JPS62219330A - 薄膜メデイアの製造方法 - Google Patents
薄膜メデイアの製造方法Info
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- JPS62219330A JPS62219330A JP6328586A JP6328586A JPS62219330A JP S62219330 A JPS62219330 A JP S62219330A JP 6328586 A JP6328586 A JP 6328586A JP 6328586 A JP6328586 A JP 6328586A JP S62219330 A JPS62219330 A JP S62219330A
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- layer
- lubricating layer
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- carbon
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- Pending
Links
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記ル用ハードディスクメディアの製造方法
に関するものであり、特に薄膜連続媒体の保護潤滑膜の
製造方法に関するものである。
に関するものであり、特に薄膜連続媒体の保護潤滑膜の
製造方法に関するものである。
本発明は薄膜メディアのステイクション特性な改良した
ものであり、特にａＳＳすることにより増加する静摩擦
係数（μ、）の増加の防止、ならびに耐湿下放置後の静
摩擦係数（μ、）の増加の防止を目的としたものであり
、停 潤滑層としてのカーボン層ならびにカーボン上の
固体潤滑層を部分的にレーザー食刻により取り除き、ヘ
ッドとメディアとの接触面積を減じ前記ステイクション
を防止したことご特徴とするものである。
ものであり、特にａＳＳすることにより増加する静摩擦
係数（μ、）の増加の防止、ならびに耐湿下放置後の静
摩擦係数（μ、）の増加の防止を目的としたものであり
、停 潤滑層としてのカーボン層ならびにカーボン上の
固体潤滑層を部分的にレーザー食刻により取り除き、ヘ
ッドとメディアとの接触面積を減じ前記ステイクション
を防止したことご特徴とするものである。
ステイクションを防止するためメディアとヘッドの接触
面積を減じるためにメディア表面に凸凹をつけることは
周知であるが、従来は磁性層形成前の工程で遊離 粒又
は研摩テープによりサブストレイト表面に凸凹なつけ、
洗浄後磁性層？形成し、ざらに保護潤滑層としてカーボ
ン層を形成していた。このような凸凹形成方法だと （１） 凸凹形成後の洗浄が不充分となり磁性層形成
時ディフェクトが増加する、又耐湿性が劣化するといっ
た問題 （２） 表面あらさの均一化が機械１１１［１工によ
るためむずかしい（特に凸部の高さ、形状）、その結果
ステイクション特性がばらついたり、グライド特性が劣
化するといった問題 （３）磁性層が凸凹のためメディアのＳ ／ Ｎ特性が
劣化する といった問題があった。
面積を減じるためにメディア表面に凸凹をつけることは
周知であるが、従来は磁性層形成前の工程で遊離 粒又
は研摩テープによりサブストレイト表面に凸凹なつけ、
洗浄後磁性層？形成し、ざらに保護潤滑層としてカーボ
ン層を形成していた。このような凸凹形成方法だと （１） 凸凹形成後の洗浄が不充分となり磁性層形成
時ディフェクトが増加する、又耐湿性が劣化するといっ
た問題 （２） 表面あらさの均一化が機械１１１［１工によ
るためむずかしい（特に凸部の高さ、形状）、その結果
ステイクション特性がばらついたり、グライド特性が劣
化するといった問題 （３）磁性層が凸凹のためメディアのＳ ／ Ｎ特性が
劣化する といった問題があった。
本発明はこのような従来技術の欠点（鑑みトップコート
保護潤滑層としてカーボン層、さらに有機性固体潤滑層
を形成した後、固体潤滑層のみ、又は固体潤滑層とカー
ボン層の一部をレーザー食刻することにより凸凹を均一
に（特に高さ、形状）に形成し、又ティクシ田ン特性の
劣化防止を再現性よく、工業的に多量に処理することを
目的としたものである。
保護潤滑層としてカーボン層、さらに有機性固体潤滑層
を形成した後、固体潤滑層のみ、又は固体潤滑層とカー
ボン層の一部をレーザー食刻することにより凸凹を均一
に（特に高さ、形状）に形成し、又ティクシ田ン特性の
劣化防止を再現性よく、工業的に多量に処理することを
目的としたものである。
簿膜メディア（メッキ法、スパッタ法、蒸着法）の保ｍ
ａ滑層はＣｒｌｏ （Ｏｒ＝５０〜２００ Ｋ 。
ａ滑層はＣｒｌｏ （Ｏｒ＝５０〜２００ Ｋ 。
０＝１００〜１ｏｏｏＸ）が通常使われており、さらに
電磁変換特性より０ｒ＝１００裏、Ｑ＝３００〜４００
Ｋが多くのメディアに採用されている。Ｏは良好なグラ
イド特性を示すが、Ｏ１９により静摩擦数が増加し、ド
ライブのスピンドルモーターの停止をしばしばもたらす
。そこで０層の上にさらに有機性の固体潤滑剤（高級脂
肪酸、その塩、そのエステル、パーフルオロアル午ルエ
ーテル、ジカルボン酸、その塩、そのエステル等）を１
０Ｘ〜２００ＸコートすることによりこのようなａＳＳ
後の静摩擦係°数の増加を防止することが提案されてい
る。このような有機性固体潤滑・層はスピンコード又は
浸漬等速引上げ法又は蒸着法によりコートされるが、１
０Ｘ以下になるとその効果がうすくなり、又１００裏を
越えると耐湿下でステイクションを引きおこす。特に膜
厚を工業的に１ｏｏＸを越えないように完全にコントロ
ールすることはむずかしい。そこで本発明者は固体潤滑
層をレーザーにより蒸発又は酸化により部分的に取り除
くことにより耐湿下のステイクションが防止することを
見出し本発明を生むに至った、固体潤滑剤付きカーボン
オーバーコートメディアを回転しながらレーザー（ＹＡ
Ｇ 、 ００１ 、 Ａｒ、Ｎｏ等）５’ｅｉをスキ
ャンニングすることにより固体潤滑層は蒸発又は酸化に
より部分的に取り除ける。さらに強いパワーにより０層
までも食刻することにより耐湿下のスティクシ曹ン防止
特性はさらに増加する。取り除く形状はスパイラル、同
心円等レーザーのスキャンニングの方法により異なった
模様となるが、同心円又はスパイラルがヘッドの浮上特
性上望ましい。レーザー食刻された本発明のメディア表
面の断面図は第１図又は第２図となる。第１図は固体潤
滑層のみを、第２図は０層も含めて食刻した場合である
。構幅についてはレーザービームのしぼり込みフォーカ
ス半径により決定されるが、ＣＬ５〜１μｍｎ程度がｉ
値であり、ｍａｌ値はヘッドのスキー幅にもよるが１０
〜３０μである。取り除く面積としては３０％〜８０％
であり、少ないと耐湿下のスティクシコン防止効果が少
なくなり、８０％を越えるとＣ，ＳＳにつれて静摩擦係
数の増大なもたらしステイクションをおこす。
電磁変換特性より０ｒ＝１００裏、Ｑ＝３００〜４００
Ｋが多くのメディアに採用されている。Ｏは良好なグラ
イド特性を示すが、Ｏ１９により静摩擦数が増加し、ド
ライブのスピンドルモーターの停止をしばしばもたらす
。そこで０層の上にさらに有機性の固体潤滑剤（高級脂
肪酸、その塩、そのエステル、パーフルオロアル午ルエ
ーテル、ジカルボン酸、その塩、そのエステル等）を１
０Ｘ〜２００ＸコートすることによりこのようなａＳＳ
後の静摩擦係°数の増加を防止することが提案されてい
る。このような有機性固体潤滑・層はスピンコード又は
浸漬等速引上げ法又は蒸着法によりコートされるが、１
０Ｘ以下になるとその効果がうすくなり、又１００裏を
越えると耐湿下でステイクションを引きおこす。特に膜
厚を工業的に１ｏｏＸを越えないように完全にコントロ
ールすることはむずかしい。そこで本発明者は固体潤滑
層をレーザーにより蒸発又は酸化により部分的に取り除
くことにより耐湿下のステイクションが防止することを
見出し本発明を生むに至った、固体潤滑剤付きカーボン
オーバーコートメディアを回転しながらレーザー（ＹＡ
Ｇ 、 ００１ 、 Ａｒ、Ｎｏ等）５’ｅｉをスキ
ャンニングすることにより固体潤滑層は蒸発又は酸化に
より部分的に取り除ける。さらに強いパワーにより０層
までも食刻することにより耐湿下のスティクシ曹ン防止
特性はさらに増加する。取り除く形状はスパイラル、同
心円等レーザーのスキャンニングの方法により異なった
模様となるが、同心円又はスパイラルがヘッドの浮上特
性上望ましい。レーザー食刻された本発明のメディア表
面の断面図は第１図又は第２図となる。第１図は固体潤
滑層のみを、第２図は０層も含めて食刻した場合である
。構幅についてはレーザービームのしぼり込みフォーカ
ス半径により決定されるが、ＣＬ５〜１μｍｎ程度がｉ
値であり、ｍａｌ値はヘッドのスキー幅にもよるが１０
〜３０μである。取り除く面積としては３０％〜８０％
であり、少ないと耐湿下のスティクシコン防止効果が少
なくなり、８０％を越えるとＣ，ＳＳにつれて静摩擦係
数の増大なもたらしステイクションをおこす。
〔実施例１〕
サブストレイトとして２ Ｎｉ−Ｐ付きｈＬ板を用い、
ポリッシングによりＲｍａｌ ＝Ｑ、 ０２ ／Ｊ ｍ
＊Ｒａ＝（１００５μｍの表面に仕上げた。次に洗浄
し無電解磁性メッキによりＣｏ−Ｎ１−Ｐの７ｏｏＸ層
を形成した。洗浄、乾燥後スパッタリングによりＯｒｌ
ｏｏｇ、０４００＠の保護、１４滑膜を形成した。この
時のＲｍａｘ ＝ （Ｌ Ｏ５μ隅、Ｒａ＝α００８μ
貫でありた。次にスピンコード法によりステアリン酸リ
チウムの１１％イングロ液をＣ層上に８０′にコートし
た。次にＹＡＧレーザーをス午ヤンすることによりディ
スクを回転しながらレーザーパワーを弱くし５μピツチ
のスパイラル状構を形成した（第１図）。
ポリッシングによりＲｍａｌ ＝Ｑ、 ０２ ／Ｊ ｍ
＊Ｒａ＝（１００５μｍの表面に仕上げた。次に洗浄
し無電解磁性メッキによりＣｏ−Ｎ１−Ｐの７ｏｏＸ層
を形成した。洗浄、乾燥後スパッタリングによりＯｒｌ
ｏｏｇ、０４００＠の保護、１４滑膜を形成した。この
時のＲｍａｘ ＝ （Ｌ Ｏ５μ隅、Ｒａ＝α００８μ
貫でありた。次にスピンコード法によりステアリン酸リ
チウムの１１％イングロ液をＣ層上に８０′にコートし
た。次にＹＡＧレーザーをス午ヤンすることによりディ
スクを回転しながらレーザーパワーを弱くし５μピツチ
のスパイラル状構を形成した（第１図）。
〔実施例２〕
実施例１において固体潤滑剤としてリグルーシン酸を浸
漬等速引上げ法でｓｏＸ塗布した。次にレーザーパワー
を強くして固体潤滑層とカーボン層を食刻した（第２図
）。
漬等速引上げ法でｓｏＸ塗布した。次にレーザーパワー
を強くして固体潤滑層とカーボン層を食刻した（第２図
）。
実施例１．２と従来の鏡面０ｒ１０ メディア（従来
例１）、従来の機械加工テキシチャー付きＯｒ／Ｃメデ
ィア（従来例２）のａＳＳ経過におけるμ、（静摩擦係
数）の変化、６０℃ ８０％相対湿度下１６８Ｈｒ放置
後におけるステイクション性（μ、）を次表に示す。
例１）、従来の機械加工テキシチャー付きＯｒ／Ｃメデ
ィア（従来例２）のａＳＳ経過におけるμ、（静摩擦係
数）の変化、６０℃ ８０％相対湿度下１６８Ｈｒ放置
後におけるステイクション性（μ、）を次表に示す。
表１より明らかなように本発明メディアは０８ＪＳ２万
回後において静摩擦係数μ、は初期値のほぼ２倍に増加
するだけでありステイクシラン限界値０．７ （モータ
ートルク設計により基準値は異なる）を越えることはな
かりた。さらに実施例２によりテキシチャリング効果が
さらに増加し耐湿下のステイクシラン特性もすばらしい
ものが得られた。本発明により簿膜メディアの長期信頼
性が大巾に増大し又工業的に安定して多量に加工するこ
とが可能となった。
回後において静摩擦係数μ、は初期値のほぼ２倍に増加
するだけでありステイクシラン限界値０．７ （モータ
ートルク設計により基準値は異なる）を越えることはな
かりた。さらに実施例２によりテキシチャリング効果が
さらに増加し耐湿下のステイクシラン特性もすばらしい
ものが得られた。本発明により簿膜メディアの長期信頼
性が大巾に増大し又工業的に安定して多量に加工するこ
とが可能となった。
第１図は、本発明実施例１のメディア断面図。
１・・・・・・磁性膜（ｃＯ−Ｎ１−ｐ）２ ・・・・
・・ Ｏｒ −３・・・・・・ ０ ４・・・・・・固体潤滑層 第２図は、本発明実施例２のメディア断面図。 以 上
・・ Ｏｒ −３・・・・・・ ０ ４・・・・・・固体潤滑層 第２図は、本発明実施例２のメディア断面図。 以 上
Claims (1)
- 薄膜メディアの製造方法において、保護潤滑層としての
カーボンオーバーコート上にさらに有機性固体潤滑層を
形成する工程、さらにレーザー食刻により、該固体潤滑
層又は固体潤滑層とカーボン層の一部を取り除く工程を
含むことを特徴とする薄膜メディアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6328586A JPS62219330A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 薄膜メデイアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6328586A JPS62219330A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 薄膜メデイアの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62219330A true JPS62219330A (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=13224900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6328586A Pending JPS62219330A (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 薄膜メデイアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62219330A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02128321A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP6328586A patent/JPS62219330A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02128321A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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