JPH03102616A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH03102616A JPH03102616A JP23938389A JP23938389A JPH03102616A JP H03102616 A JPH03102616 A JP H03102616A JP 23938389 A JP23938389 A JP 23938389A JP 23938389 A JP23938389 A JP 23938389A JP H03102616 A JPH03102616 A JP H03102616A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は例えば磁気ヘッドとの間において情報の記録お
よび再生を行う磁気記録媒体に関するものであり，特に
ビットシフトおよび残留磁化を向上させ得る磁気記録媒
体に関するものである。
よび再生を行う磁気記録媒体に関するものであり，特に
ビットシフトおよび残留磁化を向上させ得る磁気記録媒
体に関するものである。
従来より磁気記録媒体上に情報を記録し，若しくは媒体
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されているが２上記の記録，再生を行う場合に
は磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０、２〜０．３
μｍの微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気
ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦，摩耗および
／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため，浮動へ
ッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘソドスライダ
が７磁気記録媒体の表面との相対速度により両者の間隙
に発生する流体力学的浮上力を利用して．両者の微小間
隙を保持するように構戊している。一方近年の磁気記録
媒体に要求される仕様は次第に厳しくなってきており，
記録密度が高いことは勿論のこと．ビットシフトが小で
あると共に残留磁化の大なる磁性膜が要求される。
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されているが２上記の記録，再生を行う場合に
は磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０、２〜０．３
μｍの微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気
ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦，摩耗および
／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため，浮動へ
ッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘソドスライダ
が７磁気記録媒体の表面との相対速度により両者の間隙
に発生する流体力学的浮上力を利用して．両者の微小間
隙を保持するように構戊している。一方近年の磁気記録
媒体に要求される仕様は次第に厳しくなってきており，
記録密度が高いことは勿論のこと．ビットシフトが小で
あると共に残留磁化の大なる磁性膜が要求される。
〔発明が解決しようとする課題］
上記磁性膜を形戊する材料としては， Ｃｏ −Ｎｉ
−Ｐｔ Ｃｏ −Ｎｉ−Ｃｒ等の合金が使用されてい
るが．前者は保磁力が大であるという利点を有する反面
において，Ｓ／Ｎ比が低くノイズが大であると共に．合
金中に貴金属であるＰｔを含有するものであるため高価
であるという欠点がある。
−Ｐｔ Ｃｏ −Ｎｉ−Ｃｒ等の合金が使用されてい
るが．前者は保磁力が大であるという利点を有する反面
において，Ｓ／Ｎ比が低くノイズが大であると共に．合
金中に貴金属であるＰｔを含有するものであるため高価
であるという欠点がある。
一方後者は前者よりもコストが低く，ノイズを減少する
ことができるが，耐食性，すなわち環境の変化による飽
和磁化の減少率が大であり，信頼性の点で不充分である
という欠点がある。また近年の高密度記録を行う場合に
おいては，ビットシフトが大であるためエラーが多く１
例えば１０−９のエラーレートにおいて２８ ｎＳ程度
であり，信頼性に乏しい。更に所定の保磁力を確保する
ためには２下地膜として基板上に被着すべきＣｒ膜の厚
さを大にする必要があり，所定膜厚に形或するための時
間が長く．生産性の低下を招来するという問題点がある
。
ことができるが，耐食性，すなわち環境の変化による飽
和磁化の減少率が大であり，信頼性の点で不充分である
という欠点がある。また近年の高密度記録を行う場合に
おいては，ビットシフトが大であるためエラーが多く１
例えば１０−９のエラーレートにおいて２８ ｎＳ程度
であり，信頼性に乏しい。更に所定の保磁力を確保する
ためには２下地膜として基板上に被着すべきＣｒ膜の厚
さを大にする必要があり，所定膜厚に形或するための時
間が長く．生産性の低下を招来するという問題点がある
。
上記の問題点を解決する一手段として，Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔ
ａ系合金によって磁性膜を形戒するという提案がある（
例えば特開平１ −１３３２１７号公報ＩＥＥＥ Ｔｒ
ａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇｎｅｔｔｃｓ，
Ｖｏｌ． 門ＡＧ．２３，Ｎ（Ｌｌ， Ｊａｎｕａ
ｒｙ １９Ｂ７等参照）．これらの提案にまり高保磁力
，低ノイズの磁気記録媒体が得られる旨の開示がされて
いる。しかしながら上記合金を構或するＴａは価格が高
いという欠点の他に，下記のような問題点がある。すな
わち磁性膜を形戒する手段として．最近においてはスパ
ノタリング法によるものが多用されているが１ この場
合に使用するＴａターゲットの製作が煩雑であるという
欠点がある。Ｔａターゲットは所定の組或の合金を溶解
してインゴット化した後，ロール圧延を行って製作され
るのであるが，このロール圧延時において割れることが
多い。従って所定の厚さのターゲットを製作する作業が
極めて煩雑であるという問題点がある。
ａ系合金によって磁性膜を形戒するという提案がある（
例えば特開平１ −１３３２１７号公報ＩＥＥＥ Ｔｒ
ａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇｎｅｔｔｃｓ，
Ｖｏｌ． 門ＡＧ．２３，Ｎ（Ｌｌ， Ｊａｎｕａ
ｒｙ １９Ｂ７等参照）．これらの提案にまり高保磁力
，低ノイズの磁気記録媒体が得られる旨の開示がされて
いる。しかしながら上記合金を構或するＴａは価格が高
いという欠点の他に，下記のような問題点がある。すな
わち磁性膜を形戒する手段として．最近においてはスパ
ノタリング法によるものが多用されているが１ この場
合に使用するＴａターゲットの製作が煩雑であるという
欠点がある。Ｔａターゲットは所定の組或の合金を溶解
してインゴット化した後，ロール圧延を行って製作され
るのであるが，このロール圧延時において割れることが
多い。従って所定の厚さのターゲットを製作する作業が
極めて煩雑であるという問題点がある。
本発明は．上記従来技術に存在する問題点を解決し５特
に耐食性に優れると共に１ ピントシフトおよび残留磁
化特性を向上させ得る磁気記録媒体を提供することを目
的とするウ 〔課題を解決するための手段〕 上記目的を達戒するため，本発明においては非磁性材料
からなる基板の表面に非磁性材料からなる下地膜を介し
て磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体に
おいて．磁性膜を原子％でＣｒ ５．０ 〜１５．０％
， Ｚｒ， Ｔｉ， Ｈｆ， Ｍｏの群から選ばれた１
種２．０〜８，０％．残部Ｃｏおよび不可避的不純物か
らなる合金によって形威するという技術的手段を採用し
た。
に耐食性に優れると共に１ ピントシフトおよび残留磁
化特性を向上させ得る磁気記録媒体を提供することを目
的とするウ 〔課題を解決するための手段〕 上記目的を達戒するため，本発明においては非磁性材料
からなる基板の表面に非磁性材料からなる下地膜を介し
て磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体に
おいて．磁性膜を原子％でＣｒ ５．０ 〜１５．０％
， Ｚｒ， Ｔｉ， Ｈｆ， Ｍｏの群から選ばれた１
種２．０〜８，０％．残部Ｃｏおよび不可避的不純物か
らなる合金によって形威するという技術的手段を採用し
た。
本発明において，Ｃｒが５．０原子％未満では耐食性が
低下する，すなわち環境の変化による飽和磁化の減少率
が大であると共に．ビットシフトを増大させるため不都
合である。一方Ｃｒが１５．０原子％を超えると，残留
磁化の減少により出力の低下を招くと共に．ビットシフ
トも増大するため好ましくない。
低下する，すなわち環境の変化による飽和磁化の減少率
が大であると共に．ビットシフトを増大させるため不都
合である。一方Ｃｒが１５．０原子％を超えると，残留
磁化の減少により出力の低下を招くと共に．ビットシフ
トも増大するため好ましくない。
次にＺｒ ，Ｔｉ ，ＨｆおよびＭｏは．これらの１種
を含有させるとビットシフト特性の向上に寄与するが．
２．０原子％未満ではその作用が期待できず，一方８．
０原子％を超えると残留磁化の減少を招来すると共に．
出力が低下し，ビットシフトを増大させるため好ましく
ない。
を含有させるとビットシフト特性の向上に寄与するが．
２．０原子％未満ではその作用が期待できず，一方８．
０原子％を超えると残留磁化の減少を招来すると共に．
出力が低下し，ビットシフトを増大させるため好ましく
ない。
なお下地膜をＣｒ若しくはＣｒ合金によって形或するこ
とが好ましい。この場合においてＣｒ合金としてはＣｒ
−Ｍｏ ，Ｃｒ−Ｖ，Ｃｒ−Ｍｎ等の合金を使用する
ことができる。
とが好ましい。この場合においてＣｒ合金としてはＣｒ
−Ｍｏ ，Ｃｒ−Ｖ，Ｃｒ−Ｍｎ等の合金を使用する
ことができる。
また基板をアルミニウム若しくはアルごニウム基合金で
形成すると好ましい。
形成すると好ましい。
上記の構成により．例えば磁気ヘッドとの間において情
報の記録および再生を行うことができ耐食性に優れると
共に２ ビットシフトおよび残留磁化性能の大なる磁気
記録媒体とすることができる。
報の記録および再生を行うことができ耐食性に優れると
共に２ ビットシフトおよび残留磁化性能の大なる磁気
記録媒体とすることができる。
マグネシウムを４重量％含有するアルミニウム合金から
なる基ほの表面を旋削加工により平滑に形威し，外径９
５ｍｍ，内径２５閣，厚さ１．２７ ｍｍの基板とした
。次にこの基板の表面にＮｉ −Ｐ合金からなるメンキ
膜を５〜ｌ５ μｍの厚さに形戊し．！ｆ！気記録媒体
の起動時および停止時における磁気ヘンド若しくはスラ
イダとの接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ ａｎ
ｄ Ｓｔｏｐ，以下ＣＳＳと記す）特性を確保する。上
記のようにして被着したメッキ膜の表面を平滑に研磨す
ると共に．磁気へ冫ド若しくはスライダとの吸着を防止
するためのテクスチャー加工を施す。次に基板を洗浄後
．例えばＤＣマグネトロンスパッタ装置により，Ｃｒか
らなる下地膜と，Ｃｏ −Ｃｒ−Ｚｒ合金からなる磁性
膜と，Ｃからなる保護膜とを順次積層して或膜する。こ
の場合下地膜の成膜には．スパッタ室内をＩ ＸＩＯ−
５Ｔｏｒｒ以下に排気後，基板を２００’Ｃにおいて３
０分間加熱し，Ａｒガスを導入してスパッタ室内を５
ｍＴｏｒｒに保持し，投入電力２０００ Ｗ成膜速度４
００久／分の条件により７膜厚１０００人に或膜した。
なる基ほの表面を旋削加工により平滑に形威し，外径９
５ｍｍ，内径２５閣，厚さ１．２７ ｍｍの基板とした
。次にこの基板の表面にＮｉ −Ｐ合金からなるメンキ
膜を５〜ｌ５ μｍの厚さに形戊し．！ｆ！気記録媒体
の起動時および停止時における磁気ヘンド若しくはスラ
イダとの接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ ａｎ
ｄ Ｓｔｏｐ，以下ＣＳＳと記す）特性を確保する。上
記のようにして被着したメッキ膜の表面を平滑に研磨す
ると共に．磁気へ冫ド若しくはスライダとの吸着を防止
するためのテクスチャー加工を施す。次に基板を洗浄後
．例えばＤＣマグネトロンスパッタ装置により，Ｃｒか
らなる下地膜と，Ｃｏ −Ｃｒ−Ｚｒ合金からなる磁性
膜と，Ｃからなる保護膜とを順次積層して或膜する。こ
の場合下地膜の成膜には．スパッタ室内をＩ ＸＩＯ−
５Ｔｏｒｒ以下に排気後，基板を２００’Ｃにおいて３
０分間加熱し，Ａｒガスを導入してスパッタ室内を５
ｍＴｏｒｒに保持し，投入電力２０００ Ｗ成膜速度４
００久／分の条件により７膜厚１０００人に或膜した。
次にこの下地膜の上に後記の第ｌ表に示すＣｏ −Ｃｒ
−Ｚｒ合金からなる磁性膜を上記同様にして．投入電力
２０００ Ｗ，威膜速度ｌ０００人／分の条件で６００
人の膜厚に戒膜した。
−Ｚｒ合金からなる磁性膜を上記同様にして．投入電力
２０００ Ｗ，威膜速度ｌ０００人／分の条件で６００
人の膜厚に戒膜した。
なお保護膜は投入電力１０００ Ｗ，或膜速度８０人／
分の条件で，前記磁性膜上に欣厚３００人で威膜した。
分の条件で，前記磁性膜上に欣厚３００人で威膜した。
上記のようにして作製した磁気記録媒体の表面に液体潤
滑剤を塗布し， ３．５ ｉｎφディスクドライブに装
着してピントシフトおよび残留磁化の測定を行った結果
を第１表に併記する。なお測定に際して使用した磁気ヘ
ッドは， Ｍｎ −Ｚｎ ミニモノシリンク型（ト
ラック幅２０ μｍ）であり５ スライダ幅６１０μｍ
，ジンバルばね圧９．５ ｇｆ ，半径２４閣の部位に
おける浮上量０．２μｍ．磁気記録媒体の回転数２４０
Ｏ ｒ．ｐ．ＬＩ１の条件で測定した。
滑剤を塗布し， ３．５ ｉｎφディスクドライブに装
着してピントシフトおよび残留磁化の測定を行った結果
を第１表に併記する。なお測定に際して使用した磁気ヘ
ッドは， Ｍｎ −Ｚｎ ミニモノシリンク型（ト
ラック幅２０ μｍ）であり５ スライダ幅６１０μｍ
，ジンバルばね圧９．５ ｇｆ ，半径２４閣の部位に
おける浮上量０．２μｍ．磁気記録媒体の回転数２４０
Ｏ ｒ．ｐ．ＬＩ１の条件で測定した。
（以 下 余 白）
第１表
第１表から明らかなように，Ｎα１においてはＣｒの含
有量が小であるため耐食性が不充分であると共に．ピン
トシフトが大である。Ｃｒの含有量の増大に伴って耐食
性が良好になると共に，ピントシフトの改善が認められ
る。しかしながら一方において残留磁化の値が減少する
。特にＮαＧにおいては，Ｃｒの含有量が多すぎるため
，残留磁化の値が減少し．出力の低下を招来するのみな
らずピントシフトの値が大となる結果を示している。
有量が小であるため耐食性が不充分であると共に．ピン
トシフトが大である。Ｃｒの含有量の増大に伴って耐食
性が良好になると共に，ピントシフトの改善が認められ
る。しかしながら一方において残留磁化の値が減少する
。特にＮαＧにおいては，Ｃｒの含有量が多すぎるため
，残留磁化の値が減少し．出力の低下を招来するのみな
らずピントシフトの値が大となる結果を示している。
次にＮｏ． ７〜ｌ１においてＺｒの影響について考察
する。まずＮｏ． ７においては，Ｚｒの含有量が小で
あるため耐食性およびビットシフトの値が不満足である
。Ｚｒｆｉの増大に伴って耐食性が良好になると共に，
ビントシフトの値が小になる。しかしＮｏ．１１におい
ては残留磁化の値が減少すると共にビットシフトの値が
大となる結果となっている。
する。まずＮｏ． ７においては，Ｚｒの含有量が小で
あるため耐食性およびビットシフトの値が不満足である
。Ｚｒｆｉの増大に伴って耐食性が良好になると共に，
ビントシフトの値が小になる。しかしＮｏ．１１におい
ては残留磁化の値が減少すると共にビットシフトの値が
大となる結果となっている。
これに対してＮα２〜５およびＮｏ． ８〜１０におい
ては，耐食性が良好であると共に５ ビットシフトの値
が小であり．かつ残留磁化の値も所定の値を維持してい
ることが認められる。
ては，耐食性が良好であると共に５ ビットシフトの値
が小であり．かつ残留磁化の値も所定の値を維持してい
ることが認められる。
次に磁性膜を形威する合金組或のうちＺｒを他の元素に
よって置換した場合の結果を第２表に示す。なお磁性膜
の組成が異なること以外は前記と同様である。
よって置換した場合の結果を第２表に示す。なお磁性膜
の組成が異なること以外は前記と同様である。
第２表
てＣｒの例について記述したが，下地膜としてはＣｒの
みでな＜，Ｃｒ −Ｍｏ ，Ｃｒ−Ｖ，Ｃｒ −Ｍｎ等
のＣｒ合金であってもよい。更に基板を形成する材料と
してはマグネシウムを含むアルミニウム基合金のみに限
らず．アルミニウム若しくは他の金属材料または非金属
材料を使用してもよい。
みでな＜，Ｃｒ −Ｍｏ ，Ｃｒ−Ｖ，Ｃｒ −Ｍｎ等
のＣｒ合金であってもよい。更に基板を形成する材料と
してはマグネシウムを含むアルミニウム基合金のみに限
らず．アルミニウム若しくは他の金属材料または非金属
材料を使用してもよい。
また更に基板の加工手段は旋削のみに限らず，研削その
他によってもよい。なおスバッタ室内のＡｒガス圧力は
２〜３０ ｍＴｏｒｒの範囲で任意に選定できる。
他によってもよい。なおスバッタ室内のＡｒガス圧力は
２〜３０ ｍＴｏｒｒの範囲で任意に選定できる。
第２表から明らかなように，磁性膜を形威する合金ｍ威
を変えた場合でも．前記Ｃｏ −Ｃｒ −Ｚｒ合金にお
けると同様の作用を示すことがわかる。
を変えた場合でも．前記Ｃｏ −Ｃｒ −Ｚｒ合金にお
けると同様の作用を示すことがわかる。
本実施例においては下地膜を形成する材料とし〔発明の
効果〕 本発明は以上記述のようなｍ威および作用であるから，
耐食性に優れると共に，ビットシフトが小であり，かつ
残留磁化の大なる磁気記録媒体を得ることができるとい
う効果がある。特に磁性膜を形成する合金組或としてＣ
ｏ −Ｃｒ −Ｚｒ ， Ｃｏ−Ｃｒ −Ｔｉ ， Ｃ
ｏ −Ｃｒ−ＨｆまたはＣｏ −Ｃｒ−Ｍｏ各系の合金
を使用したものであるから，従来のＣｏ −Ｃｒ−Ｔａ
合金を使用するものと比較して安価であるのに拘わらず
．同等の特性を具有する。また或膜時に使用するターゲ
ット材の製作が極めて容易であるという効果がある。
効果〕 本発明は以上記述のようなｍ威および作用であるから，
耐食性に優れると共に，ビットシフトが小であり，かつ
残留磁化の大なる磁気記録媒体を得ることができるとい
う効果がある。特に磁性膜を形成する合金組或としてＣ
ｏ −Ｃｒ −Ｚｒ ， Ｃｏ−Ｃｒ −Ｔｉ ， Ｃ
ｏ −Ｃｒ−ＨｆまたはＣｏ −Ｃｒ−Ｍｏ各系の合金
を使用したものであるから，従来のＣｏ −Ｃｒ−Ｔａ
合金を使用するものと比較して安価であるのに拘わらず
．同等の特性を具有する。また或膜時に使用するターゲ
ット材の製作が極めて容易であるという効果がある。
Claims (1)
- 非磁性材料からなる基板の表面に非磁性材料からなる下
地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁気
記録媒体において、磁性膜を原子％でＣｒ５．０〜１５
．０％、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｍｏの群から選ばれた１種
２．０〜８．０％、残部Ｃｏおよび不可避的不純物から
なる合金によって形成したことを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23938389A JPH03102616A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23938389A JPH03102616A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03102616A true JPH03102616A (ja) | 1991-04-30 |
Family
ID=17043970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23938389A Pending JPH03102616A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03102616A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE202013100843U1 (de) | 2012-03-07 | 2013-03-07 | Shimano Inc. | Innenkabel für ein Fahrradsteuerkabel |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP23938389A patent/JPH03102616A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE202013100843U1 (de) | 2012-03-07 | 2013-03-07 | Shimano Inc. | Innenkabel für ein Fahrradsteuerkabel |
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