JPS63316315A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】 本発明は磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する
ものである。 ［従来の技術］ 従来から磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の凝着を防止
して、磁気ヘッドを損傷から保護するために、磁気ディ
スク表面を粗面にすることが行なわれており、ラッピン
グテープなど（特開昭５４−２３５０８号、特開昭５５
−１１７７４１号、特開昭５８−１３０８３４号など）
を用いてその粗面の形成が行なわれている。これらはア
ルミ合金基板上の磁性塗膜上に適用されるだけでなく、
アルミ合金基板上にメッキ層を設けた基板に連続磁性薄
膜を形成した磁気ディスクにも同様に適用される。但し
、後者については一般にメッキ層表面に粗面を形成する
方法がとられる。ガラス基板の場合、同様の方法でガラ
ス表面を粗面化することは難しく、たとえできたとして
もマイクロクラックの多い表面となりエツチングにより
、そのクラックを取除く必要があった（特願昭６１−３
０５５３０号）、シかしエツチングを行なうことにより
エッチビットの拡大や深いグループが形成されやすく、
磁性膜をその上に形成したときにノイズやミッシングパ
ルスの原因となることがあった。 一方１機械的な方法でなく化学的な方法でガラス表面を
粗面化する方法も提案されている（特願昭８１−２３９
２４９号）、この方法は上記欠点は認められない、しか
し、ガラス基材として安価なソーダライムガラスを用い
た場合磁性膜のピンホール部あるいは膜の形成されてい
ない部分のようなガラスが露出した部分から高温多湿環
境下において、Ｎａ”　イオンが溶出し、これが引き金
になって磁性膜が腐食されることを最近見出した。 （発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来技術が有していた前述の欠点、すなわち、
ガラス基板表面に凹凸を形成させるだめの機械的方法あ
るいは化学的方法にともなう前記の問題ならびにガラス
基板からのＨａ・　イオンの溶出に基づく磁性膜の腐食
を防止することを目的とするものである。 【問題点を解決するための手段１ 本発明は、前述の問題点を解決すべくなされたものであ
り、ガラスから成り、その上に磁性層として連続磁性薄
膜が形成される磁気ディスク基板において、ガラス表面
に非晶質シリカを主成分とするコーティング層を設け、
該コーティング層を機械的方法により表面を粗面化した
のち、１５０℃以上の温度で焼成して２０〜１００人の
範囲の表面平均粗さを得ることを特徴とする磁気ディス
ク用ガラス基板の製造方法を提供するものである。 本発明によれば、前記非晶質シリカを主成分とするコー
ティング層を、焼成される以前の軟かいうちに機械的方
法により表面を粗面化するので、上記コーティング層に
前記した有害なマイクロクラックが発生することを防止
できる。 第１図は本発明の方法により製造した基板の主面に垂直
な断面図でガラス基板ｌと表面が粗面化されたコーティ
ング層２から構成される。 ガラス基板はソーダライムシリカガラスの他、これを化
学強化したもの、低アルカリガラス、各種結晶化ガラス
等が使用できるが１価格の点からソーダライムガラスが
好ましく、機械的強度を要求される場合は化学強化した
ソーダライムガラスが好ましい、コーティング層は、い
わゆるゾルゲル法による合成シリカから成り、アルコキ
シシランを加水分解・焼成することにより形成され、ア
ルコキシシランとしてはメチルシリケート、エチルシリ
ケートなどが使用でき、水、アルコール、酸、触媒の使
用も有効である。コーティングの方法はスプレィ法、浸
漬ｅ引き上げ法あるいはスピンコード法が適用できる。 コーティング層を粗面化する方法としては、いわゆるテ
ープボリッシャと呼ばれる研磨テープを用いて、同心円
状の凹凸パターンを形成する方法あるいは自由砥粒を用
いて表面を研磨する方法が適用できる。 研磨テープあ゛るいは自由砥粒の砥粒としてはＳｉＣ、
アルミナ、　５ｉ０２、ダイヤモンドなどが使用できる
が、ガラス基体を傷つけないためにこの中で比較的軟か
いアルミナあるいはシリカが好ましい。 コーティング層の厚さは３００〜３０００人、好ましく
は７００〜２０００人とすることがアルカリバリヤーと
しての効果、クラック防止や表面の平面度の悪化防止の
点から好ましい。 コーティング層の焼成温度は１５０℃以上、好ましくは
１５０℃〜５００℃、特に好ましくは２５０〜４５０℃
とすることが表面硬度を高める上から、あるいはガラス
の変形防止、表面粗度、凹凸形状の保持の点から、また
強化ガラスの場合は加熱による強化層の応力緩和低減の
点から好ましい。 粗面化するコーティング層の表面は基板全面でも、ＣＳ
Ｓゾーンの部分だけでもよい。 ［作用］ 本発明によるソーダライムガラス基板に連続磁性薄膜を
形成して得られた磁気ディスクは、摩擦係数が小さく、
コンタクト・スタート−ストップ試験による耐久テスト
においても磁気ヘッドの損傷が無く、高温多湿テストを
行なっても膜の変色は無い、これは、コーティング層が
アルカリバリヤ一層として働いていることと機械的に形
成した凹凸がマイクロクラックを内在していないためと
推定される。そのことは焼成前のコーティング層が軟質
であるために単なるガラスのようにゼイ性破壊を起さな
いことと、たとえ起ったとしても続いて行なう焼成で閉
じたクラックになるためと考えられる。 ［実施例］ 外径１３０■鵬、内径４０■腸、厚さ１．９０５腸−の
ソーダライムシリカガラスの円板を、エチルシリケート
を加水分解、縮合して作ったコート液に浸漬後、引上げ
て厚さ１０００人のコーティング層を形成させた。これ
を自然乾燥後、ホワイトアランダム　（Ａｌ２Ｏ２）　
１１４０００メツシユをテープ状に塗布した巾２インチ
のラッピングテープを用いてガラスを１ｏｏｒｐ■で回
転させながらテープを毎分１０ｃ層の速度で送りつつガ
ラスの両面から１分間押さえつけることによりコーティ
ング層の表面に同心円状の凹凸を形成した。このとき冷
却のために純水の吹付けを行なった。これを超音波洗浄
し、インプロパツールの蒸気洗浄を経て乾燥し、大気中
で２００℃に加熱焼成したのちに磁性膜と保護膜をスパ
ッタ法で形成した。磁性膜は１５００人のＣｒ下地層と
６００人のＣＯ〜Ｎｉ層から成り、保護膜は３００人の
カーボンから成る。続いて、パーフロロポリエーテルか
ら成る潤滑剤を浸漬法で被覆し磁気ディスクとした。 このディスクを８０℃ＳＯ％Ｒ１（の条件で５００時間
耐湿テストを行なったが、外観的な変化だけでなくサー
テイフアイヤによる欠点検出においても欠点の増加は全
く認められなかった。 また、薄膜磁気ヘッドを用いて摩擦力の測定とＣ５Ｓテ
ストを行なったが静止摩擦係数は初期テ０．２以下、Ｃ
ＳＳテスト３万回後で０．５であった。 ［発明の効果］ 本発明のガラス基板を用いた磁気ディスクはガラスのＨ
ａ”　イオンの溶出防止により腐食性環境下での耐久性
を有し、ヘッドとの摩擦力も低くコンタクト拳スタート
・ストップ方式の磁気ディスク装置において長期間の耐
久性を有する。　また、ガラスを基板とすることで、軽
量化、薄板化、それによる駆動モータのトルク低減とバ
ッテリー駆動の実現からポータプル化が容易となる。ま
た、薄板化によりディスク枚数を増すことにより同一体
積のドライブに比べて高容量の記録ができ、Ｎ１−Ｐメ
ッキに比べて欠陥が少ないのでディフェクトが少ない、
また不良のスパッタ膜を酸で除去し容易に再生できる、
またＮ１−Ｐメッキ面より硬度が大きいため磁気ヘッド
が衝突しても膜に傷がつきに〈〈耐衝撃性の高いドライ
ブ装置が得られる等の効果を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気ディスク用ガラス基板の一実
施例の主面に垂直な断面図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラスから成り、その上に磁性層として連続磁性
   薄膜が形成される磁気ディスク用基板において、ガラス
   表面に非晶質シリカを主成分とするコーティング層を設
   け、該コーティング層を機械的方法により表面を粗面化
   したのち、１５０℃以上の温度で焼成して２０〜１００
   Åの範囲の表面平均粗さを得ることを特徴とする磁気デ
   ィスク用ガラス基板の製造方法。
2. （２）前記コーティング層がアルコキシシランを主原料
   として加水分解反応により形成され、前記粗面が同心円
   状の凹凸からなり、前記焼成が１５０℃〜５００℃の範
   囲の温度でなされることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。