JPS63160014A - 磁気デイスク用基板の製造方法 - Google Patents
磁気デイスク用基板の製造方法Info
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- JPS63160014A JPS63160014A JP30552986A JP30552986A JPS63160014A JP S63160014 A JPS63160014 A JP S63160014A JP 30552986 A JP30552986 A JP 30552986A JP 30552986 A JP30552986 A JP 30552986A JP S63160014 A JPS63160014 A JP S63160014A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は耐久性にすぐれた、磁気記録媒体に適した磁気
ディスク用基板の製造方法に関するものである。
ディスク用基板の製造方法に関するものである。
［従来の技術］
磁気ディスク用基板と、その上にスパッタ、メッキ、蒸
着等の方法により形成した磁性膜及び保護膜からなる構
成体は磁気記録媒体（以下メディアと略称する）と呼ば
れる。
着等の方法により形成した磁性膜及び保護膜からなる構
成体は磁気記録媒体（以下メディアと略称する）と呼ば
れる。
磁気記憶装置はこのメディアと記録再生磁気ヘッド（以
下ヘッドと略称する）を主構成部とし、操作開始時には
ヘッドとメディアは接触状態でセットしたあと前記のメ
ディアに所要の回転を与えることにより、前記ヘッドと
メディア面との間に空気層上の空間を作り、この状態で
記録再生動作を行う。又操作終了時にはメディアの回転
が止まり、この時ヘッドとメディアは操作開始時と同様
に接触状態に戻る。
下ヘッドと略称する）を主構成部とし、操作開始時には
ヘッドとメディアは接触状態でセットしたあと前記のメ
ディアに所要の回転を与えることにより、前記ヘッドと
メディア面との間に空気層上の空間を作り、この状態で
記録再生動作を行う。又操作終了時にはメディアの回転
が止まり、この時ヘッドとメディアは操作開始時と同様
に接触状態に戻る。
この様に装置の起動時及び停止時にヘッドとメディア間
に生ずる接触摩擦力はヘッド及びメディアを消耗させ磁
気特性の劣化原因となる（この方式をコンタクト、スタ
ート、ストップ、Ｃ５Ｓと通称している）、又多湿雰囲
気中でメディアを放置しメディア表面に水分が付着して
いる状態ではヘッドとメディアの間に水分が入り込み、
吸着現象を惹き起こす。
に生ずる接触摩擦力はヘッド及びメディアを消耗させ磁
気特性の劣化原因となる（この方式をコンタクト、スタ
ート、ストップ、Ｃ５Ｓと通称している）、又多湿雰囲
気中でメディアを放置しメディア表面に水分が付着して
いる状態ではヘッドとメディアの間に水分が入り込み、
吸着現象を惹き起こす。
従ってこの状態で起動するとヘッド及びメディアに大き
な抵抗力を生じヘッドの損傷やメディアの破壊を招くこ
とがある（これをヘッドヌティッキングあるいはヘッド
クラッシュと通称している）。
な抵抗力を生じヘッドの損傷やメディアの破壊を招くこ
とがある（これをヘッドヌティッキングあるいはヘッド
クラッシュと通称している）。
一般にガラスは表面の平滑性に優れ、硬く、変形抵抗が
大きくかつ表面欠陥が少ない等の理由から高密度化に適
した磁気ディスク用基板として注目されている（特開昭
４９−１２２７０７号、特開昭５２−１８００２号）。
大きくかつ表面欠陥が少ない等の理由から高密度化に適
した磁気ディスク用基板として注目されている（特開昭
４９−１２２７０７号、特開昭５２−１８００２号）。
しかしながら上述した耐Ｃ５Ｓ性およびヘッドスティッ
ク性に対してはガラスは鏡面性が優れているが故に他の
平滑性の劣る基板に比べ、ヘッドとメディアの接触面積
が増大するため摩擦抵抗の増加や吸着力の増大を招くこ
とから問題があった。
ク性に対してはガラスは鏡面性が優れているが故に他の
平滑性の劣る基板に比べ、ヘッドとメディアの接触面積
が増大するため摩擦抵抗の増加や吸着力の増大を招くこ
とから問題があった。
この様な欠点を解消するために基板表面に機械的手段に
より微少な凹凸を形成させることによりヘッドとメディ
ア間に生ずる摩擦力及び吸着力を低減する方法が提案さ
れている。
より微少な凹凸を形成させることによりヘッドとメディ
ア間に生ずる摩擦力及び吸着力を低減する方法が提案さ
れている。
又化学エツチングによりセラミックス基板表面に凹凸を
形成させる方法が特開昭［１０−３８７２０号、及び特
開昭６０−１３６０３５号に提案されている。
形成させる方法が特開昭［１０−３８７２０号、及び特
開昭６０−１３６０３５号に提案されている。
［発明の解決しようとする問題点］
本発明は上記した＃ｃｓｓ特性およびヘッドスティック
性の改善された磁気ディスク用基板特に磁気ディスク用
ガラス基板の製造方法を提供することを目的とするもの
である。
性の改善された磁気ディスク用基板特に磁気ディスク用
ガラス基板の製造方法を提供することを目的とするもの
である。
［問題点を解決するための手段］
本発明は前記した問題点を解決すべくなされたものであ
り、スパッター、メッキ、蒸着等の方法により磁性膜が
形成される磁気ディスク用基板であり、該基板として平
坦性を損なわず、表面に異方性がなく、均一で微小な凹
凸が形成されており、その表面凹凸の形状が触針式の粗
さ計を用い半径２．５μｍの触針で基板表面を走査させ
て粗さを測定したとき、高さが５０〜７００人の範囲に
ある山が０．１〜１０ｇｍの範囲のピッチで形成されて
いる磁気ディスク用基板の製造方法であって、前記磁気
ディスク用基板の表面の凹凸を有機金属化合物からなる
被膜形成用溶液の微小な液滴を表面に噴霧し、キュアー
することにより形成することを特徴とする磁気ディスク
用基板の製造方法を提供するものである。
り、スパッター、メッキ、蒸着等の方法により磁性膜が
形成される磁気ディスク用基板であり、該基板として平
坦性を損なわず、表面に異方性がなく、均一で微小な凹
凸が形成されており、その表面凹凸の形状が触針式の粗
さ計を用い半径２．５μｍの触針で基板表面を走査させ
て粗さを測定したとき、高さが５０〜７００人の範囲に
ある山が０．１〜１０ｇｍの範囲のピッチで形成されて
いる磁気ディスク用基板の製造方法であって、前記磁気
ディスク用基板の表面の凹凸を有機金属化合物からなる
被膜形成用溶液の微小な液滴を表面に噴霧し、キュアー
することにより形成することを特徴とする磁気ディスク
用基板の製造方法を提供するものである。
第１図は本発明により製造された磁気ディスク用基板の
平面図であり、基板円板を形成する円の中心を原点とし
て極座標（ｒ、θ）をとる、該基板としては通常のソー
ダライムシリケートガラス、無アルカリガラス、ホウケ
イ酸ガラス、石英ガラス、風冷または液冷等による物理
強化ガラス、化学強化ガラス、結晶性ガラス、あるいは
結晶化ガラス等を用いることができる。第２図（ａ）、
（ｂ）は本発明の一実施例として得られた基板の主面に
垂直なｒ方向断面とθ方向断面の表面凹凸の形状を示し
た説明図である。基板の表面の凹凸はｒおよびθ方向で
同様のプロフィールを有し異方性が認められない。
平面図であり、基板円板を形成する円の中心を原点とし
て極座標（ｒ、θ）をとる、該基板としては通常のソー
ダライムシリケートガラス、無アルカリガラス、ホウケ
イ酸ガラス、石英ガラス、風冷または液冷等による物理
強化ガラス、化学強化ガラス、結晶性ガラス、あるいは
結晶化ガラス等を用いることができる。第２図（ａ）、
（ｂ）は本発明の一実施例として得られた基板の主面に
垂直なｒ方向断面とθ方向断面の表面凹凸の形状を示し
た説明図である。基板の表面の凹凸はｒおよびθ方向で
同様のプロフィールを有し異方性が認められない。
第３図は凹凸を形成した基板表面の拡大説明図である。
以下「山の高さ」とは山の谷の落差Ｈ゛を示し「山のピ
ッチ」とは隣り合う山の先端の間隔Ｗを表わすものとす
る。
ッチ」とは隣り合う山の先端の間隔Ｗを表わすものとす
る。
凹凸の適正形状は再生ノイズに影響を与えることなくヘ
ッドとメディアの摩擦軽減効果によりＣ５Ｓ特性を改善
できる理由から山の高さは５０〜７００人の範囲が適切
であるが特に２００〜４００人の範囲とすることが望ま
しい。山のピッチは０．１〜１０ｇｍの範囲にあること
が望ましい。
ッドとメディアの摩擦軽減効果によりＣ５Ｓ特性を改善
できる理由から山の高さは５０〜７００人の範囲が適切
であるが特に２００〜４００人の範囲とすることが望ま
しい。山のピッチは０．１〜１０ｇｍの範囲にあること
が望ましい。
なお、前記山の高さは基板の全面にわたって全ての山が
７００Ａ以下であることが望ましいが、前記した耐Ｃ５
ｓ特性およびヘー、トスティック性改善を達成するのに
支障のない範囲において７００人を超える高さの山が存
在していてもかまわない。
７００Ａ以下であることが望ましいが、前記した耐Ｃ５
ｓ特性およびヘー、トスティック性改善を達成するのに
支障のない範囲において７００人を超える高さの山が存
在していてもかまわない。
なお、凹凸の形状は半径２．５μの触針を有する表面粗
さ計で針荷重２５ｍｇ、走査速度５０牌ａ＋／分で測定
するものとする。
さ計で針荷重２５ｍｇ、走査速度５０牌ａ＋／分で測定
するものとする。
ここで表面凹凸を形成する以前のガラス板を、ガラス素
板あるいは素板と記すこととする。素板としては、通常
のソーダライムシリケートガラス、無アルカリガラス、
硼珪酸ガラス、石英ガラス、風冷または液冷等による物
理強化ガラス、化学強化ガラスあるいは結晶性ガラス等
を用いることができる。
板あるいは素板と記すこととする。素板としては、通常
のソーダライムシリケートガラス、無アルカリガラス、
硼珪酸ガラス、石英ガラス、風冷または液冷等による物
理強化ガラス、化学強化ガラスあるいは結晶性ガラス等
を用いることができる。
上記の如き凹凸の形成に用いられる有機金属化合物の被
膜形成用溶液としては有機シリカ化合物の溶液が最も良
好な結果を与える。
膜形成用溶液としては有機シリカ化合物の溶液が最も良
好な結果を与える。
有機シリカ化合物としてはエチルシリケートを用いメタ
ノール、エタノール、水等の溶媒に塩酸、酢酸等の酸を
添加した溶液とし４〜７日間放置後基板表面へ噴霧し、
５００℃、３０分以上加熱することが望ましい。
ノール、エタノール、水等の溶媒に塩酸、酢酸等の酸を
添加した溶液とし４〜７日間放置後基板表面へ噴霧し、
５００℃、３０分以上加熱することが望ましい。
［作用］
本発明により基板表面に形成される適度の凹凸は、メデ
ィアとして記録密度の低下を招かず、磁気記録／再生に
あたり信号のノイズを増大させることなくヘッドとメデ
ィア間の接触面積を減少させることによりヘッドとメデ
ィア間の摩擦を低減させることによって＃Ｃ８Ｓ性やヘ
ッドスティック性を改善できるものと考えられる。
ィアとして記録密度の低下を招かず、磁気記録／再生に
あたり信号のノイズを増大させることなくヘッドとメデ
ィア間の接触面積を減少させることによりヘッドとメデ
ィア間の摩擦を低減させることによって＃Ｃ８Ｓ性やヘ
ッドスティック性を改善できるものと考えられる。
［実施例］
実施例１
ソーダライムガラス素板を中性洗剤で洗浄し、蒸留水で
水洗後乾燥する。この素板にエチルシリケート１８重量
％、酢酸１８重量％、メタノール６４％の溶液を７日間
放置後噴霧・吹付けし５００℃、３０分間加熱した。
水洗後乾燥する。この素板にエチルシリケート１８重量
％、酢酸１８重量％、メタノール６４％の溶液を７日間
放置後噴霧・吹付けし５００℃、３０分間加熱した。
ガラス基板上に形成された凹凸の形状特性を表１に示す
、この基板上にスパッタ法によりＣ。
、この基板上にスパッタ法によりＣ。
系磁性膜を形成し、さらにその上にカーボン保護膜を形
成した後Ｃ５Ｓ特性、ヘッドスティック性、Ｓ／Ｎ比お
よびミッシングパルスを評価した。その結果を表１に比
較例とともに示す。
成した後Ｃ５Ｓ特性、ヘッドスティック性、Ｓ／Ｎ比お
よびミッシングパルスを評価した。その結果を表１に比
較例とともに示す。
実施例２
ソーダライムガラス素板を中性洗剤で洗浄し蒸留水で水
洗後乾燥する。この素板にエチルシリケー）１８重量％
、酢酸１８重量％、エタノール４０重量％、インプロパ
ツール２４重量％の溶液を７日間放置後噴霧し５００℃
、３０分間加熱した。
洗後乾燥する。この素板にエチルシリケー）１８重量％
、酢酸１８重量％、エタノール４０重量％、インプロパ
ツール２４重量％の溶液を７日間放置後噴霧し５００℃
、３０分間加熱した。
ガラス基板上に形成された凹凸の形状特性を表１に示す
。この基板上にスパッタ法によりＧｏ系磁性膜を形成し
、さらにその上にカーボン保護膜を形成した後、ＣＳＳ
特性、ヘッドスティック性、Ｓ／Ｎ比およびミッシング
パルスを評価した。その結果を表１に比較例とともに示
す。
。この基板上にスパッタ法によりＧｏ系磁性膜を形成し
、さらにその上にカーボン保護膜を形成した後、ＣＳＳ
特性、ヘッドスティック性、Ｓ／Ｎ比およびミッシング
パルスを評価した。その結果を表１に比較例とともに示
す。
注１）エチルシリケートは多摩化学工業社製のエチルシ
リケート４０（商品名）を使用した。
リケート４０（商品名）を使用した。
［発明の効果］
ｌ）本発明は磁気ディスク用ガラス基板の表面に適度の
凹凸を形成させる該基板の製造方法であって、これによ
りメディアとヘッドの間に働く摩擦力が軽減され、＃Ｃ
ＳＳ性やヘッドスティック性が改善される効果を有する
。
凹凸を形成させる該基板の製造方法であって、これによ
りメディアとヘッドの間に働く摩擦力が軽減され、＃Ｃ
ＳＳ性やヘッドスティック性が改善される効果を有する
。
さらに本発明の方法によれば形成される凹凸が微細なた
め磁気特性に悪い影響を与えない。
め磁気特性に悪い影響を与えない。
２）本発明はガラス表面に微小な液滴を噴霧し、キュア
ーすることにより凹凸を形成する方法であるため基板の
平坦性を茗しく損なったり強度低下を招くことがない。
ーすることにより凹凸を形成する方法であるため基板の
平坦性を茗しく損なったり強度低下を招くことがない。
３）本発明によれば、凹凸が異方性なく微細に形成され
るため１ビット当りの面積を縮小し高密度化を図る際に
有利である。
るため１ビット当りの面積を縮小し高密度化を図る際に
有利である。
４）本発明によれば基板表面に酸化物の層が形成され、
該層によりガラスからのアルカリ金属イオンの磁性膜中
への拡散が抑止され、膜に発生する微少な欠陥の発生が
防止され効果がある。
該層によりガラスからのアルカリ金属イオンの磁性膜中
への拡散が抑止され、膜に発生する微少な欠陥の発生が
防止され効果がある。
第１図は磁気ディスク用基板の平面図、第２図（ａ）は
基板表面のｒ方向断面の説明図、（ｂ）は０方向断面の
説明図、また第３図は第２図（ａ）、（ｂ）の拡大図で
ある。
基板表面のｒ方向断面の説明図、（ｂ）は０方向断面の
説明図、また第３図は第２図（ａ）、（ｂ）の拡大図で
ある。
Claims (1)
- （１）スパッター、メッキ、蒸着等の方法により磁性膜
が形成される磁気ディスク用基板であり、該基板として
平坦性を損なわず、表面に異方性がなく、均一で微小な
凹凸が形成されており、その表面凹凸の形成が触針式の
粗さ計を用い半径２．５μｍの触針で基板表面を走査さ
せて粗さを測定したとき、高さが５０〜７００Åの範囲
にある山が０．１〜１０μｍの範囲のピッチで形成され
ている磁気ディスク用基板の製造方法であって、前記磁
気ディスク用基板の表面の凹凸を有機金属化合物からな
る被膜形成用溶液の微小な液滴を表面に噴霧し、キュア
ーすることにより形成すること を特徴とする磁気ディスク用基板の製造方 法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30552986A JPS63160014A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 磁気デイスク用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30552986A JPS63160014A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 磁気デイスク用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63160014A true JPS63160014A (ja) | 1988-07-02 |
Family
ID=17946246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30552986A Pending JPS63160014A (ja) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | 磁気デイスク用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63160014A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0399747A2 (en) * | 1989-05-22 | 1990-11-28 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Substrate used for magnetic disk and magnetic recording medium using the substrate |
| US5427867A (en) * | 1989-05-22 | 1995-06-27 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Substrate used for magnetic disk and magnetic recording medium using the substrate |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60111339A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-17 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS60117414A (ja) * | 1983-11-29 | 1985-06-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS61240429A (ja) * | 1985-04-17 | 1986-10-25 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-12-23 JP JP30552986A patent/JPS63160014A/ja active Pending
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