基板３０の上面３０ａ内で直交する方向のことである。
　塗布装置１０について、１つのバー１２で３種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布するものを例にして説明する。塗布装置１０は、例えば、走行方向Ｄ１と直交する幅方向Ｄ２に伸びる長尺な、１つのバー１２と、本体ブロック１４と、３つの堰板１６と、３つの供給管２０と、３つの供給部２２とを有する。また、塗布装置１０は、複数の堰板１６は、それぞれバー１２との間に、塗布液Ｍを溜める液溜り部１７（図２参照）と、送液貯留部２４とを有する。
　塗布装置１０は、バー１２に対して長尺な基板３０の走行方向Ｄ１の上流に設けられ、塗布液Ｍをバー１２との間を通して、長尺な基板３０に流通させる堰板１６を、上述のように、例えば、３つ有するものである。３つの堰板１６は、１つのバー１２に対して、バー１２の長手方向に沿って、すなわち、幅方向Ｄ２に沿って、互いに隙間２７をあけて離間して配置されている。３つの堰板１６に、それぞれ供給管２０が設けられており、各供給管２０に、供給部２２が接続されている。
　堰板１６の数は、複数であれば、同時に塗布するパターン数に応じて適宜決定されるものであり、その数は、特に限定されるものではない。
　バー１２は、走行方向Ｄ１と直交する幅方向Ｄ２に伸びる長尺な部材であり、例えば、円柱状である。バー１２は、後述のように本体ブロック１４によって回動可能に支持される。バー１２の長手方向と、幅方向Ｄ２とは平行な関係にある。
　バー１２は、特定の走行方向Ｄ１に連続走行する長尺な基板３０の上面３０ａまたは横面に塗布液Ｍを介して接触可能であり、かつ回転中心Ｃｒで回転するものである。バー１２の回転方向は、特に限定されるものではなく、基板３０の走行方向Ｄ１に対して同方向であっても、反対方向であってもよい。
　バー１２の直径は１ｍｍ～２０ｍｍが好ましく、より好ましくは６ｍｍ～１３ｍｍである。バー１２の直径を上述の範囲とすることにより、塗布液Ｍの塗布面に縦筋が発生することを抑制することもできる。
　バー１２の表面は、平滑に仕上げられていてもよいが、円周方向に一定間隔で溝が設けられていてもよく、またワイヤが密に巻回されていてもよい。いわゆるワイヤーバーであってもよい。この場合、バーに巻回するワイヤの直径は、０．０５～０．５ｍｍであることが好ましく、特に０．０５～０．２ｍｍであることが好ましい。なお、溝が設けられたバー１２およびワイヤが巻回されたバー１２においては、溝の深さを浅くまたはワイヤを細くすることにより、塗布液Ｍの塗り付けを薄くでき、溝の深さを深くまたはワイヤを太くすることにより、塗布液Ｍの塗り付けを厚くできる。
　バーの幅は、基板３０の幅と同一の長さであっても良いが、基板３０の幅よりも長いことが好ましい。また、バーに溝またはワイヤを設ける場合、溝またはワイヤを設ける範囲は、基板３０の幅以上であることが好ましい。
　バーの材質は、ステンレス鋼が好ましく、特に、ＳＵＳ（Steel Use Stainless）３０４またはＳＵＳ（Steel Use Stainless）３１６が好ましい。他にも、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ６３０等が挙げられる。バーの表面には、ハードクロムメッキ、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）または窒化チタン（ＴｉＮ）等の表面処理を施してもよい。
　本体ブロック１４は、バー１２を回転可能に支持するものであり、バー１２を回動可能に支持する構造を有する。
　例えば、本体ブロック１４は、バー１２と接する面に円弧状の溝が形成されている。本体ブロック１４に円弧状の溝を形成することにより、基板３０の張力によるバー１２の撓みを抑制し、幅方向Ｄ２に均一な塗布膜３２ａ～３２ｃを形成することができる。
　本体ブロック１４において、バー１２に接する側と、バー１２に接さない側とは材質が同じである必要はない。例えば、バー１２がステンレス鋼等の金属製である場合、本体ブロック１４のバー１２に接する側は高分子樹脂製等とし、本体ブロック１４のバー１２に接さない側はステンレス鋼等の金属製とすることが好ましい。
　本体ブロック１４の大きさは、バー１２のサイズに応じて適宜決定される。例えば、本体ブロック１４の走行方向Ｄ１の厚みは、バー１２の半径以上であり、バー１２の直径の２倍以下とすることが好ましい。また、本体ブロック１４の高さ方向Ｄ３の高さは、１０～１００ｍｍとすることが好ましい。
　さらに、本体ブロック１４の幅方向Ｄ２の幅は、特に限定されるものではなく、バー１２と同じ長さである単体のブロック構造でもよく、堰板１６と同じ長さの分割されたブロック構造でもよく、いずれの構造でもパターン塗布は可能である。塗布液が混ざることを抑制する観点からは、本体ブロック１４の構成は、分割されたブロック構造であることがより好ましい。
　堰板１６は、基板３０の上面３０ａ上に配置されている。
　堰板１６は、基板３０の上面３０ａ側に突出部１６ａが設けられている。突出部１６ａの上面３０ａと対向する端面１６ｃは、例えば、うねり等がなく平坦な状態の基板３０の上面３０ａと平行な面である。
　堰板１６は、側面１６ｂと本体ブロック１４との間、側面１６ｂとバー１２との間にスリット１５が設けられている。スリット１５は幅方向Ｄ２に延在しており、スリット１５に塗布液Ｍが送液される。
　堰板１６の端面１６ｃは、上述のように上面３０ａと平行な面としたが、これに限定されるものではなく斜面であってもよい。
　堰板に突出部１６ａを設けることにより、堰板端部の厚みを所定値以下としつつ、堰板全体の剛性を高めることが可能となる。
　また、本体ブロック１４と堰板１６との境界に送液貯留部２４が設けられている。送液貯留部２４はスリット１５と連通している。送液貯留部２４は、本体ブロック１４または各堰板１６に設けられていてもよく、本体ブロック１４と各堰板１６とに跨って設けられていてもよい。
　送液貯留部２４は、例えば、本体ブロック１４と各堰板１６との幅方向Ｄ２に全域に亘り設けられている。
　送液貯留部２４を設けることで幅方向Ｄ２に塗布液Ｍを均一に流してから基板３０へ塗布液Ｍが流れるため、塗布液Ｍを幅方向Ｄ２に均一に塗布することができる。また、送液貯留部２４がない構成とすることもできるが、この場合、送液した塗布液Ｍが幅方向Ｄ２に満たされにくくなり、送液した部分のみに塗布液Ｍが流れるため、端部２５等に空気が滞留した空気滞留部（図示せず）が生じる。この空気滞留部（図示せず）に送液系等から持ち込まれる泡が溜り、泡ハジキを抑制する効果が小さく、最終的に泡ハジキ故障となることがある。
　供給管２０は、上述のように各堰板１６に、それぞれ設けられるものである。１つの堰板１６において、供給管２０は堰板１６を通り、送液貯留部２４に達する。例えば、１つの供給管２０に、１つの供給部２２が接続されている。
　供給部２２は、上述のように各堰板１６に設けられており、各堰板１６毎に塗布液Ｍをバー１２に送液するものである。供給部２２は、塗布液Ｍを貯留するタンク（図示せず）と、塗布液Ｍを送液するためのポンプ（図示せず）と、塗布液Ｍの送液量を調整するバルブ（図示せず）と、バルブの開閉量等を調整する制御部（図示せず）とを有する。供給部２２としては、予め定められた量の液体を供給することができる公知の液体供給装置を適宜利用可能である。
　各堰板１６に、それぞれ供給部２２を設けることにより、塗布液Ｍの供給量を堰板１６単位で調整することができ、塗布液Ｍのロスを減らすことができる。これにより、生産性を高くすることができる。
　また、各堰板１６に、それぞれ供給部２２を設けることにより、堰板１６毎に、塗布液Ｍを変えることができ、これにより、塗布膜３２ａ～３２ｃの組成等を変えることができる。このため、図１の塗布装置１０では、３つの堰板１６を有する構成であるが、各堰板１６の塗布液Ｍは、同じであってもよく、異なってもよい。形成される塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃは、例えば、塗布膜３２ａと塗布膜３２ｃが同じで、塗布膜３２ｂが異なる構成とすることができる。
　堰板１６では、突出部を除いた全体の厚みは、５～５０ｍｍの範囲内であることが好ましい。なお、全体の厚みは、走行方向Ｄ１の長さのことである。
　また、堰板１６の高さ方向Ｄ３の長さは、１０～１００ｍｍであることが好ましい。
　堰板１６の幅は、特に限定されるものではなく、堰板１６の幅と同等の幅で塗布が可能である。このため、堰板１６の幅は、塗布膜の幅に応じて適宜決定される。
　また、本体ブロック１４が、上述のように分割されたブロック構造である場合、堰板１６の幅は本体ブロック１４と同じとすることもできる。
　幅方向Ｄ２の堰板１６の隙間２７の間隔δは、３ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは５ｍｍ以上である。間隔δが狭いと、隣接する堰板１６の塗布液Ｍが混ざることがある。隙間２７の間隔δの上限は、特に限定されるものではなく、基板の幅と、塗布膜の数、および塗布膜の配置等に応じて適宜設定されるものである。
　堰板１６について、材質は、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または樹脂である。金属としては、例えば、ステンレス鋼が挙げられ、特に、ＳＵＳ（Steel Use Stainless）３０４またはＳＵＳ（Steel Use Stainless）３１６を用いることが好ましい。
　これ以外に、堰板としては、金属にハードクロムメッキまたはダイヤモンドライクカーボン処理したものでもよい。
　バー１２の上流側、すなわち、基板３０のバー１２への進入側に設けられる堰板１６は、塗布液Ｍの内圧を高めることができる。このため、エアー同伴によるハジキを抑制することができる。エアー同伴によるハジキについては後に詳細に説明する。また、エアー同伴によるハジキのことを、単にエアー同伴ハジキともいう。
　塗布装置１０では、走行方向Ｄ１と高さ方向Ｄ３とで構成される平面ＰＬにおける、液溜り部１７の断面積Ｓが２０ｍｍ２以上１００ｍｍ２以下であることが好ましく、より好ましくは３０ｍｍ２以上５０ｍｍ２以下である。液溜り部１７の断面積Ｓとは、バーの走行方向の上流側の周面と、バーの回転中心を通りバーの走行方向の上流側の端面と堰板との最短距離を通る線と、最短距離を通る線と堰板との交点を通り、かつ基板の面に垂直な線と、基板とで囲まれた部分の面積であり、図２に示す符号Ｓの領域の面積である。
　バー１２の回転により塗布液Ｍが掻き上げられるが、液溜り部１７の断面積Ｓが２０ｍｍ２満であると、塗布液Ｍの掻き上げ量＞塗布液Ｍの供給量となり、液切れ故障（液の供給量が不足することにより発生する薄塗りによる故障）が発生する。また、液溜り部１７の断面積Ｓが１００ｍｍ２を超えると、塗布液の内圧が小さくなり、基板３０に同伴されてもってくるエアー圧に液圧が負けてハジキ故障（ウエブに同伴されて持ちこまれるエアーにより発生する薄塗りによる故障）が発生する。
　塗布装置１０では、複数の堰板１６は、それぞれ液溜り部１７の容量を変えることができることが好ましい。すなわち、上述の液溜り部１７の断面積Ｓを変えることができることが好ましい。
　複数の堰板１６は、それぞれ基板３０の走行方向Ｄ１に対して移動可能であり、バー１２と堰板１６との走行方向Ｄ１の距離を変えることができる。この場合、例えば、堰板１６と本体ブロック１４とをボルト（図示せず）で固定する構成とし、ボルトを締めるか、緩めるかして、バー１２と堰板１６との走行方向Ｄ１の距離を変える構成とする。
　バー１２の走行方向Ｄ１の上流側の端面１２ａと、堰板１６との最短距離である距離Ｂが０．０５ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが好ましい。
　バー１２の走行方向Ｄ１の上流側の端面１２ａと、堰板１６との距離Ｂが０．０５ｍｍ未満では、バー１２と堰板１６の間のスリット１５から塗布液Ｍが幅方向Ｄ２に均一に供給されない。
　一方、堰板１６との距離Ｂが２ｍｍ以下を超えると、塗布液Ｍの内圧を高めにくくなり、エアー同伴ハジキが発生しやくなる。より好ましくは、バー１２の走行方向Ｄ１の上流側の端面１２ａと、堰板１６との距離Ｂは０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
　また、堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａが０．２ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが好ましい。
　堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａが０．２ｍｍ未満では、走行方向Ｄ１の上流側へ流れる塗布液Ｍがなくなり、塗布液Ｍの液切れが発生しやすくなる。
　一方、堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａが２ｍｍを超えると、塗布液Ｍの内圧を高めにくくなり、エアー同伴ハジキが発生しやくなる。より好ましくは、堰板１６と、長尺な基板３０との距離Ａは０．４ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
　また、堰板１６と長尺な基板３０との距離Ａとは、堰板１６の最下部と基板３０の最上部との間の長さのことであり、堰板１６と基板３０との最短距離のことである。図２の構成では堰板１６の端面１６ｃと基板３０の上面３０ａとの最短距離である。
（塗布方法）
　次に、塗布装置１０の塗布方法について説明する。
　供給部２２から供給管２０を介して堰板１６に塗布液Ｍを供給し、送液貯留部２４を経てスリット１５に塗布液Ｍを満たす。そして、バー１２を回転させる。特定の走行速度で、走行方向Ｄ１に基板３０を連続走行させ、連続走行する基板３０の上面３０ａに、堰板１６毎に塗布液Ｍを介してバー１２を接触させ、基板３０の上面３０ａに、各堰板１６に応じた塗布液Ｍを塗布し、１つのバー１２で３種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布する。しかも、各パターンの混ざりがなく塗布できる。これにより、１つのバー１２で、基板３０に幅方向Ｄ２に異なる３つの塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃを隙間３３をあけて同時にストライプ状にパターン形成することができる。この場合、互いに塗布液が混じることなく塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃを形成することができる。
　塗布装置１０の塗布方法について、基板３０の上面３０ａに塗布することについて説明したが、基板３０の横面にも上述のようにして塗布することができる。基板３０の下面３０ｂにも上述のようにして塗布することができる。
　塗布装置１０では、１つのバー１２で３種の塗布液Ｍを同時にストライプ状にパターン塗布して、基板３０の幅方向Ｄ２に並んだ３つの塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃをストライプ状に形成することができる。これにより、基板３０の幅方向Ｄ２に機能違いのサンプルを並べた製品を作製することができる。この場合、サンプルの貼合工程が不要となり、幅方向Ｄ２に機能違いのサンプルを並べた製品の製造原価を低くできる。
　また、樹脂の基板３０に対して、幅方向Ｄ２に引き延ばす延伸工程を実施する場合、製品幅外の領域に塗布液として、例えば、不純物を含まない液を塗布することにより、製品幅外の基板３０を回収することができ、製品幅外の基板３０が無駄になることを抑制することができる。これにより、得率の低下を抑制することができ、生産性を向上させることができる。
　しかも、塗布装置１０の堰板１６は、塗布液Ｍの内圧を高めるため、上流側からのエアーの進入が抑制され、エアー同伴ハジキを抑制する。
　また、送液貯留部２４を設けており、泡ハジキの発生が抑制され、塗布液Ｍを基板３０の幅方向Ｄ２に均一に塗布できる。しかも、液切れの発生を抑制することができる。
（塗布装置の第２の例）
　次に、塗布装置の第２の例について説明する。
　図３は本発明の実施形態の塗布装置の第２の例を示す模式的斜視図である。
　なお、図３に示す塗布装置１０において、図１および図２に示す塗布装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
　図３に示す塗布装置１１は、図１に示す塗布装置１０に比して、堰板１６の間隔δが異なる点、および堰板１６がバー１２の長手方法、すなわち、幅方向Ｄ２に移動可能である点が異なり、それ以外の構成は図１に示す塗布装置１０と同じであるため、その詳細な説明は省略する。図３に示す塗布装置１１は、図１に示す塗布装置１０の効果を得ることができる。
　塗布装置１１のように、複数の堰板１６は、それぞれ、バー１２の長手方法における位置、すなわち、幅方向Ｄ２における位置を変えることができることが好ましい。これにより、塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃの基板３０の幅方向Ｄ２における形成位置を変えることができ、塗布膜３２ａ、３２ｂ間の隙間３３の間隔、および塗布膜３２ｂ、３２ｃ間の隙間３３の間隔を変えることができる。このことにより、３つの塗布膜３２ａ、３２ｂ、３２ｃで形成されるストライプ状のパターンの幅方向の位置を変えることができる。
　また、基板３０の幅が変わった場合にも、堰板１６の幅方向Ｄ２の位置を変えることにより、基板３０の幅に対応することができる。例えば、基板３０の幅が狭くなった場合には、両側の堰板１６と、中央の堰板１６との隙間２７を狭くする。基板３０の幅が広くなった場合には、両側の堰板１６と、中央の堰板１６との隙間２７を広くする。
　堰板１６の幅方向Ｄ２における位置を変える場合、例えば、本体ブロック１４が分割されたブロック構造である場合、堰板１６は本体ブロック１４と一緒に幅方向Ｄ２に移動する。
　また、本体ブロック１４が単体のブロック構造である場合、堰板１６だけが幅方向Ｄ２に移動する。
　堰板１６の幅方向Ｄ２の位置を変える場合、例えば、堰板１６に幅方向Ｄ２に伸びる長穴（図示せず）を設けて幅方向Ｄ２に動かせるようにする。なお、堰板１６は、例えば、ボルト（図示せず）を用いて固定する。
（塗布装置の第３の例）
　図４は本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的斜視図であり、図５は本発明の実施形態の塗布装置の第３の例を示す模式的側面図である。
　なお、図４および図５に示す塗布装置１０において、図１および図２に示す塗布装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
　図４に示す塗布装置１１ａは、図１に示す塗布装置１０に比して、堰板１６の間隔δが異なる点、および側板２６を有する点が異なり、それ以外の構成は図１に示す塗布装置１０と同じであるため、その詳細な説明は省略する。図４および図５に示す塗布装置１１ａは、図１に示す塗布装置１０の効果を得ることができる。
　塗布装置１１ａでは、複数の堰板１６は、それぞれバー１２の長手方向の両端部に側板２６が設けられている。すなわち、複数の堰板１６は、それぞれバー１２の幅方向Ｄ２の両側の端部２５に側板２６が設けられている。
　図５に示す側板２６は、端部２５から塗布液Ｍが流れでないように端部２５を覆うものであり、その形状は図５に示す形状に特に限定されるものではない。例えば、側板２６は基板３０と接触しない構成であり、側板２６の基板３０の上面３０ａ側の上辺２６ａは、バー１２と基板３０とが最接近した位置から端面１６ｃに向って、基板３０の上面３０ａとの距離が増加するように傾斜している。
　側板２６を設けることにより、塗布液Ｍの利用効率を高めることができる。一方、側板２６がないと端部２５から流れ出る塗布液Ｍがあり、塗布に必要な塗布液Ｍの量が多くなる。
　また、側板２６がないと端部２５に塗布液Ｍが流れでてしまい、塗布液Ｍの液切れが発生しやすくなる。このため、均一に塗布するための塗布液Ｍの送液量が多くなる。塗布液Ｍの送液量が多くなることで堰板１６とバー１２の間の液溜り部１７の塗布液Ｍの流速が上昇し、隣の堰板１６の塗布液Ｍと混ざりやすくなる。
　側板２６の材質は特に限定されるものではなく、塗布液Ｍに応じたものが適宜選択される。側板２６は、例えば、ＳＵＳ（Steel Use Stainless）等の金属または樹脂等で構成される。
　なお、側板２６は、全ての堰板１６の幅方向の端部２５に設けることに限定されるものではない。両側の堰板１６の幅方向Ｄ２の外側の端部２５では、塗布液Ｍが流れても、隣の堰板１６の塗布液Ｍと混ざることがないため、複数の堰板１６のうち、隣接する堰板１６の間に面する、堰板１６のバー１２の長手方向の端部２５に、側板２６が設けられていればよい。すなわち、堰板１６の隙間２７にある端部２５にだけ側板２６を設ける構成であればよい。
　また、塗布装置１１ａは、図３に示す塗布装置１１と同じく、堰板１６が幅方向Ｄ２に移動可能である構成でもよい。
　なお、上述のいずれの塗布装置１０、１１、１１ａも送液貯留部２４を設ける構成としたが、これに限定されるものではなく、送液貯留部２４が設けられていない構成でもよいが、この場合、空気滞留部（図示せず）に送液系等から持ち込まれる泡が溜まるため、泡ハジキを抑制する効果が小さい。
　次に、塗布システムについて説明する。
（塗布システム）
　図６は本発明の実施形態の塗布システムの第１の例を示す模式図であり、図７は本発明の実施形態の塗布システムの第２の例を示す模式図である。
　なお、図６および図７に示す塗布システム４０において、図１および図２に示す塗布装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
　塗布システム４０は、上述の塗布装置１０を、基板３０を挟んで対向して配置し、基板３０の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布するものである。塗布装置１０の回転中心Ｃｒは、走行方向Ｄ１の位置をずらして配置されている。
　塗布システム４０では、基板３０の両面に、複数の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができる。
　塗布システム４０は、１つの乾燥部４２を有する。乾燥部４２の構成は、特に限定されるものではなく、例えば、温風により乾燥するものである。
　乾燥部４２により、基板３０の両面に、ストライプ状にパターン塗布された塗布液が乾燥され、複数の塗布膜が形成される。
　塗布システム４０の同時とは、時間が同じではなく、一度のプロセスであることを意味する。
　塗布システム４０では、１つの基板３０の両面に、複数の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布し、１つの乾燥部４２で乾燥させて、１つの基板３０の両面に、複数のストライプ状の塗布膜を形成することができる。これに対して、上述のリバース塗布方式のでは、ウエブの上面と下面への同時塗布が不可能であるため、乾燥部を設ける場合、乾燥部を２つ設ける必要があり、多くの設備投資が必要であり、かつ設備の大型化を招く。このように、塗布システム４０では、１つの乾燥部４２で済み、乾燥設備等、多くの設備投資が不要であり、設備を安価に構築でき、かつ設備の大型化を抑制することができる。
　塗布システム４０の塗布装置１０の配置は、図６に示す配置に限定されるものではなく、図７に示す配置でもよい。図７に示す塗布システム４０は、図６に示す塗布システム４０の塗布装置１０を、高さ方向Ｄ３に回転させて、基板３０の上面３０ａを、横に向かせた構成である。
　なお、塗布システム４０は、上述の塗布装置１０に限定されるものではなく、上述の塗布装置１１および塗布装置１１ａを用いることもできる。
　次に、上述の塗布装置１０、１１、１１ａおよび塗布システム４０に用いられる基板３０および塗布液Ｍについて説明する。
（基板）
　基板としては、ガラス材、金属材、合金材、紙、プラスチックフィルム、レジンコーティッド紙、合成紙および布等が挙げられる。プラスチックフィルムの材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体、６，６－ナイロン、６－ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン－２，６－ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が挙げられる。また、レジンコーティッド紙に用いられる樹脂としては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィンを代表例として例示できる。
　基板の厚さは特に限定されないが、厚さが０．０１～１．５ｍｍのものが取扱い、および汎用性の観点から好ましく用いられる。
　基板は、張力を加えた状態でバーに塗布液を介して接触する。基板と、水平面とのなす角度は、バーの上流側および下流側のいずれにおいても０°～１０°であることが好ましく、０°～５°であることがより好ましい。基板の角度を上述の範囲とすることにより、塗布面を均一にすることができ、かつバーの摩耗等を抑制することができる。
　基板の形態としては、特に限定されるものではなく、シート状、および連続帯状等が挙げられる。なお、連続帯状の基板、すなわち、長尺な基板のことをウエブという。
（塗布液）
　塗布液は、各種の液状物質のことである。
　塗布液において、溶媒は、例えば、水、および有機溶剤である。有機溶剤は、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピレングリコール（ＭＦＧ）およびメタノール等である。
　バインダーは、ポリウレタン、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等のポリマーまたはモノマー等を含む。また、塗布液には、固形分として、例えば、酸化ケイ素粒子および酸化チタン粒子等を含んでもよい。
　塗布液の粘度は、７×１０－４～０．４Ｐａ・ｓ（０．７～４００ｃＰ（センチポアズ））、塗布量は０．１～２００ｍｌ（ミリリットル）／ｍ２（１～２００ｃｃ／ｍ２）、塗布速度は１～４００ｍ／分において適用可能である。
　好ましくは、粘度は１×１０－３～０．１Ｐａ・ｓ（１～１００ｃＰ）であり、塗布量は１～１００ｍｌ／ｍ２（１～１００ｃｃ／ｍ２）であり、塗布速度は１～２００ｍ／分である。
　また、塗布液としては、上述のもの以外に、基板に塗布し、乾燥させて皮膜を形成することに使用される溶液が挙げられる。具体的には、感光層形成液および感熱層形成液のほか、基板の表面に中間層を形成して製版層の接着を改善する中間層形成液、平版印刷原版基板の製版面を酸化から保護するポリビニルアルコール水溶液、写真フィルムにおける感光層を形成するのに使用される写真フィルム用感光剤コロイド液、印画紙の感光層の形成に使用される印画紙用感光剤コロイド液、録音テープ、ビデオテープ、およびフロッピーディスクの磁性層の形成に使用される磁性層形成液、ならびに金属の塗装に使用される各種塗料等が挙げられる。
（用途）
　塗布装置および塗布方法は、金属、紙、布、およびフイルム等にバーを用いて液膜を塗布して製品を製作するあらゆる分野に適用可能であり、用途は特に限定されるものではない。
　塗布装置および塗布方法の用途としては、例えば、写真フィルム等の感光材料の製造、録音テープ等の磁気記録材料の製造、およびカラー鉄板等の塗装金属薄板の製造等、バーを用いて塗布を行う場合に使用できる。したがって、基板としては、従来技術の欄で述べた支持体基板のほか、支持体基板の目立てした側の面に感光性または感熱性の製版面を形成した平版印刷原版基板、写真フィルム用基材、印画紙用バライタ紙、録音テープ用基材、ビデオテープ用基材、フロッピー（登録商標）ディスク用基材等、金属、プラスチック、または紙等からなり、連続した帯状で、かつ可撓性を有する基材等が挙げられる。
　また、塗布液としては、上述のもの以外に、基板に塗布し、乾燥させて皮膜を形成することに使用される溶液が挙げられ、具体的には、感光層形成液および感熱層形成液のほか、基板の表面に中間層を形成して製版層の接着を改善する中間層形成液、平版印刷原版基板の製版面を酸化から保護するポリビニルアルコール水溶液、写真フィルムにおける感光層を形成するのに使用される写真フィルム用感光剤コロイド液、印画紙の感光層を形成するのに使用される印画紙用感光剤コロイド液、録音テープ、ビデオテープ、フロッピーディスクの磁性層を形成するのに使用される磁性層形成液、および金属の塗装に使用される各種塗料等が挙げられる。
　また、塗布装置および塗布方法を用いることにより、基板の両面に塗布面を効率良く形成することが可能となる。従来は、均一な塗布膜を形成する場合には、下面塗布装置が用いられることが多く、この場合、第１の下面塗布工程を設けた後、基板搬送ロールで搬送方向を変え、再度、第２の下面塗布工程を設ける必要があった。このため、両面に塗布面を形成するまでの搬送距離が長くなり、塗布液の塗布スペースが広く必要とされていた。
　しかし、塗布装置および塗布方法を用いることにより、上面塗布においても均一な塗布膜を形成することが可能となった。このため、基板の両面に塗布面を形成する場合、従来の下面塗布と上述の塗布装置を用いた上面塗布を同時に行うことができ、塗布スペースを省スペース化することができる。これにより、製膜工程を簡略化することができ、製造コストを抑制することも可能となる。
　本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の塗布装置および塗布システムについて詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。
　以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
　本実施例では、実施例１～１３および比較例１の塗布装置を用いて基板に塗布液を塗布し、パターン塗布性、液の混ざり、液切れ、およびハジキを評価した。
　塗布装置は、バー径を直径１０ｍｍとし、幅を８００ｍｍとした。また、バー回転数を１５００回転／分（ｒｐｍ）とした。塗布は、１次側基板進入角度を３°とし、定常部の膜厚が５μｍとなるように実施した。なお、１次側基板進入角度とは、基板がバーの上流側から進入する角度のことである。基板の走行速度を１２０ｍ／分とした。
　基板には、幅が７００ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いた。
　塗布液には、ポリエステル樹脂、架橋剤、および界面活性剤を水に溶解して調製したものを用いた。なお、塗布液は、組成物量を調整し、粘度が２ｍＰａ・ｓとなるようにした。塗布液の表面張力は４０ｍＮ／ｍであった。
　次に、評価項目であるパターン塗布性、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて説明する。なお、パターン塗布性、液切れおよびハジキの各評価項目では、目視観察しているが、その目視観察時間は、１サンプル当り、１分間とした。
（パターン塗布性）
　パターン塗布性は、塗布膜を目視観察し、以下に示すパターン塗布性評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
パターン塗布性評価基準
Ａ：パターン塗布できる
Ｂ：パターン塗布できない
（液の混ざり）
　液の混ざりは、塗布後の塗布液を回収し、回収後に、回収液を塗布して塗布膜を得た。この塗布膜の成分を蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）測定で特定した。
　液の混ざりは、特定した成分の結果に基づき、以下に示す液の混ざり評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
液の混ざり評価基準
Ａ：コンタミネーション率０％
Ｂ：コンタミネーション率０％超２０％未満
Ｃ：コンタミネーション率２０％以上
（液切れ）
　液切れは、塗布膜を目視観察し、目視評価後に故障箇所に対して、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）による元素分析を実施した。
　液切れは、元素分析の結果に基づき、以下に示す液の混ざり評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
液切れ評価基準
Ａ：特定元素１００％含有
Ｂ：特定元素８０％以上１００％未満含有
Ｃ：特定元素８０％未満含有
（ハジキ）
　ハジキは、塗布膜を目視観察し、目視評価後に故障箇所に対して、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）による元素分析を実施した。
　ハジキは、元素分析の結果に基づき、以下に示すハジキ評価基準で評価した。その結果を下記表１に示す。
ハジキ評価基準
Ａ：特定元素１００％含有
Ｂ：特定元素８０％以上１００％未満含有
Ｃ：特定元素８０％未満含有
以下、実施例１～１３および比較例１について説明する。なお、下記表１において、塗布条件の欄の「－」は該当するものがないことを示す。
（実施例１）
　実施例１は、図１および図２に示す塗布装置の構成において、堰板の数を２とした。第１の堰板の幅を１００ｍｍとし、第２の堰板の幅を３００ｍｍとし、第１の堰板と第２の堰板の間隔δを１ｍｍとした。
　第１の堰板の送液量を１００ｃｃ／ｍｉｎとし、第２の堰板の送液量を３００ｃｃ／ｍｉｎとした。また、液溜り部の断面積Ｓを１０ｍｍ２とした。実施例１では、側板を設けていない。
（実施例２）
　実施例２は、図１および図２に示す塗布装置の構成とし、堰板の数は３である。第１の堰板の幅を１００ｍｍとし、第２の堰板の幅を３００ｍｍとし、第３の堰板の幅を１００ｍｍとし、堰板の間隔δを１ｍｍとした。
　第１の堰板の送液量を１００ｃｃ／ｍｉｎとし、第２の堰板の送液量を３００ｃｃ／ｍｉｎとし、第３の堰板の送液量を１００ｃｃ／ｍｉｎとした。また、液溜り部の断面積Ｓを１０ｍｍ２とした。実施例２では、側板を設けていない。
（実施例３）
　実施例３は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが１２０ｍｍ２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例４）
　実施例４は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが１００ｍｍ２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例５）
　実施例５は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが２０ｍｍ２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例６）
　実施例６は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが３０ｍｍ２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例７）
　実施例７は、実施例２に比して、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例８）
　実施例８は、実施例２に比して、堰板の間隔δが３ｍｍである点、および液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例９）
　実施例９は、実施例２に比して、堰板の間隔δが３ｍｍである点、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ２である点、および側板を有する点以外は実施例２と同じとした。
（実施例１０）
　実施例１０は、実施例２に比して、堰板の間隔δが５ｍｍである点、および液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ２である点以外は実施例２と同じとした。
（実施例１１）
　実施例１１は、実施例２に比して、堰板の間隔δが５ｍｍである点、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ２である点、および側板を有する点以外は実施例２と同じとした。
（実施例１２）
　実施例１２は、実施例２に比して、堰板の間隔δが５ｍｍである点、送液量が異なる点、液溜り部の断面積Ｓが５０ｍｍ２である点、および側板を有する点以外は実施例２と同じとした。
　実施例１２では、第１の堰板の送液量を７０ｃｃ／ｍｉｎとし、第２の堰板の送液量を２２０ｃｃ／ｍｉｎとし、第３の堰板の送液量を７０ｃｃ／ｍｉｎとした。
（実施例１３）
　実施例１３は、実施例１２に比して、側板がない点以外は実施例１２と同じとした。
（比較例１）
　比較例１は、図１および図２に示す塗布装置の構成において、堰板の数を１とし、実施例１の第２の堰板に相当するものしかない構成である。比較例１は、送液量を３００ｃｃ／ｍｉｎとし、液溜り部の断面積Ｓを１０ｍｍ２とした。比較例１は、塗布膜が１つしか形成されないため、液の混ざりが生じない。このため、液の混ざりの評価結果の欄には「－」と記した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、実施例１～１３は、２種以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布することができた。なお、比較例１は、堰板が１つの構成であり、２種以上の塗布液を同時にストライプ状にパターン塗布できなかった。
　実施例１および実施例２は、液溜り部の断面積Ｓが小さく液切れが生じた。また、実施例１および実施例２は、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
　実施例３は、液溜り部の断面積Ｓが大き過ぎハジキが生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
　実施例４は、液溜り部の断面積Ｓが好ましい範囲の上限であり、ハジキが若干生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
　実施例５は、液溜り部の断面積Ｓが好ましい範囲の下限であり、液切れが若干生じ、また、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
　実施例６および実施例７は、液溜り部の断面積Ｓが好ましい範囲にあり、液切れおよびハジキについて良好な結果が得られた。また、実施例６および実施例７は、堰板の間隔δが狭く液の混ざりが生じた。
　実施例８は、堰板の間隔δが好ましい範囲の下限であり、液の混ざりについて実施例７よりも良好な結果を得ることができた。実施例９は、堰板の間隔δが好ましい範囲の下限であり、かつ側板を有するものであり、液の混ざりについて実施例８よりも、さらに良好な結果を得ることができた。
　実施例１０は、堰板の間隔δが好ましい範囲にあり、液の混ざりについてさらに良好な結果を得ることができた。
　実施例１１は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、かつ側板を有するものであり、液の混ざりについてさらに良好な結果を得ることができた。
　実施例１２は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、かつ側板を有するものであり、送液量を少なくしても、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて、良好な結果を得ることができた。これにより、塗布液の損失を小さくできる。
　実施例１３は、堰板の間隔δが好ましい範囲であり、送液量を少なくした場合、側板がないため、液切れについて、良好な結果を得ることができなかった。
　なお、実施例９の塗布装置を用いて、塗布システムを構成し、基板の両面に同時塗布しところ、液の混ざり、液切れ、およびハジキについて、良好な結果を得ることができた。
　１０、１１、１１ａ　塗布装置
　１２　バー
　１２ａ　端面
　１４　本体ブロック
　１５　スリット
　１６　堰板
　１６ａ　突出部
　１６ｂ　側面
　１６ｃ　端面
　１７　液溜り部
　２０　供給管
　２２　供給部
　２４　送液貯留部
　２５　端部
　２６　側板
　２７　隙間
　３０　基板
　３０ａ　上面
　３０ｂ　下面
　３２ａ、３２ｂ、３２ｃ　塗布膜
　３３　隙間
　４０　塗布システム
　４２　乾燥部
　Ａ　距離
　Ｂ　距離
　Ｃｒ　回転中心
　Ｄ１　走行方向
　Ｄ２　幅方向
　Ｄ３　高さ方向
　Ｍ　　塗布液
　ＰＬ　平面
　δ　間隔
　Ｓ　断面積

Claims (10)

  1. 　特定の走行方向に連続走行する長尺な基板の少なくとも一方の面に塗布液を介して接触して回転する、前記走行方向と直交する幅方向に伸びる長尺なバーと、
    　前記バーに対して前記基板の前記走行方向の上流に設けられ、前記塗布液を前記バーとの間を通して、前記基板の前記走行方向へ流通させる堰板とを有する塗布装置であって、
    　前記バーを回転可能に支持する本体ブロックを有し、
    　前記バーの長手方向に沿って配置された、複数の堰板と、
    　前記堰板毎に設けられ、前記堰板に前記塗布液を供給する複数の供給部とを有する、塗布装置。
  2. 　前記バーの前記長手方向における前記堰板の間隔が３ｍｍ以上である、請求項１に記載の塗布装置。
  3. 　前記複数の堰板は、それぞれ前記バーの前記長手方向における位置を変えることができる、請求項１または２記載の塗布装置。
  4. 　前記複数の堰板は、それぞれ前記バーとの間に液溜り部を有し、
    　前記複数の堰板は、それぞれ前記液溜り部の容量を変えることができる、請求項１～３のいずれか１項に記載の塗布装置。
  5. 　前記複数の堰板は、それぞれ前記基板の前記走行方向に対して移動可能であり、前記バーと前記堰板との前記走行方向の距離を変えることができる、請求項４に記載の塗布装置。
  6. 　前記走行方向と前記走行方向に直交する高さ方向とで構成される平面における、前記液溜り部の断面積Ｓが２０ｍｍ２以上１００ｍｍ２以下であり、
    　前記液溜り部の前記断面積Ｓは、前記平面における、前記バーの前記走行方向の上流側の周面と、
    　前記バーの回転中心を通り前記バーの前記走行方向の上流側の端面と前記堰板との最短距離を通る線と、
    　前記最短距離を通る線と前記堰板との交点を通り、かつ前記基板の面に垂直な線と、
    　前記基板とで囲まれた部分の面積である、請求項４に記載の塗布装置。
  7. 　前記複数の堰板は、それぞれ前記バーの前記長手方向の両端部に側板が設けられている、請求項１～６のいずれか１項に記載の塗布装置。
  8. 　前記複数の堰板のうち、隣接する堰板の間に面する、前記堰板の前記バーの前記長手方向の端部に側板が設けられている、請求項１～６のいずれか１項に記載の塗布装置。
  9. 　前記塗布液を貯留する送液貯留部を、前記本体ブロック、または前記各堰板に有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の塗布装置。
  10. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の塗布装置を、基板を挟んで対向して配置し、
    　前記基板の両方の面に同時にパターン状に塗布液を塗布する、塗布システム。
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