JPH05101933A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH05101933A JPH05101933A JP3283888A JP28388891A JPH05101933A JP H05101933 A JPH05101933 A JP H05101933A JP 3283888 A JP3283888 A JP 3283888A JP 28388891 A JP28388891 A JP 28388891A JP H05101933 A JPH05101933 A JP H05101933A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- film
- recording medium
- magnetic recording
- alloy
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体の保磁力を向上するとともに、
Ｓ／Ｎ比を大きくしてノイズを低減した。 【構成】 磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣ
ｒ５．０〜１５．０％、ＶとＮｂのうちの１種または２
種を２％以下、残部Ｃｏおよび不可避的不純物からなる
合金で作成した。
Ｓ／Ｎ比を大きくしてノイズを低減した。 【構成】 磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣ
ｒ５．０〜１５．０％、ＶとＮｂのうちの１種または２
種を２％以下、残部Ｃｏおよび不可避的不純物からなる
合金で作成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気ヘッドとの
間において情報の記録および再生を行なうための磁気記
録媒体に関し、特に磁性膜の保磁力を向上するとともに
ノイズを少なくしたものである。
間において情報の記録および再生を行なうための磁気記
録媒体に関し、特に磁性膜の保磁力を向上するとともに
ノイズを少なくしたものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置では、磁気記録媒体に
微小間隔で磁気ヘッドを対向させ、磁気記録媒体に記録
された磁気情報を磁気ヘッドが読みとったり、磁気ヘッ
ドから磁気記録媒体に磁気的に記録するようになってい
る。磁気ディスク装置により記録、再生を行なう場合に
は、磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．
３μｍの微小間隔に保持するのが通常である。従って磁
気ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗およ
び／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため、浮動
ヘッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘッドスライ
ダが、磁気記録媒体の表面との相対速度により、両者の
間隔に発生する流体力学的な浮上力を利用して、両者の
微小間隔を保持するように構成している。
微小間隔で磁気ヘッドを対向させ、磁気記録媒体に記録
された磁気情報を磁気ヘッドが読みとったり、磁気ヘッ
ドから磁気記録媒体に磁気的に記録するようになってい
る。磁気ディスク装置により記録、再生を行なう場合に
は、磁気ヘッドと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．
３μｍの微小間隔に保持するのが通常である。従って磁
気ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗およ
び／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため、浮動
ヘッドスライダを使用する。すなわち磁気ヘッドスライ
ダが、磁気記録媒体の表面との相対速度により、両者の
間隔に発生する流体力学的な浮上力を利用して、両者の
微小間隔を保持するように構成している。
【０００３】上記磁性膜を形成する材料としては、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の合金が使用されて
いるが、前者は保持力が大であるという利点を有する反
面においてＳ／Ｎ比が低くノイズが大であるとともに、
合金中に貴金属であるＰｔを含有するものであるため高
価である。一方後者は前者よりもコストが低く、ノイズ
を減少することができるが、耐食性、すなわち環境の変
化による飽和磁化の減少率が大であり信頼性に欠ける。
また高密度記録を行なう場合にはビットシフトが大であ
るためにエラーが多く、信頼性に乏しい。更に所定の保
持力を確保するためには、下地膜として基板上に被着す
べきＣｒ膜の厚さを大にする必要があり、所定膜厚に形
成するための時間が長く生産性が悪い。
−Ｎｉ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の合金が使用されて
いるが、前者は保持力が大であるという利点を有する反
面においてＳ／Ｎ比が低くノイズが大であるとともに、
合金中に貴金属であるＰｔを含有するものであるため高
価である。一方後者は前者よりもコストが低く、ノイズ
を減少することができるが、耐食性、すなわち環境の変
化による飽和磁化の減少率が大であり信頼性に欠ける。
また高密度記録を行なう場合にはビットシフトが大であ
るためにエラーが多く、信頼性に乏しい。更に所定の保
持力を確保するためには、下地膜として基板上に被着す
べきＣｒ膜の厚さを大にする必要があり、所定膜厚に形
成するための時間が長く生産性が悪い。
【０００４】これら問題を解決する一手段として、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｔａ系合金によって磁性膜を形成する提案が特
開平１−１３３２１７号公報に開示されている。また上
記問題を解決するとともに、耐食性に優れると共に、ビ
ットシフトおよび残留磁化特性を向上させるため、磁気
記録媒体の磁性膜としてＣｒ５．０〜１５％、Ｎｂ２．
０〜８．０％、残部Ｃｏおよび不可避的不純物からなる
合金で作成したものを本出願人は先に提案している（特
開平３−１０２６１５号公報）。
−Ｃｒ−Ｔａ系合金によって磁性膜を形成する提案が特
開平１−１３３２１７号公報に開示されている。また上
記問題を解決するとともに、耐食性に優れると共に、ビ
ットシフトおよび残留磁化特性を向上させるため、磁気
記録媒体の磁性膜としてＣｒ５．０〜１５％、Ｎｂ２．
０〜８．０％、残部Ｃｏおよび不可避的不純物からなる
合金で作成したものを本出願人は先に提案している（特
開平３−１０２６１５号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来に記載したよ
うに、磁気記録媒体の記録密度の向上のために、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｔａ系合金によって磁性膜を形成した磁気記録媒
体があるが、その場合、磁性膜を構成するＴａの価格が
高く、Ｔａのターゲットの製作が煩雑であり、しかも割
れ易いという問題があり、あまり望ましいものではなか
った。また磁気記録媒体の磁性膜としてＣｒ−Ｎｂ−Ｃ
ｏ系合金で作成したものが知られているが、その場合は
耐食性、ビットシフト及び残留磁化特性を向上するため
に、Ｎｂの含有量を２〜８％にしており、保持力の向上
とノイズの低減をあまり考慮していない。
うに、磁気記録媒体の記録密度の向上のために、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｔａ系合金によって磁性膜を形成した磁気記録媒
体があるが、その場合、磁性膜を構成するＴａの価格が
高く、Ｔａのターゲットの製作が煩雑であり、しかも割
れ易いという問題があり、あまり望ましいものではなか
った。また磁気記録媒体の磁性膜としてＣｒ−Ｎｂ−Ｃ
ｏ系合金で作成したものが知られているが、その場合は
耐食性、ビットシフト及び残留磁化特性を向上するため
に、Ｎｂの含有量を２〜８％にしており、保持力の向上
とノイズの低減をあまり考慮していない。
【０００６】さらにＣｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ
合金以外にＣｏ−Ｃｒ合金をＣｒ下地層の上に成膜する
ことことにより、面内磁化膜となることが知られている
が、その保磁力は１０００Ｏｅ以下であり、高記録密度
化に十分な保磁力を有するものとはいえない。このため
磁性膜としてＣｏ及びＣｒを主成分とし、Ｎｂ及びＨｆ
のうち少なくとも一方を、Ｃｏ及びＣｒの合計量に対し
て３原子％以下含むようにして、記録密度を向上させる
ことが特開平２−１０３７１６号公報に開示されてい
る。しかしこの場合、記録密度は向上するものの、出力
とＳ／Ｎ比はあまり好ましいものではない。これはＣｒ
の含有量を１５％以上にしているため、角形比が低下す
るからだろうと推察される。そこで本発明は、磁気記録
媒体の保磁力を向上するとともに、Ｓ／Ｎ比を大きくし
てノイズを低減することを目的とする。
合金以外にＣｏ−Ｃｒ合金をＣｒ下地層の上に成膜する
ことことにより、面内磁化膜となることが知られている
が、その保磁力は１０００Ｏｅ以下であり、高記録密度
化に十分な保磁力を有するものとはいえない。このため
磁性膜としてＣｏ及びＣｒを主成分とし、Ｎｂ及びＨｆ
のうち少なくとも一方を、Ｃｏ及びＣｒの合計量に対し
て３原子％以下含むようにして、記録密度を向上させる
ことが特開平２−１０３７１６号公報に開示されてい
る。しかしこの場合、記録密度は向上するものの、出力
とＳ／Ｎ比はあまり好ましいものではない。これはＣｒ
の含有量を１５％以上にしているため、角形比が低下す
るからだろうと推察される。そこで本発明は、磁気記録
媒体の保磁力を向上するとともに、Ｓ／Ｎ比を大きくし
てノイズを低減することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性材料か
らなる基板の表面に非磁性材料からなる下地膜を介して
磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体にお
いて、上記目的を達成したものである。そのため、磁性
膜を原子％でＣｒ５．０〜１５．０％、ＶとＮｂのうち
の１種または２種を２％以下、残部Ｃｏおよび不可避的
不純物からなる合金によって形成した。
らなる基板の表面に非磁性材料からなる下地膜を介して
磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体にお
いて、上記目的を達成したものである。そのため、磁性
膜を原子％でＣｒ５．０〜１５．０％、ＶとＮｂのうち
の１種または２種を２％以下、残部Ｃｏおよび不可避的
不純物からなる合金によって形成した。
【０００８】上記において、磁性膜に含まれるＣｒが
５．０原子％未満では耐食性が低下する。すなわち環境
の変化による飽和磁化の減少率が大であると共に、ビッ
トシフトを増大させるため不都合である。一方Ｃｒが１
５原子％を越えると、残留磁化の減少により出力の低下
を招くと共に、ビットシフトも増大するため好ましくな
い。また磁性膜に含まれるＶ、Ｎｂは保持力の向上とノ
イズ低減に寄与するが、２原子％以上ではその作用を期
待できず、望ましくない。なお下地膜をＣｒ若しくはＣ
ｒ合金によって形成することが好ましい。この場合にお
いてＣｒ合金としては、Ｃｒ−Ｍｎ、Ｃｒ−Ｖ、Ｃｒ−
Ｍｎ等の合金を使用することができる。基板はアルミニ
ウム若しくはアルミニウム基合金で形成するのが好まし
い。
５．０原子％未満では耐食性が低下する。すなわち環境
の変化による飽和磁化の減少率が大であると共に、ビッ
トシフトを増大させるため不都合である。一方Ｃｒが１
５原子％を越えると、残留磁化の減少により出力の低下
を招くと共に、ビットシフトも増大するため好ましくな
い。また磁性膜に含まれるＶ、Ｎｂは保持力の向上とノ
イズ低減に寄与するが、２原子％以上ではその作用を期
待できず、望ましくない。なお下地膜をＣｒ若しくはＣ
ｒ合金によって形成することが好ましい。この場合にお
いてＣｒ合金としては、Ｃｒ−Ｍｎ、Ｃｒ−Ｖ、Ｃｒ−
Ｍｎ等の合金を使用することができる。基板はアルミニ
ウム若しくはアルミニウム基合金で形成するのが好まし
い。
【０００９】
【作用】上記の磁気記録媒体は、磁性膜に２原子％以下
のＶあるいはＮｂを含んでいるため、保持力が大きく、
しかもＳ／Ｎ比が大きくなってノイズが低減される。
のＶあるいはＮｂを含んでいるため、保持力が大きく、
しかもＳ／Ｎ比が大きくなってノイズが低減される。
【００１０】
【実施例】マグネシウムを４重量％含有するアルミニウ
ム合金からなる基板の表面を旋削加工により平滑に形成
し、外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの
基板とした。次にこの基板の表面にＮｉ−Ｐ合金からな
るメッキ膜を５〜１５μｍの厚さに形成し、磁気記録媒
体の起動時および停止時における磁気ヘッド若しくはス
ライダとの接触摺動特性（ＣＳＳ）を確保する。上記の
ようにして被着したメッキ膜の表面を平滑に研磨すると
ともに、磁気ヘッド若しくはスライダとの吸着を防止す
るためのテクスチャ加工を施す。
ム合金からなる基板の表面を旋削加工により平滑に形成
し、外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの
基板とした。次にこの基板の表面にＮｉ−Ｐ合金からな
るメッキ膜を５〜１５μｍの厚さに形成し、磁気記録媒
体の起動時および停止時における磁気ヘッド若しくはス
ライダとの接触摺動特性（ＣＳＳ）を確保する。上記の
ようにして被着したメッキ膜の表面を平滑に研磨すると
ともに、磁気ヘッド若しくはスライダとの吸着を防止す
るためのテクスチャ加工を施す。
【００１１】次に基板を洗浄後、例えばＤＣマグネトロ
ンスパッタ装置により、Ｃｒからなる下地膜と、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｎｂ合金からなる磁性膜と、Ｃからなる保護膜と
を順次積層して成膜する。この場合下地膜の成膜には、
スパッタ室内を１×１０-5Ｔｏｏｒ以下に排気後、基板
を２００℃において３０分間加熱し、Ａｒガスを導入し
てスパッタ室内を５ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力２０
００Ｗ、成膜速度４００Å／分の条件により、膜厚１０
００Åに成膜した。次にこの下地膜の上に、ＮｂとＶを
それぞれ０．５〜４原子％に変化させてＣｏ−Ｃｒ−Ｎ
ｂ若しくはＣｏ−Ｃｒ−Ｖからなる磁性膜を上記同様に
して、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１０００Å／分の
条件で５００Åの膜厚に成膜した。この磁性膜のスパッ
タではバイアス電圧−４００Ｖを印化したものと、しな
いものの両方を行なった。また保護膜は投入電力１００
０Ｗ、成膜速度８０Å／分の条件で前記磁性膜上に膜厚
３００Åで成膜した。
ンスパッタ装置により、Ｃｒからなる下地膜と、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｎｂ合金からなる磁性膜と、Ｃからなる保護膜と
を順次積層して成膜する。この場合下地膜の成膜には、
スパッタ室内を１×１０-5Ｔｏｏｒ以下に排気後、基板
を２００℃において３０分間加熱し、Ａｒガスを導入し
てスパッタ室内を５ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力２０
００Ｗ、成膜速度４００Å／分の条件により、膜厚１０
００Åに成膜した。次にこの下地膜の上に、ＮｂとＶを
それぞれ０．５〜４原子％に変化させてＣｏ−Ｃｒ−Ｎ
ｂ若しくはＣｏ−Ｃｒ−Ｖからなる磁性膜を上記同様に
して、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１０００Å／分の
条件で５００Åの膜厚に成膜した。この磁性膜のスパッ
タではバイアス電圧−４００Ｖを印化したものと、しな
いものの両方を行なった。また保護膜は投入電力１００
０Ｗ、成膜速度８０Å／分の条件で前記磁性膜上に膜厚
３００Åで成膜した。
【００１２】上記のようにして作製した種々の磁気記録
媒体の保磁力を測定して図１に示した。なお比較のた
め、磁性膜の成分としてＮｂ若しくはＶの代わりにＴａ
を使用した磁気記録媒体についても同様に測定して図１
に示した。図１からわかるように、磁性膜としてＮｂ若
しくはＶを含むものは、バイアス電圧の有無の両方とも
に、比較例のＴａを含むものより保磁力が大きく望まし
い。また添加量は２％を越えると保磁力は低下する傾向
にあり、２％以下の添加が望ましい。
媒体の保磁力を測定して図１に示した。なお比較のた
め、磁性膜の成分としてＮｂ若しくはＶの代わりにＴａ
を使用した磁気記録媒体についても同様に測定して図１
に示した。図１からわかるように、磁性膜としてＮｂ若
しくはＶを含むものは、バイアス電圧の有無の両方とも
に、比較例のＴａを含むものより保磁力が大きく望まし
い。また添加量は２％を越えると保磁力は低下する傾向
にあり、２％以下の添加が望ましい。
【００１３】また上記で保磁力を測定した本実施例と比
較例の磁気記録媒体を使用し、Ｓ／Ｎ比を測定して図２
に示した。図２からわかるように磁性膜としてＮｂ若し
くはＶを含むものは、比較例のＴａを含むものよりＳ／
Ｎ比が大きく、ノイズが小さい。
較例の磁気記録媒体を使用し、Ｓ／Ｎ比を測定して図２
に示した。図２からわかるように磁性膜としてＮｂ若し
くはＶを含むものは、比較例のＴａを含むものよりＳ／
Ｎ比が大きく、ノイズが小さい。
【００１４】さらに以下の表１に示す組成の磁性膜を有
する種々の磁気記録媒体について、Ｓ／Ｎ（ｄＢ）、シ
グナル（μＶｒｍｓ）、トータルノイズ（μＶｒｍ
ｓ）、保磁力（Ｏｅ）を測定し、トータルノイズと保磁
力の関係を求めた。
する種々の磁気記録媒体について、Ｓ／Ｎ（ｄＢ）、シ
グナル（μＶｒｍｓ）、トータルノイズ（μＶｒｍ
ｓ）、保磁力（Ｏｅ）を測定し、トータルノイズと保磁
力の関係を求めた。
【００１５】
【表１】 表１からわかるように、本実施例である磁性膜に２原子
％以下のＮｂ若しくはＶを含むものは、比較例であるＴ
ａを含むものよりトータルノイズが小さくかつ保磁力が
大きい。なお比較例のものは、トータルノイズ、あるい
は保磁力の一方が良いと他方が悪くなっている。
％以下のＮｂ若しくはＶを含むものは、比較例であるＴ
ａを含むものよりトータルノイズが小さくかつ保磁力が
大きい。なお比較例のものは、トータルノイズ、あるい
は保磁力の一方が良いと他方が悪くなっている。
【００１６】さらに磁性膜の組成がＣｏ98-xＣｒx Ｖ2
で、Ｃｒ量を変化させた場合の磁気記録媒体を作成し、
それぞれの保磁力（Ｈｃ）と角形比（Ｂｓ）とを測定し
て図３に示した。図３からＣｒ濃度が５ａｔ％以下では
Ｈｃが小さく、１５ａｔ％以上では角形比が小さくな
り、シグナルが十分得られなくなる。このためＣｒ量
は、５〜１５ａｔ％にするのがよく、より好ましくは１
０〜１５ａｔ％にするのが好ましい。
で、Ｃｒ量を変化させた場合の磁気記録媒体を作成し、
それぞれの保磁力（Ｈｃ）と角形比（Ｂｓ）とを測定し
て図３に示した。図３からＣｒ濃度が５ａｔ％以下では
Ｈｃが小さく、１５ａｔ％以上では角形比が小さくな
り、シグナルが十分得られなくなる。このためＣｒ量
は、５〜１５ａｔ％にするのがよく、より好ましくは１
０〜１５ａｔ％にするのが好ましい。
【００１７】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、磁性膜に２原
子％以下のＮｂまたはＶを含むことにより、保磁力が大
きくしかもノイズが低減され、望ましい磁気記録媒体を
得ることができる。
子％以下のＮｂまたはＶを含むことにより、保磁力が大
きくしかもノイズが低減され、望ましい磁気記録媒体を
得ることができる。
【図１】磁性膜における元素添加量と保磁力との関係図
である。
である。
【図２】磁性膜における元素添加量とＳ／Ｎ比との関係
図である。
図である。
【図３】磁性膜のＣｒ含有量と、保磁力及び角形比との
関係図である。
関係図である。
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性材料からなる基板の表面に非磁性
材料からなる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を
設けてなる磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣ
ｒ５．０〜１５．０％、Ｖ２％以下、残部Ｃｏおよび不
可避的不純物からなる合金によって形成したことを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性材料からなる基板の表面に非磁性
材料からなる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を
設けてなる磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣ
ｒ５．０〜１５．０％、Ｎｂ２％以下、残部Ｃｏおよび
不可避的不純物からなる合金によって形成したことを特
徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 非磁性材料からなる基板の表面に非磁性
材料からなる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を
設けてなる磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣ
ｒ５．０〜１５．０％、ＶとＮｂとを合計２％以下、残
部Ｃｏおよび不可避的不純物からなる合金によって形成
したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3283888A JPH05101933A (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3283888A JPH05101933A (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05101933A true JPH05101933A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17671480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3283888A Pending JPH05101933A (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05101933A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7270897B2 (en) * | 1999-06-14 | 2007-09-18 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same medium and magnetic disc drive |
-
1991
- 1991-10-04 JP JP3283888A patent/JPH05101933A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7270897B2 (en) * | 1999-06-14 | 2007-09-18 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same medium and magnetic disc drive |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 15 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080707 |
|
| R154 | Certificate of patent or utility model (reissue) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080707 Year of fee payment: 15 |