JPH0557648B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

１ 産業上の利用分野 本発明は、磁気テープ、磁気シート、磁気デイ
スク等の磁気記録媒体及びその製造方法に関する
ものである。 ２ 従来技術 一般に、磁気記録媒体は、磁性粉とバインダー
等を含む磁性塗料を支持体上に塗布、乾燥して製
造される。そして、高品質化のために近時、磁性
層とは反対側の支持体面上に非磁性粉末をバイン
ダーで固めてなるバツクコート層（以下、BC層
と略す。）が施されるようになつた。即ち、BC層
の存在によつて、例えば磁気テープをリール上に
巻回したときの磁性粉の粉落ちの防止及びテープ
巻き状態の安定化、テープ走行性の向上等を図る
ことができる。また、BC層中に非磁性粉末を含
有させることによつて、BC層の表面が適度な表
面粗さに設定でき、テープデツキ側のガイドピン
等に対するテープ摺接時に、その擦れ合いから
BC層を保護してテープ走行耐久性を上げること
ができる。 こうしたBC層は、例えば特開昭57−208636号、
57−208637号公報に示されているように、非磁性
粉をニトロセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリウレタン等に分散せしめたものか
らなつている。このBC層の表面粗さについては
種々提案されており、例えば特開昭52−102004号
公報では、BC層の塗料中に予め所定粒径のスパ
イク粒子を混合している。 しかしながら、これまで提案されてきた技術は
いずれも、BC層中の粒子の種類及び粒径等によ
つて表面粗さを制御しているので、その制御は容
易ではなく、塗布後の表面性は塗料組成で一義的
に決まつてしまう。 ３ 発明の目的 本発明の目的は、磁性層とは反対側の支持体上
の面が所望のパターンに制御性良く粗され、これ
によつて走行時のべた付き等が減少せしめられ、
特性の改良された磁気記録媒体を提供することに
ある。 本発明の他の目的は、そうした磁気記録媒体を
再現性良く製造できる方法を提供することにあ
る。 ４ 発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、磁性層が支持体上に設けられ
てなる磁気記録媒体において、 前記磁性層とは反対側の前記支持体の表面から
頂部までの凸高さは0.01〜0.05μｍ、 凸面積が前記磁性層とは反対側の支持体の全表
面積の25〜80％、 凸同士は不連続 の条件を満足する多数の凸が前記磁性層とは反対
側の支持体の表面に形成されていることを特徴と
する磁気記録媒体に係るものである。 この磁気記録媒体によれば、磁性層とは反対側
の支持体の表面に多数の特定な凸部が設けられて
いるので、同面が適度な表面粗さになり、同面が
接触するガイド部材、ヘツド等との摩擦を減らし
てべた付き等を減少させ、ジツターの減少、走行
安定性、走行耐久性等の諸機能の向上を実現する
ことができる。こうした効果は、磁性層とは反対
側の支持体の表面から頂部までの凸高さは0.01〜
0.05μｍ、凸面積が前記磁性層とは反対側の支持
体の全表面積の25〜80％の条件を満足する多数の
凸が、例えば島状又は小滴状といつたような不連
続な形態で構成されることが重要である。即ち、
凸部が加工で形成されるので、加工手段又はパタ
ーンを決めれば、常に精度良く望むパターンの凸
部を形成でき、このコントロールが容易である。
従つて、支持体上の上記面の粗さ制御は任意に所
望のパターン、サイズで行なうことができるの
で、上記した諸性能を確実に得ることができる。 また、本発明は、磁性層が支持体上に設けられ
てなる磁気記録媒体の製造方法において、 前記磁性層とは反対側の前記支持体の表面から
頂部までの凸高さは0.01〜0.05μｍ、 凸面積が前記磁性層とは反対側の支持体の全表
面積の25〜80％、 凸同士は不連続 の条件を満足する多数の凸を噴霧手段によつて前
記磁性層とは反対側の前記支持体の表面に形成す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に係
るものである。 この製造方法は、本発明の磁気記録媒体におけ
る特定の凸を再現性よく確実に得ることができる
のものである。 ５ 実施例 以下、本発明を実施例について更に詳細に説明
する。 第１図には、磁気記録媒体の一例の断面が示さ
れているが、この例では、支持体１の表面側に公
知の如くに磁性層２が（場合によつては下びき層
を介して）形成され、支持体１の裏面側には走行
安定性及び走行耐久性、巻き姿安定性等に寄与す
る微小凸部３が多数形成されている。 この凸部３は、後述する噴霧塗布加工によつて
支持体１上に直接形成することができる。この場
合、噴霧塗布直後には、第２Ａ図ａ，ｂに示すよ
うに噴霧液体の微小液滴４が支持体１の裏面にほ
ぼ一様に撒布して粒状に付着せしめられる。この
際、第２Ａ図ｂのように、各液滴４は、支持体１
側から付着順に乾燥してゆき、乾燥部分４ａとこ
れを包む液状部分４ｂとからなつている。そし
て、本来の乾燥工程に入る前に、後述するスムー
ザによつて、各液滴４は第２Ｂ図ａ，ｂに示す如
くに幾分押潰され、平坦化されると同時に面積的
に拡大された状態となる。この状態で乾燥するこ
とによつて、第２Ｂ図とほぼ相似形の固化した島
状の微小凸部３（第１図参照）が得られる。 第３図には、凸部３が拡大図示されている。こ
れらの凸部３は、第２Ｂ図ａに示したパターンに
分布していて、各凸部間は実質的に不連続、即ち
島状に配されている。但、実際には、各凸部３間
は、第３図のように薄層部分３ａを介して互いに
連なり合つていることがあるが、この場合でも各
凸部３自体は実質的に不連続であるといえる。 こうして、支持体１の裏面に、望ましくは従来
のBC層と同一材質からなる多数の微小凸部３が
島状に存在した状態となつているので、この裏面
側がテープガイド等のガイド部材に摺接する際、
両者間の摩擦力が低減させ、べた付き現象を可能
な限り少なくすることができる。このためには、
凸部３の高さは0.01〜0.05μｍ、凸面積が前記磁
性層とは反対側の支持体の全表面積の25〜80％
（占有率）とするのが大事である。 凸部３自体はバインダー樹脂（望ましくはカー
ボンブラツク等の非磁性粉との混合物）からなつ
ているので、支持体１に対する接着力は充分あ
り、耐久性が充分である。従つて、凸部３によつ
て従来のBC層と同等の作用が得られるが、これ
に加え、凸部３の厚みは0.05μｍ以下にできるた
めに支持対１の厚みを従来のものより厚くするこ
とが可能であり、これによつて支持体の屈曲時の
剛性（ベンデイングステイフネス）を大きくし、
耐久性、スキユー等を向上させることができる。
これに反し、従来ではBC層を連続層として形成
しているので、連続層をなし得る程度にBC層を
厚く（特に0.5〜1μｍ）塗布形成する必要がある
が、この分だけ支持体１の厚みを薄くせざるを得
ず、ベンデイングステイフネスが低下してしま
う。 本例では、上記凸部３のバインダーとしてポリ
ウレタンが使用可能である。 このポリウレタンは他の物質に対する接着力が
強く、反復して加わる応力又は屈曲に耐えて機械
的に強靭であり、かつ耐摩耗性、耐候性が良好で
ある。 使用するポリウレタンとしては、シリコン変性
ポリウレタン、ボロン変性ポリウレタンが望まし
い。 シリコン変性ポリウレタンは、活性水素化合物
として少なくとも１つ以上のシロキサン結合を有
する活性水素化合物、例えば、下記一般式〔〕
のポリシロキサンジオールを用い、これをイソシ
アネートと反応させた重合体がよい。 すなわち、ポリシロキサンジオールは、一般式
〔〕： （ただし、Ｒは炭素原子数１〜20個のアルキレン
基、Y¹、Y²はアルキル基又はアリール基であり、
Y¹とY²は同一でも異なつていてもよく、ｎは一
般式〔〕の化合物の平均分子量が150〜10000と
なるような実数である。）で示されるポリジメチ
ルシロキサンジオールである。 Y¹、Y²としてはメチル基、フエニル基が好ま
しく、特にメチル基が望ましい。 一般式〔〕で示される炭素原子数１〜20個の
アルキレン基(R)としてはメチレン、エチレン、プ
ロピレン、ベチレン、ヘキシレン、オクチレン、
ドデシレン基などである。また、一般式〔〕で
示されるポリシロキサンジカルビノールの分子量
の好ましい範囲は500〜10000であつて、その中で
も特に、1000〜6000のものが好ましい。 このY¹、Y²として特に好ましいメチル基の一
部が炭素原子数２〜30個のアルキル基、ハロアル
キル基、シアノアルキル基、アリルアルキル基、
ビニル基、アクリル基などのアルケニル基、アリ
ル基、アルキルアリル基、アルケニルアリル基、
ハロアリル基から選ばれた１種又は２種以上の基
で置換されている化合物、あるいは水素又はハロ
ゲンで置換されている化合物を使用してもよい。 イソシアネートを示すと表−１に示すような化
合物が例示できる。

【表】

【表】

【表】

【表】 上記シリコン変性ポリウレタンの数平均分子量
は重要であつて、5000〜200000の範囲のものが好
ましく、平均分子量が5000未満であると薄膜を形
成後に、滲み出し、粘着トラブルを生じ易い。平
均分子量が200000より大きいと、塗布液の粘度が
高くなりすぎて均一な塗布が困難になる。 ポリウレタンの中で、イソシアネートと反応す
る活性水素化合物（例えばポリオール、ポリオー
ルポリエステルやグリコール成分等）によつて形
成されている部分にあるシロキサン結合を有する
活性水素化合物（例えばシロキサン結合を有する
グリコール成分等）の含有量が１〜50重量％の範
囲のものが望ましく、特に好ましいのは５〜25重
量％の範囲のものである。シロキサン結合を有す
る活性水素化合物の割合が、シリコン変性ポリウ
レタンにおいて１重量％以下であると、記録媒体
を形成したとき滑り性が不足し、50重量％を超え
ると、強度（たとえば引つ張りに対する。）を低
下させる場合がある。 使用できるシリコン変性ポリウレタンの機械的
強度は、日本工業規格JIS−K6301に規定する試
験測定により、 伸び：２〜1000％ 引つ張り強度：10〜650％ である。また、後述するように磁気記録媒体とし
たときのバツクコート層側の摩擦係数は0.19〜
0.30の範囲のものが好ましい。ただし、この摩擦
係数の測定は直径４mmのステンレス製の固定ピン
に磁性層側を接触させて180度巻きつけ、固定ピ
ンに対して入口側張力を50Kgに保ち、テープ速度
3.3cm／秒における出口側の張力を測定し、下記
式から摩擦係数μを求めた。 μ＝１／πln出口側張力／入口側張力 また、シリコン変性ポリウレタンは、通常のポ
リウレタンにはみられぬ低い摩擦係数を示すの
で、他のバインダーと併用しないで単独でも使用
できるが、ポリウレタンは軟らかいためにリール
に巻いて保存するときに、支持体裏面と磁性層が
貼り合わさつてしまうトラブルを生じることがあ
る。したがつて、他のより硬いバインダーと併用
するのが好ましい。更に、非磁性粉末を併用する
と効果的に粘着を防止できる。 他のバインダー／シリコン変性ポリウレタンの
配合重量比は75／25〜25／75の範囲で使用するこ
とが好ましい。 他のバインダーの配合比が75／25を超えると、
支持他に対する接着力が劣化し、粉落ち、けずれ
等がおくりやすく、ドロツプアウト増大の原因と
なることがある。 これに反し、シリコン変性ポリウレタンが25／
75よりも多くなると、「べたつき」を生じ易く、
リールに巻かれた状態で保存するとき、周囲雰囲
気の温湿条件により、磁性層と支持体裏面とが貼
り合わされることがある。 また、上記シリコン変性ポリウレタンに代え
て、或いはこれと併用して、下記一般式（）で
表わされる硼素含有ユニツトを有する高分子化合
物を使用することも望ましい。ただし、一般式
（）は、 で表わされる１価の基又は２価の基であり、X¹、
X²、X³およびX⁴のうちの少なくとも１つが酸素
原子を介してポリマー鎖と「−Ｏ−Ｒ−」なる結
合を有しており、Ｒは２価の炭化水素残基であ
る。 この高分子化合物は、前記一般式（）で表わ
される硼素含有ユニツトをポリマーの主鎖若しく
は側鎖、主鎖若しくは側鎖の末端又は主鎖若しく
は側鎖にペンダントされたものであつてもよい。 前記一般式（）で表わされる硼素含有ユニツ
トを例示すると、 (1) グリセロールボレートラウレートから由来す
る硼素含有ユニツト、 (2) グリセロールボレートパルミテートから由来
する硼素含有ユニツト、 (3) グリセロールボレートステアレートから由来
する硼素含有ユニツト、 (4) グリセロールボレートオレエートから由来す
る硼素含有ユニツト、 (5) グリセロールボレートイソオクタデカノエー
トから由来する硼素含有ユニツト、 (6) グリセロールボレートヒドロキシステアレー
トから由来する硼素含有ユニツト、 (7) ポリオキシエチレングリセロールボレートラ
ウレートから由来する硼素含有ユニツト、 (8) ポリオキシエチレングリセロールボレートパ
ルミテートから由来する硼素含有ユニツト、 (9) ポリオキシエチレングリセロールボレートス
テアレートから由来する硼素含有ユニツト、 (10) ポリオキシエチレングリセロールボレートオ
レエートから由来する硼素含有ユニツト、 (11) ポリオキシエチレングリセロールイソオクタ
デカノエートから由来する硼素含有ユニツト、 (12) グリセロールボレートベンソエートから由来
する硼素含有ユニツト、 (13) グリセロールボレートシンナモエートから由
来する硼素含有ユニツト、 (14) グリセロールボレートイソステアレートから
由来する硼素含有ユニツト、 などが挙げられる。 前記一般式（）で表わされる硼素含有ユニツ
トを有する高分子化合物の製造方法として、ポリ
ウレタンを例にとつて説明する。ただし、以下の
説明では簡単のため、硼素含有ユニツトの原料化
合物として、一般式（）又は（）の化合物を
用いた場合について説明する。ただし、一般式
（）は で表わされ、Ｒは炭素原子数２〜４個のアルキレ
ン基、Ｘは水素原子または炭素原子数８〜22個の
アシル基、ｌ及びｍはそれぞれ０〜20の実数であ
り、一般式（）においてＲで示される炭素原子
数２〜４個のアルキレン基は例えばエチレン、プ
ロピレン及びブチレン基およびこれらの異性化し
たものであり、Ｘで示される炭素原子数８〜22個
のアシル基は例えばオクタノイル、ノナノイル、
デカノイル、ウンデシロイル、ラウロイル、トリ
デシロイル、ミリストイル、ペンタデシロイル、
パルミトイル、マーガロイル、ステアロイル、イ
ソステアロイル、ヒドロキシステアロイル、オレ
オイル、ベヘノイル基などである。 一般式（）を有する化合物には、ポリオキシ
エチレングリセロールボレート（ポリオキシエチ
レンとは（―C₂H₄O）―_iで表わされる基でｉは前記
ｌまたはｍと同じ）、ゲリセロールボレート・ラ
ウレート・グリセロールボレート・パルミテー
ト、グリセロールボレート・ステアレート、グリ
セロールボレート・オレエート、グリセロールボ
レート・イソステアレート、グリセロールボレー
ト・ヒドロキシステアレート、ポリオキシエチレ
ングリセロールボレート・ラウレート、ポリオキ
シエチレングリセロールボレート・パルミテー
ト、ポリオキシエチレングリセロールボレート・
ステアレート、ポリオキシエチレングリセロール
ボレート・オレエート、ポリオキシエチレングリ
セロールボレート・イソステアレート、ポリオキ
シエチレンオキシプロピレングリセロールボレー
ト・ラウレート、ポリオキシエチレンオキシプロ
ピレングリセロールボレート・パルミテート、ポ
リオキシエチレンオキシプロピレングリセロール
ボレート・ステアレート、ポリオキシプロピレン
グリセロールボレート・ラウレート、ポリオキシ
プロピレングリセロールボレート・パルミテー
ト、ポリオキシプロピレングリセロールボレー
ト・ステアレート、ポリオキシプロピレングリセ
ロールボレート・イソステアレート、ポリオキシ
プロピレングリセロールボレート・オレエートな
どがある。 一般式（）を有する化合物において、アルキ
レンオキサイドの付加数（ｌ＋ｍ）は０乃至30が
一般式（）で表わされるユニツトを含有する高
分子化合物を本発明にかかる磁気記録媒体に例え
ば結合剤として用いた場合の諸性能の点において
好ましい。 一般式（）で示されるこれらのグリセリン硼
酸エステル類は単独で使用してもよく、２種以上
を混合して使用してもよい。また下記一般式
（）で示されるジアシルエステル との混合物を使用することもできる。ただし、一
般式（）において、 Ｒは、前記一般式（）と同様のアルキレン
基、 Ｘは、一般式（）と同様のアシル基、ｌおよ
びｍは一般式（）と同様の実数を示す。 一般式（）の例示化合物としては前記一般式
（）の例示化合物と同様でジアシル体としたも
のをあげることができる。 一般式（）又は（）で示されるグリセリン
の硼酸エステルはポリウレタンを形成する際に有
機イソシアネートと反応し、生成したポリウレタ
ン樹脂（単にポリウレタン、ウレタンともいう）
に化学的に結合する。したがつて硼酸エステルは
浮出、移行などを起さぬため、その効果を長期間
持続することができる。その量は下記の活性水素
含有化合物に由来するユニツトに対し５重量％〜
活性水素含有ユニツトと同量が適当である。５重
量％以下では上記高分子化合物を使用した効果が
不十分でありまたこの範囲を超えると結合剤とし
てのポリウレタン樹脂の物性が好ましくなく、諸
性能が低下しやすい。 上記ポリウレタンの製造に使用する活性水素含
有化合物としてはたとえば、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，４−ブチレングリコール、ビスフエノー
ルＡ、グリセリン、１，３，６−ヘキサントリオ
ール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール、ソルビトール、スクロース、ジプロピレ
ングリコール、メチルジエタノールアミン、エチ
ルジイソプロパノールアミン、トリエタノールア
ミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ビス（ｐ−アミノシクロヘキサン）、トリレ
ンジアミン、ジフエニルメタンジアミン、メチレ
ンビス（２−クロルアニリン）等の化合物、およ
びこれらの化合物に、エチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラ
ヒドロフラン、スチレンオキサイドなどを１種ま
たは２種以上（以下単にアルキレンオキサイドと
略記する。）付加して得られるポリエーテルポリ
オールがあげられる。また前記活性水素化合物と
してはポリエステルポリオールも使用でき、前記
ポリエステルポリオールはたとえば、エチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレング
リコール、ジプロピレングリコール、トリメチレ
ングリコール、１，３または１，４−ブチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘ
キサンメチレングリコール、デカメチレングリコ
ール、ビスフエノールＡ、ビスフエノールＦ、ｐ
−キシリレングリコール、１，４−シクロヘキサ
ンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ヘキ
サントリオール、ペンタエリスリツトまたはこれ
らのアルキレンオキサイド付加物などの１種また
は２種以上と、マロン酸、マレイン酸、コハク
酸、アジピン酸、グルタル酸、ピメリン酸、セバ
シン酸、シユウ酸、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸など酸の１種
または２種以上とからのポリエステルポリオール
や、またはプロピオラクトン、プチロラクトン、
カプロラクトンなどの環状エステルを開環重合し
たポリオール、さらに上記ポリオールと環状エス
テルとから、または上記ポリオール、二塩基酸、
環状エステルの３種からのポリエステルポリオー
ル例示できるまた、別の活性水素化合物としてポ
リカーボネートポリオレートより、前記ポリカー
ボネートポリオール、例えば一般式 Ｈ―（Ｏ−Ｒ−OCO）―_oROH 但し、 （ｎ≧１） で表わされる化合物で、Ｒはポリオールまたは多
価のフエノールの残基であり、前記ポリオールま
たは多価のフエノールとしてはたとえばトリメチ
レングリコール、ジエチサングリコール、１，３
−または１，４−ブチレングリコール、１，６−
ヘキサンメチレングリコール、デカメチレングリ
コール、ｐ−キシリレングリコール、ビスフエノ
ールＡ〔２，２−ビス（4′−ヒドロキシフエニル）
プロパン〕、ビスフエノールＦ（４，4′−ジヒドロ
キシジフエニルメタン）などがあげられる。 上記ポリウレタンの製造で用いる高分子ポリオ
ールとして、１，２−ポリブタジエンポリオー
ル、１，４−ポリブタジエンポリオール、ポリク
ロロプレンポリオール、ブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体ポリオール、ポリジメチルシロキ
サンジカルビノールなども用いられる。 以上のほか、ヒマシ油、脱水ヒマシ油などの水
酸基含有高級脂肪酸エステル、或いはポリテトラ
メチレンエーテルグリコールも使用できる。 さらに前記のポリエーテルポリオールないしポ
リエステルポリオールに、アクリロニトリル、ス
チレン、メチルメタアクリレートの如きエチレン
性不飽和化合物をグラフト重合させて得たポリマ
ーポリオールも使用できる。 これらの活性水素含有化合物は単独または２種
以上混合して使用する。 上記ポリウレタン化合物の製造で用いる有機イ
ソシアネートは既述したものが使用可能である。 また、上記のシリコン変性ポリウレタン、硼素
変性ポリウレタンの他に、繊維素系樹脂および／
又塩化ビニル系共重合体又はポリエステル樹脂を
含有せしめれば、磁性層との粘着を防ぐことがで
きる。ただし、繊維素系樹脂および／または塩化
ビニル系共重合体のみでは層が硬くなりすぎる
が、これは上述の変性ポリウレタンの含有によつ
て防止できる。 使用可能な繊維素系樹脂には、セルロースエー
テル、セルロース無機酸エステル、セルロース有
機酸エステル等が使用できる。セルロースエーテ
ルとしては、メチルセルロース、エチルセルロー
ス、プロピルセルロース、イソプロピルセルロー
ス、ブチルセルロース、メチルエチルセルロー
ス、メチルヒドロキシエチルセルロース、エチル
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース・ナト
リウム塩、ヒドロキシエチルセルロース、ベンジ
ルセルロース、シアノエチルセルロース、ビニル
セルロース、ニトロカルボキシメチルセルロー
ス、ジエチルアミノエチルセルロース、アミノエ
チルセルロース等が使用できる。セルロース無機
酸エステルとしては、ニトロセルロース、硫酸セ
ルロース、燐酸セルロース等が使用できる。ま
た、セルロース有機酸エステルとしては、アセチ
ルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリ
ルセルロース、メタクリロイルセルロース、クロ
ルアセチルセルロース、β−オキシプロピオニル
セルロース、ベンゾイルセルロース、ｐ−トルエ
ンスルホン酸セルロース、アセチルプロピオニル
セルロース、アセチルブチリルセルロース等が使
用できる。これら繊維素系樹脂の中でニトロセル
ロースが好ましい。ニトロセルロースの具体例と
しては、旭化成(株)製のセルノバBTH1／２、ニト
ロセルロースSL−１、ダイセル(株)製のニトロセ
ルロースRS1／２が挙げられる。ニトロセルロー
スの粘度（JIS、Ｋ−6703（1975）に規定されてい
るもの）は２〜1/64秒であるのが好ましく、特に
１〜1/4秒が優れている。この範囲外のものは、
磁性層の膜付及び膜強度が不足する。 また、使用可能な上記の塩化ビニル系共重合体
としては、 一般式： で表わされるものがある。この場合、

【式】ユニツト及び―〔Ｘ〕―_nユニツ トにおけるｌおよびｍから導き出されるモル比
は、前者のユニツトについては95〜50モル％であ
り、後者のユニツトについては５〜50％モルであ
る。また、Ｘは塩化ビニルと共重合しうる単量体
残基を表わし、酢酸ビニル、ビニルアルコール、
無水マレイン酸、無水マレイン酸エステル、マレ
イン酸、マレイン酸エステル、塩化ビニリデン、
アクリロニトリル、アクリル酸、アクリル酸エス
テル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、プ
ロピオン酸ビニル、グリシジルメタクリレート、
グリシジルアクリレートからなる群より選ばれた
少なくとも１種を表わす。（ｌ＋ｍ）として表わ
される重合度は好ましくは100〜600であり、重合
度が100未満になると磁性層等が粘着性をおびや
すく、600を超えると分散性が悪くなる。上記の
塩化ビニル系共重合体は部分的に加水分解されて
いてもよい。塩化ビニル系重合体として、好まし
くは、塩化ビニル−酢酸ビニルを含んだ共重合体
（以下、「塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体」と
いう。）が挙げられる。塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体の例としては、塩化ビニル−酢酸ビニ
ルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マ
レイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール−無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコール−無水マレイン酸−マレイ
ン酸の各共重合体等が挙げられ、塩化ビニル−酢
酸ビニル系共重合体の中でも、部分加水分解され
た共重合体が好ましい。上記の塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体の具体例としては、ユニオンカ
ーバイト社製の「VAGH」、「VYHH」、
「VMCH」、積水化学(株)製の「エスレツクＡ」、
「エスレツクＡ−５」、「エスレツクＣ」、「エスレ
ツクＭ」、電気化学工業(株)製の「デンカビニル
1000G」、「デンカビニル1000W」等が使用でき
る。 また、上記の塩化ビニル系重合体と繊維素系樹
脂をともに併用する場合は任意の配合比で使用さ
れてもよいが、重量比にして塩化ビニル系樹脂：
繊維素系樹脂を90／10〜５／95とするのが望まし
く、80／20〜10／90が更に望ましいことが確認さ
れている。この範囲を外れて、繊維素系樹脂が多
くなると（上記重量比が５／95未満）、べた付き
が発生し易くなつて表面性が悪くなることがあ
り、ドロツプアウトを起し易くなることがある。
また、塩化ビニル系共重合体が多くなると（上記
重量比が90／10を超えると）、非磁性粉の分散不
良を生じ易くなることがある。 また、バインダー組成全体については、上述の
ポリウレタンと、その他の樹脂（繊維素系樹脂お
よび／または塩化ビニル系共重合体との合計量）
との割合は、重量比で90／10〜50／50であるのが
望ましく、85／15〜60／40が更に望ましいことが
確認されている。この範囲を外れて、ポリウレタ
ンが多いと分散不良が生じ易くなつてジツターが
大きくなり易く、またその他の樹脂が多くなると
表面性不良となり易く、特に60重量％を超えると
塗膜物性が総合的にみてあまり好ましくなくな
る。 また、上述の凸部３に含有させてよい非磁性粒
子としては、窒化ホウ素、カーボンブラツク、グ
ラフアイト、二硫化タングステン、二硫化モリブ
デン、タルク、カオリ、硫酸カルシウム、ウン
モ、TiO₂、CaCO₃、Al₂O₃等からなるものが使用
可能である。これらのうち、へき（劈）開性を有
するもの、例えば窒化ホウ素、グラフアイト、二
硫化タングステン、二硫化モリブデン、ウンモ
は、特定の方向又は面に沿つてへき開面を有して
いるので、外力（特にテープガイド等による走行
方向への摩擦力）が加わつたときにへき開面で適
切なずれ力が生じ、これが摩擦係数の低下に効果
的に寄与し、走行時の滑り性を更に向上させるこ
とになる。この場合、モース高度2.5未満の非磁
性粉を含有せしめれば、凸部３の表面を適度に荒
らして（マツト化して）表面性を改良でき、また
カーボンブラツクの場合には導電性を付与して帯
電防止効果が得られる。カーボンブラツクと他の
非磁性粉とを併用すると表面性改良（走行性の安
定化）と導電性向上の双方の効果が得られ、有利
である。 例えば、凸部３を上述したポリウレタンとカー
ボンブラツクとで構成する場合、３：１以上（堆
積比）で配合してもよい。上記非磁性粒子のモー
ス硬度を2.5未満とすれば、非磁性粒子が適度な
柔らかさを有し、滑り性が良くなる。このため、
ジツター値や出力変動が少なくなる上に、キヤリ
アノイズの減少等の出力向上が得られる。しか
も、上記非磁性粒子の含有によつて、潤滑剤の添
加が不要となるか或いは少量で済むので、強度が
大きくなつて走行耐久性が向上し、かつ粘着性が
抑えられて貼付き、ステイツクスリツプが生じな
くなる。 こうした顕著な作用効果を得るには、上記非磁
性粒子のモース硬度は１以上、2.5未満とするの
がよく、１〜２とするのが更によい。 第１図に示した磁性層２に使用される磁性材
料、例えば磁性粉末、特に強磁性粉末としては、
γ−Fe₂O₃、Co含有γ−Fe₂O₃、Fe₃O₄、Co含有
Fe₃O₄、等の酸化鉄磁性粉；Fe、Ni、Co、Fe−
Ni−Co合金、Fe−Mn−Zn合金、Fe−Ni−Zn合
金、Fe−Co−Ni−Cr合金、Fe−Co−Ni−Ｐ合
金、Co−Ni合金等Fe、Ni、Co等を主成分とす
るメタル磁性粉等各種の強磁性粉が挙げられる。
又、これらの磁性材料は、蒸着、スパツタ、イオ
ンプレーテイングや各種デポジシヨン法等の飛翔
方法によつて支持体上に付着さしめ、磁性層２を
形成することもできる。このような飛翔方法によ
る磁性層の場合は、下記のようなバインダーは特
に必要とはしない（下引き層のような形で磁性層
と支持体の間にバインダー層が存在してもよい。
又、飛翔方法により形成された磁性層上に、本発
明における実質的に不連続な多数の凸部を加工に
よつて形成することは有効である。 この磁性層２のバインダーとして、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化
型樹脂との混合物が使用されてもよい。熱可塑性
樹脂としては、軟化温度が150℃以下、平均分子
量が10000〜200000、重合度が約200〜2000程度の
もので、例えばアクリル酸エステル−アクリロニ
トリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン
共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニト
リル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレ
ン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリ弗化ビ
ニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、スチレン
−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロ
ロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合
体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂およびこれらの混合物等が使用される。 熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布
液の状態では200000以下の分子量であり、塗布乾
燥後には縮合、付加等の反応により分子量は無限
大のものとなる。また、これらの樹脂のなかで樹
脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しない
ものが好ましい。具体的には、例えばフエノール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、
尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキツド樹脂、シリ
コン樹脂、アクリル系反応樹脂、高分子量ポリエ
ステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネート
プレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアル
デヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジカ
ール／トリフエニルメタントリイソシアネートの
混合物、ポリアミン樹脂、及びこれらの混合物等
である。電子線照射硬化型樹脂としては、不飽和
プレポリマー、例えば無水マレイン酸タイプ、ウ
レタンアクリルタイプ、ポリエステルアクリルタ
イプ、ポリエーテルアクリルタイプ、ポリウレタ
ンアクリルタイプ、ポリアミドアクリルタイプ
等、または多官能モノマーとして、エーテルアク
リルタイプ、ウレタンアクリルタイプ、リン酸エ
ステルアクリルタイプ、アリールタイプ、ハイド
ロカーボンタイプ等が挙げられる。 本発明にかかる強磁性粉末とバインダーとの混
合割合は、該強磁性粉末100重量部に対してバイ
ンダー５〜400重量部、好ましくは10〜200重量部
の範囲で使用される。バインダーが多すぎると磁
気記録媒体としたときの記録密度が低下し、少な
すぎると磁性層の強度が劣り、耐久性の減少、粉
落ち等の好ましくない事態が生じる。 さらに耐久性を向上させるために、磁性層に各
種硬化剤を含有させることができ、例えば上述し
たと同様のイソシアネートを含有させることがで
きる。 上記磁性層塗料を形成するのに使用される塗料
には必要に応じて分散剤、潤滑剤、研摩剤、帯電
防止剤等の添加剤を含有させてもよい。 使用される分散剤としては、レシチン、リン酸
エステル、アミン化合物、アルキルサルフエー
ト、脂肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレ
ンオキサイド、スルホコハク酸スルホコハク酸エ
ステル、公知の界面活性剤等およびこれらの塩が
あり、又、陰性有機基（例えば−COOH、−
PO₃H）を有する重合体分散剤の塩を使用するこ
とも出来る。これら分散剤は１種類のみで用いて
も、あるいは２種類以上を併用してもよい。これ
らの分散剤は磁性粉100重量部に対し１〜20重量
部の範囲で添加される。また、潤滑剤としては、
シリコーンオイル、グラフアイト、カーボンブラ
ツク、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、
ラウリン酸、ミリスチン酸等の高級脂肪酸、炭素
原子数12〜16の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素
原子数と合計して炭素原子数が21〜23個の一価の
アルコールから成る脂肪酸エステル等も使用でき
る。これらの潤滑剤は磁性粉100重量部に対して
0.2〜20重量部の範囲で添加される。使用しても
よい研摩材としては、一般に使用される材料で溶
融アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、コランダ
ム、人造コランダム、ダイヤモンド、人造ダイヤ
モンド、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダ
ムと磁鉄鋼）等が使用される。これらの研摩材は
平均粒子径0.05〜5μの大きさのものが使用され、
特に好ましくは、0.1〜2μである。これらの研摩
材は磁性粉100重量部に対して１〜20重量部の範
囲で添加される。使用してもよい帯電防止剤とし
ては、上述した如きカーボンブラツクをはじめ、
グラフアイト、酸化スズ−酸化アンチモン系化合
物、酸化チタン−酸化スズ−酸化アンチモン系化
合物などの導電性粉末；サポニンなどの天然界面
活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセリン
系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩
類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニウム
またはスルホニウム類などのカチオン界面活性
剤；カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステ
ル基、燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン
界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸類、
アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等
の両性活性剤などがあげられる。 なお、上記の分散剤、潤滑剤等は、上述した
BC層中に含有せしめることができる。 磁性塗料の溶媒または磁性塗料塗布の際に使用
する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類；メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール等のアルコール類；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチ
レングリコールモノアセテート等のエステル類：
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；メチレ
ンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素等のものが使用できる。これらの溶
媒は、上述の凸部３の形成時にも使用可能であ
る。 また、上述した支持体１の素材としは、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−
ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレ
ン等のポリオレフイン類、セルローストリアセテ
ート、セルロースダイアセテート等のセルロース
誘導体、ポリカーボネートなどのプラスチツク、
Al、Znなどの金属、ガラス、窒化珪素、炭化珪
素、磁器、陶器等のセラミツクなどが使用され
る。これら支持体の厚みはフイルム、シート状の
場合は約３〜100μｍ程度、好ましくは５〜50μｍ
であり、デイスク、カード状の場合は、30μｍ〜
10mm程度であり、ドラム状の場合は円筒状とし、
使用するレコーダーに応じてその型は決められ
る。 支持体上へ前記磁性塗料を塗布し磁性層を形成
するための塗布方法としては、エアードクタコー
ト、ブレードコート、エアーナイフコート、スク
イズコート、含浸コート、リバースロールコー
ト、トランスフアーロールコート、グラビアコー
ト、キスコート、キヤストコート、スプレイコー
ト等が利用でき、その他の方法も可能である。こ
のような方法により支持体上に塗布された磁性層
は必要により層中の強磁性粉末を配向させる処理
を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。また
必要により表面平滑化加工を施したり所望の形状
に裁断したりして、本発明の磁気記録体を製造す
る。 なお、上記の塗布方法は、上述したBC層の形
成時にも採用することができる。 次に、上述した磁気記録媒体、例えば磁気テー
プの製造方法を第４図について説明する。 まず、供給ロール１０から繰出されたフイルム
状支持体１は、公知のロールコーター１１により
磁性塗料２を塗布後、乾燥器１２に導入し、ここ
で上下に配したノズル１３から熱風１４を導入し
て乾燥する。次に乾燥された磁性層付きフイルム
１を公知のカレンダーロール１５においてカレン
ダー処理し、次いで噴霧器（スプレー）１６へ導
入する。 このスプレー１６は、ノズル１７からエア１８
を陽圧で導入しながら、エアレススプレーガン１
９からフイルム２の裏面に対し、上述したバイン
ダー（望ましくは非磁性粉との混合物）溶液４を
噴霧させ、第２Ａ図ａ，ｂに示した如き粒状パタ
ーンに付着せしめる。 次いで、スムーザー２０にかけ、裏面の液滴を
平坦化して第２Ｂ図ａ，ｂに示した形に押し潰
す。但し、このスムーザー２０により平坦化工程
は必ずしも必要ではない。しかる直後に、隣接し
た乾燥器２１に入れ、ノズル２２からの熱風２３
により上記液滴を乾燥させ、更に巻取ロール２４
上に順次巻取る。 このような製造方法によれば、特に支持体裏面
の上述した微小凸部３をスプレー１６におけるス
プレー塗布により容易に形成でき、その分布やサ
イズもスプレーガン１９等のコントロールによつ
て正確に制御することができる。 第５図は、第４図の変形例を示すものであつ
て、第４図のカレンダー工程までは同様に処理す
るが、この直後に、ロールコーター２５によつて
BC層形成用の塗布液２６を支持体裏面に塗布し、
この後に乾燥兼押圧加工部２７へ導入する。 この加工部２７で、排気管２８からエア２９を
導入してBC層塗布液を乾燥しながら、押圧ロー
ル３０によつてBC層を押圧加工する。押圧ロー
ル３０は第６図に示す如く、島状の多数の小凹部
３１が設けられたパターンを周面に有していて、
第５図のようにBC層に押圧することによつて、
上記小凹部３１に対応した小凸部（第１図の３に
相当）を第７図の如くBC層３２自体に形成する
ものである。押圧ロール３０は、表面性コントロ
ールが容易な材質からなつているのがよく、金属
が好ましい。また、加圧中は温度をコントロール
すると、より良好な結果が得られる。温度として
は、20℃〜200℃が効果的である。 こうして得られたBC層３２は表面側に多数の
不連続な凸部３を有したものとなるから、上述し
たと同様の作用効果を発揮することができる。 以上に説明した例はいずれも、支持体１の裏面
側に小凸部３を形成する場合であるが、これと同
様の小凸部を磁性層２上に形成し、公知のオーバ
ーコート層（以下、OC層と称する。）の機能をも
たしめてもよい。 即ち、第８図に示す如く、支持体１の裏面に従
来と同様のBC層３２を形成する一方、磁性層２
の表面に、第４図に示した方式（スプレー塗布）
によるOC層形成用溶液のスプレー、乾燥で、微
小な不連続小凸部３′を形成してもよい。この場
合のOC層用の溶液は上述したバインダー溶液で
あつてよいし、或いは高級脂肪酸エステル等の潤
滑剤等公知のものが使用できる。 また、磁性層２の表面に公知のOC層を形成し、
これを第５図、第６図に示した押圧ロールで処理
し、OC層自体に小凸部３′を形成することもでき
る。 なお、上述の小凸部３又は３′は、支持体裏面
側と表面側との双方に同時に設けることもでき
る。 なお、上述の凸部３は、第５図、第６図の方式
を用いれば、第９図の如きパターンに形成するこ
とができる。このパターンによれば、走行方向３
３に対しガイド部材に斜めに当たる面３４を凸部
３が有しているため、その面３４に沿う方向にテ
ープが走行する傾向があるが、面３４が場所的に
みて一様に、かつその方向が規則的に変化するこ
とになる。従つて、テープの走行方向が平均化さ
れ、常に一定方向にして振れのない状態で走行さ
せることが可能である。 なお、上述の例はいずれも塗布型磁性層を有す
る媒体に関するものであるが、本発明は、蒸着法
による磁性層を有する媒体にも適用可能である。
この場合にはカレンダー処理は不要である。 以下、本発明を具体的な実施例につき説明す
る。以下に示す成分、割合、操作順序等は、本発
明の精神から逸脱しない範囲において種々変更し
うる。なお、下記の実施例において「部」はすべ
て「重量部」を表わす。 下記組成からなる磁性塗料を調製した。 Co含有γ−Fe₂O₃ 100部 ポリウレタン（グツトリツチ社製エスタン5701）
40部 ニトロセルロース（ダイセル社製セルライン
RS1／２ 20部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（U.C.C.社製
VAGH） 10部 レシチン ２部 ミリスチン酸 １部 ラウリン酸 １部 メチルエチルケトン 72部 トルエン 50部 シクロヘキサノン 80部 カーボンブラツク（コンダクテツクス975） ２部 この組成物をボルーミルで充分に撹拌混合し、
更に多官能イソシアネート（日本ポリウレタン社
製コロネートＬ）を10部添加した後、平均孔径
1μｍのフイルターで濾過した。次いで第４図の
装置を用い、磁性塗料を厚さ14μｍのポリエチレ
ンテレフタレートベースの表面に乾燥厚さ4μｍ
となるように塗布した。そして乾燥後にカレンダ
ー処理し、更にスプレーにて次の組成物をベース
裏面に吹付けた。 カーボンブラツク（上記） 50部 ポリウレタン（上記） 50部 ニトロセルロース（上記） 25部 シクロヘキサン 400部 しかる後、乾燥してから巻取り、更に公知のス
リツテイング方法で所定幅（例えば12.7mm幅）に
切断し、磁気テープを得た。 一方、比較のために、従来例に基いて、連続層
からなるBC層を形成した磁気テープを作成した。 各テープをVHS方式のVTRを使用してテスト
を行なつたところ、下記表に示す結果が得られ
た。但、各測定法は次の通りであつた。 ベース裏面側を磁性層との粘着： テープ巻回時に相当する両層間の粘着性を観察
し、○印は粘着なし、×印は粘着ありを示す。 ジツター値： メグロ・エレクトロニクス社製のVTRジツタ
ーメーター「MK−612A」を使用し、30℃、
80％RHの高温多湿下で走行回数０回、100回
後の各ジツターを測定した。 エツジ折れ： VTRのローデイング時にカセツトから引出さ
れるテープの端部がガイドピン上で折れ曲る現
象を観察した。 100Pass後の走行キズ： テープを100回走行させたときにキズが発生し
ているか否かを観察した。

【表】 この結果から、本発明に基づくテープは、比較
テープに比べ、摩擦係数が充分に低く、粘着、エ
ツジ折れ、走行キズがなく、ジツターや出力変動
も少ないことが明らかである。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであつて、第
１図は磁気記録媒体の断面図、第２Ａ図ａは支持
体の裏面図、第２Ａ図ｂは同支持体の一部分の拡
大断面図、第２Ｂ図ａは平坦化処理後の支持体の
裏面図、第２Ｂ図ｂは同支持体の一部分の拡大断
面図、第３図は第１図の要部拡大図、第４図は磁
気記録媒体の製造プロセスフロー図、第５図は第
４図の変形例による製造プロセスの要部、第６図
は押圧ロールの正面図、第７図は他の磁気記録媒
体の断面図、第８図は更に他の磁気記録媒体の断
面図、第９図は他の支持体の裏面図である。 なお、図面に示した符号において、１……支持
体、２……磁性層又は磁性塗料、３，３′……小
凸部、４……液滴、１１，２５……コーター、１
２，２２……ドライヤー、１３，１７，２２……
ノズル、１５……カレンダーロール、１９……ス
プレーガン、２６……BC層形成用塗布液、２７
……押圧加工部、３０……押圧ロール、３１……
小凹部、３２……BC層である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 磁性層が支持体上に設けられてなる磁気記録
   媒体において、 前記磁性層とは反対側の前記支持体の表面から
   頂部までの凸高さは0.01〜0.05μｍ、 凸面積が前記磁性層とは反対側の支持体の全表
   面積の25〜80％、 凸同士は不連続 の条件を満足する多数の凸が前記磁性層とは反対
   側の支持体の表面に形成されていることを特徴と
   する磁気記録媒体。 ２ 磁性層が支持体上に設けられてなる磁気記録
   媒体の製造方法において、 前記磁性層とは反対側の前記支持体の表面から
   頂部までの凸高さは0.01〜0.05μｍ、 凸面積が前記磁性層とは反対側の支持体の全表
   面積の25〜80％、 凸同士は不連続 の条件を満足する多数の凸を噴霧手段によつて前
   記磁性層とは反対側の前記支持体の表面に形成す
   ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。