JP2004505402A - 磁気記録媒体およびコーティング方法 - Google Patents

Abstract

１つ以上の流体層を基材上にコーティングして、磁気テープおよびディスケットなどの磁気記録媒体を製造する方法を提供する。本発明の方法は、特定のレオロジーを有する流体コーティング配合物を使用することで、コーティング速度を増加させながら減少した厚さで１つ以上の磁気層をコーティングできる。適切なレオロジーを有する場合、増加した速度で移動する基材上に１つ以上の層をコーティングしながら、所望のコーティング厚さを維持できる。

Description

【０００１】
技術分野
本発明はコーティング方法に関し、より詳細には、磁気テープおよびディスケットなどの磁気記録媒体を製造するために移動ウェブ上に流体層をコーティングする方法に関する。
【０００２】
背景
磁気テープおよびディスケットなどのデータ記録媒体は、１つ以上の磁気層を基材上にコーティングし、次に得られたコーティングを乾燥させてフィルムを形成されることによって製造されるのが一般的である。製造上の理由から、通常は基材は移動ウェブの形態をとり、全体的に固定されたコーティング装置に対して移動する。
【０００３】
記憶される情報量を増加させる試みでは、磁気記録媒体の密度をより高くすることが望ましい。より高い記憶密度は、磁気層中の磁性粒子量の増加、別の磁気層の追加、より薄い層の使用、またはデータ記憶密度を増加させることができる磁性粒子の提供などによって実現可能である。
【０００４】
基材には、通常は基材と磁気記録層の間にある下塗り層を設けることができる。下塗り層は、媒体が１つ以上の磁気記録層を含有してもしなくても、基材と磁気記録層の間の接着を促進することができる。したがって、磁気記録媒体は、下塗り層と、その上の１つ以上の磁気記録層とを有して、多層構造体になってもよい。
【０００５】
通常、多層構造体を有する磁気記録媒体の製造では、連続的なコーティングおよび乾燥工程を伴い、各コーティングの適用によって１つの層が加えられる。既存のコーティング技術としては、例えば、ロールコーティング、グラビアコーティング、押出コーティング、およびそれらのが挙げられる。これらの種類のコーティング方法は、多層構造体の製造で１つの工程ですべての層をコーティングすることが望ましい場合には一般に不適当である。
【０００６】
多層コーティング技術は存在するが、磁気層組成物の性質のために問題が生じる。特に、通常の磁気コーティング組成物は比較的高粘度であり、磁性粒子が磁気コーティング組成物中で凝集する可能性もあるため、既存の多層コーティング技術の有効性が損なわれる場合がある。コーティングが困難であるため、ウェブ速度の増加、磁気層厚さの減少、またはその両方の場合に、コーティングの問題はより顕著になりうる。
【０００７】
概要
本発明は、磁気テープおよびディスケットなどの磁気記録媒体、ならびに磁気コーティング媒体を製造するためのコーティング方法を目的としている。コーティング方法は、より薄い１つ以上の磁気層をコーティングでき、同時にコーティング速度を増加させることができる特定のレオロジーを有する流体コーティング配合物を利用する。適切なレオロジーを有する場合には、所望のコーティング厚さおよび品質を維持しながら、より高速で移動する基材上に１つ以上の層をコーティングすることができる。
【０００８】
本発明の方法は、拡大されたコーティングウィンドウを提供することでコーティング速度を増加させることができ、さらに層の厚さを減少させて乾燥する材料を減少させることができる。特に、本発明の方法は、厚さの減少した複数の層を同時にコーティングするために使用することができ、そのため製造処理能力が増大し、磁気記録性能が向上する。
【０００９】
さらに別の実施態様では、本発明の方法は、厚さが減少しコーティング均一性も向上した複数の層を形成することができ、そのため記録性能が向上し、記録密度を増加させることができる。特にコーティング中間層の表面均一性が増加すると、変調を減少させ記録性能を向上させることができる。
【００１０】
コーティング厚さが減少することによって、短波磁気記録技術が使用される場合に厚さ増加の関数として起こる いわゆる厚さ損失を軽減することもできる。所望のコーティング厚さを得るために、蒸着ではなく、バインダー系中の磁性粒子分散液を使用する場合でも厚さ損失を避けることができる。
【００１１】
さらに、スライドコーティングなどの流体コーティング技術を使用することによって、基材への負荷が減少し、そのためより薄い基材を使用することができる。より薄い基材は、厚さ損失の軽減にも寄与する。さらに、磁気テープの場合には、層および基材の厚さが減少することによって、テープ厚さの減少が容易になるため、所与のテープパック体積でより多くのテープを収容でき、その結果、記憶容量を大きくすることができる。
【００１２】
本発明による方法は、複数の層を同時に基材に供給するためにスライドコーティング法を使用することが好ましいが、その他のコーティング技術も有用となりうる。スライドコーティングは多層コーティングのための方法であり、すなわち、複数の流体層を基材上に同時にコーティングすることを含む。傾斜した面上で開いた複数のスロットから複数の層を形成する異なる種類の流体が流出する。これらの流体は、コーティング間隙を通って面を流れ落ち、上方に移動する基材上に到達する。一般に流体は、コーティング間隙を通って面上、またはウェブ上では混合せず、そのため最終コーティングは、別々の層が重なった状態となる。
【００１３】
本発明によりコーティング配合物のレオロジーを注意深く選択することによって、拡大されたコーティングウィンドウを有する、すなわち、より広範囲のコーティング速度および厚さを有するスライドコーティング法が得られる。コーティングビードなどの高剪断速度領域の粘度は、コーティング性を決定し、最大コーティング速度が画定する。スライドコーター上などの中間剪断速度領域の粘度は、コーティング組成物がスライド面を流下するときの層厚さを決定する。基材上にコーティングが適用された後などの低剪断速度領域の粘度は、コーティングの流動性、および乾燥ゾーンにおける欠陥に対する抵抗性を決定する。
【００１４】
コーティング配合物のレオロジーが適切であれば、高速で非常に薄い皮膜のコーティングを得ることができ、完成磁気媒体製品のコーティング欠陥を最小限にすることができる。一般に速度が増加すると、コーティングウィンドウ内にとどまるためにコーティング厚さが増加する必要がある。しかしながら臨界点を超えて速度が増加すると、より高速でコーティング厚さを実際に減少させることが可能なことが分かった。特に、速度が増加すると、慣性が他の力に対して支配的となり始め、そのためコーティング厚さが減少することが分かった。
【００１５】
コーティングシステムにおいてコーティング厚さが減少するために乾燥する材料が減少することで、より速いウェブ速度が実現でき、より小さくより費用のかからない乾燥オーブンを使用できる。希望するなら、複数のコーティング層を１回で適用することができ、コーティング製品中に複数種の機能層を容易に組み込むことができ、例えば、磁気記録、ヘッドクリーニング、帯電防止、潤滑性などのための複数種の層を容易に組み込むことができる。コーティング性能をさらに向上させるために、基材のコーティングに使用される蒸発性の高い溶剤の早期乾燥を防止するために１つ以上の飽和技術を使用することができる。一例として、コーティング間隙の近傍に飽和環境を形成するために境界層サチュレーターを設けることができる。飽和環境が形成されることで、移動する基材によってコーティング間隙に運び込まれる空気の境界層によって生じる乾燥が軽減される。
【００１６】
別の例としては、コーティング間隙と隣接するコーターの先端面に飽和環境を形成するためにスライドコーティング面サチュレーターを設けて、その面に集まる分散液の乾燥を軽減することができる。さらに、スライド面サチュレーターを設けて、スライド傾斜面のコーティング溶液の乾燥を軽減することができる。それぞれのサチュレーターでは、該当する領域に溶剤蒸気を導入することによって飽和環境を得ることができる。
【００１７】
溶剤蒸気は、加圧供給装置、蒸発皿などの種々の導入装置を使用して導入することができる。実施態様の１つでは、毛細管力すなわち表面張力を利用する吸い上げ材料または毛細管材料を使用して、溶剤をコーティング領域に引き込み、溶剤を材料表面に移動させることで溶剤蒸気を導入することができる。吸い上げ材料の表面では、溶剤はコーティング領域に向かって蒸発する。毛細管材料を使用すると、溶剤蒸気の導入によるコーティングされた基材の表面の破壊が少ないため好都合となりうる。特に、加圧供給装置はコーティング表面を破壊する流れを発生して、コーティングされた基材の欠陥となりうるパターンを形成する場合があるが、毛細管材料から蒸発した溶剤では欠陥が生じにくい。
【００１８】
複数の図面における同様の参照番号および名称は同様の要素を示している。
【００１９】
詳細な説明
図１は、本発明によるコーティング方法の実施に好適なスライドコーティング装置１０の概略図である。図２は、スライドコーティング装置１０の部分上面図である。スライドコーティング装置１０は、スライドコーター１２を有する。ウェブの形態のコーティングされる基材１６を支持するため、スライドコーター１２と近接してバックアップローラー１４を配置することができる。基材１６は、供給ロールおよび巻き取りロール（図１には示されていない）の間でスライドコーター１２に対して移動させることができる。スライドコーター１０は、基材１６上に積み重ねられた配置で２つ以上の流体層を同時にコーティングすることができる。コーティングの後、層は乾燥される。
【００２０】
既存のスライドコーティング方法は、Ｍｅｒｃｉｅｒらに付与された米国特許第２，７６１，４１９号、Ｂｈａｖｅらに付与された米国特許第５，８６１，１９５号、およびＭｏｄｅｒｎ　Ｃｏａｔｉｎｇ　ａｎｄ　Ｄｒｙｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｅ．Ｄ．Ｃｏｈｅｎ　ａｎｄ　Ｅ．Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ，ＶＣＨ　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，１９９２に全般的に記載されている。本発明によると、適切なレオロジーを有するコーティング流体を使用すれば、スライドコーティング装置１０は、既存のスライドコーティング方法よりも薄い厚さおよびより速いコーティング速度で流体層をコーティングするように適合させることができる。その結果、スライドコーティング装置１０では、磁気特性が向上した磁気記録媒体の高処理能力での製造が容易となりうる。
【００２１】
図１に示されるように、スライドコーター１２は、前述のＢｈａｖｅらの特許に記載されるものなどの既存のスライドコーターに実質的に適合させることができる。例えば、スライドコーター１２は、複数のスライドブロック１８、２０、２２、２４を有することができる。図１の実施態様では、スライドコーター１２は、３つの層をコーティングするための４つのスライドブロックを有する。別の実施態様では、スライドコーター１２は、１つのスライドブロックを有する場合もあるし、５つ上のスライドブロックを有する場合もあり、これは基材１６上にコーティングされる流体の数に依存する。例えば、ある実施態様では、製造される記録媒体は１つの記録層のみを有する場合がある。
【００２２】
スライドブロック１８、２０、２２、２４はそれぞれ流体スロット２６、２８、３０を画定し、これらが一体となってスライド面３２を画定している。図１をさらに参照すると、第１のスライドブロック１８はバックアップローラー１４と隣接しており、一方スライドブロック２０、２２、２４は第１のスライドブロック１８の上方にある。スライドブロック１８、２０、２２は、コーティング流体が流動する連続的なスライド面を画定する。負圧レベルを調節するための真空箱３４を、スライドコーティング装置１０と隣接させて設けることができる。特に、真空箱３４は、スライド面３２と基材１６の間のコーティングビードにかかる差圧を維持する働きをし、それによってコーティングビードが安定化される。真空箱３４は真空源３６と接続され、コーティング領域から回収された材料の出口３８を有してもよい。フード（図１には示されていない）を使用して、スライドコーター１２の上部を囲み、スライドブロック１８、２０、２２のスライド面を覆ってもよい。
【００２３】
第１の流体供給装置４２および第１のマニホールド４４によって、第１のスロット２６に第１の流体４０を送ることができる。第２の流体供給装置４８および第２のマニホールド５０によって、第２のスロット２８に第２の流体４６を送ることができる。任意に、第３の流体供給装置５４および第３の流体マニホールド５６によって、第３の流体スロット３０に第３の流体５２を送ることができ。したがって、図１に示される実施態様では、スライドコーター１２は、第１の流体４０を含有する第１の流体層６０と、第２の流体４６を含有する第２の流体層６２と、第３の流体５２を含有する第３の流体層６４とを有する３層流体構造体５８をコーティングすることができる。
【００２４】
別の実施態様では、２つの流体層６０、６２で十分となりうる。第１の流体層６０を基材１６上にコーティングし、第２の流体層６２を第１の流体層の上にコーティングし、第３の流体層６４を第２の流体層の上にコーティングすることができる。この配置では、バックアップローラー１４は、基材１６の移動する方向に回転する。ある実施態様では、第１の流体層６０の前にプライマー層が形成されてもよく、これは第１の流体層のコーティング前に基材１６に適用されるか、あるいは第１の流体層６０、第２の流体層６２、および第３の流体層６４を有する多層コーティング工程の一部として適用される。
【００２５】
第１の流体層６０は、第２および第３の流体層６２、６４のキャリアまたは「下塗り」層として機能することがある。この場合、基材１６上の第１の流体層６０の未乾燥厚さは、第２および第３の流体層６２、６４のそれぞれの未乾燥厚さよりも実質的に厚くてもよい。各層６０、６２、６４の未乾燥厚さは、コーティングビードから実質的にはずれた位置であるが、乾燥の大部分が進行しないのには十分な位置におけるコーティング基材１８上の横断方向に平均基材厚さである。図１では、コーティングビードは参照番号６５で示されている。
【００２６】
図２に示されるように、流体層６０、６２、６４が流動する方向を横断する方向の流体スロット２６、２８、３０の幅は、基材１６の幅と実質的に等しくてもよい。スライドブロック１８、２０、２２は、流体スロット２６、２８、３０よりも幅がわずかに広くてもよい。ある実施態様では、基材１６の幅は、６〜３０インチ（１５．２４ｃｍ〜７６．２ｃｍ）程度であってよい。好ましくは、製造処理量を増加させるために、基材１６の幅は約１２インチ（３０．５ｃｍ）以上である。
【００２７】
磁気テープ媒体を製造する場合、データカートリッジに搭載する連続的な長さの記録テープを製造するために、基材１６は、例えば、幅１／４インチ（０．６４ｃｍ）のスリット状の長さの複数のストリップであってもよい。磁気ディスク媒体を製造する場合、フロッピーディスケットハウジングに搭載するために、例えば直径３．５インチ（９０ｍｍ）の「クッキー」として基材１６からディスクを切り取るまたは打ち抜くことができる。いずれの場合も、各流体層６０、６２、６４は、基材１６の側面まで幅方向に延在することが好ましい。
【００２８】
ある実施態様では、第２の流体４６は磁気材料を含有する。この場合、乾燥すると、第２の流体層６２は基材１６上の磁気記録層を形成する。別の実施態様では、第１の流体層６０中、または流体構造体５８の複数の流体層６０、６２、６４中に磁気材料を使用することができる。例えば、流体構造体５８中の複数の層が複数の磁気記録層を形成してもよい。あるいは、個々の磁気層が一体となって複合多層記録フィルムとして機能するように配列させることもできる。しかしながら例示的な実施態様では、第２の流体層６２は磁気材料を含有し、１つの磁気記録層として機能する。磁気材料は、金属磁気記録粒子の形態であってもよい。
【００２９】
任意の第３の流体層６４の第３の流体５２は、完成磁気記録媒体の機能的性質に寄与する多種多様な物質を含んでもよい。言い換えると、乾燥後に、第３の流体層６４は、磁気記録媒体の機能層となってもよい。例えば、第３の流体５２は、帯電防止材料、使用中に記録ヘッドのクリーニングを促進する研磨材料、磁気記録ヘッドと磁気記録媒体表面の間の摩擦を軽減する潤滑材料、あるいはそれらの組合せを含むことができる。
【００３０】
媒体性能、コーティングの容易さ、または生産性のために望ましいのであれば、追加の流体層を導入するために追加のスライドブロックをスライドコーター１２に加えることができる。例えば、このような機能性材料は、別々の流体層に混入させることができる。あるいは１種類以上の機能性材料を１つの流体に混入して、乾燥させて、得られる磁気記録媒体で多重機能層を形成することもできる。流体層６０、６２、６４の代表的な処方は後に詳述する。
【００３１】
図３は、図１に示されるスライドコーター１２の部分側断面図である。流体マニホールド４４、５０、５６は、流体スロット２６、２８、３０からそれぞれ流出する流体４０、４６、５２が均一な幅で分布するように設計することができる。マニホールド４４、５０、５６の設計は、図２に示されるスロット２６、２８、３０のスロット高さの選択によって決まる。当技術分野で公知のように、機械加工の制限のための不均一や、ダイスロット中の圧力が高すぎるためのバーのたわみの不適切な問題が生じずに、スロット内の圧力低下がマニホールドの圧力低下よりもはるかに大きくするために、スロット高さＨは十分小さくされる。これによって、スロット内で流体が実質的に均一に分散する。
【００３２】
各流体マニホールド４４、５０、５６の設計は、流体と関連する材料の性質を考慮して、運搬される流体のレオロジーに基づいて行うこともできる。流体供給装置は、それぞれの流体マニホールド４４、５０、５６の末端（末端供給設計の場合）に配置される場合もあるし、あるいは流体マニホールドの中心（中心供給設計の場合）に配置される場合もある。マニホールドおよびスロットの設計の原則は文献で公知である。例えば、Ｇｕｔｏｆｆ，「Ｓｉｍｐｌｉｆｉｅｄ　Ｄｅｓｉｇｎ　ｏｆ　Ｃｏａｔｉｎｇ　Ｄｉｅ　Ｉｎｔｅｒｎａｌｓ」，Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１９９３，３７（６），６１５〜６２７ページを参照されたい。このような設計の原則は、スライドコーティング、押出コーティング、およびカーテンコーティングなどの種々のダイ供給コーティング法に使用することができる。スライドコーティングが好ましいが、本発明によるコーティング法で得られるコーティング性の利点が、その他のコーティング方法で得られることもある。
【００３３】
マニホールド４４、５０、５６内の圧力を最小限にし、機械加工の制限による不均一性の問題を克服するために、スライドブロック１８、２０、２２、２４は、図３に示される特定のスロット高さＨを有するように構成することができる。したがって、スロット２６、２８、３０は、所望の未乾燥厚さ（あるいはさらには所望の乾燥厚さ）を有する所望の流体層を得るために適切なスロット高さを有することができる。４つ以上のスライドブロックが使用される場合は、他のスロットの高さは、基材１６上の対応する層の所望の厚さに応じて決定することができる。
【００３４】
実施態様の１つでは、第１のスロット２６に使用される高さは、所与の第１の流体４０のレオロジーおよびマニホールド４４の性質で、約４００フィート／分（約１２０ｍ／分）以上の所与の基材速度において、平均未乾燥厚さが約２５μｍ未満、ある実施態様では約１０〜２５μｍである第１の流体層を得るために十分な高さであってよい。本発明によると、このような未乾燥厚さは、６００〜８５０フィート／分（約１８０〜２６０ｍ／分）程度の基材速度で容易に達成可能であり、場合によってはさらなる高速でも可能である。
【００３５】
第２のスロット２８の高さは、所与の第２の流体４６のレオロジーおよびマニホールド５０の性質で、約６００〜８５０フィート／分（１８３〜２６０ｍ／分）の所与の基材速度において、平均乾燥厚さが約０．０４〜０．４μｍの第２の流体層６２を得るために十分な高さであってよい。第２の流体層６２は未乾燥厚さが約０．５〜５μｍの範囲内であってもよい。第２および第３の流体層６２、６４の未乾燥厚さは、一般に第１の流体層６０のよりも未乾燥厚さ薄くてもよい。したがって、全体の多層コーティング配合物の平均未乾燥厚さは、第１の流体層６０の平均未乾燥厚さ程度、すなわち、約１０〜２５μｍであってよい。ある実施態様では、図１〜３に記載の３層配合物５８の代わりに単層または２重層コーティング配合物を使用することができる。この婆、コーティング性を向上させるために、単層または２重層は、全体の平均未完層コーティング厚さが約１０〜２５μｍとなるように選択することができる。
【００３６】
スライドブロック１８、２０、２２、２４は、高さにずれが生じぬように配列することもでき、それによって図３に記載されるスロット段差Ｔが生じる。段差Ｔは、媒体に縞やその他の欠陥が生じる原因となりうる流れの分離および流体再循環領域の可能性を最小限にすることによって、スライド面に落ちる流体の流れを均一にするために有用となりうる。スライド面上の流れの分離を最小限する別の方法は、図３に示されるように流体スロットの下流に面取り部Ｃを加工することによる。
【００３７】
スライドブロック１８、２０、２２、２４を加工する場合、バックアップローラー１４と近接する第１のスライドブロック１８の前端のように、流体スロット２６、２８、３０の端部を形成するブロック端部の仕上げは重要である。これらの端部に切れ目、バリ、またはその他の欠陥が存在すると、完成品に縞状の欠陥が生じる原因となりうる。このような欠陥を回避するために、端部を８マイクロインチ（０．０２μｍ）未何の仕上げに研磨することができる。ダイ端部の仕上げ手順に関する詳細は、Ｂｈａｖｅらに付与された米国特許第５，８６１，１９５号に開示されている。
【００３８】
図３は、位置角Ｐ、迎え角Ａ、およびスライド角Ｓを含む、バックアップローラー１４に対するスライドコーター１２の方向を示している。スライド角Ｓは、位置角Ｐと迎え角Ａの合計である。バックアップローラー上の巻き付きを増加させ、コーティング作業の安定性を向上させるために、位置角Ｐは負であることが好ましい。しかしながら、本発明の方法は、０または正の位置角で使用することもできる。
【００３９】
スライド角Ｓは、傾斜したスライド面を流下する流体流の安定性を決定する。スライド角Ｓが大きいと、表面波の不安定性が増加してコーティングに欠陥が生じることがある。最近接点におけるスライドコーター１２とバックアップローラー１４の間の距離は、間隙として知られている。
【００４０】
図３は、層６０、６２、６４の未乾燥厚さＷも示している。この場合も、未乾燥厚さは、コーティングビード６５よりは実質的に離れているが、十分な乾燥が起こるほどは離れていないコーティング基材１６表面上のコーティングの厚さを意味する。層６０、６２、６４中の溶剤が蒸発し始めると、コーティング厚さはさらに減少する。大部分の溶剤は乾燥ゾーンで除去されるが、この時点の後でコーティング厚さは、未乾燥厚さよりも実質的に薄い乾燥厚さを示す。
【００４１】
乾燥中、流体層６０、６２、６４は、１つ以上の層中にある磁性粒子を所望の方向に配列するために磁界をかけることができる。未乾燥厚さが約１０〜２５μｍの場合、本発明により得られるコーティング配合物は、乾燥厚さが約３μｍ未満となることができ、特に約１〜３μｍとなりうる。乾燥厚さは、基材１６が乾燥ゾーンを通過したが、基材がカレンダー加工に掛けられる前、すなわちコーティングを圧縮する表面の加圧ニップ処理の前の、複数の層６０、６２、６４の基材断面方向の平均厚さを意味する。
【００４２】
さらに図２を参照すると、スライドブロック１８、２０、２２、２４によって画定されるスライド面を流下する流体流は、スライドコーター１２の各端部１２でエッジガイド６６、６８を使用することで補助することができる。エッジガイド６６、６８は、溶液をスライド面に制限する機能を果たし、そのため基材１６上のコーティング幅が固定され、端部における流体の流れも安定化する。各エッジガイド６６、６８は直線状であって、スライド面上のスロット２６、２８、３０に対してまっすぐ垂直に向かっていることが好ましい。代表的なエッジガイドは前述のＢｈａｖｅらに付与された米国特許第５，８６１，１９５号およびＹａｐｅｌらに付与された米国特許第５，８３７，３２４号に記載されている。エッジガイド６６、６８は、鋼、アルミニウムなどの金属材料、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアミド、ポリメチレンオキシド、またはポリアセタールなどのポリマー材料、あるいは木材、セラミックなどから作製することができる。あるいは、エッジガイド６６、６８は、ポリマー、例えば、ポリテトラフルオロエチレンでコーティングした鋼などの２種類以上の材料から作製することもできる。エッジガイド６６、６８とともに、カバーまたはシュラウド（図示していない）をスライドコーター１２の上に配置することができる。
【００４３】
図４は、別のスライドブロック７０の部分側断面図である。スライドブロック７０は、図１〜３に示される第１のスライドブロック１８と実質的に一致してもよい。しかしながら図４の実施態様では、スライドブロック７０の前端７２は、前縁の幅全体にわたって延在する低表面エネルギー部材７４を有することができる。低表面エネルギー部材７４は、乾燥したコーティング材料の付着を防止する表面エネルギー特性を与える。前縁７４は、このような材料の付着の影響を特に受けやすい。低表面エネルギー部材７４はコーティング材料を実質的にはじくため、コーティング材料はスライドブロック７０上で乾燥せずに、コーティングビード６５に残るかあるいは真空箱３４（図１に示される）に落下する。好適な低表面エネルギー材料の製造方法に関する詳細はＭｉｌｂｏｕｒｎらに付与された米国特許第５，９９８，５４９号に開示されている。Ｍｉｌｂｏｕｒｎらの特許には、例えば、ペンダントフルオロ脂肪族基、ペンダント有機可溶性基、およびエポキシシランと反応するペンダント基を有するフルオロケミカルオリゴマーを有するポリマー化合物の使用が記載されている。
【００４４】
Ｍｉｌｂｏｕｒｎらの特許に記載されるように配合された材料は、低表面エネルギー部材７４の製造に有用となりうる。しかしながらより好ましくは、Ｍｉｌｂｏｕｒｎらの特許に記載のような低表面エネルギー材料をコーティングしたガラス材料で低表面エネルギー部材７４が作製される。特に、ガラス材料は好ましくはシリカ系であり、ポリマーでないことが好ましいが、一部の用途ではＰＴＦＥ材料が有用となりうる。ガラス材料は板状インサートに切断することができ、これをスライドブロック７０の前端７２のくぼみに低表面エネルギー部材７４としてはめ込んだり他の方法で取り付けたりすることができる。好都合には、低表面エネルギー材料は摩耗したり、他の原因で有効性が減少したりするため、低表面エネルギー部材７４を形成するガラスインサートは交換可能である。あるいは、低表面エネルギー材料をガラス部材７４に再適用して、より均一なレベルまで低表面エネルギー特性を回復させることもできる。例えば、より低い表面エネルギーの材料をガラス部材７４上に、吹き付け、塗りつけ、ロールコーティング、または他の方法で付着させることができ、それによってコーティングの均一性と有効性が回復する。この方法によって、前端７２上でコーティング材料が乾燥するために発生する縞やその他の欠陥を回避でき、同時により長いコーティング寿命を定期的に回復させることができる。
【００４５】
図５は、さらに別のスライドブロック７６の部分側断面図である。スライドブロック７６は、図１〜３に示される任意のスライドブロック１８、２０、２２、２４と実質的に一致してもよい。しかしながらスライドブロック７６は、スライドブロックの上部前縁８０と隣接する低表面エネルギー部材７８をさらに有することができる。ある実施態様では、端部８０に低表面エネルギー部材７８を配置することが望ましいこともある。図４を参照して説明した低表面エネルギー部材７４と同様に、低表面エネルギー部材７８も、スライドブロック７６のくぼみに配置される板状インサートとして製造された非ポリマーのシリカガラスシートの形態であってもよい。低表面エネルギー部材７４と同様に、部材７８も、スライドブロック７６の上部前縁８０における乾燥コーティング材料の付着を防止することができ、それによってコーティング均一性および品質が維持される。
【００４６】
図６は、本発明による多層コーティング法で製造された磁気記録媒体８２の断面図である。図６に示されるように、磁気記録媒体８２は、基材１６、バッキング層８４、乾燥した第１の流体層６０で形成される下塗り層８６、乾燥した第２の流体層６２で形成される記録層８８、および乾燥した第３の流体層６４で形成される機能層９０を含むことができる。機能層９０は、例えば、ヘッドクリーニング材料、帯電防止材料、潤滑材料、および同様の機能を果たす他の材料であってよい。スライドコーティング装置１０を使用すると、基材ウェブが１回通過する間に基材１６上に多層コーティング配合物５８を適用することによって、層８６、８８、９０が同時に形成することができる。流体層６０、６２、６４の適用のためのコーティングを実施する前に、バッキング層８４を基材１６に適用してもよい。
【００４７】
本発明によると、流体層６０、６２、６４、および得られる磁気記録媒体８２の層８６、８８、９０は、流体組成物のレオロジーを注意深く制御することによって非常に薄くすることができる。同時に、このレオロジーは、コーティング速度をより速くするために利用することができる。例えば、本明細書に記載のレオロジーを有すると、約４００フィート／分（１２０ｍ／分）を超える基材速度で非常に薄いコーティングを得ることができる。ある用途では、約６００〜８５０フィート／分（１８３〜２６０ｍ／分）の範囲の速度を実現しながら、所望のコーティング層厚さを維持することができる。
【００４８】
図７は、図１に示すスライドコーティング装置１０によって形成されるコーティングビード６５の拡大断面図である。コーティングビード６５において、流体層６０、６２、６４は第１のスライドブロック１８と基材１６の間の小さな間隙を飛び越え、そして急激に方向を変え、基材の移動によって上方に運ばれる。流体層６０、６２、６４が運搬されて第１のスライドブロック１８から離れると、それらは基材１６上に流れ落ち、コーティングビード６５でずり減粘を経験する。特に第１の流体層６０のレオロジーが適切であれば、基材１６がより高速で移動しながら、流体層６０、６２、６４の薄いコーティングが可能となる。
【００４９】
一般に、第１の流体層６０はより速い剪断速度で低い未乾燥粘度を示し、中程度の剪断速度で中程度の未乾燥粘度を示し、より低い剪断速度でより高い未乾燥粘度を示すことが望ましい。コーティングビード６５の高剪断領域では、第１の流体層６０と基材１６の付着を促進するためにより低い粘度が望ましく、それによって第１のスライドブロック１８と基材の間の間隙を越えるコーティングビードの形成が維持される。例えば、スライドコーター１２上および隣接するコーティングビード６５などの中程度の剪断領域では中程度の粘度が、層間の分離とコーティングビードの完全性を促進するために望ましい。
【００５０】
基材１６上などの低剪断領域では、乾燥工程で生じうるモアレ、回転むら、およびまだらなどのモビリティの欠陥に対して多層コーティング配合物が抵抗性となるために、より抗温度であることが望ましい。モビリティは、一般に未乾燥層コーティング厚さの２乗に比例し、粘度に反比例する。したがって、より低い粘度およびより厚い未乾燥層によって、このような結果が生じる可能性があり、特に、容易に変形しコーティングに対して高い伝熱率を示しうる非常に薄い基材が特徴であるデータ記憶テープ製品のコーティングの場合に起こりうる。本発明による乾燥工程での欠陥を軽減可能な特定の範囲の未乾燥粘度対剪断速度については後述する。
【００５１】
第１の流体層６０のレオロジーは、所望のコーティングウィンドウを得るために最も重要である。第１の流体層６０は第２および第３の流体層６２、６４のキャリア層として作用し、多層コーティング配合物５８の全体の流体特性に大きな影響を与える。コーティング配合物は、異なる工程中に広範囲の剪断速度を経験する。一般に、本発明の方法は、流体調製および送出、コーティング、および固化の３つの工程に分けることができる。流体の調製および送出では、コーティング配合物にはより高い剪断速度がかかる。また、動的コーティングラインでは、より高い剪断速度がコーティング配合物に加わる。乾燥中、流体コーティング配合物は固化し、移動基材上で比較的低い剪断速度がかかる。
【００５２】
したがって、コーティング溶液レオロジーは３つの異なる領域を特徴とすることができる。第１の高剪断速度領域では、剪断速度は１０，０００ｓｅｃ^−１以上程度である。この大きさの剪断速度は、コーティングビード、すなわち、動的ぬれライン、および分散配合物中の多くの流れ、ならびに送出システム、例えば、ミル、微細流動化装置、およびポンプと関連がある。大体においてこの領域では、溶液のコーティング性が決定され、コーティング間隙ならびに使用可能な減圧に関してコーティングウィンドウが画定され、最大コーティング速度が決定される。
【００５３】
第２の中程度の剪断速度領域では、剪断速度は５〜１０，０００ｓｅｃ^−１程度である。この領域では、剪断速度は、コーティングダイマニホールド内部、またはスライドコーターの傾斜面に沿ったコーティング配合物の流動と関連がある。さらに、このような剪断速度は、溶液配合物の多くの流れおよび送出システムとも関連しうる。この領域によって、ダイ設計および構造が決定される。スライドコーティングでは、例えば、この領域は、マニホールドの形状および寸法、スロット高さ、スロット長さ、およびステップ高さ、ならびに傾いたスライド面からコーティングビードに流下する溶液の被膜の厚さに影響する。ダウンウェブ方向またはクロスウェブ方向のいずれかで厚さが不均一であれば、得られる磁気記録製品は、変調および出力などのテープ性能に関する厳正な製品規格に合格しないであろう。
【００５４】
第３の低剪断速度領域では、剪断速度は０〜５ｓｅｃ^−１程度である。この涼気では、この大きさの剪断速度は、移動基材１６に付着した後のコーティング溶液の大部分と関連がある。言い換えると、この領域の剪断速度は未乾燥液体被膜と関連がある。溶液粘度は、未乾燥被膜厚さ、乾燥空気速度の転換、基材速度、基材経路、基材の支持および操作、ならびに基材の性質の関数である臨界値よりも大きくなるべきである。モビリティは、溶液粘度および未乾燥被膜厚さの関数であり、空気の動き、ローラー表面、基材の不完全性、および静電気などによる妨害に液体被膜がどの程度影響されやすいを決定する。
【００５５】
磁気媒体のコーティングの場合、低剪断速度領域における粘度が特に重要である。通常、テープなどの磁気媒体には、非常に薄い基材が使用される。基材の厚さを減少させることは、所与の磁気粒子で記憶容量を増加させる方法の１つである。基材厚さが薄くなるほど、モビリティにより生じるコーティング配合物の欠陥はより大きな問題となる。例えば、薄いフィルムは張力によってより折れ曲がりやすくなり、速度および張力の変化、ならびに周囲の流れ、密閉された流れ、乾燥オーブンの対流などの空気の動きによって容易にばたつく。さらに、薄いフィルムは、アイドラーロール、真空ロール、およびエアターンなどの支持および案内装置と接触することによって容易に変形する。コーティング配合物の粘度が不十分であれば、磁気記録用途に使用される非常に薄いフィルムが変形してモビリティが原因の欠陥が生じうる。本発明によると、これから説明するように８μｍ未満程度のより薄い基材を使用可能である。
【００５６】
したがって、上記の３つの大まかな剪断速度領域のそれぞれで粘度特性は、コーティング性およびコーティング品質を得るために重要である。本発明によると、第１の流体層６０は、剪断速度約９，０００〜１１，０００ｓｅｃ^−１、すなわち比較的高い剪断速度領域では未乾燥粘度が約４〜１０ｃｐとなることができ、剪断速度約７５〜１００ｓｅｃ^−１、すなわち比較的中程度の剪断速度領域では約２０〜１５０ｃｐとなることができる。高剪断速度領域９４の例を図７に示す。中程度の剪断速度領域を図７の参照番号９６で示す。より低い剪断速度領域、例えば、図７の参照番号９８で示される領域では、第１のコーティング配合物は、剪断速度約３〜５ｓｅｃ^−１で未乾燥粘度が約５０ｃｐ以上であってもよい。
【００５７】
特定の実施態様では、第１の流体層６０は、剪断速度が約９０００〜１１０００ｓｅｃ^−１で未乾燥粘度が約５〜８ｃｐであってよく、剪断速度が約７５〜１００ｓｅｃ^−１で約２０〜６０ｃｐであってよく、さらに剪断速度が約３〜５ｓｅｃ^−１で未乾燥粘度が約２００ｃｐ以上であってよい。より詳細には、第１のコーティング配合物は、剪断速度が約９０００〜１１０００ｓｅｃ^−１で未乾燥粘度が約６〜７ｃｐであってよく、剪断速度が約７５〜１００ｓｅｃ^−１で約３０〜６０ｃｐであってよく、さらに剪断速度が約３〜５ｓｅｃ^−１で未乾燥粘度が約４００ｃｐ以上であってよい。それぞれの場合で、第１のコーティング配合物の未乾燥粘度は、速いウェブ速度で薄い流体層のコーティングが促進されるように選択される。
【００５８】
上記のようなレオロジーを有すると、層厚さとコーティング速度の両方に関してより広いコーティング性ウィンドウで流体層６０、６２、６４をコーティング可能である。高剪断速度領域、例えば、コーティングビードにおける未乾燥粘度はコーティング性に関して重要な因子であり、最大コーティング速度を画定するのに役立つ。中間剪断速度領域、例えば、スライドコーター１２の粘度は、コーティング組成物がスライド面を流下するときの層厚さを決定する。低剪断速度領域、例えば、多層コーティング配合物５８を基材１６上に適用した後の領域の粘度は、コーティングのモビリティおよび乾燥ゾーンでの欠陥に対する抵抗性を決定する。高剪断速度領域、例えば、コーティングビードでは、実質的に４ｃｐ未満の未乾燥粘度ではコーティングビードの維持が困難となる可能性があり、一方未乾燥粘度が実質的に１０ｃｐを越えるとコーティングの下に空気が取り込まれることがあり、そのためコーティングが著しく不均一となる。同時に、中間剪断領域、例えば、マニホールドまたはスロット内では、実質的に６０ｃｐを越える未乾燥粘度ではろ過の問題が生じうる。適切なコーティング性を得るためには、流体層６０のレオロジーのバランスに気を付けるべきである。
【００５９】
基材速度が増加すると、一般に流体層６０ｍの厚さはある点まで増加する。しかしながら基材速度が増加すると、適切なコーティング配合物レオロジーのために高速でもコーティング厚さが減少する。特に、速度が増加すると、コーティング配合物のレオロジーのために、コーティングビード６５で他の力よりも慣性が支配的となりはじめ、そのためコーティング厚さが減少する。特に、本明細書で記載されるような適切なレオロジーを有すると、流体層６０のコーティング性を粘弾性に依存する必要が無く、真のニュートンコーティング流体となることができる。したがって、適切なレオロジーを有するのであれば、従来の磁性粒子およびバインダー系を使用することができる。
【００６０】
基材１６は、ウェブとして広範囲のウェブ速度で給送することができる。しかしながら処理能力を増大させるため、基材１６は約４００フィート／分（約１２０ｍ／分）を超える速度、より好ましくは約６００フィート／分（約１８０ｍ／分）を超える速度で給送されることが好ましい。特に、適切な流体レオロジーを有する場合、約６００〜８５０フィート／分（約１８０〜２６０ｍ／分）の範囲内の速度が、本明細書に記載の未乾燥流体厚さのために意図される。流体層６０、６２、６４の未乾燥厚さのため、乾燥させる材料が減少し、多くの基材を既存の乾燥装置で使用することができる。同時に、流体層６０、６２、６４の粘度のために、基材１６が急送され流体層が乾燥するときに、対流およびモビリティが原因の欠陥に対して抵抗性となる。
【００６１】
また、スライドコーティングなどのコーティング技術を使用すると、基材１６の厚さを減少させることができる。流体ダイコーティングやグラビアコーティングなどの他のコーティング技術と比較すると、スライドコーター１２は基材１６への負荷が非常に小さい。特に、通常のスライドコーター１２は基材１６に対して加わる荷重が０．０５ｐｓｉ（０．０３４ｂａｒ）以下である。さらに、スライドコーティング工程では、基材１６はロール１４によって支持されるため、変形が起こりにくい。その結果、スライドコーター１２は、基材１６の変形をはるかに少なくすることができ、より薄い基材を使用することができる。基材１６は好ましくは厚さが約８μｍ以下である。ある実施態様では、基材１６の厚さは約２〜８μｍとなりうる。
【００６２】
基材がより薄いと、短波磁気記録技術で厚さ損失を減少させることができる。さらに、磁気テープの場合、基材厚さが減少すると、全体のテープの厚さを有意に減少させることができる。全体の厚さが減少すると、所与のテープパック体積でテープ量をより多くすることができ、その結果、所与のデータテープカートリッジの記憶容量をより大きくすることができる。基材１６の構造体の代表的な材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリスルホン、アラミド、ポリオレフィン、三酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、およびポリカーボネートが挙げられる。流体層６０、６２、６４がコーティングされる面とは反対側の基材１６の面は、バッキング層で予備処理することができる。さらに、流体層６０、６２、６４がコーティングされる基材１６の面はプライマー層で予備処理することもできる。
【００６３】
磁気記録性能別の重要な特徴は、テープの変調特性である。本発明によるコーティング方法および材料は、より均一な磁気層が得られ内部層粗さが軽減されるため、変調を減少させ、より均一な磁気特性を得るために有用である。特に、本明細書に記載される材料のスライドコーティングは、中間層粗さが減少し、非常に薄いコーティング層を得ることができる。ある実施態様では、例えば、第２の流体コート層は乾燥後の乾燥厚さを約０．４μｍ未満にすることができる。
【００６４】
第２の流体層６２としての使用に好適なコーティング配合物は、後述の処方および性質を有することができる。特に、磁気記録媒体は、バインダーと、バインダー中に分散した複数の磁性粒子とを含む磁気コーティング組成物で形成された少なくとも１つの層を含むことが好ましい。第２の流体層６２によって形成された少なくとも１つの磁気層以外に、本発明による磁気記録媒体は、バインダーと、任意にその中に分散した非磁性粒子とを含む非磁気コーティング組成物による第１の流体層６０から形成される非磁気層、および第３の流体層６２から形成される非磁気層も含むことができる。
【００６５】
前述したように、第２の流体層６２の配合物に好適な磁気コーティング組成物、ならびに第１の流体層６０の配合物に好適な非磁気コーティング組成物はバインダーを含む。磁気層コーティング組成物に使用することができる好適なバインダーとしては、例えば、塩化ビニル酢酸ビニルコポリマー、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコールコポリマー、塩化ビニル酢酸ビニルマレイン酸ポリマー、塩化ビニル塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニルアクリロニトリルコポリマー、アクリル酸エステルアクリロニトリルコポリマー、アクリル酸エステル塩化ビニリデンコポリマー、メタクリル酸エステル塩化ビニリデンコポリマー、メタクリル酸エステルスチレンコポリマー、熱可塑性ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリルコポリマー、ブタジエンアクリロニトリルコポリマー、アクリロニトリルブタジエンアクリル酸コポリマー、アクリロニトリルブタジエンメタクリル酸コポリマー、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、セルロース誘導体、スチレンブタジエンコポリマー、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。
【００６６】
バインダーは、塩化メチレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、ブチルアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、トルエン、およびそれらの混合物などの好適な非水性溶剤中で提供することができる。
【００６７】
好ましいバインダーとしては、ポリウレタン、非ハロゲン化ビニルコポリマー、ハロゲン化ビニルコポリマー、およびそれらの組合せが挙げられる。本明細書で使用される場合、用語「非ハロゲン化」は、コポリマーが、共有結合したハロゲン原子を含有しないことを意味する。したがって、用語「非ハロゲン化」は、コポリマーのモノマー成分としては塩化ビニルや塩化ビニリデンなどのハロゲン化ビニルモノマーを除外しているが、用語「非ハロゲン化」は塩素原子として塩素が存在する（メタ）アクリロイルオキシエチルトリエチルアンモニウムクロリドなどのモノマー成分は除外していない。本明細書で使用される場合、接頭語「（メタ）アクリル−」は「メタクリル−」または「アクリル−」を意味する。ポリマー材料に関する用語「ビニル」は、ビニルモノマーから誘導される繰り返し単位を含む材料を意味する。ビニルモノマーに関して使用される場合、用語「ビニル」は、フリーラジカル重合可能な炭素−炭素二重結合を有する部分をモノマーが含有することを意味する。このような部分を有するモノマーは、これらの炭素−炭素二重結合を介して互いに共重合することができる。
【００６８】
本発明において、有用なポリウレタンの１つは、米国特許第５，７５９，６６６号（Ｃａｒｌｓｏｎら）に記載されるようなカルボキシルポリウレタンポリマーである。通常、カルボキシルポリウレタンポリマーは、（ｉ）１種類以上のポリイソシアネート、（ｉｉ）カルボン酸官能性ポリオール、および（ｉｉｉ）任意に、前出のカルボン酸官能性ポリオールは除外して規定される１種類以上のポリオールを含む混合物の反応生成物を含み、ここで反応前の混合物中に存在するイソシアネート反応性基の数は、イソシアネート基の数を超え、少なくとも約０．２ｍｅｑのカルボン酸基が、１ｇのカルボキシルポリウレタンポリマー当たりのカルボキシルポリウレタンポリマー中に存在する。通常、反応生成物の数平均分子量は約２０００〜約５０，０００であり、好ましくは約５０００〜約３０，０００である。
【００６９】
本明細書で使用される場合、用語「ポリオール」は、平均で１つ以上のヒドロキシル基を含有する多価アルコールを意味し、１価アルコール、ジオール、トリオール、テトロールなどが含まれる。好ましいポリオールはジオールであり、低分子量（すなわち、数平均分子量が約５００未満）、および通常は数平均分子量が約５００〜約５０００であるオリゴマージオールの両方が挙げられる。低分子量ジオールの代表例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、極性官能基を有するジオール、エチレン系不飽和を有するジオール（例えば、３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール、（メタ）アクリル酸１−グリセリルなど）、および官能化ジオールが挙げられるが、これらに限定されるものではない。オリゴマージオールの代表例としては、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリエーテルトリオール、およびポリエステルトリオールが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７０】
用語「ポリイソシアネート」は、１つの分子に２つ以上の反応性イソシアネート（すなわち、−ＮＣＯ）基を有し、脂肪族、脂環式、芳香族、およびそれらの組合せであってよい任意の有機化合物を意味し、ジイソシアネート、トリイソシアネート、テトライソシアネートなど、およびそれらの組合せが含まれる。好ましくは、ジイソシアネートとしては、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、およびそれらの組合せが挙げられ、これらが使用される。
【００７１】
別の有用なポリウレタンはホスホン化ポリウレタンであり、例えば米国特許第５，５０１，９０３号（Ｅｒｋｋｉｌａら）に記載されている。好ましくは、ホスホン化ポリウレタンは、ポリマー主鎖の窒素形成部分、１重結合または２価の架橋性基（好ましくは線状に最大４個の炭素原子を有する）、およびアルキル基、シクロアルキル基、アリール基の群から独立に選択されるか、あるいは合わせたものが環を形成するのに必要な炭素原子を含む２つのペンダント基を有する。ホスホン化ポリウレタンは、ヒドロキシル基が可撓性の鎖によって分離されるソフトセグメントジオール（通常は分子量が３００を超え、例えばポリカプロラクトンジオールが挙げられる）と、ヒドロキシル基が比較的非可撓性の鎖で分離されるハードセグメントジオール（通常は分子量が３００未満であり、例えばネオペンチルグリコールが挙げられる）、トリオール（例えば、ポリカプロラクトントリオール）、ジイソシアネート（例えば、トルエンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、およびイソホレンジイソシアネート）、およびホスホン酸ジアルキル（例えば、ビス−（２−ヒドロキシエチル）アミノメチルホスホン酸ジエチル）の反応によって生成されることが好ましい。
【００７２】
有用な第４級アンモニウム含有ポリウレタンの例は、米国特許第５，７５９，６６６号（Ｃａｒｌｓｏｎら）に記載されるポリマー第４級アンモニウム化合物である。特に、ポリマー第４級アンモニウム化合物は、数平均分子量が約５００を超えることが好ましく、好ましくは 第４級アンモニウム ポリウレタン、第４級アンモニウム 官能性非ハロゲン化ビニル コポリマー、およびそれらの組合せの群より選択される。
【００７３】
本発明では、好適なバインダーは第４級アンモニウム官能性を有することができる。本明細書で使用される場合、用語「第４級アンモニウム官能性」は式
【化１】

の部分を意味する。
【００７４】
上式において、アステリスクで表される結合はポリマーバインダー樹脂　の主鎖に直接または２官能性架橋基を介して結合しており、各Ｒは独立に任意の好適な部分または環構造の共通部分であってよく、好ましくはＨまたは１〜１０個の炭素原子のアルキル基、例えば−ＣＨ_３であり、Ｍは任意の好適な対陰イオン、例えばＣｌ⁻、Ｂｒ⁻などである。用語「第４級アンモニウム官能性」は、スルホベタイン（例えば、−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３ ⁻））も包含する。
【００７５】
実施態様の１つでは、第４級アンモニウム官能性ポリマーは、比較的高いガラス転移温度（Ｔ_ｇ）を有するいわゆる「硬質樹脂」成分としてポリマーバインダーに混入される非ハロゲン化ビニルコポリマーである。
【００７６】
別の実施態様では、非ハロゲン化ビニルコポリマーは、複数のペンダント第４級アンモニウム基、ＯＨ基または炭素−炭素二重結合を有する部分などの複数のペンダント架橋性部分、および複数のペンダントニトリル基を含む種類のものである。理論によって束縛しようと望むものではないが、ニトリル基はこれらのビニルコポリマーとポリウレタンの相溶性を向上させると考えられている。ビニルコポリマーのペンダントヒドロキシル基は磁性顔料のポリマーバインダーへの分散を促進するだけでなく、溶解性、硬化性、および他のポリマーとの相溶性も向上させると考えられている。ビニルコポリマー第４級アンモニウム基は、磁性顔料のポリマーバインダーへの分散を促進する。
【００７７】
さらに別の実施態様では、第４級アンモニウム官能性ポリマーは、ポリウレタン鎖からぶら下がる少なくとも１つの第４級アンモニウム基を有し分子量が約５００を超える第４級アンモニウムポリウレタンである。
【００７８】
別の有用な非ハロゲン化ビニルコポリマーは、複数のペンダントニトリル基、複数のペンダントヒドロキシル基、および少なくとも１つのペンダント分散性基を有するコポリマーであって、例えば、米国特許第５，５０１，９０３号（Ｅｒｋｋｉｌａら）および第５，５１０，１８７号（Ｋｕｍａｒら）に記載されている。複数のペンダントニトリル基、複数のペンダントヒドロキシル基、および少なくとも１つのペンダント分散性基を有する非ハロゲン化ビニルコポリマーは好ましくは、モノマーが５〜４０重量部、好ましくは１５〜４０重量部（メタ）アクリロニトリル、３０〜８０重量部の１種類以上の非ハロゲン化非分散性ビニルモノマー、１〜３０重量部の非ハロゲン化ヒドロキシル官能性ビニルモノマー、および０．２５〜１０重量部の分散性基含有非ハロゲン化ビニルモノマーである非ハロゲン化ビニルコポリマーである。分散性基は第４級アンモニウム、カルボン酸またはその塩、リン酸またはホスホン酸あるいはそれらの塩、硫酸またはスルホン酸あるいはそれらの塩、またはそれらの混合物から選択することができる。分散性基が第４級アンモニウムである場合、分散性基を有するビニルモノマーが（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリドであることが好ましい。
【００７９】
好ましくは、非ハロゲン化非分散性ビニルモノマーは、スチレン、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル（アルキルエステルのアルキル基は１〜２０個の炭素原子を有する）、およびスチレンとそのようなアルキルエステル（例えば、（メタ）アクリル酸メチル、より好ましくはメタクリル酸メチル）を含む混合物（スチレンとアルキルエステルの重量比は１０：９０〜９０：１０である）から選択される。
【００８０】
特に、ハロゲン化ビニルコポリマーも有用であり、本発明によるスライドコーティングに使用できる。このようなものとしては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、およびそれらの組合せが挙げられ、例えば米国特許第５，７６３，０４６号（Ｅｊｉｒｉら）に記載のものが挙げられる。好ましくは、これらの樹脂には１つ以上の極性基が結合している。好ましい極性基としては、ＳＯ_３Ｍ^１、ＣＯＯＭ^１、ＯＳＯ_３Ｍ^１、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ^２）ＯＭ^３、−ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ^２）ＯＭ^３、−ＮＲＸ、ＯＨ、ＮＲ_１、Ｎ^＋Ｒ_２（式中Ｒは炭化水素基である）、エポキシ基、ＳＨ、およびＣＮが挙げられる。塩化ビニル樹脂のより有用な種類の１つは、エポキシ基を含有する塩化ビニルコポリマーであり、例えば、塩化ビニル繰り返し単位、エポキシ含有繰り返し単位、および希望するのであれば極性基含有単位（例えば、−ＳＯ_３Ｍ、−ＯＳＯ_３Ｍ、−ＣＯＯＭ、および−ＰＯ（ＯＭ）^２、式中のＭは水素またはアルカリ金属である）を含有するコポリマーが挙げられる。これらの中で、繰り返しエポキシ基と、−ＳＯ_３Ｎａを含有する繰り返し単位とを含有するコポリマーが特に有用である。
【００８１】
上記のポリマーは、限定するものではないが、バルク重合法、溶液重合法、乳化重合法、および懸濁フリーラジカル重合法などの当技術分野で公知の重合方法で調製することができる。例えば、溶液重合法によると、コポリマーは、所望のモノマーを適切な溶媒に溶解し、連鎖移動剤、フリーラジカル重合開始剤、および等技術分野で公知の他の添加剤を加え、窒素やアルゴンなどの不活性雰囲気中に溶液を封入し、開始剤を活性化させるのに十分な温度で混合物を撹拌することによって調製される。
【００８２】
当業者に公知の種々の添加剤を本明細書に記載の分散液およびコーティングに混入することができる。分散液およびコーティングは、架橋剤、ヘッドクリーニング剤、潤滑剤、カーボンブラック、分散剤、および湿潤剤からなる群より選択される添加剤をさらに含むことができるが、これらに限定されるものではない。
【００８３】
例えば、希望するなら、バインダー組成物は架橋剤も含むことができる。架橋剤の好ましい種類の１つは、磁気記録媒体分野で公知のポリイソシアネート架橋剤であり、これは約１００℃を超えるガラス転移温度で硬化し、高いガラス転移温度および高い硬度の層を形成するために使用することができる。特に有用な種類のポリイソシアネート架橋剤は、過剰のジイソシアネートと低数平均分子量（約２００未満）のジオールおよびトリオールの反応生成物である。一般的で広く使用されている硬化剤としては、例えば、トルエンジイソシアネートと、トリメチロールプロパンおよびブタンジオールまたはジエチレングリコールなどのジオールとの混合部物の付加体が挙げられる。この種の好ましい材料はＢａｙｅｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎより商品名ＭＯＮＤＵＲ　ＣＢ−５５Ｎで入手可能である。他の有用な高Ｔｇ架橋剤は、商品名ＭＯＮＤＵＲ　ＣＢ−６０１、ＭＯＮＤＵＲ　ＣＢ−７０１、ＭＯＮＤＵＲ　ＭＲＳ、およびＤＥＳＭＯＤＵＲ　Ｌ　（すべてＢａｙｅｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎより入手可能）　およびＣＯＲＯＮＡＴＥ　Ｌ（Ｎｉｐｐｏｎ　Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅより入手可能）が入手可能である。さらに別のイソシアネートか教材米国特許第４，７３１，２９２号（Ｓａｓａｋｉら）に記載されている。
【００８４】
硬化によって脆性ではなく靭性および可撓性のフィルムが得られる強化ポリイソシアネート架橋剤も望ましい場合がある。有用な強化ポリイソシアネート架橋剤は、米国特許第５，７５９，６６６号（Ｃａｒｌｓｏｎら）に記載されており、過剰のポリイソシアネートと、強化セグメントとして作用する１０〜８０重量％のオリゴマーポリオールを含むポリオールの反応生成物として得られる。強化ポリイソシアネート硬化剤の製造に有用なオリゴマーポリオールは数平均分子量が約５００〜約５０００であり、ガラス転移温度が約０℃未満であり、好ましくは約−２０℃未満である。オリゴマーポリオールは好ましくは、ポリエステルジオール、ポリエステルトリオール、ポリエーテルジオール、ポリエーテルトリオール、ポリカーボネートジオールポリカーボネートポリオール、およびそれらの混合物からなる群より選択される。
【００８５】
好ましい強化ポリイソシアネート架橋剤の１つは、ＣＢ−５５Ｎ（前述した）と４５重量％の数平均分子量１３００のポリカプロラクトンジオールの反応生成物から得られる。ＣＢ−５５Ｎをこのように改質することで、より速く硬化しより靭性の高いコーティングが得られる。本発明の分散液およびコーティングの配合物には、粒子を除いた配合物の全固形分重量を基準にして、好ましくは約２０〜約６０重量％、最も好ましくは約３０〜約５０重量％の強化ポリイソシアネート硬化剤が使用される。
【００８６】
前述したように、その他の添加剤としては、ヘッドクリーニング剤、潤滑剤、カーボンブラック、分散剤、および湿潤剤が挙げられる。米国特許第４，７３１，２９２号（Ｓａｓａｋｉら）、第４，７８４，９０７号（Ｍａｔｓｕｆｕｊｉら）、および第５，７６３，０７６号（Ｅｊｉｒｉら）に開示されるような潤滑剤は、所望の摩擦特性および加工性を得るために加えることができると思われる。有用な潤滑剤の例としては、限定するものではないが、Ｃ_１０〜Ｃ_２２脂肪酸、脂肪酸のＣ_１〜Ｃ_１８アルキルエステル、およびそれらの組合せからなる群より選択されるものが挙げられる。有用な潤滑剤の別の例としては、シリコーン油などのシリコーン化合物、フルオロケミカル潤滑剤、フルオロシリコーン、無機または可塑性材料の粉末などの粒子状潤滑剤からなる群より選択されるものが挙げられる。好ましい潤滑剤としては、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸イソセチル、オレイン酸、ならびにそれらのブチルエステルおよびアミルエステルからなる群より選択されるものが挙げられる。通常、潤滑剤の混合物が使用され、特に脂肪酸と脂肪酸エステルの混合物が使用される。
【００８７】
分散液は、磁性粒子の重量を基準にして約１〜約１０重量％の湿潤剤をさらに含むことができる。好適な湿潤剤としては、限定するものではないが、グリセロールのモノリン酸化プロピレンオキシド付加体、例えば、１０〜１１モルのプロピレンオキシドと１モルのグリセリンの反応生物と、１モルのオキシ塩化リンとの反応生成物などのリン酸エステルからなる群より選択されるものが挙げられる。
【００８８】
有用なヘッドクリーニング剤の例としては、限定するものではないが、米国特許第４，７８４，９１４号（Ｍａｔｓｕｆｕｊｉら）および第４，７３１，２９２号（Ｓａｓａｋｉら）に開示されるものが挙げられる。このようなヘッドクリーニング剤の例としては、限定するものではないが、アルミナ、二酸化クロム、α酸化鉄、および二酸化チタンの粒子からなる群より選択されるものが挙げられ、粒子の粒径は約２μｍ未満、好ましくは０．５μｍ未満でありモース硬度が約５を超え、磁性粒子１００部当たり約０．２から約２０部の範囲の量で加えられる。
【００８９】
前述したように、磁気層は複数の磁性粒子を含有する。好ましくは、磁性粒子は円形または針状の磁性粒子である。これらの粒子の長軸に沿った平均長さは、好ましくは約０．３μｍ未満であり、より好ましくは約０．２μｍ未満である。好ましくは粒子は軸比、すなわち長さ対直径厚さの比が最大約５または６：１．である。好ましい粒子は比表面積が少なくとも約３０ｍ^２／ｇであり、より好ましくは少なくとも約４０ｍ^２／ｇである。この種の代表的な針状粒子としては、例えば、鉄または強磁性酸化鉄の粒子、例えばγ−酸化第二鉄（γ−Ｆｅ_２Ｏ_３）、鉄およびコバルトの錯体酸化物、種々のフェライトおよび金属鉄粒子が挙げられる。あるいは、バリウムフェライトなどの小さく平らな粒子も使用することができる。粒子は、チタン、スズ、コバルト、ニッケル、亜鉛、マンガン、クロム、または当技術分野で公知のものなどの多価金属の１種類以上のイオンをドープすることができる。磁性粒子、分散鋭気中に約５０％〜約９０重量％の量で存在でき、好ましくは約６０％〜約８０重量％の量で存在できる。
【００９０】
好ましい粒子は、高い保磁力と高い飽和磁化を有する磁性合金粒子であり、好ましくは存在するＦｅ量を基準にして約１５〜４５原子％、好ましくは２０〜４５原子％のＣｏを含む（すなわち、１００×（Ｃｏの原子数／Ｆｅの原子数））。好ましくは、これらの合金粒子は保磁力が約１８００エルステッド（Ｏｅ）を超え、より好ましくは約１８００〜約２５００Ｏｅであり、さらにより好ましくは約２０００〜約２４００Ｏｅである。合金粒子の飽和磁化は好ましくは１３０ｅｍｕ／ｇ以上であり、より好ましくは１３５ｅｍｕ／ｇを超える。このような合金粒子は米国特許第５，７３５，９６９号（Ｌｏｗｎら）に記載の方法によって調製することができ、Ｄｏｗａ　Ｍｉｎｉｎｇ、Ｋａｎｔｏ　Ｄｅｎｋａ、およびＴｏｄａ　Ｋｏｇｙｏ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎなどから市販されている。
【００９１】
本発明で使用される磁性粒子は、磁性顔料の表面上に吸着するこが望ましい少なくとも１種類の第１の表面処理剤を含むことができる。表面処理剤は、 少なくとも１つの酸性基と、少なくとも１つの電子吸引基とを含む化合物である。好都合なことには、複数の官能基を有するこの種の表面処理剤を使用すると、第４級アンモニウム官能性を有するポリマーバインダー中での磁性顔料の分散性が向上する。その結果、酸基または電子吸引基の一方または両方が不足した表面処理剤よりも、対応する磁気記録媒体がより容易に製造され、選りすぐれた電磁的および機械的性能特性が得られる。
【００９２】
多種多様な酸性基を本発明の表面処理剤の酸性基として使用して好都合な結果を得ることができる。好適な酸性基の代表例としては無水物基、−ＣＯＯＨ基、スルホン酸基、ホスホン酸基、このような基の塩、これらの組合せなどが挙げられる。これらの中で、金属粒子磁性顔料と併用する場合には現在のところ−ＣＯＯＨが最も好ましい。本発明を実施する場合、酸性基の塩も本発明の範囲内の酸性基と見なされる。
【００９３】
本明細書で使用される場合、用語「電子吸引」基は、カルボン酸の水素原子（酸性Ｈ以外）が置換されると、その酸のよりｐＫａの小さな酸が得られるような基であり、すなわちその官能基は、「Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ　ｔｏ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，」Ａｎｄｒｅｗ　Ｓｔｒｅｉｔｗｉｅｓｅｒ，　Ｊｒ．ａｎｄ　Ｃｌａｙｔｏｎ　Ｈ．Ｈｅａｔｈｃｏｃｋ，ＭｃＭｉｌｌａｎ　Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　Ｃｏ．，Ｉｎｃ．（ＮＹ，ＮＹ　１９７６）ｐｐ．９４７−９４９に記載されるＨａｍｍｅｔｔ　Ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ　Ｃｏｎｓｔａｎｔが０．１を超える。電子吸引基の代表例としては、ニトロ、クロロ、ブロモ、フルオロ、ヨード、オキソ、パーフルオロアルキル（トリフルオロメチルなど）、パーフルオロアルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、これらの組合せなどが挙げられる。
【００９４】
磁気層は本発明の磁気記録媒体の調製中に磁性顔料の凝集を防止し分散を容易にするために有効となる十分な量の表面処理剤を含むことが望ましい。表面処理剤の最適な量は、表面処理剤の酸価、表面処理される磁性顔料の比表面積、処理される磁性顔料のｐＨなどの多くの要因に依存する。
【００９５】
好ましい実施態様の１つでは、表面処理剤は式
Ｅ−Ｘ−Ａ
を有する化合物であり、式中、Ｅは電子吸引基であり、Ａは酸性基であり、Ｘは芳香族部分を含む。好ましくは、Ｘは芳香環であり、ＥおよびＡは互いに対して芳香環のメタ位またはパラ位の置換基である。より好ましくは、ＥおよびＡは互いに対してパラ位にある。Ｅ基とＡ基の間の間隔がより大きいため、ＥおよびＡが互いにオルト位にある表面処理剤と性能を比較すると、ＥとＡが互いに対してメタ位またはパラ位にある方が表面処理剤ははるかに有効性が高い。
【００９６】
好ましくは、複数の磁性粒子は、バインダーに加えられる前に濃縮磁性粒子分散液として最初に調製される。この濃縮磁性粒子分散液は、分散技術の当業者には公知の手順によって調製することができる。分散液は、高速インペラーミル、磨砕機、またはサンドミルなどの分散装置を使用して調製することができる。
【００９７】
濃縮磁性粒子分散液は、好適な非水性有機溶剤で希釈して磁気コーティング組成物を得ることができる。通常、非水性有機溶剤は前述のようにバインダーを溶解または分散が行われる。濃縮磁性分散液の貴社ｋに有用な溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなどのケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル酢酸イソプロピル、乳酸エチル、グリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロロベンゼンスチレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレン、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロロヒドリン、ジクロロベンゼンなどの塩素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、およびヘキサンが挙げられる。
【００９８】
本発明のある実施態様では、本明細書に記載されるバインダーを、磁気特性を必要としないコーティング組成物、例えばプライマー／接着促進層、活性化層、下塗り層（通常は磁気層と基材の間にある）、および表層に混入することが望ましい場合もある。例えば、第１の流体層６０などの下塗り層の形成のためのコーティング組成物は、非磁化粒子、例えば、カーボンブラック、α−酸化鉄、酸化アルミニウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、シリカゲル、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、およびそれらの混合物からなる群より選択される粒子を含むことがきる。
【００９９】
前述したような種々の添加剤も、第３の流体層６４などの非磁気層に混入することができる。好適な添加剤としては、ヘッドクリーニング剤、潤滑剤、カーボンブラック、分散剤、湿潤剤などを挙げることができる。
【０１００】
流体層６０、６２、６４が前述のようにして形成されると、スライドコーティング技術を使用して、全体未乾燥コーティング厚さが約２５μｍ以下、基材厚さが約２〜８μｍ、基材速度４００フィート／分（１２０ｍ／分）以上で、基材１６の上に多層構造体を形成することができる。ある実施態様では、基材速度は６００〜８５０フィート／分（１８０〜２６０ｍ／分）以上となり、多層未乾燥コーティング厚さは約１２μｍ．に到達する。どちらの場合も、全体のコーティング構造体の乾燥厚さ約１〜３μｍの範囲を取ることができる。基材厚さ約２〜８μｍ以下を合わせると、完成品の厚さは約３〜１１μｍとなる。さらに、複数の層を同時にコーティングできることで、特定の機能的性質を個々の層に維持しやすくなる。
【０１０１】
磁気記録性能は、層６０、６２、６４の乾燥厚さと基材１６の厚さを減少させることによって有意な効果が得られる。前述のように配合した流体層６０、６２、６４を使用すると、例えば、得られる多層フィルムは、加工方向、すなわち、基材１６の移動方向と平行に保磁力を示すと予測することができ、加工方向と直交する方向では、従来のＤＬＴおよびＳｕｐｅｒＤＬＴ磁気記録規格にしたがって十分使用できる。好ましくは、加工方向の保磁力が加工方向と直交する方向の保磁力とほぼ等しくなるような角形比を記録層が示す。
【０１０２】
有機溶剤が基材１６のコーティングに使用される場合、蒸発しやすい溶剤が早期に乾燥することでコーティングが不均一となる欠陥が生じうる。コーティング溶液がコーティング装置の表面と接触しているうちに溶剤が乾燥することが、早期乾燥と見なされる。早期乾燥はコーティング不均一の欠陥の原因となることがあり、これによって縞、空隙、または帯が生じる。このような欠陥が存在すると、コーティングされた基材が使用しにくくなるため、このような欠陥はコーティング工程による生産量に大きな影響を与えうる。ダイコーティング環境では、全体のコーティング作業中に、コーティング溶液が比較的静止した状態となり、コーティング装置の表面と常に接触する位置が多数生じうる。接触する位置は静的接触ラインと呼ぶことができる。静的接触ラインの均一性は、コーティングの品質、および欠陥の存在を左右する大きな要因である。静的接触ラインでの早期乾燥を制御することが重要である。
【０１０３】
図８は、多数のサチュレーター装置を有するスライドコーティング装置の側断面図である。特に、種々のサチュレーター装置は、スライドコーティング環境だけではなく、ダイコーティング、カーテンコーティング、スロットコーティングなどの種々のコーティング方法でも有用である。したがって、スライドコーティングシステムでこのようなサチュレーター装置を説明しているのは例としてあげているのであって、限定を意味するものではない。
【０１０４】
図９は、境界層サチュレーター１００またはスライドコーター面サチュレーター１１４として有用なサチュレーター装置の１つを示す斜視図である。図１０は、基材１６の境界層の除去に有用な削り取りブレード１０２を示している。図１１は、スライド面サチュレーター１１８を示している。図８〜１１を合わせると、コーティングビード近傍の領域の飽和環境の促進に有用な種々のサチュレーター装置を示しており、これらによって溶剤蒸発およびコーティング時間の延長によって生じうるコーティングの欠陥が減少する。特に、コーティング装置の清浄化の必要回数が減少しうる。
【０１０５】
サチュレーター装置１００は境界層サチュレーターとして機能する。ある実施態様では、サチュレーター装置１００は、リーディングエッジ１０４を有する境界層削り取りブレード１０２と併用することができる。加圧ニップローラー１０１はローラー１４と向かい合って配置することとができ、基材１６に圧力をかけることで、ロール１４と隣接する基材の裏面からの空気の除去が促進される。加圧ニップローラー１０１は、基材１６移動方向に関してサチュレーター装置１００と削り取りブレード１０２の直前に配置することができる。
【０１０６】
削り取りブレード１０２は、基材１６およびロール１４の幅全体にわたって側方に延在するブレード型部材の形態をとることができる。削り取りブレード１０２は基材１６と接触してもしなくてもよいが、基材１６表面とリーディングエッジ１０４が近接することが好ましい。後述するように、サチュレーター装置１００が、存在する境界層を破壊するのに十分な流体圧力と速度で溶剤蒸気を放出する実施態様では、削り取りブレード１０２は必ずしも必要ではない。ある実施態様では、削り取りブレード１０２の代用またはこれと併用してナイフ装置を使用することができる。
【０１０７】
多くの種類のサチュレーター構造を、サチュレーター装置１００の機能を実現するために使用することができる。例えば、サチュレーター装置１００は、基材１６の幅に沿って側方に延在する分散マニホールドを供給する溶剤蒸気ラインの形態であってもよい。蒸気ラインは一端を溶剤蒸気源と接続し、他端を分散マニホールドと接続することができる。この場合、分散マニホールドは、基材１６とローラー１４の幅に沿って側方に延在する細長いスロットの形態をとることができる。
【０１０８】
しかしながら、図８および９の例では、サチュレーター装置１００は同軸管配置をとっている。とくに図９を参照すると、熱水源は熱伝導性管１０６の長さ方向にエネルギーを供給、そのため管と近接する領域で様竿の蒸発が促進される。より大きな管１０８を管１０６の周囲に同心円状に配置して、溶剤の送出するための環状間隙１１０を形成することができる。
【０１０９】
管１０６の内部空間１１２を熱水が通って溶剤が加熱される。したがって、溶剤は環状間隙を通って加熱供給管によって蒸発することができる。より大きな管１０８のスロット１１３は、矢印１１５で示されるように、基材１６の領域に溶剤が蒸発できるように形成することができる。装置全体はコーティング間隙の領域の前の、真空箱２４の入口に配置されてもよい。
【０１１０】
特に、サチュレーター装置１００は、基材１６表面と実質的に平行な方向に蒸気を放出することができる。実施態様の１つでは、サチュレーター装置１００は溶剤蒸気を放出するエアナイフの形態であってもよい。この場合、基材１６によってコーティング間隙に移動する空気層を削り取るエアナイフとして作用するのに十分な圧力で溶剤蒸気を放出することができ、それによって空気層は溶剤蒸気で置き換えられる。この場合、サチュレーター装置１００は、境界層を除去する削り取りブレード１０２の機能を実施することができ、そのため削り取りブレード１０２は不要である。あるいは、図９の実施態様のように溶剤蒸気をより低い圧力で放出して、基材１６の表面によって運ばれる空気層と混合させることがきる。いずれの場合も、、飽和環境が形成されて、乾燥が防止でき、乾燥によるコーティングの縞などの欠陥の可能性を低下させるので、溶剤蒸気の導入は有用である。
【０１１１】
サチュレーター装置１００は、移動する基材１６と近接し、削り取りブレード１０２を併用すると基材表面より運ばれる空気の境界層を変化させるという意味で境界層サチュレーターである。空気境界層は、移動する基材１６の表面に空気分子が付着する結果生じ、基材と同じ速度で移動する。基材表面から離れた空気分子は付着せず、周囲気流に対して比較的ほぼ停止した状態となる。これら２組の空気分子の間が境界層であり、これは周囲気流に対して動いており、基材１６の移動方向に移動する。境界層の厚さは主に基材速度の関数となる。
【０１１２】
移動する基材１６は、空気境界層をコーティング装置の静的接触ラインの領域まで給送する。空気境界層は溶剤蒸気濃度が低く、静的接触ラインで過度の乾燥を起こしうる速度で移動する。削り取りブレード１０２などの機械的装置を使用して空気境界層を一時的に取り除くことはできるが、機械的装置が通過した後すぐに再形成される。
【０１１３】
サチュレーター装置１００は、不飽和空気境界層を溶剤飽和境界層で置換して、境界層　による静的接触ラインの乾燥を軽減する働きをする。特に、サチュレーター装置１００は、削り取りブレード１０２の直後に配置することができる。この方法では削り取りブレード１０２が基材１６の運ぶ境界層を除去または破壊し、続いてサチュレーター装置１００によってその体積の空気が溶剤飽和境界層に置き換えられる。
【０１１４】
サチュレーター装置１００は、境界層の領域を飽和ガスで満たし、境界層が再形成されても、溶剤飽和ガスで再形成される。サチュレーター装置１００の放出する溶剤蒸気は、完全に飽和している必要はないが、蒸気濃度が高いほど乾燥抑制効果も高い。安全性の理由から、溶剤蒸気のキャリアとして窒素などの不活性ガスを選択することが望ましいこともある。
【０１１５】
別のサチュレーター装置１１４は、コーティング間隙と近接する真空箱２４内に配置することができる。サチュレーター装置１１４は、サチュレーター装置１００の構造と実質的に同じ構造であってよく、スライドブロック１８の前面１１６を横切って側方に延在するように配置して、乾燥を遅延させる飽和溶剤環境を形成することができる。別の実施態様では、サチュレーター装置１１４は、スロットを有する分散マニホールドであってもよい。サチュレーター装置１１４は、スライドブロック１８の近接面１１６で真空箱３４に溶剤蒸気を放出するような方向を向いている。この方法では、サチュレーター装置１１４は飽和環境に近いため、スライドブロック１８の面１１６上での溶剤の乾燥が防止される。
【０１１６】
スライドコーティングを開始する前に、通常はコーティングされる溶液の流れをコーティング装置のスライド面上に形成してから、コーターに基材１６を組み込む。この結果、コーティング溶液の一部は先端からあふれて、前部スライドブロック１８の面１１６を流下し、真空箱３４の底部に置かれた回収皿で集められる。スライドコーティング装置が、ロール１４および基材１６に対してコーティング位置に移動すると、スライド面の溶液が、前部スライドバーの面から流下する溶液と分離し、移動する基材に移る。
【０１１７】
残念ながら、スライドコーターの面１１６を流れ落ちた溶液は乾燥しやすい状態となる。乾燥した溶液は低い位置の静的接触ラインと近接するが、静的接触ラインが不均一となる可能性が増加する。この種の不均一性は回転むらの原因となり、すなわち、コーティングの不均一な帯が形成される。図８を参照して説明したように、境界層サチュレーター１００は、スライドコーターの面１１６に集まった溶液の乾燥を防止するためにつねに有効であるわけではなく、なぜなら境界層は非常に薄くコーティング間隙に非常に近い領域を除けばほとんど効果がないからである。このため、さらに別のサチュレーター装置を設置することが望ましい場合もある。面サチュレーター１１４は、前部スライドバーの面１１６の領域に飽和環境を形成し、溶液の感想を防止して回転むらの発生を防止する。
【０１１８】
サチュレーター装置１００および１１４以外に、スライドブロック１８、２０、２２のスライド面と近接する領域にサチュレーター装置１１８を組み込むことができる。図１１は、サチュレーター装置１１８の斜視図である。図８および１１の例では、サチュレーター装置１１８は毛細管材料の形態をとっており、コーティング間隙と隣接するスライドコーター装置のスライド面に溶剤で飽和した空気を給送するという意味でスライド面サチュレーターとして機能する。図８および１１のサチュレーター装置１１８は、溶剤で飽和した空気をスライド面に送り、スライド面で発生する溶剤の乾燥を減少させる。
【０１１９】
毛細管材料の使用は、スライドコーターのスライド面に集まったコーティング溶液の表面の飽和ガスが移動することで発生しうる欠陥を防止するために望ましいと思われる。飽和蒸気の導入によって効率的に乾燥を減少させることができるが、スライド面を通過する飽和蒸気の移動によって基材１６上のコーティング面を妨害して、コーティング製品の欠陥につながるパターンが形成される可能性がある。このため、溶剤給送の手段として毛細管材料を使用することで妨害を少なくすることができ、コーティング製品の欠陥を防止することができる。
【０１２０】
毛細管材料は、ベースプレート１２０で支持されるシート１２２の形態を取ることができる。毛細管材料のシート１２２は、溶剤源からスライドコーター表面近傍まで溶剤を吸い上げる小さなチャネル１２４を有することができる。あるいは、毛細管材料のシート１２２は、例えば、多孔質フォーム材料、または吸収性の布などの任意の多孔質材料の形態であってよい。それぞれの場合、毛細管力、すなわち、表面張力によって、溶剤が毛細管材料の外面に向かい、そこで溶剤が蒸発してスライドコーター表面の領域をより飽和した環境にする。サチュレーター１１８の多数の構造的実施態様を考えることができる。図８および１１を参照すると、スライドコーティングブロック１８、２０、２２を閉じこめるフード１１９の内面にベースプレート１２０を取り付けることができ、それによって上記毛細管材料のシート１２２をスライド面と近接するように向けることができる。
【０１２１】
ベースプレート１２０は、ねじ、固定具など、または接着剤によってフード１１９に取り付けることができる。ある実施態様では、毛細管材料はベースプレート１２０に取り外し可能なようにとりつけることができるし、フード１１９内面に接着剤などによって直接取り付けることもできる。また、ベースプレート１２０またはフード１１９がある領域を画定して、その中にエアフィルターのようにシート１３２を挿入することもできる。溶剤は毛細管材料のシート１２２のチャネル１２４に横方向に給送することができる（矢印１２６の通り）。毛細管材料のシート１２２の一端がある端部まで別のタンクから滴受けを使用して溶剤を送ることもできる。タンクは、コーティングビードから離れて配置されることが好ましい。この場合、毛細管材料のシート１２２はタンクからの溶剤を吸い上げ、これを直接コーティングビードに運ぶ。毛細管材料のシート１２２から溶剤が蒸発すると、スライド面上部の環境で飽和度が増加し、乾燥および関連のコーティングの欠陥を減らすことができる。
【０１２２】
ある実施態様では、毛細管材料の受け入れ端が下方に曲げられ、コーティングには使用されていないスライドコーティングランプ上の流体送出スロットに挿入することができる。図８の例では、２層のみがコーティングされ、流体送出スロット５４がコーティングに使用されていないとすると、毛細管材料のシート１２２の一端をスロットに挿入することができる。溶剤量を制御して、流体送出スロット５４に送り、その流体を毛細管材料のシート１２２に送ることができる。さらに、この場合、毛細管材料のシート１２２の一部は、フード１１９に取り付けるかわりに、スライドブロック２２と関連する使用されていないスライド面に置くことができる。いずれの場合も、毛細管材料のシート１２２は溶剤をコーティング間隙まで吸い上げ、溶剤が蒸発することによって、スライド面付近の飽和環境が促進される。
【０１２３】
本明細書に記載の所望のレオロジーを示す代表的配合物について以下に説明する。この実施例で使用されるすべての材料は、他に明記しない限りは、標準的な供給元から容易に入手可能である。すべてのパーセント値は他に明記しない限りは重量を基準にしている。基材にコーティングされ磁気記録媒体が形成される第１の流体層と第２の流体層の両方のコーティング処方を示している。第１の流体層は、基材に適用される下塗り層として機能する。第２の流体層は下塗り層の上に適用され記録層を形成する。この実施例の 第１の流体層は以下の処方を有する。
【０１２４】
【表１】

【０１２５】
α酸化鉄は、Ｔｏｄａ　Ｋｏｇｙｏ　Ｃｏｒｐ．より粒径０．１５μｍのものを入手可能である。ＢＰ　２０００　（Ｂｌａｃｋ　Ｐｅａｒｌｓ　２０００）はＣａｂｏｔ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎより入手可能である。ミリスチン酸およびステアリン酸ブチルはどちらもＨｅｎｋｅｌ　Ｃａｎａｄａ　Ｌｔｄ．より入手可能である。
【０１２６】
第２の流体層は 記録層として機能し、以下の処方を使用して調製した。
【０１２７】
【表２】

【０１２８】
磁性顔料はＤｏｗａ　Ｍｉｎｉｎｇ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．より入手可能である。４−ニトロ安息香酸はＮｏｒｄｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　ＡＢより入手可能である。アルミナはＣｅｒａｌｏｘ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ　ｏｆ　Ｃｏｎｄｅａ　Ｖｉｓｔａより入手可能である。
【０１２９】
この実施例では、２つの流体層を厚さ約．５５ミル（１４μｍ）および幅約６．５インチのポリエステル基材上にコーティングする。好適な基材の一例として、Ｔｏｒａｙ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎより入手可能なフィルムタイプＰＥＴ　６Ｎ３ＡＪが挙げられる。
【０１３０】
２つの流体層のコーティングウィンドウの例を以下の表１に示す。粘度はＨａａｋｅ粘度系を使用し剪断速度約１０，０００ｓｅｃ^−１で測定され、種々の固形分濃度で表１に示している。この実施例は速度約６００フィート／分（１８３ｍ／分）で実施したコーティング試験を表しており、スライドリップとローラー１４の間の代表的コーティング間隙Ｇが約７ミル（１７８μｍ、真空箱間隙は約５ミル（１２７μｍ）、コーティングビードにおける真空レベルを表に示している。表１において、Ｌ１は下塗り層を意味し、Ｌ２は記録層を意味する。
【０１３１】
【表３】
表１

【０１３２】
図１２は、先行する実施例によるコーティング配合物のコーティングウィンドウを示すグラフである。図１２に示されるコーティングウィンドウは下部曲線１４６と上部曲線１４８とによって画定され、基材速度約６００フィート／分（１８３ｍ／分）に対応している。下部曲線１４６と上部曲線１４８は粘度約４ｃｐおよび１０ｃｐの間に延在しており表１と一致しており、スライドコーターの真空箱の減圧量で不適当なコーティング結果が生じ始める下限と上限も示している。
【０１３３】
例えば、約９．５ｃｐでは、水約０．７インチ（１．８ｃｍ）〜１．１インチ（２．８ｃｍ）の間の真空レベルで許容できるコーティング結果が得られることが分かった。同様に、別の例として、約６ｃｐでは、真空レベルが水約０．３インチ（０．７６ｃｍ）〜０．７インチ（１．８ｃｍ）で、許容できる結果が得られることが分かった。しかしながら、対応する粘度で真空レベルが上部曲線１４８で規定される値を超えるか、あるいは下部曲線１４６で規定される値を下回ると、コーティング結果は許容できないものとなった。
【０１３４】
実施例１
この実施例の目的は、最小未乾燥層厚さとコーティング品質を％固形分およびウェブ速度の関数として分析することであった。上述の組成物を幅２２．８６ｃｍおよび厚さ５０．８μｍのポリエチレンテレフタレート基材上にコーティングした。すべてのコーティング条件および処方に対するスライドコーターの設定は次に通りである。スライド角Ｓ＝２５°、位置角Ｐ＝−７°（どちらも水平を基準にしている）。使用したスライド設定を以下の表２に示す。
【０１３５】
【表４】
表２

【０１３６】
５つの異なる濃度（％固形分）でコーティングした。固形分の調製は、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ、およびＴＨＦの種々の混合物を使用して行った。コーティング前に溶液をＰＰＡ−４５で活性化させた。それぞれの溶液の性質を以下の表３に示す。
【０１３７】
【表５】
表３：コーティング溶液の物理的性質

（Ａ）比重ビンを使用して測定した
（Ｂ）剪断速度１０，０００ｓｅｃ^−１でＩＣＩ　Ｖｉｓｃｏｍｅｔｅｒを使用して測定
（Ｃ）剪断速度５７．６ｓｅｃ^−１でＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ　ＤＶ　ＩＩＩ＋とＳｐｉｎｄｌｅ　ＣＰＥ−４２を使用して測定
（Ｄ）剪断速度３．８４ｓｅｃ^−１でＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ　ＤＶ　ＩＩＩ＋とＳｐｉｎｄｌｅ　ＣＰＥ−４２を使用して測定
（＊）装置の測定範囲外
【０１３８】
コーティング幅は１５．２４ｃｍであった。コーティング条件および結果は以下の表３に示す。最小未乾燥層厚さ（ｔｗｍｉｎ）、および最小乾燥層厚さ（ｔｄｍｉｎ）は、各条件の連続コーティングで達成可能な最小値である。コーティングはウェブを静止させて風乾した。
【０１３９】
【表６】
表４：コーティング条件および結果

コーティングの欄の記号：Ｏ＝満足できるコーティング、Ｘ＝不満足なコーティング
（＊）９１ｍ／分を超える速度で溶液の流速を実現できなかった。
【０１４０】
表４に示されるようにより高濃度のコーティング溶液、すなわち、２０および２５％固形分で満足できるコーティング作業が行われている。表４より、固形分濃度が増加すると最小層厚さが減少することが明らかである。表３および４から、コーティング粘度が高いと、溶液濃度も高いことも明らかである。コーティング品質は、％固形分が高い方から低い方に進むほど、例えば、固形分が２５％から５％に進むほど悪くなった。
【０１４１】
実施例２
この実施例の目的は、２重層構造体の場合に最小未乾燥層厚さとコーティング品質を分析することであった。変数は２層構造体の個々の層の固形分のパーセント値とウェブ速度である。前出の組成物を、幅２２．８６ｃｍおよび厚さ５０．８μｍのポリエチレンテレフタレート上にコーティングした。すべてのコーティング条件および処方においてスライドコーターの設定は次の通りであった。スライド角Ｓ＝２５°および位置角Ｐ＝−７°（どちらも水平を基準にしている）。使用したスライド設定を以下の表１に示す。
【０１４２】
【表７】
表５：スライドコーター設定

【０１４３】
４つの異なる濃度（％固形分）でコーティングを行った。固形分の調製は、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ、およびＴＨＦの種々の混合物を使用して行った。コーティング前に溶液をＰＰＡ−４５で活性化させた。それぞれの溶液の性質を以下の表６に示す。
【０１４４】
【表８】
表６：コーティング溶液の物理的性質

（Ａ）比重ビンを使用して測定した
（Ｂ）剪断速度１０，０００ｓｅｃ^−１でＩＣＩ　Ｖｉｓｃｏｍｅｔｅｒを使用して測定
（Ｃ）剪断速度５７．６ｓｅｃ^−１でＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ　ＤＶ　ＩＩＩ＋とＳｐｉｎｄｌｅ　ＣＰＥ−４２を使用して測定
（Ｄ）剪断速度３．８４ｓｅｃ^−１でＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ　ＤＶ　ＩＩＩ＋とＳｐｉｎｄｌｅ　ＣＰＥ−４２を使用して測定
（＊）装置の測定範囲外
【０１４５】
コーティング速度は１５２ｍ／分であった。コーティング幅は１５．２４ｃｍであった。コーティング構造体および結果を以下の表７に示す。層１は最下層である。各コーティングにおいて、層１最小限であり、層２は所望の乾燥コーティング厚さ１．３０μｍが得られるようにあらかじめ設定した。コーティングは基材を停止させて風乾した。
【０１４６】
【表９】
表７：コーティング構造体および結果

コーティングの欄の記号：Ｏ＝満足できるコーティング、Ｘ＝不満足なコーティング
【０１４７】
表７に示されるように、コーティング操作で満足できるコーティングは得られず、適切なレオロジー、特により速いコーティング速度の重要性を示している。
【図面の簡単な説明】
【図１】スライドコーティング装置の側断面図である。
【図２】図１に示されるスライドコーターの部分上面図である。
【図３】図２に示されるスライドコーターのである部分側断面図。
【図４】図１に示されるスライドコーティング装置の別のスライドブロックの部分側断面図である。
【図５】図１に示されるスライドコーティング装置のさらに別のスライドブロックの部分側断面図である。
【図６】多層コーティング法によって製造された磁気記録媒体の断面図である。
【図７】図１に示されるスライドコーティング装置で製造されたコーティングビードの拡大断面図である。
【図８】サチュレーター装置が組み込まれたスライドコーティング装置の側断面図である。
【図９】図８に示される境界層サチュレーター装置の斜視図である。
【図１０】図８に示される削り取りブレードの斜視図である。
【図１１】図８に示されるスライド面サチュレーター装置の斜視図である。
【図１２】本発明によるコーティング配合物のコーティングウィンドウの例を示すグラフである。
【符号の説明】
１０　スライドコーティング装置
１２　スライドコーター
１４　バックアップローラー
１６　基材
１８　スライドブロック
２０　スライドブロック
２２　スライドブロック
２４　スライドブロック
２６　流体スロット
２８　流体スロット
３０　流体スロット
３２　スライド面
３４　真空箱
３６　真空源
３８　出口
４０　第１の流体
４２　第１の流体供給装置
４４　第１のマニホールド
４６　第２の流体
４８　第２の流体供給装置
５０　第２のマニホールド
５２　第３の流体
５４　第３の流体供給装置
５６　第３の流体マニホールド
５８　３層流体構造体
６０　第１の流体層
６２　第２の流体層
６４　 第３の流体層
６５　コーティングビード
６６　エッジガイド
６８　エッジガイド
７０　スライドブロック
７２　前端
７４　低表面エネルギー部材
７６　スライドブロック
７８　低表面エネルギー部材
８０　上部前縁
８２　磁気記録媒体
８４　バッキング層
８６　下塗り層
８８　記録層
９０　機能層
９４　高剪断速度領域
９６　中程度の剪断速度領域
９８　低剪断速度領域
１００　境界層サチュレーター
１０１　加圧ニップローラー
１０２　削り取りブレード
１０４　リーディングエッジ
１０６　管
１０８　管
１１０　環状間隙
１１２　内部空間
１１３　スロット
１１４　スライドコーター面サチュレーター
１１５　矢印
１１６　スライドブロック前面
１１８　スライド面サチュレーター
１２０　ベースプレート
１２２　シート
１２４　チャネル
１２６　矢印
１４６　下部曲線
１４８　上部曲線
Ｈ　スロット高さ
Ｔ　スロット段差
Ｃ　面取り部
Ｐ　位置角
Ａ　迎え角
Ｓ　スライド角
Ｗ　未乾燥厚さ

Claims (20)

1. 第１の流体コーティング配合物をスライドコーターの第１のスライドコーティング面上に流す工程と、
   金属磁気記録粒子を含む第２の流体コーティング配合物を前記スライドコーターの第２のスライドコーティング面上に流し、前記第１のコーティング配合物の上に流し、前記第１および第２のコーティング配合物が多層コーティングを形成する工程と、
   前記多層コーティングを移動する基材上に流して、前記第１および第２のコーティング配合物を同時に前記基材に適用する工程と、を含み、
   前記第１のコーティング配合物の剪断速度約９０００から１１０００ｓｅｃ^−１における未乾燥粘度が約４〜１０ｃｐである、磁気記録媒体の製造方法。
2. 前記第１のコーティング配合物の剪断速度約７５〜１００ｓｅｃ^−１における未乾燥粘度が約２０〜１５０ｃｐであり、剪断速度約３〜５ｓｅｃ^−１における未乾燥粘度が約５０ｃｐ以上である請求項１に記載の方法。
3. 前記第１のコーティング配合物の剪断速度約９０００〜１１０００ｓｅｃ^−１における未乾燥粘度が約５〜８ｃｐであり、剪断速度約７５〜１００ｓｅｃ^−１で約２０〜６０ｃｐであり、剪断速度約３〜５ｓｅｃ^−１で約２００ｃｐ以上である請求項１に記載の方法。
4. 前記第１のコーティング配合物の剪断速度約９０００〜１１０００ｓｅｃ^−１における未乾燥粘度が約６〜７ｃｐであり、剪断速度約７５〜１００ｓｅｃ^−１で約３０〜６０ｃｐであり、剪断速度約３〜５ｓｅｃ^−１で約４００ｃｐ以上である請求項１に記載の方法。
5. 前記第１のコーティング配合物の前記基材上の平均未乾燥厚さが約２５μｍ未満である請求項１に記載の方法。
6. 前記第２のコーティング配合物の前記基材上の平均未乾燥厚さが約５μｍ未満であり、前記多層コーティングの前記基材上の平均未乾燥厚さが約２５μｍ未満である請求項１に記載の方法。
7. 前記多層コーティングを前記基材の移動方向を横断する方向で約６インチ（１５．２ｃｍ）以上の幅を有する領域にわたって前記基材上に流す工程と、前記第１のスライド面に対して約１２０ｍ／分を超える速度で前記基材を移動させる工程とをさらに含む請求項１に記載の方法。
8. 前記基材上の前記多層コーティングを乾燥させてフィルムを形成する工程をさらに含み、前記フィルムのカレンダー加工前の乾燥厚さが約３μｍ未満である請求項１に記載の方法。
9. 前記第１および第２のコーティング配合物のぞれぞれが非水性溶剤系配合物である請求項１に記載の方法。
10. 前記基材の厚さが約８μｍ未満である請求項１に記載の方法。
11. 第３の流体コーティング配合物を第３のスライド面上に流し、前記第１および第２のコーティング配合物上に流して、前記第１、第２、および第３のコーティング配合物が多層コーティングを形成し、前記第１、第２、および第３のコーティング配合物のうちの１つが金属磁気記録粒子を含有する工程と、
    前記多層コーティングを前記基材に流して、前記第１、第２、および第３のコーティング配合物を同時に前記基材に適用する工程とをさらに含む請求項１に記載の方法。
12. 第１の流体コーティング配合物をスライドコーターの第１のスライドコーティング面上に流す手段と、
    金属磁気記録粒子を含む第２の流体コーティング配合物を前記スライドコーターの第２のスライドコーティング面上に流し、前記第１のコーティング配合物の上に流し、前記第１および第２のコーティング配合物が多層コーティングを形成する手段と、
    前記多層コーティングを移動する基材上に流して、前記第１および第２のコーティング配合物を同時に前記基材に適用する手段と、
    を含む請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法により磁気記録媒体を製造するためのシステム。
13. 基材と、
    前記基材上に形成された第１の流体コート層と、
    ウェット・オン・ウェット多層スライドコーティング方法を使用して前記第１の層の上に形成され、金属磁気記録粒子を含有する第２の流体コート層と、
    を含み、前記第１および第２の層が、組み合わせた平均未乾燥厚さが約２５μｍ未満で前記基材上にコーティングされる磁気記録媒体。
14. 前記第１および第２の層が、組み合わせた平均未乾燥厚さが約１２〜２５μｍで前記基材上にコーティングされる請求項１３に記載の磁気記録媒体。
15. 前記第２の層が平均未乾燥厚さ約０．４μｍ未満でコーティングされる請求項１３に記載の磁気記録媒体。
16. 前記基材の厚さが約８μｍ未満である請求項１３に記載の磁気記録媒体。
17. 前記第１の層が磁気記録材料を実質的に含まない請求項１３に記載の磁気記録媒体。
18. 前記第１の層の厚さが約３μｍ未満である請求項１３に記載の磁気記録媒体。
19. 前記第２の層の平均中間層粗さが約１０ｎｍ未満である請求項１３に記載の磁気記録媒体。
20. 前記基材、前記第１の層、前記第２の層を合わせた厚さが約１１μｍ未満である請求項１に記載の磁気記録媒体。

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