JPH02285507A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 本発明は例えば磁気ヘッドとの間において情報の記録お
よび再生を行う磁気記録媒体に関するものであり、特に
ビットシフトおよび残留磁化を向上させ得る磁気記録媒
体に関するものである。

〔従来の技術〕

従来より磁気記録媒体上に情報を記録し、若しくは媒体
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されているが、上記の記録、再生を行う場合に
は磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．３
μｍの微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気
ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗および
／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため、浮動へ
ラドスライダを使用する。すなわち磁気へラドスライダ
が、磁気記録媒体の表面との相対速度により両者の間隙
に発生する流体力学的浮上刃を利用して１両者の微小間
隙を保持するように構成している。一方近年の磁気記録
媒体に要求される仕様は次第に厳しくなってきており、
記録密度が高いことは勿論のこと、ピントシフトが小で
あると共に残留磁化の大なる磁性膜が要求される。

〔発明が解決しようとする課題］ 上記磁性膜を形成する材料としては、Ｃｏ　−ＮｉＰｔ
　、Ｃｏ　−Ｎｉ　−Ｃｒ等の合金が使用されているが
、前者は保磁力が大であるという利点を有する反面にお
いて、Ｓ／Ｎ比が低くノイズが大であると共に１合金中
に貴金属であるＰｔを含有するものであるため高価であ
るという欠点がある。

一方後者は前者よりもコストが低く、ノイズを減少する
ことができるが、耐食性、すなわち環境の変化による飽
和磁化の減少率が大であり、信頼性の点で不充分である
という欠点がある。また近年の高密度記録を行う場合に
おいては　ビットシフトが大であるためエラーが多く１
例えば１０−９のエラーレートにおいて２８　ｎｓ程度
であり、信頼性に乏しい。更に所定の保磁力を確保する
ためには下地膜として基板上に被着すべきＣｒ膜の厚さ
を大にする必要があり、所定膜厚に形成するための時間
が長く、生産性の低下を招来するという問題点がある。

本発明は、上記従来技術に存在する問題点を解決し、特
に耐食性に優れると共に、ビットシフトおよび残留磁化
特性を向上させ得る磁気記録媒体を提供することを目的
とする。

［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために１本発明においては非磁性材
料からなる基板の表面に非磁性材料からなる下地膜を介
して磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体
において、磁性膜を原子％でＣｒ　５．０〜１５．０％
、　Ｔａ　１．０〜８．０％　０および／またはＮ　０
．５〜３．０％、残部Ｃｏからなる合金によって形成す
る。という技術的手段を採用した。

本発明において、Ｃｒが５．０原子％未満では耐食性が
低下、すなわち環境の変化による飽和磁化の減少率が大
であると共に、Ｓ／Ｎ比を低下させるため不都合である
。一方Ｃｒが１５．０原子％を超えると、残留磁化の減
少により出力の低下を招くと共に、Ｓ／Ｎ比も低下する
ため好ましくない。

次にＴａはＳ／Ｎ比の向上に寄与するが、１．０原子％
未満ではその作用が期待できず、一方８．０原子％を超
えると再びＳ／Ｎ比の低下を招来すると共に、残留磁化
の減少となり出力を低下させるため好ましくない。

更に０および／またはＮを適量含有させることにより、
ビットシフトを改善する作用がある。しかし０．５原子
％未満ではビットシフト改善の作用が不充分であり、一
方３．０原子％を超えて含有させると、ビットシフトを
再び増大させるのみならず、耐食性も低下させると共に
残留磁化の減少により出力を低下させるため好ましくな
い。

なお下地膜をＣｒ若しくはＣｒ合金によって形成するこ
とが好ましい。この場合においてＣｒ合金としてはＣｒ
　−Ｍｏ　、Ｃｒ　−Ｖ、’　Ｃｒ−Ｍｎ等の合金を使
用することができる。

また基板をアルミニウム若しくはアルミニウム基台金で
形成すると好ましい。

〔作　用］ 上記の構成により１例えば磁気ヘッドとの間において情
報の記録および再生を行うことができ耐食性に優れると
共に、ビットシフトおよび残留磁化性能の大なる磁気記
録媒体とすることができる。

［実施例］ マグネシウムを４重量％含有するアルミニウム合金から
なる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し、外径９
５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの基板とした
。次にこの基板の表面にＮｉ　−Ｐ合金からなるメツキ
膜を５〜１５　μｍの厚さに形成し、　ｆｌ！ｌ気記録
媒体の起動時および停止時における磁気ヘッド若しくは
スライダとの接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　
ａｎｄ　５ｔｏｐ、以下ＣＳＳと記す）特性を確保する
。上記のようにして被着したメツキ膜の表面を平滑に研
磨すると共に、磁気ヘンド若しくはスライダとの吸着を
防止するだめのテクスヂャー加工を施す。次に基板を洗
浄後２例えばＤＣマクネトロンスパンタ装置により、Ｃ
ｒからなる下地膜と、Ｃｏ　−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる
磁性膜と、Ｃからなる保護膜とを順次積層して成膜する
。この場合下地膜の成膜には、スパッタ室内をＩ　ＸＩ
Ｏ”’　Ｔｏｒｒ以下に排気後、基板を２００°Ｃにお
いて３０分間加熱し、Ａｒガスを導入してスパッタ室内
を５　ｍＴｏｒｒに保持し、投入電力２０００　Ｗ成膜
速度４００人／分の条件により、膜厚１０００人に成膜
した。次にこの下地膜の上に後記の表に示ずＯおよび／
またはＮを含有する Ｃｏ　ｂａＬ　Ｃｒ＋ｚ、５Ｔａ３（数字は何れも原子
％を示す。以下同じ）合金からなる磁性膜を上記同様に
して、投入電力２０００　Ｗ、成膜速度１０００人／分
の条件で６００人の膜厚に成膜した。この場合０および
／またはＮの含有量を変化させるには、スパッタ室内に
導入するガス量の調整によって行う。

すなわちＡｒガスを例えば２０３ＣＣＭの流量とした場
合においては、０２ガスおよび／またはＮ２ガスを各々
または総量で０．１〜４ＳＣＣＭの間で調整すればよい
。なお保護膜は上記磁性膜を形成後、０□ガスおよび／
またはＮ２ガスを遮断した状態で、投入電力１０００　
Ｗ、成膜速度８０入／分の条件により、磁性膜上に膜厚
３００人で成膜した。

上記のようにして作製した磁気記録媒体の表面に液体潤
滑剤を塗布し、　３．５　ｉｎφディスクドライブに装
着してビン１−シフトおよび残留磁化の測定を行った結
果を表に併記する。なお測定に際して使用した磁気ヘッ
ドは、Ｍｎ　−Ｚｎ　ミニモノシリンク型（トラック幅
２０　μｍ）であり、スライダ幅６１０μｍ　、　ジン
バルばね圧９．５　ｇｆ　、半径２４ｍｍの部位におけ
る浮上量０．２μｍ、磁気記録媒体の回転数２４０Ｏｒ
、ｐ、ｍの条件で測定した。

（以　下　余　白） 表から明らかなようにＯおよび／またはＮの含有により
、ビットシフトが小になることが認められる。すなわち
Ｎｏ、１．２，８．　１４においては０および／または
Ｎの含有量が零若しくは少量であるため、従来材と同様
の値であり、ビットシフトの改善が認められない。一方
Ｎｏ、６．　７．　１２１３、　１７．　１８において
は０および／またはＮの含有量が多すぎるため、却って
ビットシフトの値が大となるのみならず、残留磁化の値
が減少し。

出力の低下を招来する結果を示している。これに対して
Ｎｏ、３〜５．　Ｎｏ、９〜１１およびＮｏ、　１５〜
１６においてはビットシフトの値が小となる結果を示。

すと共に、残留磁化の値も所定の値を維持していること
が認められる。

本実施例においては、磁性膜を形成する材料としてＣｒ
　１２．５％およびＴａ　３．０％を含有するＣｏＣｒ
−Ｔａ合金を使用した場合について記述したが、これに
限定せずＣｒ　５〜１５％、Ｔａ　１〜８％、　　Ｃｏ
　ｂａＬを基本組成とする合金を使用しても作用は同一
である。また下地膜を形成する材料としでは、Ｃｒのみ
でなく、　　Ｃｒ　−Ｍｏ　、　　ＣｒＶ、Ｃｒ−Ｍｎ
等のＣｒ合金であってもよい。更に基板を形成する材料
としてはマグネシウムを含むアルミニウム基合金のみに
限らず、アルミニウム若しくは他の金属材料または非金
属材料を使用してもよい。また更に基板の加工手段は旋
削のみに限らず、研削その他によってもよい。なおスパ
ッタ室内のＡｒガス圧力は２〜３０　ｍＴｏｒｒの範囲
で任意に選定できる。

〔発明の効果〕

本発明は以上記述のような構成および作用であるから、
耐食性に優れると共に、ビットシフトが小であり、かつ
残留磁化の大なる磁気記録媒体を得ることができるとい
う効果がある。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性材料からなる基板の表面に非磁性材料から
   なる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けてな
   る磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣｒ５．０
   〜１５．０％、Ｔａ１．０〜８．０％、Ｏおよび／また
   はＮ０．５〜３．０％、残部Ｃｏからなる合金によって
   形成したことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）下地膜をＣｒ若しくはＣｒ合金によって形成した
   請求項（１）記載の磁気記録媒体。
3. （３）基板をアルミニウム若しくはアルミニウム基合金
   によって形成した請求項（１）若しくは（２）記載の磁
   気記録媒体。