JPH02292715A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH02292715A JPH02292715A JP11309989A JP11309989A JPH02292715A JP H02292715 A JPH02292715 A JP H02292715A JP 11309989 A JP11309989 A JP 11309989A JP 11309989 A JP11309989 A JP 11309989A JP H02292715 A JPH02292715 A JP H02292715A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は例えば磁気ヘッドとの間において情報の記録お
よび再生を行う磁気記録媒体およびその製造方法に関す
るものであり．特に耐食性に優れると共にＳ／Ｎ比を向
上させ得る磁気記録媒体およびその製造方法に関するも
のである。
よび再生を行う磁気記録媒体およびその製造方法に関す
るものであり．特に耐食性に優れると共にＳ／Ｎ比を向
上させ得る磁気記録媒体およびその製造方法に関するも
のである。
従来より磁気記録媒体上に情報を記録し．若しくは媒体
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されているが．上記の記録．再生を行う場合に
は磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．３
μ−の微小間隙に保持するのが通常である．従って磁気
ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦．摩耗および
／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため１浮動へ
ッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘソドスライダ
が．磁気記録媒体の表面との相対速度により，両者の間
隙に発生する流体力学的浮上力を利用して．両者の微小
間隙を保持するように構成している。一方近年の磁気記
録媒体に要求される仕様は次第に厳しくなってきており
．記録密度が高いことは勿論のこと．環境の変化に対し
ても耐食性が大であり，Ｓ／Ｎ比の大なる特性を存する
侑性膜が要求される。
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されているが．上記の記録．再生を行う場合に
は磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．３
μ−の微小間隙に保持するのが通常である．従って磁気
ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦．摩耗および
／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため１浮動へ
ッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘソドスライダ
が．磁気記録媒体の表面との相対速度により，両者の間
隙に発生する流体力学的浮上力を利用して．両者の微小
間隙を保持するように構成している。一方近年の磁気記
録媒体に要求される仕様は次第に厳しくなってきており
．記録密度が高いことは勿論のこと．環境の変化に対し
ても耐食性が大であり，Ｓ／Ｎ比の大なる特性を存する
侑性膜が要求される。
の保磁力を確保するためには，下地膜として基１１ｘ上
に被着すべきＣｒ膜の厚さを大にする必要があり．所定
膜厚に形成するための時間が長く，生産性の低下を招来
するという問題点がある。
に被着すべきＣｒ膜の厚さを大にする必要があり．所定
膜厚に形成するための時間が長く，生産性の低下を招来
するという問題点がある。
本発明は．上記従来技術に存在する問題点を解決し，特
に耐食性に優れると共にＳ／Ｎ比を向ヒさせ得る６ｆｆ
気記録媒体およびその製造方法を提１ｊすることを目的
とするものである。
に耐食性に優れると共にＳ／Ｎ比を向ヒさせ得る６ｆｆ
気記録媒体およびその製造方法を提１ｊすることを目的
とするものである。
上記何１性膜を形成する材ｆ４としては， Ｃｏ −
ＮｉＰｔ ，Ｃｏ −Ｎｉ −Ｃｒ等の合金が使用され
ているが，前者は保磁力が大であるという利点を有する
反面において，Ｓ／Ｎ比が低くノイズが人であると共に
，合金中に貴金属であるｐｔを含有するものであるため
高価であるという欠点がある。
ＮｉＰｔ ，Ｃｏ −Ｎｉ −Ｃｒ等の合金が使用され
ているが，前者は保磁力が大であるという利点を有する
反面において，Ｓ／Ｎ比が低くノイズが人であると共に
，合金中に貴金属であるｐｔを含有するものであるため
高価であるという欠点がある。
一方後者は前者よりもコス１・が低く，ノイズを減少す
ることができるが，耐食性，すなわち環境の変化による
飽和磁化の減少率が大であり，信頼性の点で不充分であ
るという欠点がある。更に所定〔課題を解決するための
手段〕 上記目的を達成するために，まず第１の発明においては
，非磁性材料からなる基板の表面に井磁性材料からなる
下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁
気記録媒体において．磁性膜を原子％でＣｒ ５．０
〜１５．０％．Ｔａ ２．５ 〜８．０％，残部Ｃｏか
らなる合金によって形成する．という技術的手段を採用
した。
ることができるが，耐食性，すなわち環境の変化による
飽和磁化の減少率が大であり，信頼性の点で不充分であ
るという欠点がある。更に所定〔課題を解決するための
手段〕 上記目的を達成するために，まず第１の発明においては
，非磁性材料からなる基板の表面に井磁性材料からなる
下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁
気記録媒体において．磁性膜を原子％でＣｒ ５．０
〜１５．０％．Ｔａ ２．５ 〜８．０％，残部Ｃｏか
らなる合金によって形成する．という技術的手段を採用
した。
本発明において，Ｃｒが５．０原子％未満では耐食性が
低下，すなわち環境の変化による飽ｆ旧ｆｉ化の減少率
が大であると共に，Ｓ／Ｎ比を低下させるため不都合で
ある。一方Ｃｒが１５．０原子％を超えると．残留磁化
のσ友少により出力の低下を招くと共に，Ｓ／Ｎ比も低
下するため好ましくない。
低下，すなわち環境の変化による飽ｆ旧ｆｉ化の減少率
が大であると共に，Ｓ／Ｎ比を低下させるため不都合で
ある。一方Ｃｒが１５．０原子％を超えると．残留磁化
のσ友少により出力の低下を招くと共に，Ｓ／Ｎ比も低
下するため好ましくない。
次にＴａはＳ／Ｎ比の向１に寄与するが．２．５原子％
未満ではその作用が１υ１待できず，一方８．０原子％
を超えると再びＳ／Ｎ比の低下を招来すると共に，残留
磁化の残少となり出力を低ドさ−Ｕるため好ましくない
。
未満ではその作用が１υ１待できず，一方８．０原子％
を超えると再びＳ／Ｎ比の低下を招来すると共に，残留
磁化の残少となり出力を低ドさ−Ｕるため好ましくない
。
なお下地膜をＣｒ若しくはＣｒ合金によって形成するこ
とが好ましい。この場合においてＣｒ合金としてはＣｒ
−Ｍｏ ，Ｃｒ−Ｖ．Ｃｒ −Ｍｎ等の合金を使用す
ることができる。
とが好ましい。この場合においてＣｒ合金としてはＣｒ
−Ｍｏ ，Ｃｒ−Ｖ．Ｃｒ −Ｍｎ等の合金を使用す
ることができる。
次に第２の発明においては，上記磁気記録媒体を製造す
る場合において，非磁性材ネ．１からなる基板の表面に
，非磁性材料からなる下地膜と．原子％でＣｒ ５．０
〜１５．０％， ′Ｉ’ａ ２．５ 〜８．０％．残
部Ｃｏからなる合金によって形成する磁性膜とを順次形
成する工程と，基板若しくは表面に１１２を形成した基
板を２５０゜Ｃ以上に加熱する工程とを含むという技術
的手段を採用した。
る場合において，非磁性材ネ．１からなる基板の表面に
，非磁性材料からなる下地膜と．原子％でＣｒ ５．０
〜１５．０％， ′Ｉ’ａ ２．５ 〜８．０％．残
部Ｃｏからなる合金によって形成する磁性膜とを順次形
成する工程と，基板若しくは表面に１１２を形成した基
板を２５０゜Ｃ以上に加熱する工程とを含むという技術
的手段を採用した。
〔作 用］
上記の構成により，例えば６ｎ気へ冫トとの間において
情報の記録および再生を行うことができ耐食性に優れる
と共にＳ／Ｎ比の大なる磁気記録媒体とすることができ
る。
情報の記録および再生を行うことができ耐食性に優れる
と共にＳ／Ｎ比の大なる磁気記録媒体とすることができ
る。
また第２の発明における基板若しくは表面に１１９を形
成した基板を２５０゜Ｃ以上に加熱するＬ程を含むこと
により，Ｃｏに冨む相の粒界にＣｒに冨む相が析出する
と准定され，結果として耐食性およびＳ／Ｎ比の向上に
寄与するものと思考される。
成した基板を２５０゜Ｃ以上に加熱するＬ程を含むこと
により，Ｃｏに冨む相の粒界にＣｒに冨む相が析出する
と准定され，結果として耐食性およびＳ／Ｎ比の向上に
寄与するものと思考される。
マグネシウムを４重量％含有するアルミニウム合金から
なる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し．外径９
５胴，内径２５胴．厚さ１．２７ ｍｍの基板とした．
次にこの基板の表面にＮｉ −Ｐ合金からなるメッキ膜
を５〜１５ μｌの厚さに形成し．磁気記録媒体の起動
時および停止時における磁気ヘッド若しくはスライダと
の接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ ａｎｄ Ｓ
ｔｏｐ，以下ＣＳＳと記す）特性を随保する。Ｆ記のよ
うにして破着したメンキ膜の表面を平滑に０１磨すると
共に，磁気ヘノド若しくはスライダとの吸着を防止する
ためのテクスチャー加工を施す。次に基板を洗／′／Ｉ
後，例えばＤＣマグ不トロンスパノク装置により，Ｃ＋
からなる下池膜と．後記の表に示す組成のＣｏ −Ｃ
ｒＴａ合金からなる磁性膜と．Ｃからなる保５Ｍ １１
９とを順次積層して成膜する。この場合下ＩＩ！！ＩＩ
Ａの成膜には，スパノタ室内をｌ ＸＩＯ−’ Ｔｏｒ
ｒ以下に俳気後，基板を２８０℃において３０分間フＪ
ｌｌクｊさし， Ａｒガスを導入してスパノタ室内を５
ｍＴｏｒｒに保持し投入電力２０００ Ｗ，成膜速度
４００人／分の条件により．膜１ｖ１２００人に成膜し
た。次にこの下地膜−ＦにＣｏ −Ｃｒ−Ｔａ合金から
なる磁性膜を−Ｌ記同様にして，投入電力２０００ Ｗ
，成膜速度１０００人／分の条件で６００人の膜ｊ￥に
成膜した。なお保護膜は投入電力１０００ Ｗ，成膜速
度８０人／分の条件で．前記磁性膜上に膜１ｊ ３００
人で成膜した。
なる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し．外径９
５胴，内径２５胴．厚さ１．２７ ｍｍの基板とした．
次にこの基板の表面にＮｉ −Ｐ合金からなるメッキ膜
を５〜１５ μｌの厚さに形成し．磁気記録媒体の起動
時および停止時における磁気ヘッド若しくはスライダと
の接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ ａｎｄ Ｓ
ｔｏｐ，以下ＣＳＳと記す）特性を随保する。Ｆ記のよ
うにして破着したメンキ膜の表面を平滑に０１磨すると
共に，磁気ヘノド若しくはスライダとの吸着を防止する
ためのテクスチャー加工を施す。次に基板を洗／′／Ｉ
後，例えばＤＣマグ不トロンスパノク装置により，Ｃ＋
からなる下池膜と．後記の表に示す組成のＣｏ −Ｃ
ｒＴａ合金からなる磁性膜と．Ｃからなる保５Ｍ １１
９とを順次積層して成膜する。この場合下ＩＩ！！ＩＩ
Ａの成膜には，スパノタ室内をｌ ＸＩＯ−’ Ｔｏｒ
ｒ以下に俳気後，基板を２８０℃において３０分間フＪ
ｌｌクｊさし， Ａｒガスを導入してスパノタ室内を５
ｍＴｏｒｒに保持し投入電力２０００ Ｗ，成膜速度
４００人／分の条件により．膜１ｖ１２００人に成膜し
た。次にこの下地膜−ＦにＣｏ −Ｃｒ−Ｔａ合金から
なる磁性膜を−Ｌ記同様にして，投入電力２０００ Ｗ
，成膜速度１０００人／分の条件で６００人の膜ｊ￥に
成膜した。なお保護膜は投入電力１０００ Ｗ，成膜速
度８０人／分の条件で．前記磁性膜上に膜１ｊ ３００
人で成膜した。
上記のようにして作製した磁気記録媒体の表面に液体潤
滑剤を塗布し， ３．５ ｉｎφディスクドライブに装
着して．耐食性，残留磁化およびＯ〜１０Ｍｔｌｚにお
けるＳ／Ｎ比の測定を行った結果を表に併記する。この
場合，耐食性は８０゜Ｃ．８０％Ｒ．ｌ＋．の雰囲気に
１２０時間放置後の飽和磁化滅少率で表す。なおＳ／Ｎ
比測定に際して使用した磁気ヘッドは，Ｍｎ −Ｚｎ
ミニモノシリノク型（１・ランク幅２０μＩＩ１）で
あり，スライダ幅６１０ｌｌｍ，ジンバルばね圧９．５
ｇｆ ，半径２４ｎｎ＋＋の部位における浮上ｆｆｔ
０．２μｍ，磁気記録媒体の回転故２４００ ｒ．ｐ
．ｍの条件で測定した。
滑剤を塗布し， ３．５ ｉｎφディスクドライブに装
着して．耐食性，残留磁化およびＯ〜１０Ｍｔｌｚにお
けるＳ／Ｎ比の測定を行った結果を表に併記する。この
場合，耐食性は８０゜Ｃ．８０％Ｒ．ｌ＋．の雰囲気に
１２０時間放置後の飽和磁化滅少率で表す。なおＳ／Ｎ
比測定に際して使用した磁気ヘッドは，Ｍｎ −Ｚｎ
ミニモノシリノク型（１・ランク幅２０μＩＩ１）で
あり，スライダ幅６１０ｌｌｍ，ジンバルばね圧９．５
ｇｆ ，半径２４ｎｎ＋＋の部位における浮上ｆｆｔ
０．２μｍ，磁気記録媒体の回転故２４００ ｒ．ｐ
．ｍの条件で測定した。
（以 下 余 白）
表から明らかなように１まずＮｏ． ＩにおいてはＣｒ
５ｌが少ないため飽和磁化減少ｔが人であり耐食性が著
しく低下していると共に，Ｓ／Ｎ比が低下している。ま
たＮｏ． ５においては，Ｃｒ量が多いため残’ＭＩ
Ｃｍ化の値が低《．またＳ／Ｎ比の低下が認められる。
５ｌが少ないため飽和磁化減少ｔが人であり耐食性が著
しく低下していると共に，Ｓ／Ｎ比が低下している。ま
たＮｏ． ５においては，Ｃｒ量が多いため残’ＭＩ
Ｃｍ化の値が低《．またＳ／Ｎ比の低下が認められる。
これに対しＮα２〜３においてはＣｒ量の増大により残
留磁化が漸次減少する傾向が若干認められるものの，飽
和磁化減少率が瀬次減少し．耐食性の向上が認められる
。なおＳ／Ｎ比は前記ｋｌおよびＮｏ． ５と比較して
何れも高い値を示している。次にＮｏ． ６はＴａを欠
如する組成であり，飽和磁化減少率の値は好ましいもの
の ＳＺＮ比が低く現れている。またＮｏ．ＩＩにおい
てはＴａ量が多いため残留磁化の値が極めて低いと共に
，Ｓ／Ｎ比が低い。これに対してＮｏ． ８〜１ｏにお
いては何れも飽和磁化減少率が著しく低＜．ｌ！′ｉｔ
食性に優れることを示すと共に，Ｓ／Ｎ比が極めて高い
値を示している。すなわちＴａを適星に含有させること
により，耐食性およびＳ／Ｎ比を著しく向上させる作用
が認められる。これは基仮にＣｏ −Ｃｒ−Ｔａ合金か
らなる磁性膜を形成する場合に，基板を２８０゜Ｃに加
熱ずるため，Ｃｏに富む相の粒界にＣ『に冨む相の析出
を促進する作用があると推定され，結果として上記の特
性向上が実現するものと推定される。なお上記基板の加
熱温度が２５０゜Ｃ未満であると．前記の特性向上の作
用が認，められなかった。
留磁化が漸次減少する傾向が若干認められるものの，飽
和磁化減少率が瀬次減少し．耐食性の向上が認められる
。なおＳ／Ｎ比は前記ｋｌおよびＮｏ． ５と比較して
何れも高い値を示している。次にＮｏ． ６はＴａを欠
如する組成であり，飽和磁化減少率の値は好ましいもの
の ＳＺＮ比が低く現れている。またＮｏ．ＩＩにおい
てはＴａ量が多いため残留磁化の値が極めて低いと共に
，Ｓ／Ｎ比が低い。これに対してＮｏ． ８〜１ｏにお
いては何れも飽和磁化減少率が著しく低＜．ｌ！′ｉｔ
食性に優れることを示すと共に，Ｓ／Ｎ比が極めて高い
値を示している。すなわちＴａを適星に含有させること
により，耐食性およびＳ／Ｎ比を著しく向上させる作用
が認められる。これは基仮にＣｏ −Ｃｒ−Ｔａ合金か
らなる磁性膜を形成する場合に，基板を２８０゜Ｃに加
熱ずるため，Ｃｏに富む相の粒界にＣ『に冨む相の析出
を促進する作用があると推定され，結果として上記の特
性向上が実現するものと推定される。なお上記基板の加
熱温度が２５０゜Ｃ未満であると．前記の特性向上の作
用が認，められなかった。
本実施例においては，基板を形成する材料としてマグ不
シウムを含むアルミニウム基合金の例について記述した
が，アルミニウノ、若しくは他の金属材料または非金属
材料を使用し゛ζもよい。
シウムを含むアルミニウム基合金の例について記述した
が，アルミニウノ、若しくは他の金属材料または非金属
材料を使用し゛ζもよい。
本発明は以上記述のような構成および作用であるから．
耐食性に優れる．すなわら環境変化に対する飽和磁化減
少率が少なく，かつＳ／Ｎ比の人なる＆ｉｌ気記録媒体
を得ることができるという効果がある。
耐食性に優れる．すなわら環境変化に対する飽和磁化減
少率が少なく，かつＳ／Ｎ比の人なる＆ｉｌ気記録媒体
を得ることができるという効果がある。
Claims (3)
- （１）非磁性材料からなる基板の表面に非磁性材料から
なる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けてな
る磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣｒ５．０
〜１５．０％、Ｔａ２．５〜８．０％、残部Ｃｏからな
る合金によって形成したことを特徴とする磁気記録媒体
。 - （２）下地膜をＣｒ若しくはＣｒ合金によって形成した
請求項（１）記載の磁気記録媒体。 - （３）非磁性材料からなる基板の表面に、非磁性材料か
らなる下地膜と、原子％でＣｒ５．０〜１５．０％、Ｔ
ａ２．５〜８．０％、残部Ｃｏからなる合金によって形
成する磁性膜とを順次形成する工程と、基板若しくは表
面に膜を形成した基板を２５０℃以上に加熱する工程と
を含むことを特徴とする磁気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11309989A JPH02292715A (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11309989A JPH02292715A (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02292715A true JPH02292715A (ja) | 1990-12-04 |
Family
ID=14603458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11309989A Pending JPH02292715A (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02292715A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04221429A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-11 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1989
- 1989-05-02 JP JP11309989A patent/JPH02292715A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04221429A (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-11 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
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