JPH0428013A - 金属薄膜型磁気記録ディスク - Google Patents
金属薄膜型磁気記録ディスクInfo
- Publication number
- JPH0428013A JPH0428013A JP13459590A JP13459590A JPH0428013A JP H0428013 A JPH0428013 A JP H0428013A JP 13459590 A JP13459590 A JP 13459590A JP 13459590 A JP13459590 A JP 13459590A JP H0428013 A JPH0428013 A JP H0428013A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- substrate
- disk
- nip alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 64
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 87
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910019170 CoC Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002441 CoNi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000551 Silumin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 235000012976 tarts Nutrition 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
- C03C3/112—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ヘッドの低フライングハイドでの安定な
フローティングが可能で、記録密度が高く、かつ耐久性
にすぐれた金属薄膜型磁気記録ディスクに関する。
フローティングが可能で、記録密度が高く、かつ耐久性
にすぐれた金属薄膜型磁気記録ディスクに関する。
金属薄膜型磁気記録ディスク（以下、「磁気ディスクＪ
）は、非磁性基板と、該基板上に記録層として積層成膜
されるＣｏ系強磁性金属（ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＣ
ｒＮｉ、ＣｏＣｒＮｉＴａ等）の薄膜（以下、「磁性膜
」）を基本要素として構成される。
）は、非磁性基板と、該基板上に記録層として積層成膜
されるＣｏ系強磁性金属（ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＣ
ｒＮｉ、ＣｏＣｒＮｉＴａ等）の薄膜（以下、「磁性膜
」）を基本要素として構成される。
従来の磁気ディスクは、アルミニウム合金（代表的には
シルミン）板を基板とし、基板表面を、非磁性かつ硬質
のＮｉＰ合金膜で被覆し、その膜面にメカニカルテキス
チャを施したうえ、磁性膜に面内異方性をもたせるため
のＣｒ膜、およびそのＣｒ膜を下地層として磁性膜が形
成された積層構造を有している。また、磁気ディスクの
表面にアクセスする磁気ヘッドの接触を滑らかにし、磁
性膜を摩耗・損傷から保護するための炭素質膜（ダイヤ
モンド・ライク・カーボン、グラファイト・カーボン、
アモルファス・カーボン等）に代表される保護潤滑膜が
磁性膜面に形成され、所望により、更にその膜面に液体
潤滑剤が塗布されることもある。
シルミン）板を基板とし、基板表面を、非磁性かつ硬質
のＮｉＰ合金膜で被覆し、その膜面にメカニカルテキス
チャを施したうえ、磁性膜に面内異方性をもたせるため
のＣｒ膜、およびそのＣｒ膜を下地層として磁性膜が形
成された積層構造を有している。また、磁気ディスクの
表面にアクセスする磁気ヘッドの接触を滑らかにし、磁
性膜を摩耗・損傷から保護するための炭素質膜（ダイヤ
モンド・ライク・カーボン、グラファイト・カーボン、
アモルファス・カーボン等）に代表される保護潤滑膜が
磁性膜面に形成され、所望により、更にその膜面に液体
潤滑剤が塗布されることもある。
磁気ディスクの記録密度を高めるには、ディスク表面に
アクセスする磁気ヘッドのグライド高さを可及的に小さ
くし、その低フライングハイドで安定なフローティング
状態を維持し得ることが望ましい。そのためには磁性膜
をより平面性・平行性のすぐれたものとすることが必要
である。また、磁気ヘッドの耐久性を高め、安定な記録
再生機能を維持するには、磁性膜の平面性・平行性の改
善と併せて、ディスク表面に対する磁気ヘッドの吸着と
それによる膜面の損傷を抑制・防止することが必要であ
る。
アクセスする磁気ヘッドのグライド高さを可及的に小さ
くし、その低フライングハイドで安定なフローティング
状態を維持し得ることが望ましい。そのためには磁性膜
をより平面性・平行性のすぐれたものとすることが必要
である。また、磁気ヘッドの耐久性を高め、安定な記録
再生機能を維持するには、磁性膜の平面性・平行性の改
善と併せて、ディスク表面に対する磁気ヘッドの吸着と
それによる膜面の損傷を抑制・防止することが必要であ
る。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、アルミ合
金を基板とする従来の磁気ディスクを凌く低フライング
ハイドとそれによる高密度記録を可能とし、かつ磁気ヘ
ッドの接触による損傷を生じにくい改良された磁気ディ
スクを提供する。
金を基板とする従来の磁気ディスクを凌く低フライング
ハイドとそれによる高密度記録を可能とし、かつ磁気ヘ
ッドの接触による損傷を生じにくい改良された磁気ディ
スクを提供する。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明の金属
薄膜型磁気ディスクは、ガラスを基板とし、基板表面に
ＮｊＰ合金膜を形成し、その上に磁性膜を面内異方性と
するための金属膜、強磁性金属からなる磁性膜、および
磁性膜を被覆する保護潤滑膜等を積層形成したことを特
徴としている。
薄膜型磁気ディスクは、ガラスを基板とし、基板表面に
ＮｊＰ合金膜を形成し、その上に磁性膜を面内異方性と
するための金属膜、強磁性金属からなる磁性膜、および
磁性膜を被覆する保護潤滑膜等を積層形成したことを特
徴としている。
本発明において、ガラスを基板としたのは、ガラスは極
めて硬質で、かつ平面性・平行性が高く、従ってその基
板上に積層形成される磁性膜にすくれた平面性・平行性
を付与することができるからである。
めて硬質で、かつ平面性・平行性が高く、従ってその基
板上に積層形成される磁性膜にすくれた平面性・平行性
を付与することができるからである。
また、ガラス基板の表面に、ＮｉＰ合金膜を形成するこ
ととしたのは、このＮｉＰ合金膜にメカニカルテキスチ
ャを施すことにより積層膜の耐久性を確保するためであ
る。すなわち、ガラスは極めて硬質な脆性材料であるた
め、その表面にメカニカルテキスチャを施すことが困難
である。そこで本発明は、ガラス基板の表面にＮｉＰ合
金膜を形成し、その膜面にメカニカルテキスチャを施す
ことにより、磁気ヘッドのディスク表面に対する吸着現
象および摩擦特性を改善し、磁気ディスクの耐久性を確
保することを可能としている。
ととしたのは、このＮｉＰ合金膜にメカニカルテキスチ
ャを施すことにより積層膜の耐久性を確保するためであ
る。すなわち、ガラスは極めて硬質な脆性材料であるた
め、その表面にメカニカルテキスチャを施すことが困難
である。そこで本発明は、ガラス基板の表面にＮｉＰ合
金膜を形成し、その膜面にメカニカルテキスチャを施す
ことにより、磁気ヘッドのディスク表面に対する吸着現
象および摩擦特性を改善し、磁気ディスクの耐久性を確
保することを可能としている。
なお、アルミ合金を基板とした従来の磁気ディスクも、
その表面にＮｉＰ合金膜を形成しているが、それはアル
ミ合金基板表面の硬度不足を補償するとともに、板面の
平面性・平行性を確保するためであり、その膜面にはボ
リンシュが施される。
その表面にＮｉＰ合金膜を形成しているが、それはアル
ミ合金基板表面の硬度不足を補償するとともに、板面の
平面性・平行性を確保するためであり、その膜面にはボ
リンシュが施される。
従って、本発明のガラス基板にＮｉＰ合金膜を形成する
ことは目的効果を異にしている。また、そのＮｉｐ合金
膜の膜厚も数十μｍであって本発明における膜厚（後記
）とは著しく異なっている。
ことは目的効果を異にしている。また、そのＮｉｐ合金
膜の膜厚も数十μｍであって本発明における膜厚（後記
）とは著しく異なっている。
ガラス基板表面のＮｉＰ合金は、従来のアルミ合金基板
表面に形成されるそれと異なるものである必要はなく、
その組成は、非磁性、高硬度、および膜強度等の点から
、Ｐ含有量が約７〜１３３１量％のものが好ましい。ま
た、その合金膜は、表面の平滑性の点から、粒界を有し
ない非晶質であることが望ましい。
表面に形成されるそれと異なるものである必要はなく、
その組成は、非磁性、高硬度、および膜強度等の点から
、Ｐ含有量が約７〜１３３１量％のものが好ましい。ま
た、その合金膜は、表面の平滑性の点から、粒界を有し
ない非晶質であることが望ましい。
ガラス基板表面のＮｉＰ合金膜の形成は、アルミ合金基
板表面に対するＮｉＰ合金膜の形成と同じように無電解
めっき法によることもできるが、基板に対する十分な密
着性を確保する点から、高エネルギのスパッタリングに
よるのが好適である。
板表面に対するＮｉＰ合金膜の形成と同じように無電解
めっき法によることもできるが、基板に対する十分な密
着性を確保する点から、高エネルギのスパッタリングに
よるのが好適である。
ガラス基板表面に形成されるＮｉＰ合金膜は、ガラス基
板表面が転写された高度の平面性・平行性を有している
。その膜厚は、メカニカルテキスチャによる積層膜の十
分な密着力を確保するために、約５００Å以上とするの
が好ましい。しかし、あまり厚くする利益はなく、膜厚
増大に伴い基板表面の転写効果が減じることにより膜面
の平面性・平行性が低下するので、約４０００人までと
するのがよい。
板表面が転写された高度の平面性・平行性を有している
。その膜厚は、メカニカルテキスチャによる積層膜の十
分な密着力を確保するために、約５００Å以上とするの
が好ましい。しかし、あまり厚くする利益はなく、膜厚
増大に伴い基板表面の転写効果が減じることにより膜面
の平面性・平行性が低下するので、約４０００人までと
するのがよい。
基板表面に形成されたＮｉＰ合金膜面のメカニカルテキ
スチャは、アルミ合金基板表面のＮｉＰ合金膜の場合と
同様に行えばよい。また、そのテキスチャ加工は、膜面
全体に行って構わないが、磁気ヘッドのランデングゾー
ンのみに行えばさらに記録密度の向上が期待される。
スチャは、アルミ合金基板表面のＮｉＰ合金膜の場合と
同様に行えばよい。また、そのテキスチャ加工は、膜面
全体に行って構わないが、磁気ヘッドのランデングゾー
ンのみに行えばさらに記録密度の向上が期待される。
本発明の磁気ディスクは、上記のようにガラスを基板と
し、その表面にＮｉＰ合金膜が成膜されている点を除き
、そのＮｉＰ合金膜面上の積層膜構造および成膜方法は
従来のそれと異ならず、ＮｉＰ合金膜面にメカニカルテ
キスチャを施したうえ、スパッタリング、イオンプレー
ティーング、真空蒸着法等の公知の成膜手段を適用し、
まず磁性膜を面内異方性とするためのＣｒまたはＣｒ合
金からなる金属膜、ついでＣＯ系合金等の強磁性金属か
らなる磁性膜、更にその磁性膜面を保護するための炭素
質膜に代表される固体潤滑膜等を積層成膜することによ
り製造される。むろん、その積層構造は上記に限定され
ず、例えば、耐候性の向上を目的として、磁性膜と保護
潤滑膜との間にＣｒ膜を形成し、また磁気ヘッドに対す
る潤滑特性をより高めるために保護潤滑膜の上に液体潤
滑剤が塗布されることもある。
し、その表面にＮｉＰ合金膜が成膜されている点を除き
、そのＮｉＰ合金膜面上の積層膜構造および成膜方法は
従来のそれと異ならず、ＮｉＰ合金膜面にメカニカルテ
キスチャを施したうえ、スパッタリング、イオンプレー
ティーング、真空蒸着法等の公知の成膜手段を適用し、
まず磁性膜を面内異方性とするためのＣｒまたはＣｒ合
金からなる金属膜、ついでＣＯ系合金等の強磁性金属か
らなる磁性膜、更にその磁性膜面を保護するための炭素
質膜に代表される固体潤滑膜等を積層成膜することによ
り製造される。むろん、その積層構造は上記に限定され
ず、例えば、耐候性の向上を目的として、磁性膜と保護
潤滑膜との間にＣｒ膜を形成し、また磁気ヘッドに対す
る潤滑特性をより高めるために保護潤滑膜の上に液体潤
滑剤が塗布されることもある。
（Ｉ）供試磁気ディスクの製作
ガラス基板（珪酸ガラス、平面度：５μ町表面あらさｐ
ａ：８Ａ）に、非晶質のＮｉＰ合金膜（９３Ｎ ｉ −
７Ｐ、 ｗｔ％）を形成し、ランデインタゾーンにメカ
ニカルテキスチャを施したのち、Ｃｒ膜、ＣｏＣｒＴａ
合金からなる磁性膜、および炭素質膜（グラファイト・
カーボン）をこの順に積層成膜して３．５＃型供試磁気
デイスク（供試Ｎｏ。
ａ：８Ａ）に、非晶質のＮｉＰ合金膜（９３Ｎ ｉ −
７Ｐ、 ｗｔ％）を形成し、ランデインタゾーンにメカ
ニカルテキスチャを施したのち、Ｃｒ膜、ＣｏＣｒＴａ
合金からなる磁性膜、および炭素質膜（グラファイト・
カーボン）をこの順に積層成膜して３．５＃型供試磁気
デイスク（供試Ｎｏ。
１）を得た。各層の成膜は、いずれもマグネトロンスパ
ッタリング（雰囲気：０．７Ｘ１０脣Ｔｏｒｒ Ａｒ）
により行った。各膜厚は、ＮｔＰ合金膜３０００人、Ｃ
ｒ膜１５００人、［性膜７００人、炭素質膜３００人で
ある。
ッタリング（雰囲気：０．７Ｘ１０脣Ｔｏｒｒ Ａｒ）
により行った。各膜厚は、ＮｔＰ合金膜３０００人、Ｃ
ｒ膜１５００人、［性膜７００人、炭素質膜３００人で
ある。
上記供試ディスクＮα１（発明例）のほか、比較例とし
て下記供試ディスクＮα２〜Ｎｏ、 ４を用意した。
て下記供試ディスクＮα２〜Ｎｏ、 ４を用意した。
供試ディスクＮα２（比較例）
ガラス基板表面に対するＮｉＰ合金膜の形成を省略し、
ガラス表面にメカニカルテキスチャを施した点を除いて
上記供試ディスク陥、１と同じ。
ガラス表面にメカニカルテキスチャを施した点を除いて
上記供試ディスク陥、１と同じ。
供試ディスクＮｏ、 ３
ガラス基板表面に対するメカニカルテキスチャを省略し
た点を除いて供試ディスクＮｏ、 ２と同し。
た点を除いて供試ディスクＮｏ、 ２と同し。
供試ディスクＮｏ、４（比較例）
基板としてアルミ合金（シルミン）板を使用した点を除
いて上記供試ディスクＮＯ６１と同し。
いて上記供試ディスクＮＯ６１と同し。
（１）グライド試験
第１表に各供試ディスクのグライド試験結果を示す。磁
気ヘッドは、Ｍｎ−Ｚｎ系モノリシック型を使用した。
気ヘッドは、Ｍｎ−Ｚｎ系モノリシック型を使用した。
（ＩＩ）ＣＳＳ試験および摩耗試験
（１） ＣＳ Ｓ （Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ａ
ｎｄ ５ｔｏｐ）試験磁気ヘッド（Ｍｎ−Ｚｎ系モノリ
シック型）を供試ディスクの表面に接触させた状態で、
ディスクドライブ装置の起動と停止を反復し、ディスク
表面に疵が発生（目視観察による）するまでの起動・停
止の反復回数（ＣＳＳ回数）を求める。
ｎｄ ５ｔｏｐ）試験磁気ヘッド（Ｍｎ−Ｚｎ系モノリ
シック型）を供試ディスクの表面に接触させた状態で、
ディスクドライブ装置の起動と停止を反復し、ディスク
表面に疵が発生（目視観察による）するまでの起動・停
止の反復回数（ＣＳＳ回数）を求める。
（２）摩耗試験
供試ディスクの表面に磁気ヘッド（Ｍｎ−Ｚｎ系モノリ
シック型）を接触させた状態（垂直荷重：１０ｇ）を保
持し、ディスクを回転（回転速度： １００１００ｒさ
せてディスク表面の疵の有無を目視観察する。
シック型）を接触させた状態（垂直荷重：１０ｇ）を保
持し、ディスクを回転（回転速度： １００１００ｒさ
せてディスク表面の疵の有無を目視観察する。
上記試験結果を第２表に示す。第２表中、「疵」はディ
スク最表層の炭素質膜のみの摩耗損傷を意味し、「スジ
」は炭素質膜の下層の磁性膜ないし更にその下側の下地
膜まで摩耗損傷が生じたことを意味している。
スク最表層の炭素質膜のみの摩耗損傷を意味し、「スジ
」は炭素質膜の下層の磁性膜ないし更にその下側の下地
膜まで摩耗損傷が生じたことを意味している。
第１表に示したように、発明例の供試ディスクＮｏ、
１は、従来の代表的磁気ディスクであるＮｏ、 ４（ア
ルミ合金基板にＮｉＰ合金膜を形成）に比し、平面性が
極めて高く、その改良された平面性によりグライド高さ
の大幅な減少効果が得られている。
１は、従来の代表的磁気ディスクであるＮｏ、 ４（ア
ルミ合金基板にＮｉＰ合金膜を形成）に比し、平面性が
極めて高く、その改良された平面性によりグライド高さ
の大幅な減少効果が得られている。
また、発明例の供試ディスクＮｏ、 １は、第２表から
明らかなように、磁気ヘッドの接触による劣化が少なく
、その耐久性は、アルミ合金基板にＮｉＰ合金膜を形成
した供試ディスクＮα４と同等である。なお、ガラスを
基板とする場合において、随３のようにＮｉＰ合金膜を
形成せず、メカニカルテキスチャを省略した磁気ディス
クの耐久性は著しく低い。その耐久性は、Ｎｏ、 ２の
ようにガラス基板表面にメカニカルテキスチャを施すこ
とにより、や）改善されるけれども、なおＮｉＰ合金膜
を形成した発明例Ｎｏ、 １の耐久性に遠く及ばない。
明らかなように、磁気ヘッドの接触による劣化が少なく
、その耐久性は、アルミ合金基板にＮｉＰ合金膜を形成
した供試ディスクＮα４と同等である。なお、ガラスを
基板とする場合において、随３のようにＮｉＰ合金膜を
形成せず、メカニカルテキスチャを省略した磁気ディス
クの耐久性は著しく低い。その耐久性は、Ｎｏ、 ２の
ようにガラス基板表面にメカニカルテキスチャを施すこ
とにより、や）改善されるけれども、なおＮｉＰ合金膜
を形成した発明例Ｎｏ、 １の耐久性に遠く及ばない。
このことから、ガラス基板にＮｉＰ合金膜を形成したこ
とによる耐久性向上効果の顕著なことがわかる。
とによる耐久性向上効果の顕著なことがわかる。
本発明の磁気ディスクは、従来のアルミ合金基板を使用
した磁気ディスクに比べて、ディスク表面の平面性・平
行性にすぐれており、その表面にアクセスする磁気ヘッ
ドの低フライングハイドと安定なフローティングによる
高密度記録を可能とするものであり、また基板に対する
積層膜の密着力が強く耐久性にもすぐれている。
した磁気ディスクに比べて、ディスク表面の平面性・平
行性にすぐれており、その表面にアクセスする磁気ヘッ
ドの低フライングハイドと安定なフローティングによる
高密度記録を可能とするものであり、また基板に対する
積層膜の密着力が強く耐久性にもすぐれている。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ガラス基板の表面にＮｉＰ合金膜が形成され、その
上に、磁性膜を面内異方性とするための金属膜、強磁性
金属からなる磁性膜、磁性膜を被覆する保護潤滑膜等が
積層成膜されていることを特徴とする金属薄膜型磁気記
録ディスク。 ２、ＮｉＰ合金膜が非晶質であることを特徴とする請求
項１に記載の金属薄膜型磁気記録ディスク。 ３、ＮｉＰ合金膜のランデインタゾーンのみにメカニカ
ルテキスチャが施されていることを特徴とする請求項１
または請求項２に記載の金属薄膜型磁気記録ディスク。 ４、ＮｉＰ合金膜の膜厚が５００Å〜４０００Åである
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１
つに記載の金属薄膜型磁気記録ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13459590A JPH0428013A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 金属薄膜型磁気記録ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13459590A JPH0428013A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 金属薄膜型磁気記録ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0428013A true JPH0428013A (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=15132063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13459590A Pending JPH0428013A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 金属薄膜型磁気記録ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0428013A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09167337A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Nec Corp | 磁気ディスクおよびその製造方法 |
| US6740383B2 (en) | 1998-05-27 | 2004-05-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6334816A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-15 | 株式会社日立製作所 | 密閉形メンブレンスイツチ |
| JPS63316315A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-23 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
| JPH029016A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-12 | Victor Co Of Japan Ltd | 薄膜磁気ディスク |
-
1990
- 1990-05-24 JP JP13459590A patent/JPH0428013A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6334816A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-15 | 株式会社日立製作所 | 密閉形メンブレンスイツチ |
| JPS63316315A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-23 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
| JPH029016A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-12 | Victor Co Of Japan Ltd | 薄膜磁気ディスク |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09167337A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Nec Corp | 磁気ディスクおよびその製造方法 |
| US6740383B2 (en) | 1998-05-27 | 2004-05-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2973409B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2002050031A (ja) | 多層テクスチャー層 | |
| US4664976A (en) | Magnetic recording medium comprising a protective carbon nitride layer on the surface thereof | |
| US5474830A (en) | Magnetic recording medium and method for the manufacture thereof including spaced apart deposits | |
| US6524730B1 (en) | NiFe-containing soft magnetic layer design for multilayer media | |
| JP2002502081A (ja) | 多層炭素含有保護オーバーコートを含んで成る磁気記録媒体 | |
| US6238780B1 (en) | Magnetic recording medium comprising multilayered carbon-containing protective overcoats | |
| JP2513893B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0428013A (ja) | 金属薄膜型磁気記録ディスク | |
| JPH05143972A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体およびその製造法 | |
| JP2953287B2 (ja) | 表面に凹凸形状を有する磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2626737B2 (ja) | 磁気記録媒体の固体潤滑膜構造 | |
| JPH08329458A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2834154B2 (ja) | 面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JP2593590B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPH0750009A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2732153B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPS62209719A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH03142708A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08273139A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63102014A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01251313A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0312813A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| Hardeman | New materials in rigid disks | |
| JPH09293236A (ja) | 磁気ディスク |