JPS60111338A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １、産業上の利用分野 本発明は、磁気テープ、磁気シート、磁気ディスク等の
磁気記録媒体及びその製造方法に関するものである。

２、　従来技術 一般に１．磁気記録媒体は、磁性粉とバインダー等を含
む磁性塗料を支持体上に塗布、乾燥して製造される。　
そして、高品質化のために近時、磁性層とは反対側の支
持体面上に非磁性粉末をバインダーで固めて々るバック
コート層（以下、ＢＣ層と略す。）が施されるようにな
った。　即ち、ＢＣ層の存在によって、例えば磁気テー
プをＩＪ−ル上に巻回したときの磁性粉の粉落ちの防止
及びテープ巻き状態の安定化、テープ走行性の向上等を
図ることができる。　また、８０層中に非磁性粉末を含
有させることによって、ＢＣ層の表面が適度な表面粗さ
に設定でき、テープデツキ側のガイドピン等に対するテ
ープ摺接時に、その擦れ合いからＢＣ層を保護してテー
プ走行耐久性を上げることができる。

こうしたＢＣ層は、例えば特開昭５７−２０８６３６号
、５７−２０８６３７号公報に示されているように、非
磁性粉をニトロセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリウレタン等に分散せしめたものからなって
いる。　このＢＣ層の表面粗さについては種々提案され
ており、しｌえば特開昭５２−１０２００４号公報では
、ＢＣ層の塗料中に予め所定粒径のスパイク粒子を混合
している。

しかしながら、これまで提案されてきた技術はいずれも
、８０層中の粒子の種類及び粒径等によって表面粗さを
制御しているので、その制御は容易ではなく、塗布後の
表面性は塗料組成で一義的に決まってしまう。

３、発明の目的 本発明の目的は、磁性層とは反対側の支持体上及び／又
は前記磁性層上の面が所望のパターンに制御性良く利さ
れ、とれによって走行時のべた付き等が減少せしめられ
、特性の改良された磁気記録媒体を提供することにある
。

本発明の他の目的は、そうした磁気記録媒体を再現性良
く製造できる方法を提供することにある。

４　発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、磁性層を支持体上に有する磁気記録媒
体において、前記磁性層とは反対側の前記支持体上のＢ
ｅ層と、前記磁性層上のオーバーコート層（以下、００
層と称する。）との少なくとも一方の表面側に、多数の
凸部又は四部が加工によって形成されていることを特徴
とする磁気記録媒体に係るものである。

この磁気記録媒体によれば、磁性層とは反対側の支持体
上のＢＣ層と、磁性層上の００層との少なくとも一方の
表面に、上記の多数の凸部又は凹部が設けられているの
で、適度な表面粗さにすることによって、同面が接触す
るガイド部材、ヘッド等との摩擦を減らしてべた付き等
を減少させ、ジッターの減少、走行安定性、走行耐久性
等の諸性能の向上を実現することができる。　こうした
効果は、上記凸部が加工によって形成されたものである
ことによって得られ、これが極めて重要である。　即ち
、凸部又は凹部が加工で形成されるので、加工手段又は
パターンを決めれば、常に精度良く望むパターンに凸部
又は凹部を形成でき、そのコントロールが容易である。

　従って、支持体上の上記面の相さ制御は任意に所望の
ノくターン、サイズで行表うことかできるので、上記し
た諸性能を確実に得ることができる。

本発明はまた、上記磁気記録媒体を製造する方法として
、次の２つの方法も提供するものである。

その第１の方法は、前記ＢＣ層及び／又は前記００層を
形成した後、その表面に噴霧手段によって所定の物質を
粒状に付着せしめることを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法である。　また、第２の方法は、前記ＢＣ層及び
／又は前記００層を形成した後、その表面に機械的加工
によって多数の凸部又は四部を形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法である。

これらの製造方法はいずれも、本発明の磁気記録媒体に
おける上記した凸部又は四部を再現性良く確実に得るこ
とができるものである。　特に、第１の方法は、支持体
上にＢＣ層及び／又は００層を形成した後、噴霧塗布に
よって上記凸部を形成することができる。　また、第２
の方法は、抑圧加工又はエンボシングや、切削加工又は
引かき加工によって上記凸部又は四部を形成できるもの
である。

５、実施例 以下、本発明を実施例について更に詳細に説明する。

第１図には、磁気記録媒体の一例の断面が示されている
が、この例では、支持体１の表面側に公知の如くに磁性
層２が（場合によっては下びき層を介して）形成され、
支持体１の裏面側には走行安定性及び走行耐久性、巻き
姿安定性等のために公知の８０層３２が形成され、更に
このＢＣ層上にＢＣ層の機能を著しく向上させるのに寄
与する微小凸部３が多数形成されている。

この凸部３は、後述する噴霧塗布加工によってＢＣ層３
２上に一体に形成することができる。　この場合、噴霧
塗布直後には、第２Ａ図（ａ）、（ｂ）に示すように噴
霧液体の微小液滴４がＢＣ層３２上にほぼ一様に撒布し
て粒状に付着せしめられる。　この際、第２Ａ図（ｂ）
のように、各液滴４は、ＢＣ層３２側から付着順に乾燥
してゆき、乾燥部分４ａとこれを包む液状部分４ｂとか
らなっている。　そして、本来の乾燥工程に入る前に、
後述するスムーザによって、各液滴４は第２Ｂ図（ａ）
、（）＋）に示す如くに幾分押潰され、平担化されると
同時に面積的に拡大された状態となる。　この状態で乾
燥することによって、第２Ｂ図とほぼ相似形の固化した
島状の微小凸部３（第１図参照）が得られる。

第３図には、凸部３が拡大図示されている。

これらの凸部３は、第２Ｂ図（ａ）に示したパターンに
分布していて、各凸部間は実質的に不連続、即ち島状に
配されている。　但、実際には、各凸部３間は、第３図
のように薄層部分３ａを介して互いに連なシ合っている
ことがあるが、この場合でも各凸部３自体は実質的に不
連続であるといえる。

こうして、支持体１の裏面に、望ましくは従来のＢＣ層
と同一材質から々る多数の微小凸部３が島状に存在した
状態となっているので、この裏面側がテープガイド等の
ガイド部材に摺接する際、両者間の摩際力を低減させ、
べた付き現象を可能な限シ少なくすることができる。　
このためには、第３図中、微小凸部３の高さをｈｌその
頂部から薄層部３ａｉでの深さをｈ′とした場合、ｏ、
ｓ（ｈ′／ｈ≦１．０とするのが望ましい。この比が０
．８未満では凸部３としての作用が弱くなる。　また、
実質的には、凸部３の高さｈは０００５〜０．１μｍと
してよく、００１〜０．０５μｍとするのが望ましい。

　更に、凸部３の分布率は、８０層３２の全面積に対し
２５〜８０チ（占有率）とするのがよい。

凸部３自体はバインダー樹脂（望ましくはカーボンブラ
ック等の非磁性粉との混合物）からなっているので、８
０層３２と一体化されて接着力は充分あシ、耐久性が充
分である。　凸部３の厚みは０．１μｍ以下にでき、し
かも下地３２と完全に一体となっているために凸部３を
含む８０層３２の厚みは小さくすることができ、これに
伴々って支持体１の厚みを従来のものより厚くすること
が可能である。　これによって支持体の屈曲時の剛性（
ペンディングスティフネス）を大きくシ、耐久性、スギ
マー等を向上させることができる。

本例では、上記凸部３のバインダー（更には８０層３２
のバインダー）としてポリウレタンが使用可能である。

　このポリウレタンは、他の物質に対する接着力が強く
、反復して加わる応力又は屈曲に耐えて機誠的に強靭で
あシ、かつ耐摩耗性、耐候性が良好である〇 使用するポリウレタンとしては、シリコン変性ポリウレ
タン、ボロン変性ポリウレタンが望ましい０ シリコン変性ポリウレタンは、活性水素化合物として少
なくとも１つ以上のシロキサン結合を有する活性水素化
合物、たとえば、下記一般式〔■〕のポリシロキサンジ
オールを用い、これをインシアネートと反応させた重合
体がよい。

すなわち、ポリシロキサンジオールは、一般式〔Ｉ〕： （ただし、Ｒは炭素原子数１〜２０個のアルキレン基、
Ｙｌ、Ｙ２はアルキル基又はアリール基であり　、ｙｌ
とＹ２は同一でも異なっていてもよく、ｎは一般式ＣＩ
）の化合物の平均分子量が１５０〜１０．０００となる
ような実数である。）で示されるポリジメチルシロキサ
ンジオールである。

Ｙ”、Ｙ”としてはメチル基、フェニル基が好ましく、
特にメチル基が望ましい。

一般式〔Ｉ〕で示される炭素原子数１〜２０個のアルキ
レン基（２）としてはメチレン、エチレン、プロピレン
、ブチレン、ヘキシレン、オクチレン、ドデシレン基な
どである。　また、一般式〔■〕で示されるポリシロキ
サンシカルビノールの分子量の好ましい範囲は５００〜
１０，０００であって、その中でも特に、１，０００〜
６，０００のものが好ましい。

この他、Ｙｌ、Ｙ２として特に好ましいメチル基の一部
が炭素原子数２〜３０個のアルキル基、ハロアルキル基
、シアノアルキル基、アリルアルキル基、ビニル基、ア
クリル基などのアルケニル基、アリル基、アルキルアリ
ル基、アルケニルアリル基、ハロアリル基から選ばれた
１種又は２種以上の基で置換されている化合物、あるい
は水素又はノ・ロゲンで置換されている化合物を使用し
てもよい。

イソシアネートを示すと表−１に示すような化上記シリ
コン変性ポリウレタンの数平均分子量は重要であって、
５，０００〜２００，０００の範囲のものが好ましく、
平均分子量が５，０００未満であると薄膜を形成後に、
滲み出し、粘着トラブルを生じ易い。　平均分子量が２
００，０００よシ大きいと、塗布液の粘度が高くなシす
ぎて均一な塗布が困難になる０ ポリウレタンの中で、インシアネートと反応する活性水
素化合物（例えばポリオール、ポリオールポリエステル
やグリコール成分等）によって形成されている部分にあ
るシロキサン結合を有する活性水素化合物（例えばシロ
キサン結合を有するグリコール成分等）の含有量が１〜
５０重量％の範囲のものが望ましく、特に好ましいのは
５〜２５重量％の範囲のものである。　シロキサン結合
を有する活性水素化合物の割合が、シリコン変性ポリウ
レタンにおいてＬ重量係以下であると、記録媒体を形成
したとき滑シ性が不足し、５０重量％を越えると、強度
（たとえば引り張シに対する。）を低下させる場合があ
る。

使用できるシリコン変性ポリウレタンの機械的強度は、
日本工業規格Ｊ　ＩＳ−に６３０１に規定する試験測定
により、 伸び：２〜１．，０００渠 引っ張り強度：　１（１〜６５０１（ｙ　７ｍ”である
。　また、後述するように磁気記録媒体としたときのバ
ックコート層側の摩擦係数は０．１９〜０３０の範囲の
ものが好ましい。　ただし、この摩擦係数の測定は直径
４−のステンレス製の固定ピンに磁性層側を接触させて
１８０度巻きつけ、固定ピンに対して入口側張力を５０
に、に保ち、テープ速度３．３ｔｙｎ／秒における出口
側の張力を測定し、下記式から摩擦係数μをめた。

また、シリコン変性ポリウレタンは、通常のポリウレタ
ンにはみられぬ低い摩擦係数を示すので、他のバインダ
ーと併用しないで単独でも使用できるが、ポリウレタン
は軟らかいためにリールに巻い゛Ｃ保存するときに、支
持体裏面と磁性層が貼シ合わさってしまうトラブルを生
じることがある。

したがって、他のより硬いバインダーと併用するのが好
ましい。　更に、非磁性粉末を併用すると効果的に粘着
を防止できる。

他のバインダー／シリコン変性ポリウレタンの配合重量
比は７５／２５〜２５／７５の範囲で使用することが好
ましい。

他のバインダーの配合比が７５／２５を越えると、支持
他に対する接着力が劣化し、粉落ち、けずれ等が起とシ
やすく、ドロップアウト増大の原因となることがある。

これに反し、シリコン変性ポリウレタンが２５／７５よ
りも多くなると、「べたつき」を生じ易く、リールに巻
かれた状態で保存するとき、周囲雰囲気の温湿条件によ
シ、磁性層と支持体裏面とが貼り合わされることがある
。

捷た、上記シリコン変性ポリウレタンに代えて、或いは
これと併用して、下記一般式（６）で表わされる硼素含
有ユニットを有する高分子化合物を使用することも望ま
しい。　ただし、一般式（ＩＩ）は、で表わされる１価
の基又は２価の基であり、Ｘｌ、Ｘ　２　、Ｘ　Ｂおよ
びＸ４のうちの少なくとも１つが酸素原子を介してポリ
マー鎖とｒ−０−Ｒ−Ｊなる結合を有しており、Ｒは２
価の炭化水素残基である０ この高分子化合物は、前記一般式（Ｉ）で表わされる硼
素含有ユニットをポリマーの主鎖若しくは側鎖、主鎖若
しくは側鎖の末端又は主鎖若しくは側鎖にペンダントさ
れたものであってもよい。

前記一般式（Ｉ）で表わされる硼素含有ユニットを例示
すると、 （１）　グリセロールボ１／−トラウレートから由来す
る硼素含有ユニット、 （２）　グリセロールボレートパルミテートから由来す
る硼素含有ユニ、ト、 （３）　グリセロールボレートステアレートから由来す
る硼素含有ユニット、 （４）　グリセロールボレートオレエートかう由来スる
硼素含有ユニット、 （５）　グリセロールボレートイソオクタデカノエート
から由来する硼素含有ユニット、 （６）　グリセロールボレートヒドロキシステアレート
から由来する硼素含有ユニット、 （７）ポリオキシエチレングリセロールボレートラウレ
ートから由来する硼素含有ユニット、（８）ポリオキシ
エチレングリセロールボレートパルミテートから由来す
る硼素含有ユニ、ト、（９）ポリオキシエチレングリセ
ロールボレートステアレートから由来する硼素含有ユニ
ット、００　ポリオキシエチレングリセロールボレート
オレエートから由来する硼素含有ユニット、０１）　ポ
リオキシエチレングリセロールイソオクタデカノエート
から由来する硼素含有ユニット、α２　グリセロールボ
レートベンゾエートから由来する硼素含有ユニット、 ＨグＩＪセロールボレートシンナモエートカラ由来する
硼素含有ユニ、ト、 （１４グリセロールボレートイソステアレートから由来
する硼素含有ユニット、 などが挙げられる。

前記一般式（１１）で衣わされる硼素含有ユニットを有
する高分子化合物の製造方法として、ポリウレタンを例
にとって説明する。　ただし、以下の説明では簡単のた
め、硼素含有ユニットの原料化合物として、一般式（Ｉ
ｌｌ　）又は（ＴＶ）の化合物を用いた場合について説
明する。　ただし、一般式（ｍ）は、 で表わされ、Ｒは炭素原子数２〜４個のアルキレン基、
Ｘは水素原子または炭素原子数８〜２２個のアシル基、
１およびｍはそれぞれθ〜２０の実数であり、一般式（
ＩＩ）においてＲで示される炭素原子数２〜４個のアル
キレン基は例えばエチレン、プロピレン及びブチレン基
およびこれらの異性化したものであり、Ｘで示される炭
素原子数８〜２２個のアシル基は例えばオクタノイル、
ノナノイル、デカノイル、ウンデシロイル、ラウロイル
、トリデシロイル、ミリストイル、ペンタデシロイル、
バルミトイル、マーガロイル、ステアロイル、インステ
アロイル、ヒドロキシステアレート、オレオイル、ベヘ
ノイル基などである。

一般式（ｍ）を有する化合物には、ポリオキシエチレン
グリセロールボレート（ポリオキシエチレンとは”ｃ　
０２　Ｈ４０＋１で表わされる基で１は前記Ｊ、または
ｍと同じ）、グリセロールボレート・ラウレート、グリ
セロールボレート拳ハルミテート、グリセロールボレー
ト・ステアレート、グリセロ−身ボＶ−ト・オレエート
、グリセロールボレート・イソステアレート、グリセロ
ールボレート・ヒドロキシステアレート、ポリオキシエ
チレングリセロールボレート・ラウレート、ポリオキシ
エチレングリセロールボレート・パルミテート、ポリオ
キシエチレングリセロールボレート・ステアレート、ポ
リオキシエチレングリセロールボレート拳オレエート、
ポリオキシエチレングリセロールボレート−インステア
レート、ポリオキシエチレンオキシプロピレングリセロ
ールボレート・ラウレート、ポリオキシエチレンオキシ
プロピレングリセロールボレート番パルミテート、ポリ
オキシエチレンオキシプロピレングリセロールボレート
・ステアレート、ポリオキシプロピレングリセロールボ
レート・ラウレート、ポリオキシプロピレングリセロー
ルボレート・パルミテート、ポリオキシプロピレングリ
セロールボレート・ステアレート、ホリオキシプロピレ
ングリセロールボレート番インステアレート、ポリオキ
シプロピレングリセロールボレート・オレエートなどが
ある。

一般式（ｍ）を有する化合物において、アルキレンオキ
サイドの付加数（Ｊ　＋ｍ　）は０乃至３ｏが一般式（
６）で表わされるユニ、トを含有する高分子化合物を本
発明にかがる磁気記録媒体に例えば結合剤として用いた
場合の諸性能の点において好ましい〇 一般式（ＩＩＩ　）で示されるこれらのグリセリン硼酸
エステル類は単独で使用してもよく、２種以上を混合し
て使用してもよい。　また下記一般式（ＩＶ）で示され
るジアシルエステル との混合物を使用することもできる。　ただし、一般式
（ＩＶ）において、 Ｒは、前記一般式（ｍ）と同様のアルキレン基、Ｘは一
般式（ＤＩ）と同様のアシル基、Ｊおよびｍは一般式（
ＩＩ）と同様の実数を示す。

一般式（■）の例示化合物としては前記一般式（ＩＩＴ
）の例示化合物と同様でジアシル体としたものをあげる
ことができる。

一般式（１■）又は（ＩＶ）で示されるグリセリンの硼
酸エステルはポリウレタンを形成する際に有機イソシア
ネートと反応し、生成したポリウレタン樹脂（単にポリ
ウレタン、ウレタンともいう）に化学的に結合する。　
したがって硼酸エステルは滓出、移行などを起さぬため
、その効果を長期間持続することができる。　その量は
下記の活性水素含有化合物に由来するユニットに対し５
重量％〜活性水素化合物ユニットと同量が適当である。

５１ｆｔ％以下では上記高分子化合物を使用した効果が
不十分であり、またこの範囲を越えると結合剤としての
ポリウレタン樹脂の物性が好ましくなく、諸性能が低下
しゃすい。

上記ポリウレタンの製造式使用する活性水素含有化合物
としてはたとえば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、プロピレングリコール、１．４−７’チレン
グリコール、ビスフェノールＡ１グリセリン、１，３．
６−ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペ
ンタエリスＩＪ）　−ル、ソルビトール、スクロース、
ジプロピレングリコール、メチルジェタノールアミン、
エチルジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミ
ン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ビス
（ｐ−アミノシクロヘキサン）、トリレンジアミン、ジ
フェニルメタンジアミン、メチレンビス（２−クロルア
ニリン）等の化合物、およびこれらの化合物に、エチレ
ンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサ
イド、テトラヒドロフラン、スチレンオキサイドなどを
１種または２種以上（以下単にアルキレンオキサイドと
略記する。）付加して得られるポリエーテルポリオール
があげられる。　また前記活性水素化合物としてはポリ
エステルポリオールも使用でき、前記ポリエステルポリ
オールはたとえば、エチレングリコール、ジエチレンク
リコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコ
ール、トリメチレングリコール、１，３−または１，４
−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，
６−へキサメチレングリコール、デカメチレングリコー
ル、ビスフェノールＡ１　ビスフェノールＦｓ　ｐ−キ
シリレンクリコール、１．ｌ−シクロヘキサンジオーノ
へ１．４−シクロヘキサンジメタツール、グリセリン、
トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、ペンタ
エリスリットまたはこれらのアルキレンオキサイド付加
物などの１種または２種以上と・マロン酸、マレイン酸
、コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、ピメリン酸、セ
バシン酸、シ＝つ酸、フクル酸、インフタル酸、テレフ
タル酸、ヘキサヒドロフタル酸々ど酸の１併重たは２種
以上とからのポリエステルポリオールや、またはプロピ
オラクトン、ブチロラクトン、カプロラクトンなどの環
状エステルを開環重合したポリオール、さらに上記ポリ
オールと環状エステルとから、または上記ポリオール、
二塩基酸、環状エステルの３種からのポリエステルポリ
オール例示できるまた、別の活性水素化合物としてポリ
カーボネートポリオレートよシ、前記ポリカーボネート
ポリオール、例えば一般式　Ｈ（−０−Ｒ−ＯＣＯ−）
　ＲＯＨ但し、（ｎ≧１）で表わされる化合物で、Ｒは
ポリオールまたは多価のフェノールの残基であり、前記
ポリオールまたは多価のフェノールとしてはたとえばト
リメチレングリコール、ジエチレングリコール、１．３
−−４たは１，４−ブチレングリコール、１．６−へキ
サメチレングリコール、デカメチレングリコール、ｐ−
キシリレングリコール、ビスフェノールＡ［２，２−ビ
ス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン〕、ビスフェ
ノールＦ（４，４’−ジヒドロキシジフェニルメタン）
などがあげられる。

上記ポリウレタンの製造で用いる高分子ポリオールとし
て、１，２−ポリブタジェンポリオール、１．４−ポリ
ブタジェンポリオール、ポリクロロプレンポリオール、
プクジエンーアクリロニトリル共重合体ポリオール、ポ
リジメチルシロキサンジカルピノールなども用いられる
。

以上のほか、ヒマシ油、脱水ヒマシ油などの水酸基含有
高級脂肪酸エステル、或いはポリテトラメチレンエーテ
ルグリコールも使用できる。

さらに前記のポリエーテルポリオールないしポリエステ
ルポリオールに、アクリロニトリル、スチレン、メチル
メタアクリレートの如きエチレン性不飽和化合物をグラ
フト重合させて得たポリマーポリオールも使用できる。

これらの活性水素含有化合物は単独または２種以上混合
して使用する。

上記ポリウレタン化合物の製造で用いる有機インシアネ
ートは既述したものが使用可能である。

また、上記のシリコン変性ポリウレタン、硼素変性ポリ
ウレタンの他に、繊維素系樹脂および／又は塩化ビニル
系共重合体又はポリエステル樹脂を含有せしめれば、磁
性層との粘着を防ぐことができる。　ただし、繊維素系
樹脂および／または塩化ビニル系共重合体のみでは層が
硬く々シすぎるが、これは上述の変性ポリウレタンの含
有によって防止できる。

使用可能な繊維素系樹脂には、セルロースエーテル、セ
ルロース無機酸エステル、セルロース有機酸エステル等
が使用できる。　セルロースエーテルトシテハ、メチル
セルロース、エチルセルロース、フロビルセルロース、
イソプロピルセルロース、ブチルセルロース、メチルエ
チルセルロース、メチルヒドロキシエチルセルロース、
エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース・ナトリウム
塩、ヒドロキシエチルセルロース、ベンジルセルロース
、シアノエチルセルロース、ビニルセルロース、ニトロ
カルボキシメチルセルロース、ジエチルアミノエチルセ
ルロース、アミノエチルセルロース等が使用できる。　
セルロース無機酸エステルとしては、ニトロセルロース
、硫酸セルロース、燐酸セルロース等が使用できる。　
また、セルロース１ｍエステルとしては、アセチルセル
ロース、プロピオニルセルロース、フチリルセルロース
、メタクリロイルセルロース、クロルアセチルセルロー
ス、β−オキシプロピオニルセルロース、ベンゾイルセ
ルロース、ｐ−）ルエンスルホン酸セルロース、アセチ
ルグロビオニルセルロース、アセチルブチリルセルロー
ス等が使用できる。　これら繊維素系樹脂の中でニトロ
セルロースが好ましい。　ニトロセルロースの具体例と
しては、無化成（株）製のセルツバＢＴＨＩ／２、ニト
ロセルロース５Ｌ−１、ダイセル（株）　製のニトロセ
ルロースＲ８１／２が挙げられる。　ニトロセルロース
の粘度（Ｊ　Ｉ　Ｓ、　Ｋ−６７０３（１９７５）に規
定されているもの）は２〜１／６４秒でおるのが好まし
く、特に１〜１／４−秒が優れている０この範囲外のも
のは、膜伺及び膜強度が不足するＯまた、使用可能な上
記の塩化ビニル系共重合体としては、 一般式： で表わされるものがある０　この場合、しｔ における１およびｍから導き出されるモル比は、前者の
ユニットについては９５〜５０モ／ｌ／％でオシ、後者
のユニットについては５〜５０モル係である。

また、Ｘは塩化ビニルと共重合しうる単量体残基全表わ
し、酢酸ビニル、ビニルアルコール、無水マレイン酸、
無水マレイン酸エステル、マレイン酸、マレイン酸エス
テル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、アクリル酸
、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステル、プロピオン酸ビニル、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレートからなる群よ）選ばれた少
々くとも１種を表わす。　（Ｊ　＋　ｍ　）として表わ
される重合度は好ましくは１００〜６００であシ、重合
度が１００未満になると粘着性を帯びやすく、６００を
越えると分散性が悪くなる。　上記の塩化ビニル系共重
合体は、部分的に加水分解されていてもよい。　塩化ビ
ニル系共重合体として、好ましくは、塩化ビニル−酢酸
ビニルを含んだ共１合体（以下、「塩化ビニル−酢酸ビ
ニル系共重合体」という。）が挙げられる。　塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系共電イ体の例としては、塩化ビニル−
酢酸ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水
マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール−無水マレイン酸−マレイン酸の各共重合体
等が挙げられ、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体の中
でも、部分加水分解された共重合体が好ましい。　上記
の塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体の具体例としては
、ユニオンカーバイト社製０ｒＶＡＧＨＪ、ｒＶＹＨＨ
ｊ、ｒＶＭｃＨＪ、漬水化学（株）製の「エスレックＡ
」、「エスレックＡ−５」、「エスレックＣ」、「エス
レックＭ」、電気化学工業（株）製の「デンカビニル１
０００Ｇ」、［デンカビニル１００ＯＷ　Ｊ等が使用で
きる。

また、上記の塩化ビニル系共重合体と繊維素系樹脂をと
もに併用する場合は任意の配合比で使用されてよいが、
重量比にして塩化ビニル系樹脂：繊維素系樹脂を９０／
１０〜５／９５とするのが望ましく、８０　／　２Ｇ〜
１０　／　９０が更に望ましいことが確認されている。

　この範囲を外れて、繊維素系樹脂が多くなると（上記
重量比が５／９５未満）、べた付きが発生し易くなって
表面性が悪くなることがあシ、ドロップアウトを起し易
くなることがある。　また、塩化ビニル系共重合体が多
くなると（上記重量比が９０７１０を越えると）、非磁
性粉の分散不良を生じ易くなることがある。

また、バインダー組成全体については、上述のポリウレ
タンと、その他の樹脂（繊維素系樹脂および／または塩
化ビニル系共重合体との合計量）との割合は、重量比で
９０／１０〜５０　／　５０であるのが望ましく、８５
／１５〜６０／４０が更に望ましいことが確認されてい
る。　この範囲を外れて、ポリウレタンが多いと分散不
良が生じ易くなってジッターが大きくなり易く、またそ
の他の樹脂が多くカると表面性不良となシ易く、特に６
０重量係を越えると塗膜物性が総合的にみてあ−１９好
ましくなくなる。

また、上述の凸部３（更にはＢＣ層３２）に含有させて
よい非磁性粒子としては、窒化ホウ素、カーボンプラ、
り、グラファイト、二硫化タングステン、二硫化モリブ
デン、メルク、カオリン、硫酸力）ｖシウム、ウンモ、
Ｔ　ｉ　Ｏ２、ＣａＣ０ａ、Ｍ２Ｏ３等から左るものが
使用可能である。　これらのうち、へき（臂）磁性を有
するもの、例えば窒化ホウ素、グラファイト、二硫化タ
ングステン、二硫化モリブデン、ランそは、特定の方向
又は面に沿ってへき開面を有しているので、外力（％に
テープガイド等による走行方向への摩擦力）が加わった
ときにへき開面で適切なずれ力が生じ、これが摩擦係数
の低下に効果的に寄与し、走行時の滑シ性を更に向上さ
せることになる。　この場合、モース硬度２．５未満の
非磁性粉を含有せしめれば、凸部３の表面を適度に荒ら
して（マット化して）表面性を改良でき、またカーボン
ブラックの場合には導電性を伺与して帯電防止効果が得
られる。

カーボンブラックと他の非磁性粉とを併用すると表面性
改良（走行性の安定化）と導電性向上の双方の効果が得
られ、有利である。

例えば、凸部３を上述したポリウレタンとカーボンブラ
ックとで構成する場合、３；１以上（体積比）で配合し
てよい。　上記非磁性粒子のモース硬度を２．５未満と
すれば、非磁性粒子が適度な柔かさを有し、滑シ性が良
くなる。　このため、ジッター値や出力変動が少なくな
る上に、キャリアノイズの減少等の出方向上が得られる
。　しかも、上記非磁性粒子の含有によって、潤滑剤の
添加が不要と女るか或いは少量で済むので、強度が大き
くなって走行耐久性が向上し、かつ粘着性が抑えられて
貼付き、スティックスリップが生じなくなる。

こうした顕著な作用効果を得るには、上記非磁性粒子の
モース硬度は１以上、２．５未満とするのがよく、１〜
２とするのが更によい。

第４図に示した磁性層２に使用される磁性材料、例えば
磁性粉末、特に強磁性粉末としては、γ−Ｆｅａｒｓ　
、Ｃｏ含有ｒ　−Ｆｅｚｅｓ、Ｆｅ３Ｏ４、ｃｏ含有Ｆ
ｅ５Ｏ４等の酸化鉄磁性粉：　Ｆｅ　ＸＮｉ−、Ｃｏ　
、Ｆｅ−Ｎｉ　−Ｃｏ合金、Ｆｅ　−Ｍｎ　−Ｚｎ合金
、Ｆｅ　−Ｎｉ　−Ｚｎ合金、Ｆｅ　−Ｃｏ　−Ｎｉ−
Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ合金
等Ｆｅ　ＸＮｉ　ＸＣｏ等を主成分とするメタル磁性粉
等各種の強磁性粉が挙げられる。

又、これらの磁性材料は、蒸着、スパッター、イオンブ
レーティングや各種デポジション法等の飛翔方法によっ
て支持体上に付着せしめ、磁性層２を形成することもで
きる。　このような飛翔方法による磁性層の場合は下記
のようなバインダーは特に必要とはし万い（下引き層の
ような形で磁性層と支持体の間にバインダ一層が存在し
てもよい）。

又９、飛翔方法によシ形成された磁性層上に、本発明に
おける実質的に不連続な多数の凸部を加工によって形成
することは有効である。

この磁性層２のバインダーとして、熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂との混合
物が使用されてもよい。　熱可塑性樹脂としては、軟化
温度が１５０°Ｃ以下、平均分子計が１０，０００〜２
００’、　０００　、重合度が約２００〜２，０００程
度のもので、例えばアクリル酸エステル−アクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共
重合体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタ
クリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタク
リル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル
酸エステル−スチレン共重合体、ウレタンニジストマー
、ホリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、ポ
リアミド樹脂、ポリビニルブチラール、スチレンーブタ
ジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエー
テル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種
の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物等が
使用される。

熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では２００．０００以下の分子量であり、塗布乾燥後に
は縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとな
る。　また、これらの樹脂のなかで樹脂が熱分解するま
での間に軟化または溶融しないものが好ましい。　具体
的には、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子
量グリコール／高分子量ジカール／トリフェニルメタン
トリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、及びこ
れらの混合物等である。　電子線照射硬化型樹脂として
は、不飽和プレポリマー、例えば無水マレイン酸タイプ
、ウレタンアクリルタイプ、ポリエステルアクリルタイ
プ、ポリエーテルアクリルタイプ、ポリウレタンアクリ
ルタイプ、ポリアミドアクリルタイプ等、または多官能
モノマーとして、エーテルアクリルタイプ、ウレタンア
クリルタイプ、リン酸エステルアクリルタイプ、アリー
ルタイプ、ハイドロカーボンタイプ等が挙げられる。

本発明にかかる強磁性粉末とバインダーとの混合割合は
、該強磁性粉末１００重量部に対してバインダー５〜４
００重量部、好ましくは１０〜２００重量部の範囲で使
用される。　バインダーが多すぎると磁気記録媒体とし
たときの記録密度が低下し、少なすぎると磁性層の強度
が劣シ、耐久性の減少、粉落ち等の好ましくない事態が
生じる。

さらに耐久性を向上させるために、磁性層に各種硬化剤
を含有させることができ、例えば上述したと同様のイソ
シアネートを含有させることができる。

上記磁性層塗料を形成するのに使用される塗料には必要
に応じて分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等の添加
剤を含有させてもよい。

使用される分散剤としては、レシチン、リン酸エステル
、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂肪酸アミド
、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド、スルホコ
ハク酸、スルホコハク酸エステル、公知の界面活性剤等
及びこれらの塩があシ、又、陰性有機基（例えば−ＣＯ
ＯＨ１ＰＯ３Ｈ）を有する重合体分散剤の塩を使用する
ことも出来る。

これら分散剤は１種類のみで用いても、あるいは２種類
以上を併用してもよい。　これらの分散剤は磁性粉１０
０重量部に対し１〜２０重量部の範囲で添加される。　
また、潤滑剤としては、シリコーンオイル、グラファイ
ト、カーボンブランク、二硫化モリブデン、二硫化タン
グステン、ラウリル酸、ミリスチン酸等の高級脂肪酸、
炭素原子数１２〜１６の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭
素原子数と合計して炭素原子数が２１〜２３個の一価の
アルコールから成る脂肪酸エステル等も使用できる。　
これらの潤滑剤は磁性粉１００重量部に対して０．２〜
２０重量部の範囲で添加される。使用してもよい）ズ 研磨剤としては、一般に使用される材料で溶融アルミナ
、炭化ケイ素、酸化クロム、コランダム、人造コランダ
ム、ダイヤモンド、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメ
リー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）等が使用される。

　これらの研磨剤は平均粒子径０．０５〜５μの大きさ
のものが使用され、特に好ましくは、０．１〜２μであ
る。　これらの研磨誉 剤は磁性粉１００重量部に対して１〜２０重景部の範囲
で添加される。　使用してもよい帯電防止剤としては、
上述した如きカーボンブラックをはじめ、グラファイト
、酸化スズ−酸化アンチモン系化合物、酸化チタン−酸
化スズ−酸化アンチモン系化合物などの導電性粉末；サ
ポニンなどの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系
、グリセリン系、グリシドール系などのノニオン界面活
性剤；高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類
、ピリジン、その他の複素環類、ホスホニウムまたはス
ルホニウム類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、
スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等
の酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミ
ノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エ
ステル類等の両性活性剤などがあげられる。

なお、上記の分散剤、潤滑剤等は、上述した３０層中に
含有せしめることができる。

磁性塗料の溶媒せたは磁性塗料塗布の際に使用する溶媒
としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノ
ール、−エタノール、プロノくノール、ブタノール等の
アルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、
乳酸エチル２．エチレングリコールモノアセテート等の
エステル類：エチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレ７　ｆ　ＩＪコールモノエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；メチレンクロ
ライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、ジクロ／ｌ／ベンゼン等のノーロゲン化炭化水素等
のものが使用できる。　これらの溶媒は、上述の凸部３
の形成時にも使用可能である。

また、」二連した支持体１の素材としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレー
ト等のポリエステル類、ポＩ７７”ロピレン等のポリオ
レフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダ
イアセテート等のセルロース誘導体、ポリカーボネート
などのプラスチック、Ａ４．Ｚｎなどの金属、ガラス、
窒化珪素、炭化珪素、磁器、陶器等のセラミックなどが
使用される。　これら支持体の厚みはフィルム、シート
状の場合は約３〜１００μ０１程度、好ましくは５〜５
０μｍであシ、ディスク、カード状の場合は、３０μｍ
〜１０ｍ８度であり、ドラム状の場合は円筒状とし、使
用するレコーダーに応じてその型は決められる。

支持体上へ前記磁性塗料を塗布し磁性層を形成するため
の塗布方法としては、エアーナイフコート、フレードコ
ート、エアーナイフコート、スフイスコート、含浸コー
ト、リバースロールコート、トランスファーロールコー
ト、グラビアコート、キスコート、キャストコート、ス
プレィコート等が利用でき、その他の方法も可能である
。　このような方法により支持体上に塗布された磁性層
は必要により層中の強磁性粉末を配向させる処理を施し
たのち、形成した磁性層を乾燥する。　また必要によシ
表面平滑化加工を施したシ所望の形状に裁断したりして
、本発明の磁気記録体を製造する０ なお、上記の塗布方法は、上述したＢＣ層の形成時にも
採用することができる。

次に、上述した磁気記録媒体、例えば磁気テープの製造
方法を第４図について説明する。

まず供給ロール１０から繰出されたフィルム状支持体１
は、公知のロールコータ−１１によシ磁性塗料２を塗布
後、乾燥器１２に導入し、ここで上下に配したノズル１
３から熱風１４を導入して乾燥する。

次に、乾燥された磁性層付きフィルム１を公知のカレン
ダーロール１５においてカレンダー処理し、次いで公知
のロールコータ−２５によってＢＣ層形成用塗布液２６
を塗布し、次いで噴霧器（スプレー）１６へ導入する。

このスプレー１６では、ノズル１７からエア１８を陽圧
で導入しながら、エアレススプレーガン１９からフィル
ム２の裏面に対し、上述したバインダー（望ましくは非
磁性粉との混合物）溶液４を噴霧さぜ、第２Ａ図（ａ）
、（ｂ）に示した如き粒状パターンに付着せしめる。

次いで、スムーザ−２０Ｋかけ、裏面の液滴を平担化し
て第２Ｂ図（ａ）、（ｂ）に示した形に押し潰す。

但、このスムーザ−２０による平担化工程は必ずしも必
要ではない。　しかる直後に、隣接した乾燥器２１に入
れ、ノズル２２からの熱風２３により上記液滴を乾燥さ
せ、更に巻取ロール２４上に順次巻取る。

このような製造方法によれば、特にＢＣ層上に上述した
微小凸部３をスプレー１６におけるスプレー塗布により
容易に形成でき、その分布やサイズもスプレーガン１９
等のコントロールによって正確に制御することができる
。

第５図は、第４図の変形例を示すものであって、第４図
のＢＣ層塗布工程までは同様に処理するが、との後に乾
燥兼抑圧加工部２７へ導入する。

この加工部２７では、排気管列からエア２９を導入して
ＢＣ層塗布液を乾燥しながら、抑圧ロール３０によって
ＢＣ層を抑圧加工する。　抑圧ロール３０は第６図に示
す如く、島状の多数の小凹部３１が設けられたパターン
を周面に有していて、第５図のようにＢＣ層に押圧する
ことによって、上記小凹部３１に対応した小凸部（第１
図の３に相当）を第７図の如くＢＣ層３２自体に形成す
るものである。

こうして得られた８０層３２は表面側に多数の不連続々
凸部３を有したものとなるから、上述したと同様の作用
効果を発揮することができる。

以−ヒに説明した例はいずれも、支持体１の裏面側に小
凸部３を形成する場合であるが、これと同様の小凸部を
磁性層２上の０６層に形成してもよい。。

即ち、第８図に示す如く、支持体１の裏面に従来と同様
の８０層３２を形成する一方、磁性層２の表面に、公知
の方法で００層３３を形成し、更にこの表面に、第４図
に示した方式（スプレー塗布）による溶液のスズ１／−
１乾燥で、微小な不連続小凸部３′を形成してもよい。

　この場合の噴霧溶液は上述したバインダー溶液であっ
てよいし、或いは高級脂肪酸エステル等の潤滑剤等公知
のものが使用できる。

また、磁性層２の表面に００層３３を形成し、これを第
５図、第６図に示した抑圧ロールで処理し、ＯＣ層自体
に小凸部３′を形成するとともできる。

なお、上述の小凸部３又ハ３′は、支持体裏面側と表面
側との双方に同時に設けることもできる。

第９図及び第１０図は、本発明の他の実施例を示すもの
である。

この例では、第６図の押圧ロール３０の周面に上記凹部
３１と同一位置に小凸部３５を多数設け、これをＢＣ層
及び／又は００層上に押圧することによって、第１０図
（ａ）、（ｂ）の如くに例えば８０層３２に多数の不連
続な四部３６を形成している。　この凹部３６の分布は
、８０層３２の全面積に対し２５〜７０％でおってよい
。　こうした四部３６の存在によって、８０層３２の摩
擦力が低下すると同時に、種々のパターンの四部３６を
制御性良く形成できるために上記摩擦力のコントロール
を行なえる。　なお、ＢＣ層において凹部３６の存在し
ない領域は斜線を施しである（以下、同様）０ 第１１図〜第１５図は、本発明の他の幾つかの実施例を
示すものである。

第１１図の例では、例えば第９図に示したロールの凸部
３５をロール周方向に沿って連続した突条に形成し、こ
の線状凸部を有するロールによ９３０層又は０６層を抑
圧加工して図示の如き線状の平行四部３７を支持体の長
さ方向３３に沿って形成している。

上述の凸部３は、第５図、第６図の方式を用いれば、第
１２図の如きパターンに形成することができる。　この
パターンによれば、支持体長さ方向（即ち媒体の走行方
向）３３に対しガイド部材に媒体が斜めに当たる而３４
を凸部３が有しているため、その面３４に沿う方向にテ
ープが走行する傾向があるが、面あが場所的にみて一様
に、かつその方向が規則的に変化することになる。　従
って、テープの走行方向が平均化され、常に一定方向に
して振れのない状態で走行させることが可能である。

第１３図では、第１２図とは逆パターンの面を有し、多
数の凹部３８が不連続に形成されているが、上記したと
同様の効果が得られる。

第１４図及び第１５図の例は、（残械的加工手段として
上記の抑圧ロールに代えて、周面に多数の針状引かき部
材３９を設けたロール４０を使用し、これを第５図に示
した工程に適用することによって、例えばＢ　ＣＪ７４
３２の面を引かき処理して第１５図の如き引かき傷４１
を形成している。　これによっても、ＢＣ層の摩擦低減
効果が（ｉ）られ、かつ媒体走行方向に沿って傷（又は
線状凹部）４１が存在しているために媒体の走行安定性
が良くなる。

カお、」二連した例、特に第１１図〜第１５図の例にお
いては、各凸部又は四部のパターン及び分布を理解容易
のために簡略図示したが、実際にはずっと多数の分布で
形成し、後のスリッティング後に得られる磁気テープの
上及び／又は丁の面に上記した凸部又は凹部による作用
効果が充二分に発揮されるようにしておく。

なお、本発明は、上述した塗布型磁性層を有する媒体以
外に、磁性層を蒸着法で形成した媒体にも適用できるが
、この場合には上述したカレンダー処理は不要である。

以下、本発明を具体的な実施例につき説明する。

以下に示す成分、割合、操作順序等は、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。

なお、下記の実施例において「部」はすべて「重量部」
を表わす。

下記組成からなる磁性塗料を調製した。

Ｃｏ含有７’　Ｆｅ２ｕｓ　１００部 ポリウレタン（グクトリッチ社製ニスタン５７０１　）
　４０部 ニトロセルロース（ダイセル社製セルラインＲ８Ｉ／２
　２０部 環化ビニルー酢酸ビニル共重合体（Ｕ、　、Ｃ。

Ｃ１社製ＶＡＧＨ）　ｌｏ部 レシチン　２部 ミリスチン酸　１部 ラウリン酸　１部 メチルエチルケトン　７２部 トルエン　５０部 シクロヘキサノン　８０部 カーボンブラック（コンダクテックス９７５）２部 この組成物をボールミルで充分に攪拌混合し、更に多官
能インシアネート（日本ポリウレタン社製コロネー）Ｌ
）を１０部添加した後、平均孔径１μｍのフィルターで
濾過した。　次いで第４図の装置を用い、磁性塗料を厚
さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートベースの表面
に乾燥厚さ５μｍとなるように塗布した。　そして乾燥
後にカレンダー処理し、更に下記組成のＢＣ層形成用塗
料をベース裏面に塗布した。

カーボンブラック（上記）５０部 ポリウレタン（上記）５０部 ニトロセルロース（上記）２５部 シクロヘキサノン　４００部 次いで、更にスプレーにて次の組成物をベース裏面に吹
付けた。

カーボンブラック（上記）５０部 ポリウレタン（上記）５０部 ニトロセルロース（上記）２５部 シクロヘキサノン　４００部 しかる後、乾燥してから巻取シ、更に公知のスリッティ
ング方法で所定幅（例えば１２．６５部幅）に切断し、
磁気テープを得た。

一方、比較のために、従来例に基いて、連続層からなる
ＢＣ層を形成した磁気テープを作成した。

各テープをＶＨ８方調のＶＴＲを使用してテストを行な
ったところ、下記表に示す結果が得られた。　但、各測
定法は次の通シであった。

ベース裏面側と磁性層との粘着： テープ巻回時に相当する両１層間の粘着性を観、察し、
○印は粘着なし、Ｘ印は粘着ありを示す。

ジッター値： メグ口・エレクトロニクス社製のＶＴＲジッターメータ
ーｒＭＫ−６１２ＡＪを使用し、３０°Ｃ１８０１ＲＨ
の高温多湿下で走行回数０回、１００回後の各ジッター
を測定した。

エツジ折れ： ＶＴＲのローディング時にカセットから引出されるテー
プの端部がガイドピン上で折れ曲る現象を観察した。

１００ｐａＳＳ後の走行キズ： テープを１００回走行させたときにキズが発生している
か否かを観察した。

この結果から、本発明に基くテープは、比較テープに比
べ、摩擦係数が充分に低く、粘着、エツジ折れ、走行キ
ズがなく、ジッターや出力変動も少ないことが明らかで
ある。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図は磁
気記録媒体の断面図、 第２Ａ図（ａ）は媒体の裏面図、 第２Ａ図（ｂ）は同媒体の一部分の拡大断面図、第２Ｂ
図（ａ）は平担化処理後の媒体の裏面図、第２Ｂ図（ｂ
）は同媒体の一部分の拡大断面図、第３図は第１図の要
部拡大図、 第４図は磁気記録媒体の製造プロセスフロー図、第５図
は第４図の変形列による製造プロセスの要部、 第６図は抑圧ロールの正面図、 第７図は他の磁気記録媒体の断面図、 第８図は更に他の磁気記録媒体の断面図、第９図は他の
抑圧ロールの正面図、 第１０図（ａ）は他の媒体の裏面図、 第１０図（ｂ）は同媒体の一部分の拡大断面図、第１１
図、第１２図、第１３図、第１５図は他の媒体の各裏面
図、 第１４図（ａ）は他の加工用ロールの側面図、第１４図
（ｂ）は同ロールの断面図 である。 なお、図面に示した符号において、 １・・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・支持体２・・・・−・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・磁性層又は磁性塗料３．３′、３５・
・・・・・・−・小凸部４・・・・・・・・・−・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・液滴１１．２５・
・・・・・・・・・・・・・・・・ニア　−ター１２．
２１・・・・・・・・・・・・・・・・・ドライヤー１
３．１７．２２・・・・・・・・ツズル１５・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
カレンターロール１９・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・スプレーガン２６・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・ＢＣ層形成用塗布液２７・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・押圧加工部３０
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・押圧ロール３１．３６．３８・・・・・・・
・・小凹部３２・−・・・・・・・−・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・ＢＣ層３３・・・・・・・・・
・・・−・・・・・・・・・・・・・・・・０６層３７
・・・・・・・・・・・・・−・・・・・・・・・・・
・・・・憩状凹部３９・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・引かき部材４１・・・
・・・・・・−・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・引かき傷である。 代理人　弁理士　逢　坂　宏（他１名）第６図 第７図 第８図 第１０図 （Ｑ）　（ｂ） 並 第１１図 １ 第１２図 第１４図 （ａ）　（ｂ） 第１５図 １

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁性層を支持体上に有する磁気記録媒体において、
   前記磁性層とは反対側の前記支持体上のバックコート層
   と、前記磁性層上のオーバーコート層との少なくとも一
   方の表面側に、多数の凸部又は凹部が加工によって形成
   されていることを特徴とする磁気記録媒体。 ２　磁性層を支持体上に有し、前記磁性層とは反対側の
   前記支持体上のバックコート層と、前記磁性層上のオー
   バーコート層との少なくとも一方が設けられている磁気
   記録媒体の製造方法において、前記バックコート層及び
   ／又は前記オーバーコート層を形成した後、その表面に
   噴霧手段によって所定の物質を粒状に付着せしめること
   を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ３、磁性層を支持体上に有し、前記磁性層とけ反対側の
   前記支持体上のバックコート層と、前記磁性層上のオー
   バーコート層との少なくとも一方が設けられている磁気
   記録媒体の製造方法において、前記バックコート層及び
   ／又は前記オーバーコート層を形成した後、その表面に
   機械的加工によって多数の凸部又は凹部を形成すること
   を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。