JP2513893B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 14
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 7
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 3
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 8
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020707 Co—Pt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019582 Cr V Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
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- G11B5/7373—Non-magnetic single underlayer comprising chromium
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- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
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- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、例えば磁気ヘッドとの間において情報の記
録および再生を行う磁気記録媒体に関するものであり、
特にノイズが少なく耐食性および生産性を向上させ得る
磁気記録媒体に関するものである。
録および再生を行う磁気記録媒体に関するものであり、
特にノイズが少なく耐食性および生産性を向上させ得る
磁気記録媒体に関するものである。
［従来の技術］ 従来より磁気記録媒体上に情報を記録し、若しくは媒
体上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク
装置が使用されてるが、上記の記録、再生を行う場合に
は磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば0.2〜0.3μｍの
微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気ヘッド
と磁気記録媒体の衝突に伴う損傷を防止するため、浮動
ヘッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘッドスライ
ダが、磁気記録媒体との接触による摩擦、磨耗および／
または両者の表面との相対速度により、両者の間隙に発
生する流体力学的浮上力を利用して、両者の微小間隙を
保持するように構成している。一方、近年の磁気記録媒
体に要求される仕様は次第に厳しくなってきており、記
録密度の高い磁性膜が要求される。
体上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク
装置が使用されてるが、上記の記録、再生を行う場合に
は磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば0.2〜0.3μｍの
微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気ヘッド
と磁気記録媒体の衝突に伴う損傷を防止するため、浮動
ヘッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘッドスライ
ダが、磁気記録媒体との接触による摩擦、磨耗および／
または両者の表面との相対速度により、両者の間隙に発
生する流体力学的浮上力を利用して、両者の微小間隙を
保持するように構成している。一方、近年の磁気記録媒
体に要求される仕様は次第に厳しくなってきており、記
録密度の高い磁性膜が要求される。
［発明が解決しようとする課題］ 上記磁性膜を形成する材料としては、Co−Ni−Pt合金
が使用されており、基板上にNi−Ｐメッキ膜を介してス
パッタ等の手段で成膜することが多い。この材料は磁性
膜の保磁力を大きくすることができるが、ノイズが大で
あると共に、高価であるという欠点がある。
が使用されており、基板上にNi−Ｐメッキ膜を介してス
パッタ等の手段で成膜することが多い。この材料は磁性
膜の保磁力を大きくすることができるが、ノイズが大で
あると共に、高価であるという欠点がある。
このような欠点を除くために、基板上にCr膜を介して
Co−Ni−Cr膜を成膜したものがある。このように形成し
た磁性膜においては、前記の材料によるものよりコスト
が低く、ノイズを減少することができるが、所定の保磁
力を確保するためには、基板上に形成するべき下地膜と
してのCr膜の厚さを1500〜3000Åに形成する必要があ
る。従って、Cr膜の形成に要する時間が長いため、生産
性を低下させるという問題点がある。一方このような構
成とすることにより、前記Co−Ni−Pt膜によるものより
ノイズを若干改良する効果も認められるが、未だ満足す
べきレベルには到達していないと共に、耐食性の点で不
十分であるという問題点がある。
Co−Ni−Cr膜を成膜したものがある。このように形成し
た磁性膜においては、前記の材料によるものよりコスト
が低く、ノイズを減少することができるが、所定の保磁
力を確保するためには、基板上に形成するべき下地膜と
してのCr膜の厚さを1500〜3000Åに形成する必要があ
る。従って、Cr膜の形成に要する時間が長いため、生産
性を低下させるという問題点がある。一方このような構
成とすることにより、前記Co−Ni−Pt膜によるものより
ノイズを若干改良する効果も認められるが、未だ満足す
べきレベルには到達していないと共に、耐食性の点で不
十分であるという問題点がある。
これら、下地層としてCrあるいはCr合金を用い、その
上にCo−Ni−Cr、Co−Ni−Pt、Co−Ptなどの磁気記録層
をスパッターして作成した磁性層は、平均結晶粒径が50
0〜600Åである。
上にCo−Ni−Cr、Co−Ni−Pt、Co−Ptなどの磁気記録層
をスパッターして作成した磁性層は、平均結晶粒径が50
0〜600Åである。
これらの磁性層は、基板の面に平行な長手方向（トラ
ック方向）に磁化されて磁気記録を持つ。この面密度を
上げて、高密度記録をするために、磁性層の保磁力Hcを
高めることが必要である。このHcを高めるには、Cr下地
層を上にスパッタされた層をエピタキシャルに成長させ
る必要があり、このことはUSP4,652,499にも示されてい
る。
ック方向）に磁化されて磁気記録を持つ。この面密度を
上げて、高密度記録をするために、磁性層の保磁力Hcを
高めることが必要である。このHcを高めるには、Cr下地
層を上にスパッタされた層をエピタキシャルに成長させ
る必要があり、このことはUSP4,652,499にも示されてい
る。
Co合金をCr結晶の上にエピキシャルに成長させるため
には、下地層のCr結晶と合金の結晶粒の大きさがほぼ同
じでなければならない。Crの結晶粒径の大きさは、Cr層
の薄膜が薄いときは、結晶粒を細かく、膜厚を厚くする
に従い結晶が成長して結晶粒が粗くなってくる。
には、下地層のCr結晶と合金の結晶粒の大きさがほぼ同
じでなければならない。Crの結晶粒径の大きさは、Cr層
の薄膜が薄いときは、結晶粒を細かく、膜厚を厚くする
に従い結晶が成長して結晶粒が粗くなってくる。
そこで、500〜600Åの大きさの平均結晶粒径を持つCo
合金をCr層上にエピキシャル成長させて、磁性層を形成
したとき、この磁性層が高いHcを持つためにとは、Crの
厚みを厚くして、Crの結晶粒の大きさをCo合金のそれに
あわせることが必要なので、Cr層の厚みを1500〜3000Å
にしてCrの結晶粒の大きさを500〜600Åにすることが行
われている。
合金をCr層上にエピキシャル成長させて、磁性層を形成
したとき、この磁性層が高いHcを持つためにとは、Crの
厚みを厚くして、Crの結晶粒の大きさをCo合金のそれに
あわせることが必要なので、Cr層の厚みを1500〜3000Å
にしてCrの結晶粒の大きさを500〜600Åにすることが行
われている。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的とするとことは、非磁性基板上に形成し
た磁性層からなる磁気記録媒体であって、この磁性層は
基板面内に磁化容易方向を有するもので、この基板と磁
性層の間のCr又はCr合金層の厚さが薄いときでも、ノイ
ズが少なく、耐食性が良好で高い保磁力を有するものを
提供することにある。ここで、基板面内に磁化容易方向
を有するとは、磁性層が基板面と平行な方向、すなわち
長手方向に磁化することが出来ることを意味し、Co合金
磁性層がhcp結晶構造を有する場合、そのＣ軸の磁性層
面内成分の大きいことを意味する。
た磁性層からなる磁気記録媒体であって、この磁性層は
基板面内に磁化容易方向を有するもので、この基板と磁
性層の間のCr又はCr合金層の厚さが薄いときでも、ノイ
ズが少なく、耐食性が良好で高い保磁力を有するものを
提供することにある。ここで、基板面内に磁化容易方向
を有するとは、磁性層が基板面と平行な方向、すなわち
長手方向に磁化することが出来ることを意味し、Co合金
磁性層がhcp結晶構造を有する場合、そのＣ軸の磁性層
面内成分の大きいことを意味する。
本発明の他の目的は、磁気記録媒体を製造するときの
生産性のよい下地層の薄い媒体を提供することにある。
生産性のよい下地層の薄い媒体を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 上記した本発明の目的は、磁気記録媒体の磁性層の材
料として平均結晶粒度の細かいものを採用することによ
って達成される。
料として平均結晶粒度の細かいものを採用することによ
って達成される。
本発明の磁気記録媒体に用いられる磁性層の材料は、
CrあるいはCr合金下地層上に蒸着成長させたとき、100
〜300Åの平均結晶粒径を有するもので、５〜15at％のC
r、１〜8at％Ta及び残部実質的にCoからなる組成のもの
が適切である。
CrあるいはCr合金下地層上に蒸着成長させたとき、100
〜300Åの平均結晶粒径を有するもので、５〜15at％のC
r、１〜8at％Ta及び残部実質的にCoからなる組成のもの
が適切である。
本発明の磁気記録媒体においては、基板としてはアル
ミニウム又はA1−３〜6wt％Mg合金の円盤の上に、下地
層が付けられたものが適切であり、下地層としてはCr又
はCr合金が適している。この下地層として、NiPのメッ
キ膜の上にCr又はCr合金スパッタ層を付けたものも使う
ことが出来る。
ミニウム又はA1−３〜6wt％Mg合金の円盤の上に、下地
層が付けられたものが適切であり、下地層としてはCr又
はCr合金が適している。この下地層として、NiPのメッ
キ膜の上にCr又はCr合金スパッタ層を付けたものも使う
ことが出来る。
本発明のように、微細なCo合金を磁性層として用いる
場合、Cr又はCr合金下地層の厚さは1000Å以下、更に望
ましくは300Å以上で600Å未満が適当である。1000Å以
下の厚さのCr下地層をスパッターで付けた上に、微細な
Co合金を蒸着成長させると、Co合金の磁化容易方向が基
板面内に向くようになり、高い保磁力が得られ、長手方
向磁気記録に適した媒体となる。
場合、Cr又はCr合金下地層の厚さは1000Å以下、更に望
ましくは300Å以上で600Å未満が適当である。1000Å以
下の厚さのCr下地層をスパッターで付けた上に、微細な
Co合金を蒸着成長させると、Co合金の磁化容易方向が基
板面内に向くようになり、高い保磁力が得られ、長手方
向磁気記録に適した媒体となる。
［実施例］ マグネシウムを４重量％含有するアルミニウム合金か
らなる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し、外径
95mm、内径25mm、厚さ1.27mmの基板とした。次にこの基
板の表面にNi−Ｐ合金からなるメッキ膜を５〜15μｍの
厚さに形成し、磁気記録媒体の起動時及び停止時におけ
る磁気ヘッド若しくはスライダの接触摺動（Contact St
art and Stop,以下CSSと記す）特性を確保する。上記の
ように被着したメッキ膜の表面を平滑に研磨すると共
に、磁気ヘッド若しくはスライダとの吸着を防止するた
めのテクスチャー加工を施す。次に基板を洗浄後、例え
ばDCマグネトロンスパッタ装置により、第１表のNo.0か
ら12に示すように、Crからなる下地層と、Co−Cr−Ta合
金からなる磁性膜とＣからなる保護膜とを順次積層して
成膜する。この場合、下地層の成膜には、スパッタ室内
を１×10-5Torr以下に排気後、基板を200℃において30
分間加熱し、Arガスを導入してスパッタ室内を5mtorrに
保持し、投入電力2000W、成膜速度400Å／分の条件によ
り、第１表に示す膜厚の下地層を成膜した。次にこの下
地層の上にCo−Cr−Ta合金からなる磁性膜を上記同様に
して、投入電力2000W、成膜速度1000Å／分の条件で600
Åの膜厚に成膜した。なお保護膜は投入電力1000W、成
膜速度80Å／分の条件で、前記磁性膜上に膜厚300Åで
成膜した。
らなる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し、外径
95mm、内径25mm、厚さ1.27mmの基板とした。次にこの基
板の表面にNi−Ｐ合金からなるメッキ膜を５〜15μｍの
厚さに形成し、磁気記録媒体の起動時及び停止時におけ
る磁気ヘッド若しくはスライダの接触摺動（Contact St
art and Stop,以下CSSと記す）特性を確保する。上記の
ように被着したメッキ膜の表面を平滑に研磨すると共
に、磁気ヘッド若しくはスライダとの吸着を防止するた
めのテクスチャー加工を施す。次に基板を洗浄後、例え
ばDCマグネトロンスパッタ装置により、第１表のNo.0か
ら12に示すように、Crからなる下地層と、Co−Cr−Ta合
金からなる磁性膜とＣからなる保護膜とを順次積層して
成膜する。この場合、下地層の成膜には、スパッタ室内
を１×10-5Torr以下に排気後、基板を200℃において30
分間加熱し、Arガスを導入してスパッタ室内を5mtorrに
保持し、投入電力2000W、成膜速度400Å／分の条件によ
り、第１表に示す膜厚の下地層を成膜した。次にこの下
地層の上にCo−Cr−Ta合金からなる磁性膜を上記同様に
して、投入電力2000W、成膜速度1000Å／分の条件で600
Åの膜厚に成膜した。なお保護膜は投入電力1000W、成
膜速度80Å／分の条件で、前記磁性膜上に膜厚300Åで
成膜した。
次に比較のために、従来材であるCo81Ni9Pt10合金（N
o.16）およびCo63Ni30Cr7合金（No.13〜15）を磁性膜と
するものを作製した。
o.16）およびCo63Ni30Cr7合金（No.13〜15）を磁性膜と
するものを作製した。
上記のようにして作製した磁気記録媒体の表面に液体
潤滑剤を塗布し、3.5inφディスクドライブに装着して
周波数０〜10MHzにおけるS/N比および耐食性の測定を行
った結果を第１表に併記する。この場合、耐食性は、80
℃、80％R.H.の雰囲気に100時間放置した後のエラー増
加数で表す。なお、測定に際して使用した磁気ヘッド
は、Mn−Znミニモノリシック型（トラック幅20μｍ）で
あり、スライダ幅610μｍ、ジンバルばね圧9.5gf、半径
24mmの部位における浮上量0.2μｍ、磁気記録媒体の回
転数2400r.p.mの条件で測定した。S/N比の測定は、まず
リニアデンシティ30KFCI（または任意の密度にて）で書
き込み、０〜10MHzの帯城でノイズを含まず再生信号を
スペクトラムアナライザーにより測定する。次に、使用
した測定機器のヘッドを含むノイズを同一測定条件およ
び同一機器を用いて測定し、さらに、rms電圧計を使用
してノイズ電力を測定し、較正用データとする。媒体ノ
イズは再生時のノイズより測定機器ノイズを差し引いた
値をrms値較正用データと比較参照し算出する。このよ
うな方法により媒体のS/N比を求めた。
潤滑剤を塗布し、3.5inφディスクドライブに装着して
周波数０〜10MHzにおけるS/N比および耐食性の測定を行
った結果を第１表に併記する。この場合、耐食性は、80
℃、80％R.H.の雰囲気に100時間放置した後のエラー増
加数で表す。なお、測定に際して使用した磁気ヘッド
は、Mn−Znミニモノリシック型（トラック幅20μｍ）で
あり、スライダ幅610μｍ、ジンバルばね圧9.5gf、半径
24mmの部位における浮上量0.2μｍ、磁気記録媒体の回
転数2400r.p.mの条件で測定した。S/N比の測定は、まず
リニアデンシティ30KFCI（または任意の密度にて）で書
き込み、０〜10MHzの帯城でノイズを含まず再生信号を
スペクトラムアナライザーにより測定する。次に、使用
した測定機器のヘッドを含むノイズを同一測定条件およ
び同一機器を用いて測定し、さらに、rms電圧計を使用
してノイズ電力を測定し、較正用データとする。媒体ノ
イズは再生時のノイズより測定機器ノイズを差し引いた
値をrms値較正用データと比較参照し算出する。このよ
うな方法により媒体のS/N比を求めた。
従来材のCo63Ni30Cr7及びCo81Ni,Pt10のものは、飽和
磁束密度が高いが、S/N比、耐食性に劣っている。CoNiC
rはCr下地層を2000A以上に厚くすることによって保磁力
を上げられることがわかる。
磁束密度が高いが、S/N比、耐食性に劣っている。CoNiC
rはCr下地層を2000A以上に厚くすることによって保磁力
を上げられることがわかる。
本発明のCo−Cr−Ta材は平均結晶粒度が100〜300Åと
細かいもので、Cr下地層の厚みを200Aから次第に厚くす
ることで、保磁力も上昇することがわかる。しかし、Cr
下地層を1300Aの厚さにしたもの（No.6）は結晶粒 が少し大きくなり、S/N比が悪くなっている。
細かいもので、Cr下地層の厚みを200Aから次第に厚くす
ることで、保磁力も上昇することがわかる。しかし、Cr
下地層を1300Aの厚さにしたもの（No.6）は結晶粒 が少し大きくなり、S/N比が悪くなっている。
Cr下地層の厚さが300〜1000Åのとき（No.1〜５）、
保磁力が大きく、S/Nも良好である。Crが5at％未満のN
o.8、Ta量の不足しているNo.10、またTaが過剰のNo.12
は、Cr下地層の厚さが適当であってもS/N比が低い。
保磁力が大きく、S/Nも良好である。Crが5at％未満のN
o.8、Ta量の不足しているNo.10、またTaが過剰のNo.12
は、Cr下地層の厚さが適当であってもS/N比が低い。
CrやTa量が過剰のもの（No.9〜12）は４πMsが低い。
Ta＋Cr量の低いものは耐食性に劣る。上記の実験とほぼ
同一の条件にて、Co85Cr12Ta3合金とCo63Ni30Cr7合金の
磁性層を下地層上に形成したもので、Cr下地層の厚さを
変化させたものの保磁力と下地層の厚さとの関係を示し
たのが第１図である。平均結晶粒径の大きいCoNiCr合金
は、Cr下地層を1500Å以上にしてHc8000e以上の特性が
得られているが、平均結晶粒径の小さいCoCrTa合金の場
合、300Å以上でHc8000e以上が得られている。
Ta＋Cr量の低いものは耐食性に劣る。上記の実験とほぼ
同一の条件にて、Co85Cr12Ta3合金とCo63Ni30Cr7合金の
磁性層を下地層上に形成したもので、Cr下地層の厚さを
変化させたものの保磁力と下地層の厚さとの関係を示し
たのが第１図である。平均結晶粒径の大きいCoNiCr合金
は、Cr下地層を1500Å以上にしてHc8000e以上の特性が
得られているが、平均結晶粒径の小さいCoCrTa合金の場
合、300Å以上でHc8000e以上が得られている。
以上の結果より、Co−Cr−Ta系磁性層でHc8000e以上
で、特にS/N比が39以上の良好な特性が得られるCr下地
層の厚さは、300Å以上で600Å未満が望ましく、本構成
にすることにより、ノイズが少なく、耐食性が向上し、
Cr膜厚が薄いことにより成膜時間が短くてすみ、生産性
が向上するという効果がえられる。
で、特にS/N比が39以上の良好な特性が得られるCr下地
層の厚さは、300Å以上で600Å未満が望ましく、本構成
にすることにより、ノイズが少なく、耐食性が向上し、
Cr膜厚が薄いことにより成膜時間が短くてすみ、生産性
が向上するという効果がえられる。
本実施例においては、下地膜を形成する材料としてCr
を使用した例を示したが、Crの他に、Cr−Mo,Cr−V,Cr
−Mn等のCr合金によって形成してもよい。また磁性膜を
形成する材料としては、Cr5〜15％,Ta1〜８％,Co ba1.
を基本組成とする合金に他の元素を含有させたCo−Cr−
Ta系合金を使用することができる。更に基板を形成する
非磁性材料としては本実施例以外の他の金属材料および
非金属材料を使用することができる。
を使用した例を示したが、Crの他に、Cr−Mo,Cr−V,Cr
−Mn等のCr合金によって形成してもよい。また磁性膜を
形成する材料としては、Cr5〜15％,Ta1〜８％,Co ba1.
を基本組成とする合金に他の元素を含有させたCo−Cr−
Ta系合金を使用することができる。更に基板を形成する
非磁性材料としては本実施例以外の他の金属材料および
非金属材料を使用することができる。
第１図は、本発明に使用される磁性層（Co85Cr12Ta3）
と従来の磁性層（Co63N30Cr7）の保磁力Hc（Oe）とCr下
地層の厚さ（Ａ）の関係を示すグラフである。
と従来の磁性層（Co63N30Cr7）の保磁力Hc（Oe）とCr下
地層の厚さ（Ａ）の関係を示すグラフである。
Claims (3)
- 【請求項１】非磁性材料からなる基板、この基板上に形
成され厚さが300Å以上で600Å未満であるCr金属あるい
はCr合金から出来た下地層、下地層上に蒸着成長した、
５〜15at％のCr、１〜8at％Ta及び残部が実質的にCoか
らなる組成を有し、上記基板面内に磁化容易方向を有し
て、100〜300Åの平均結晶粒径を有する磁気記録層を有
する磁気記録媒体。 - 【請求項２】非磁性材料からなる基板、この基板上に形
成され厚さが300Å以上で600Å未満であるCr金属あるい
はCr合金から出来た下地層、下地層上にエピタキシャル
成長した、５〜15at％のCr、１〜8at％Ta、及び残部が
実質的にCoからなる組成を有し、上記基板面内に磁化容
易方向を有して、100〜300Åの平均結晶粒径を有する磁
気記録層を有する磁気記録媒体。 - 【請求項３】非磁性材料からなる基板、この基板上に形
成され、厚さが300Å以上で600Å未満であるCr金属ある
いはCr合金から出来た下地層、下地層上に蒸着成長した
100〜300Åの平均結晶粒径を持ったCo合金で、上記基板
面内に磁化容易方向を有する磁気記録層を有する磁気記
録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10670389 | 1989-04-26 | ||
| JP1-106703 | 1989-04-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0349020A JPH0349020A (ja) | 1991-03-01 |
| JP2513893B2 true JP2513893B2 (ja) | 1996-07-03 |
Family
ID=14440360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2077758A Expired - Lifetime JP2513893B2 (ja) | 1989-04-26 | 1990-03-27 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5118564A (ja) |
| JP (1) | JP2513893B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6649277B1 (en) | 1994-09-29 | 2003-11-18 | Carnegie Mellon University | Structure for and method of making magnetic recording media |
| US5693426A (en) * | 1994-09-29 | 1997-12-02 | Carnegie Mellon University | Magnetic recording medium with B2 structured underlayer and a cobalt-based magnetic layer |
| US5800931A (en) * | 1994-09-29 | 1998-09-01 | Carnegie Mellon University | Magnetic recording medium with a MgO sputter deposited seed layer |
| JPH1074618A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Hoya Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US6022609A (en) * | 1996-10-02 | 2000-02-08 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic recording medium with substantially uniform sub-micron-scale morphology |
| US5993956A (en) * | 1997-04-22 | 1999-11-30 | Carnegie Mellon University | Manganese containing layer for magnetic recording media |
| US6416881B1 (en) | 1999-08-10 | 2002-07-09 | Seagate Technology Llc | Media with a metal oxide sealing layer |
| US6524724B1 (en) | 2000-02-11 | 2003-02-25 | Seagate Technology Llc | Control of magnetic film grain structure by modifying Ni-P plating of the substrate |
| US6432563B1 (en) | 2000-04-03 | 2002-08-13 | Carnegie Mellon University | Zinc enhanced hard disk media |
| US6596417B1 (en) | 2000-09-29 | 2003-07-22 | Carnegie Mellon University | Magnetic recording medium with a Ga3Pt5 structured underlayer and a cobalt-based magnetic layer |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4610911A (en) * | 1983-11-03 | 1986-09-09 | Hewlett-Packard Company | Thin film magnetic recording media |
| US4552820A (en) * | 1984-04-25 | 1985-11-12 | Lin Data Corporation | Disc media |
| DE3545043A1 (de) * | 1985-01-16 | 1986-09-18 | Hitachi Metals, Ltd., Tokio/Tokyo | Magnetisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu seiner herstellung |
| JPS61224120A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-04 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US4632883A (en) * | 1985-04-22 | 1986-12-30 | International Business Machines Corporation | Vertical recording medium with improved perpendicular magnetic anisotropy due to influence of beta-tantalum underlayer |
| US4677032A (en) * | 1985-09-23 | 1987-06-30 | International Business Machines Corporation | Vertical magnetic recording media with multilayered magnetic film structure |
| JPH0816974B2 (ja) * | 1986-08-01 | 1996-02-21 | 株式会社日立製作所 | 面内磁気記録媒体 |
| JPH07118075B2 (ja) * | 1986-09-01 | 1995-12-18 | 株式会社日立製作所 | 磁気デイスク用磁気記録媒体およびその製造法 |
| DE3850824T2 (de) * | 1987-08-06 | 1995-01-19 | Sumitomo Metal Mining Co | Magnetplatte für waagerechte Aufnahme. |
| JPH01133217A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録体 |
| US4929514A (en) * | 1988-03-22 | 1990-05-29 | Hewlett-Packard Company | Thin film media for high density longitudinal magnetic recording |
| JP2728498B2 (ja) * | 1988-05-27 | 1998-03-18 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
| US5004652A (en) * | 1990-08-15 | 1991-04-02 | Hmt Technology Corporation | High-coercivity thin-film recording medium and method |
-
1990
- 1990-03-27 JP JP2077758A patent/JP2513893B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-17 US US07/509,770 patent/US5118564A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0349020A (ja) | 1991-03-01 |
| US5118564A (en) | 1992-06-02 |
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