JPH07105536A - 磁気ディスク用基板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】耐ＣＳＳ特性・ヘッドスチック特性の優れたガ
ラスからなる磁気ディスク用基板。 【構成】ガラス素板を有機アルカリを含む溶液を用いて
化学エッチングを施すことにより、素板の表面に高さ８
０〜７００Åの範囲にある凹凸の山を０．１〜１０μｍ
の範囲のピッチで形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はガラスからなる磁気ディ
スク用基板の製造法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク用基板とその上にスパッ
タ、メッキ、蒸着等のプロセスにより形成した磁性膜及
び保護膜からなる構成体は、磁気記録媒体（以下、メデ
ィアと称する）と呼ばれる。磁気記憶装置は、このメデ
ィアと記録再生磁気ヘッド（以下、ヘッドと称する）を
主構成部とし、操作開始時にはヘッドとメディアは接触
状態でセットしたあと、前記のメディアに所要の回転を
与えることにより、前記ヘッドとメディア面との間にわ
ずかな空気層からなる空間を作り、ヘッドが浮上状態を
維持しつつ、この状態で記録再生動作を行う（コンタク
ト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式）。また操作終
了時にはメディアの回転が止まり、このときヘッドとメ
ディアの間に生じる接触摩擦力は、ヘッド及びメディア
を摩耗させ磁気特性の劣化原因となる。

【０００３】また、水分を含む雰囲気中でメディアを放
置してメディア表面に水分が付着している状態では、ヘ
ッドとメディアの間に水分が入り込み、吸着現象を引き
起こす。したがって、この状態で起動すると、ヘッド及
びメディアに大きな抵抗力を生じ、ヘッドの損傷やメデ
ィアの破壊を招くことがある（これをヘッド・スティッ
クあるいはヘッド・クラッシュと通称している）。一般
にガラスは表面の平滑性に優れ、硬く、変形抵抗が大き
くかつ、表面欠陥が少ない等の理由から高密度化に適し
た磁気ディスク用基板として注目されている（特開昭４
９−１２２７０７号、特開昭５２−１８００２号）。

【０００４】しかしながら、上述した耐ＣＳＳ性及びヘ
ッドスティック性に対しては、ガラスは鏡面性が優れて
いるが故に、ガラス基板を用いたメディアは、他の平滑
性の劣る基板を用いたメディアに比べ、ヘッドとメディ
アの接触面積が増大するため摩擦抵抗の増加や吸着力の
増大を招くことから問題があった。

【０００５】このような欠点を解消するために、表面に
機械的手段により微小な凹凸を形成させた基板を用いる
ことにより、ヘッドとメディアの間に生じる摩擦力及び
吸着力を低減させる方法が提案されている。また、化学
的に表面をエッチングすることにより、ガラス基板表面
に凹凸を形成させる方法が特開昭６３−１６００１３号
に提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した耐Ｃ
ＳＳ特性及びヘッドスチック特性の優れたガラスからな
る磁気ディスク用基板の安定的な製造法を提供すること
を目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上述の問題点を
解決すべくなされたものであり、平坦性を損なわず、表
面に異方性がなく微小な凹凸を形成したガラスからなる
磁気ディスク用基板の前記凹凸の形状が触針式の粗さ計
を用い先端の半径が公称２．５μｍの触針でガラス表面
を走査させて粗さを測定したとき、高さが８０〜７００
Åの範囲にある前記凹凸の山が０．１〜１０μｍの範囲
のピッチで形成されている磁気ディスク用基板の製造法
であって、ガラス素板を有機アルカリの溶液を用いて化
学的にエッチングを施すことにより表面に凹凸を形成す
ることを特徴とする磁気ディスク用基板の製造法を提供
するものである。

【０００８】該基板としては、通常のソーダライムシリ
ケートガラス、無アルカリガラス、硼珪酸ガラス、石英
ガラス、風冷又は液冷等による物理強化ガラス、化学強
化ガラスあるいは結晶化ガラスなどを用いることができ
る。

【０００９】凹凸の山の高さは、８０〜７００Åの範囲
が適切であるが、特に１５０〜７００Åの範囲とするこ
とが望ましい。山のピッチは０．１〜１０μｍの範囲に
あることが適切である。なお、凹凸の形状と山のピッチ
は半径２．５μｍの触針を有する表面粗さ計で、針荷重
２５ｍｇ、走査速度５０μｍ／分で測定するものとす
る。

【００１０】ここで有機アルカリには水酸化テトラアル
キルアンモニウム、水酸化テトラアルキルホスホニウム
を用いることができ、溶液としては水溶液もしくはアル
コール溶液を用いることができる。

【００１１】

【実施例】本発明を実施例にしたがって説明する。直径
１３０ｍｍのガラスディスク素板を中性洗剤で洗浄し、
イオン交換水で水洗後、乾燥した。２５重量％の水酸化
テトラメチルアルンモニウムを含む水溶液を用いて８０
℃で２時間化学エッチング処理し、該素板表面に凹凸を
形成させた。形成された凹凸は山の高さが３００Å、山
のピッチは１〜３μｍであった。

【００１２】本発明において、有機アルカリ溶液に接触
させる時間は、溶液温度が８０℃のとき１〜５時間が好
ましい。また化学エッチングに用いる有機アルカリ水溶
液は、濃度が１〜５０重量％の範囲であることが好まし
い。本発明において、ガラスの成分のうち、成分による
アルカリ溶液の溶解度が異なるため、山の高さと山のピ
ッチのコントロールを可能にしていることは間違いな
い。

【００１３】

【発明の効果】本発明はエッチング速度が早すぎないた
め、エッチングの均一性、安定性を向上させる効果があ
り、耐ＣＳＳ特性及びヘッドスチック特性の優れた均一
な前記凹凸の山をもつ基板を安定して製造することがで
きる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】表面に微小な凹凸を形成したガラスからな
   る磁気ディスク用基板の前記凹凸の形状が触針式の粗さ
   計を用い半径が約２．５μｍの触針でガラス表面を走査
   させて粗さを測定したとき、高さが８０〜７００Åの範
   囲にある前記凹凸の山が０．１〜１０μｍの範囲のピッ
   チで形成されている磁気ディスク用基板の製造法であっ
   て、ガラス素板を有機アルカリを含む溶液を用いて化学
   エッチングを施すことにより表面に凹凸を形成すること
   を特徴とする磁気ディスク用基板の製造法。
2. 【請求項２】前記有機アルカリが水酸化テトラアルキル
   アンモニウム塩、水酸化テトラアルキルホスホニウム塩
   であり、溶液の濃度が１〜５０重量％の範囲にあること
   を特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用基板の製造
   法。