JPS63225919A

JPS63225919A - 磁気デイスク用基板と製造法

Info

Publication number: JPS63225919A
Application number: JP29492786A
Authority: JP
Inventors: Takayuki Kobayashi; 孝之小林; Hiroshi Ogata; 緒方　洋志; Toshiharu Takakusa; 高草　俊治
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1986-10-09
Filing date: 1986-12-12
Publication date: 1988-09-20
Anticipated expiration: 2010-11-01
Also published as: JPH07101507B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、＃久性にすぐれた、磁気記録媒体に適した磁
気ディスク用基板と製造法に関するものである。

［従来の技術］磁気ディスク用基板と、その上にスパッタ、メッキ、蒸
着等のプロセスにより形成した磁性膜及び保護膜からな
る構成体は、磁気記録媒体（以下、メディアと略称する
）と呼ばれる。

磁気記憶装置は、このメディアと記録再生磁気ヘッド（
以下、ヘッドと略称する）を主構成部とし、操作開始時
にはヘッドとメディアは接触状態でセットしたあと、前
記のメディアに所要の回転を与えることにより、前記ヘ
ッドとメディア面との間に空気層分の空間を作り、この
状態で記録再生動作を行う、又操作終了時にはメディア
の回転が止まり、この時ヘッドとメディアは操作開始時
と同様に接触状態に戻る。

このように、装置の起動時及び停止時にヘッドとメディ
アの間に生ずる接触摩擦力は、ヘッドおよびメディアを
消耗させ磁気特性の劣化原因となる（これをコンタクト
・スタート・ストップＣ８Ｓと通称している）、又、多
湿雰囲気中でメディアを放置してメディア表面に水分が
付着している状態では、ヘッドとメディアの間に水分が
入り込み、吸着現象を引き起こす、。

したがってこの状態で起動すると、ヘッドおよびメディ
アに大きな抵抗力を生じ、ヘッドの損傷やメディアの破
壊を招くことがある（これをヘッド・スティックあるい
はへッドΦクラッシュと通称している）、一般にガラス
は表面の平滑性に優れ、硬く、変形抵抗が大きくかつ、
表面欠陥が少ない等の理由から高密度化に適した磁気デ
ィスク用基板として注目されている（特開昭４９−１２
２７０７号、特開昭５２−１８００２号）。

しかしながら、上述した耐Ｃ５Ｓ性およびヘッドスティ
ック性に対しては、ガラスは鏡面性が優れているが故に
、ガラス基板を用いたメディアは、他の平滑性の劣る基
板を用いたメデアに比べ、ヘッドとメディアの接触面積
が増大するため摩擦抵抗の増加や吸着力の増大を招くこ
とから問題があった。

このような欠点を解消するために、表面に機械的手段に
より微少な凹凸を形成させた基板を用いることにより、
ヘッドとメディアの間に生ずる摩擦力および吸着力を低
減させる方法が提案されている。

又、化学エツチングによりセラミックス基板表面に凹凸
を形成させる方法が特開昭１３０−３８７２０号およ゛
び特開昭８０−１３Ｈ３５号に提案されている。

［発明の解決しようとする問題点］本発明は、磁気ディスク用ガラス基板のもつ上記した耐
Ｃ８Ｓ特性およびヘッドスティック性といった問題点を
解決せんとするものである。

［問題点を解決するための手段］本発明は前述の問題点を解決すべく磁気的特性に悪影響
を与えることなく、耐Ｃ８Ｓ性やヘッドスティック性の
向上を目的としてなされたものであり、スパッタ、メッ
キ、蒸着等のプロセスにより磁性膜が形成される磁気デ
ィスク用基板であって、該基板として平担性を損なわず
、表面に異方性がなく微小な凹凸を形成したガラスから
なる磁気ディスク用基板において。

表面の凹凸の形状が触針式の粗さ計を用い半径２．５ｇ
ｍの触針でガラス表面を走査させて粗さを測定したとき
、高さが５０〜７００人の範囲にある前記凹凸の山が０
．１〜１０μｍの範囲のピッチで形成されていることを
特徴とする磁気ディスク用基板を提供するものである。

また本発明は、平坦性を損なわず、表面に異方性がなく
微小な凹凸を形成したガラスからなる磁気ディスク用基
板の前記凹凸の形状が触針式の粗さ計を用い半径２．５
ル履の触針でガラス表面を走査させて粗さを測定したと
き、高さが５０〜７００人の範囲にある前記凹凸の山が
０．１〜１０７を層の範囲のピッチで形成されている磁
気ディスク用基板の製造法であって、磁気ディスク用基
板の表面の凹凸をフッ化カリウムとフッ酸を含む水溶液
を用い化学エツチングにより形成することを特徴とする
磁気ディスク用基板の製造法を提供するものである。

本発明の磁気ディスク用基板を図面に従って説明する。

第１図は本発明の磁気ディスク用基板の平面図であり、
基板円板を形成する円の中心を原点として極座標（ｒ、
θ）をとる、該基板としては通常のソーダライムシリケ
ートガラス、無アルカリガラス、硼珪酸ガラス、石英ガ
ラス、風冷または液冷等による物理強化ガラス、化学強
化ガラス或いは結晶化ガラス等を用いることができる。

第２図（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施例として、基板
の主面に垂直なｒ方向断面と０方向順面の表面凹凸の形
状を示した説明図である。

基板の表面の凹凸はｒおよびθ方向で同様のプロフィー
ルを有し、異方性が認められない、第３図は、凹凸を形
成した基板表面の断面の拡大説明図である。以下「山の
高さ」とは山と谷の落差Ｈを示し、「山のピッチ」とは
隣り合う山の先端の間隔Ｗを表わすものとする。

凹凸の適正形状は、再生ノイズに悪影響を与えることな
くヘッドとメディアの摩擦軽減効果によりＣ５Ｓ特性を
改善できる理由から、山の高さは５０〜７００人の範囲
が適切であるが特に２００〜４００人の範囲とすること
が望ましい、山のピッチは０．１〜１０ルーの範囲にあ
ることが適切である。

なお、前記山の高さは基板の全面にわたって全ての山が
７００Å以下であることが望ましいが、本発明の前記し
た目的を達成するのに支障のない範囲において７００八
を超える高さの山が存在していてもかまわない。

なお、凹凸の形状と山のピッチは、半径２．５Ｂｍの触
針を有する表面粗さ針で、針荷重２５鳳ｇ、走査速度５
０，１７分で測定するものとする。

ここで、表面凹凸を形成する以前のガラス板を、ガラス
素板あるいは素板と記すこととする。素板としては１通
常のソーダライムシリケートガラス、無アルカリガラス
、硼珪酸ガラス、石英ガラス、風冷または液冷等による
物理強化ガラス、化学強化ガラス、結晶性ガラス、　　
□あるいは結晶化ガラス等を用いることができる。

本発明の磁気ディスク基板としては１通常のソーダライ
ムシリケートガラス、無アルカリガラス、硼珪酸ガラス
、石英ガラス、風冷または液冷等による物理強化ガラス
、化学強化ガラス、あるいは結晶性ガラス等を用いるこ
とができる。物理強化ガラスあるいは化学強化ガラスか
らなる本発明の基板は、上記の如く素板としてそれぞれ
物理強化ガラスあるいは化学強化ガラスを用いることが
できるが、また物理強化あるいは化学強化処理を施す以
前の前記物理強化ガラス、化学強化ガラス以外の素板に
表面凹凸を形成してから物理強化処理あるいは化学強化
処理を施したものであってもよい。

また、本発明の磁気ディスク用基板の製造法は、前記の
素板に化学エツチングを施すことにより、該素板表面に
凹凸を形成し、もって前記基板を製造する方法である。

本発明は、かかる凹凸の形成に用いる化学エツチング液
として、フッ化カリウム水溶液とフッ酸の混合液を提供
するものである。

上記フッ酸の濃度は、１〜２０Ｎの範囲特に６〜１４Ｎ
の範囲とすることが再現性良く凹凸を形成できる理由か
ら好ましい、上記フッ化カリウム水溶液の濃度は、１〜
１０Ｎの範囲、好ましくは３〜７Ｎの範囲とすることが
望ましい。

［作用］本発明の磁気ディスク用基板を用いたメディアはヘッド
と接触する面においても適度の凹凸をもち、記録密度の
低下を招かず、磁気記録／再生にあたり信号のノイズを
増大させることなく、ヘッドとメディア間の接触面積を
減少させることによりヘッドとメディア間の摩擦を低減
させることによって、耐Ｃ５Ｓ性やヘッドスティック性
を改善できるものと考えられる。

また、本発明の磁気ディスク用基板の製造法において、
化学エツチング液の作用は明らかではないが、フッ酸と
７７化カリウムから遊離したカリウムイオンがガラスか
ら溶出したＳｉと反応することにより生成したケイフッ
化物がガラス表面にポーラスな反応抑制層を形成するた
めに溶出量の不均一性を生じ、凹凸が形成されるものと
考えられる。

［実施例］実施例１ソーダライムガラスの素板を中性洗剤で洗浄し、イオン
交換水で水洗の後乾燥した。この素板をフッ化カリウム
とフッ酸を含む水溶液を用いて化学エツチング処理し、
該素板表面に凹凸を形成し、磁気ディスク用基板を得た
。化学エツチング処理の条件と凹凸の形状を表１に示す
、この基板上にスパッタ法によりＣｏ系磁性膜を形成し
、さらにその上にカーボン保護膜を形成した後、ＣＳＳ
特性、ヘッドスティック性、Ｓ／Ｎ比およびミッシング
パルスを評価した。

その結果を比較例１とともに表１に示す。

実施例２化学強化ガラスからなる素板を中性洗剤で洗浄し、イオ
ン交換水で水洗の後乾燥した。この素板を実施例１とほ
ぼ同様な方法で化学エツチング処理し、該素板表面に凹
凸を形成し、磁気ディスク用基板を得た。この基板上に
実施例１と同様な方法でＣｏ系磁性膜と、その上にカー
ボン保護膜を形成した後、諸特性を評価した。その結果
を比較例２とともに表１に示す。

実施例３結晶化ガラスからなる素板を用い、実施例１と同様にし
て磁気ディスク用基板を作製、ＣＯ磁性膜とその上にカ
ーボン保護膜を形成した後、諸特性を評価した。その結
果を比較例３とともに表１に示す。

［発明の効果］（１）本発明の、磁気ディスク用基板は、表面の適度の
凹凸によりメディアとヘッドの間の摩擦力を軽減し、耐
Ｃ５Ｓ性やヘッドスティック性が改善される効果を有す
る。さらに凹凸が微細であるために磁気特性に悪影響を
与えない（２）凹凸が異方性なく微細に形成されるので１ビット
当りの面積を縮少し高密度化を計る際に有利である。

（３）表面の凹凸はアンカー効果により磁性膜との密着
力を改善する効果を有し耐久性の向上に役立っている。

（４）本発明の磁気ディスク用基板の製造法は、化学エ
ツチングにより凹凸を形成するため基板の平担性を著し
く損ったり強度低下を招くことがない。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気ディスク用基板の平面図、第２図（ｇ）は
基板表面のｒ方向断面の説明図、（ｂ）は０方向断面の
説明図、また第３図は第２図（ａ）、　（ｂ）の拡大図
である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）スパッタ、メッキ、蒸着等のプロセスにより磁性
膜が形成される磁気ディスク用基板であって、該基板と
して平坦性を損なわず、表面に異方性がなく微少な凹凸
を形成したガラスからなる磁気ディスク用基板において
、前記凹凸の形状が触針式の粗さ計を用い半径
２．５μｍの触針でガラス表面を走査させて粗さを測定
したとき、高さが５０〜７００Åの範囲にある前記凹凸
の山が０．１〜１０μｍの範囲のピッチで形成されてい
ることを特徴とする磁気ディスク用基板。（２）平坦性を損なわず、表面に異方性がなく微小な凹
凸を形成したガラスからなる磁気ディスク用基板の前記
凹凸の形状が触針式の粗さ計を用い半径２．５μｍの触
針でガラス表面を走査させて粗さを測定したとき、高さ
が５０〜７００Åの範囲にある前記凹凸の山が０．１〜
１０μｍの範囲のピッチで形成されている磁気ディスク
用基板の製造法であって、磁気ディクス用基板の表面の
凹凸をフッ化カリウムとフッ酸を含む水溶液を用い化学
エッチングにより形成することを特徴とする磁気ディス
ク用基板の製造法。
（３）前記フッ化カリウムとフッ酸を含む水溶液が、濃
度が１〜１０Ｎの範囲のフッ化カリウム水溶液と１〜２
０Ｎの範囲のフッ酸とを混合してなることを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の磁気ディスク用基板の製造
法。