JPH0312814A - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体Info
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- JPH0312814A JPH0312814A JP14763889A JP14763889A JPH0312814A JP H0312814 A JPH0312814 A JP H0312814A JP 14763889 A JP14763889 A JP 14763889A JP 14763889 A JP14763889 A JP 14763889A JP H0312814 A JPH0312814 A JP H0312814A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 79
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 10
- 238000002955 isolation Methods 0.000 abstract description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 4
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005204 segregation Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 6
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229910018862 CoN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002441 CoNi Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はノイズ特性にすぐれた金属薄膜型磁気記録媒体
に関する。
に関する。
近時、磁気記録装置の記録媒体として、非磁性基体上の
磁性膜を強磁性金属薄膜とした金属薄膜型磁気記録媒体
が、その高密度記録性により、従来の所謂塗布型磁気記
録媒体に置き代わりつつある。その非磁性基体上に形成
される強磁性金属薄膜の成分構成は、磁気的性質、記録
再生特性、耐候性等の総合的評価に基づいて決定され、
−船釣にCo、CoNi系、CoCr系、またはCoN
iCr系合金が使用されている。
磁性膜を強磁性金属薄膜とした金属薄膜型磁気記録媒体
が、その高密度記録性により、従来の所謂塗布型磁気記
録媒体に置き代わりつつある。その非磁性基体上に形成
される強磁性金属薄膜の成分構成は、磁気的性質、記録
再生特性、耐候性等の総合的評価に基づいて決定され、
−船釣にCo、CoNi系、CoCr系、またはCoN
iCr系合金が使用されている。
上記金属薄膜型磁気記録媒体は、これまでの塗布型磁気
記録媒体にまさる高密度の記録が可能であるが、次世代
の磁気記録媒体としては更に記録密度の向上が要求され
る。そのためには、変調ノイズや再生波形ピークシフ1
〜等の記録再生ノイズ特性を改善することが必要である
。
記録媒体にまさる高密度の記録が可能であるが、次世代
の磁気記録媒体としては更に記録密度の向上が要求され
る。そのためには、変調ノイズや再生波形ピークシフ1
〜等の記録再生ノイズ特性を改善することが必要である
。
本発明は上記要請に応えるべくなされたものであり、記
録再生ノイズを可及的に低くして分解能とノイズのつり
合いのとれたピークシフトの低い高密度記録用金属薄膜
型磁気記録媒体を提供する。
録再生ノイズを可及的に低くして分解能とノイズのつり
合いのとれたピークシフトの低い高密度記録用金属薄膜
型磁気記録媒体を提供する。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明の金属
薄膜型磁気記録媒体は、その磁性膜が、下式N)または
〔II)で示される成分組成を有する合金からなること
を特徴としている。
薄膜型磁気記録媒体は、その磁性膜が、下式N)または
〔II)で示される成分組成を有する合金からなること
を特徴としている。
col−V−X−1−2N iv Crx Mv Pz
−(I )C08−x−v−z Crx Mv Pz
”’ (U)式中、Mは、Ta、Nb、Vか
ら選ばれる1種ないし2種以上の元素であり、v、
x、 y、 zは原子組成比を表し、■は0.05
〜0.25. xはo、07〜0.16. yは0
.01〜0.04. zば0.01〜0.05である
。
−(I )C08−x−v−z Crx Mv Pz
”’ (U)式中、Mは、Ta、Nb、Vか
ら選ばれる1種ないし2種以上の元素であり、v、
x、 y、 zは原子組成比を表し、■は0.05
〜0.25. xはo、07〜0.16. yは0
.01〜0.04. zば0.01〜0.05である
。
本発明の磁気記録媒体の金属系磁性膜は、上記のように
CoCr系、またはCoNiCr系合金をヘースとし、
これにMで表される元素、すなわちTa、Nb、Vから
選ばれる1種ないし2種以上の元素とPとが複合添加さ
れた成分構成を存している。CoCr系、またはCoN
iCr系合金は、高保磁力(Hc )および高残留磁束
密度(Br)を有する合金であり、本発明に従ってこれ
にMで表される元素とPの適量が複合添加されると、M
元素によるCrの粒界析出と、非磁性Pおよびその化合
物の粒界偏析による磁性粒子(磁区)の孤立化がもたら
されると共に、保磁力(Hc)の増加をみる。このM元
素とPの複合添加に伴う保磁力増加と磁性粒子の孤立化
とによって顕著なノイズ特性改善効果が得られる。なお
、M元素またばPの単独添加においても磁性粒子の孤立
化、保磁力増加をみるが、その効果は十分でない。後記
実施例に示したように、その顕著な改善効果は両元素の
複合添加によって確保される。
CoCr系、またはCoNiCr系合金をヘースとし、
これにMで表される元素、すなわちTa、Nb、Vから
選ばれる1種ないし2種以上の元素とPとが複合添加さ
れた成分構成を存している。CoCr系、またはCoN
iCr系合金は、高保磁力(Hc )および高残留磁束
密度(Br)を有する合金であり、本発明に従ってこれ
にMで表される元素とPの適量が複合添加されると、M
元素によるCrの粒界析出と、非磁性Pおよびその化合
物の粒界偏析による磁性粒子(磁区)の孤立化がもたら
されると共に、保磁力(Hc)の増加をみる。このM元
素とPの複合添加に伴う保磁力増加と磁性粒子の孤立化
とによって顕著なノイズ特性改善効果が得られる。なお
、M元素またばPの単独添加においても磁性粒子の孤立
化、保磁力増加をみるが、その効果は十分でない。後記
実施例に示したように、その顕著な改善効果は両元素の
複合添加によって確保される。
本発明において磁性膜の合金成分組成につき、Cr量(
x)を0.07〜.0.16としたのは、0.07未満
では、磁性膜の耐候性が不足し、他方0.16より多く
なると、良好な磁気!14゛性・電気特性を確保できな
くなるからでである。また、Niを含む磁性膜である場
合のNi量(V)の下限を0.05としたのは、Ni添
加による耐候性改善効果を十分ならしめるためであり、
上限を0.25としたのは、それをこえると、飽和磁束
密度(Bs)が減少し、良好な磁気特性および電気特性
が得られなくなるからである。
x)を0.07〜.0.16としたのは、0.07未満
では、磁性膜の耐候性が不足し、他方0.16より多く
なると、良好な磁気!14゛性・電気特性を確保できな
くなるからでである。また、Niを含む磁性膜である場
合のNi量(V)の下限を0.05としたのは、Ni添
加による耐候性改善効果を十分ならしめるためであり、
上限を0.25としたのは、それをこえると、飽和磁束
密度(Bs)が減少し、良好な磁気特性および電気特性
が得られなくなるからである。
更に、本発明の最も特徴とするM元素とPにつき、M元
素の下限値を0.01、Pの下限値を0.OIとしたの
は、その複合添加による磁性粒子の孤立化に伴う磁化遷
移幅の減少、高保磁力化の効果を確保するためであり、
他方M元素の上限値を0.04、Pの上限値を0.05
としたのは、それをこえると効果がほぼ飽和してしまう
だけでなく、却って磁気特性・電気特性の低下を招くか
らである。
素の下限値を0.01、Pの下限値を0.OIとしたの
は、その複合添加による磁性粒子の孤立化に伴う磁化遷
移幅の減少、高保磁力化の効果を確保するためであり、
他方M元素の上限値を0.04、Pの上限値を0.05
としたのは、それをこえると効果がほぼ飽和してしまう
だけでなく、却って磁気特性・電気特性の低下を招くか
らである。
本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は、磁気ディスクをは
じめ、磁気ドラム、磁気テープ、磁気シート等を包含す
る。これらは、いずれもその磁性膜が前記(1)弐また
は[11)式で示される組成を有する合金からなる点を
除いて、公知の工程および条件に従って製作することが
できる。例えば、面内記録用磁気ディスクについて述べ
れば、アルミニウム合金板等を基体とし、その表面に無
電解めっきにより硬質のN1−Pめっき膜(膜厚:例え
ば15〜25μm)を設け、めっき膜面にテキスチャ処
理を施したのち、磁性膜に面内異方性を与えるための下
地層としてCr膜を適宜の膜厚(例えば500〜300
0人)に形成する。そのCr膜面上に、前記組成をもつ
磁性膜(膜厚は例えば500〜2000人)を成膜する
。ついで磁性膜の摩耗・損傷を防止するための保護膜と
して、潤滑性と耐摩耗性を備えた被膜、例えば炭素質膜
(膜W:例えば150〜600人)を形成することによ
り、多層積層構造を有する面内記録用磁気ディスクを得
る。その積層構造は上記の例に限定されず、例えば、磁
性膜の上に、炭素質膜を成膜するに先立って、Cr膜(
膜厚約100〜500人)を形成することにより、磁気
ディスクの耐候性をさらに高めることができ、また磁性
膜面に炭素質膜を形成したうえ、更にその表面に潤滑剤
(膜厚:例えば10〜100人)を設けて、磁気ヘラ1
′に対する保護潤滑機能をより良好なものとすることも
できる。なお、各層の成膜は、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法、真空蒸着法などにより行うことが
できる。
じめ、磁気ドラム、磁気テープ、磁気シート等を包含す
る。これらは、いずれもその磁性膜が前記(1)弐また
は[11)式で示される組成を有する合金からなる点を
除いて、公知の工程および条件に従って製作することが
できる。例えば、面内記録用磁気ディスクについて述べ
れば、アルミニウム合金板等を基体とし、その表面に無
電解めっきにより硬質のN1−Pめっき膜(膜厚:例え
ば15〜25μm)を設け、めっき膜面にテキスチャ処
理を施したのち、磁性膜に面内異方性を与えるための下
地層としてCr膜を適宜の膜厚(例えば500〜300
0人)に形成する。そのCr膜面上に、前記組成をもつ
磁性膜(膜厚は例えば500〜2000人)を成膜する
。ついで磁性膜の摩耗・損傷を防止するための保護膜と
して、潤滑性と耐摩耗性を備えた被膜、例えば炭素質膜
(膜W:例えば150〜600人)を形成することによ
り、多層積層構造を有する面内記録用磁気ディスクを得
る。その積層構造は上記の例に限定されず、例えば、磁
性膜の上に、炭素質膜を成膜するに先立って、Cr膜(
膜厚約100〜500人)を形成することにより、磁気
ディスクの耐候性をさらに高めることができ、また磁性
膜面に炭素質膜を形成したうえ、更にその表面に潤滑剤
(膜厚:例えば10〜100人)を設けて、磁気ヘラ1
′に対する保護潤滑機能をより良好なものとすることも
できる。なお、各層の成膜は、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法、真空蒸着法などにより行うことが
できる。
実施上ユ(CoNiCr系磁性膜)
〔1〕供試磁気デイスクの製作
アルミニウム合金基板(外径130mm、内径40mm
、厚さ1.9mm)の表面に、N1−P無電解めっき膜
(膜厚20μm)を形成し、表面にポリッシュとテキス
チャ処理を行ったのち、マグネトロンスパッタリング法
(但し、アルゴン雰囲気圧:o、7xio−2torr
)により、Cr膜(下地層)、CoNiCr系磁性膜
および潤滑膜としての炭素質膜(膜厚300人)とをこ
の順に積層成膜して供試磁気ディスクを得た。各供試磁
気ディスク同士の記録再生特性の正当な比較を行うため
に、各供試磁気ディスクの保磁力(Hc)、および残留
磁束密度(Br)と膜厚(δ)の積(Br・δ)が互い
に等しくなるように下地層および磁性膜の成膜を行った
。そのHcは12500eとし、Br・δは450G・
μとした。
、厚さ1.9mm)の表面に、N1−P無電解めっき膜
(膜厚20μm)を形成し、表面にポリッシュとテキス
チャ処理を行ったのち、マグネトロンスパッタリング法
(但し、アルゴン雰囲気圧:o、7xio−2torr
)により、Cr膜(下地層)、CoNiCr系磁性膜
および潤滑膜としての炭素質膜(膜厚300人)とをこ
の順に積層成膜して供試磁気ディスクを得た。各供試磁
気ディスク同士の記録再生特性の正当な比較を行うため
に、各供試磁気ディスクの保磁力(Hc)、および残留
磁束密度(Br)と膜厚(δ)の積(Br・δ)が互い
に等しくなるように下地層および磁性膜の成膜を行った
。そのHcは12500eとし、Br・δは450G・
μとした。
〔■〕記録再生特性試験
各供試磁気ディスクについて、フエライ1〜ヘッドを使
用し、記録線密度28KPCIで、信号の記録再生試験
を行った。ヘッド仕様は、ギャップ幅: 13.5μ、
ギャップ長さ: 0.79μ、インダクタンス:8μH
1フライングハイ1〜: 0.20μ、ローディング・
フォース: 9.5gf、コイル巻数:26であり、回
転速度は3600rpmとした。
用し、記録線密度28KPCIで、信号の記録再生試験
を行った。ヘッド仕様は、ギャップ幅: 13.5μ、
ギャップ長さ: 0.79μ、インダクタンス:8μH
1フライングハイ1〜: 0.20μ、ローディング・
フォース: 9.5gf、コイル巻数:26であり、回
転速度は3600rpmとした。
客供試磁気ディスクの試験結果を、その磁性膜の合金組
成と併せて第1表に示す。表中、No、 11〜15は
M元素とPを複合金有する発明例、No、 16.17
はM元素またはPの単独添加の比較例である。なお、「
S/N」は再生信号出力とメディアノイズ強さの比を、
rPM、はフェイズマージンをそれぞれ意味している。
成と併せて第1表に示す。表中、No、 11〜15は
M元素とPを複合金有する発明例、No、 16.17
はM元素またはPの単独添加の比較例である。なお、「
S/N」は再生信号出力とメディアノイズ強さの比を、
rPM、はフェイズマージンをそれぞれ意味している。
また、第1図はCoNiCr系磁性膜の保磁力(Hc)
を、その下地層(Cr膜)の膜厚との関係で示したグラ
フであり、図中(a)は第1表の供試磁気ディスクNo
、 11の磁性膜と同一組成(T a 、 P複合添加
)の磁性膜(COo、65Nio、 +sCr 0.
+2T a o、’o4P O,04) 、(t))は
No、 16の磁性膜と同一組成(Ta単独添加)の磁
性膜(COo、69Nio、+5Cro、+zTao、
o4) 、(C)はNo、 17の磁性膜と同一組成(
P単独添加)の磁性膜(COo、 bqN io、、5
c ro、l2P0.04)についての測定結果をそれ
ぞれ示している。
を、その下地層(Cr膜)の膜厚との関係で示したグラ
フであり、図中(a)は第1表の供試磁気ディスクNo
、 11の磁性膜と同一組成(T a 、 P複合添加
)の磁性膜(COo、65Nio、 +sCr 0.
+2T a o、’o4P O,04) 、(t))は
No、 16の磁性膜と同一組成(Ta単独添加)の磁
性膜(COo、69Nio、+5Cro、+zTao、
o4) 、(C)はNo、 17の磁性膜と同一組成(
P単独添加)の磁性膜(COo、 bqN io、、5
c ro、l2P0.04)についての測定結果をそれ
ぞれ示している。
又施撚2 (CoCr系磁性膜)
磁性膜合金をCoCr系とした点を除いて実施例1と同
じ工程と条件で供試磁気ディスクを得、それぞれについ
て前記と同じ記録再生特性試験を行った。各供試磁気デ
ィスクの磁性膜合金組成および試験結果を第2表に示す
。No、21〜25はM元素とPを複合金有する発明例
、No、26.27はM元素またはPの単独添加の例で
ある。
じ工程と条件で供試磁気ディスクを得、それぞれについ
て前記と同じ記録再生特性試験を行った。各供試磁気デ
ィスクの磁性膜合金組成および試験結果を第2表に示す
。No、21〜25はM元素とPを複合金有する発明例
、No、26.27はM元素またはPの単独添加の例で
ある。
れたノイズ特性を有していることがわかる。
上記各実施例の試験結果から、CoCr系またはCoN
iCr系合金にM元素とPとが複合添加された磁性膜を
有する発明例の磁気ディスクは、変調ノイズ、S/N比
、ピークシフト等の改良さ0 特開平 3 12814(4) 〔発明の効果〕 本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は、従来材より保磁力
が高く、ノイズ特性にすくれ、記録再生ノイズが低いこ
とにより従来品を凌く高密度記録が可能であり、これに
より磁気記録媒体のコンパクト化と高品質・高性能化等
の効果を得ることができる。
iCr系合金にM元素とPとが複合添加された磁性膜を
有する発明例の磁気ディスクは、変調ノイズ、S/N比
、ピークシフト等の改良さ0 特開平 3 12814(4) 〔発明の効果〕 本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は、従来材より保磁力
が高く、ノイズ特性にすくれ、記録再生ノイズが低いこ
とにより従来品を凌く高密度記録が可能であり、これに
より磁気記録媒体のコンパクト化と高品質・高性能化等
の効果を得ることができる。
第1図は、磁性膜の保磁力(Hc)を、その下地層の膜
厚との関係で示したグラフである。
厚との関係で示したグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非磁性基体上に金属系磁性膜が形成された磁気記録
媒体において、該金属系磁性膜が、Co_1_−_V_
−_X_−_Y_−_ZNi_VCr_XM_YP_Z
〔但し、Mは、Ta、Nb、Vから選ばれる1種ないし
2種以上の元素を表す。v、x、y、zは原子組成比で
あり、vは0.05〜0.25、xは0.07〜0.1
6、yは0.01〜0.04、zは0.01〜0.05
である〕で示される組成を有することを特徴とするノイ
ズ特性にすぐれた金属薄膜型磁気記録媒体。 2、非磁性基体上に金属系磁性膜が形成された磁気記録
媒体において、該金属系磁性膜が、Co_1_−_X_
−_Y_−_ZCr_XM_YP_Z〔但し、Mは、T
a、Nb、Vから選ばれる1種ないし2種以上の元素を
表す。x、y、zは原子組成比であり、xは0.07〜
0.16、yは0.01〜0.04、zは0.01〜0
.05である〕 で示される組成を有することを特徴とするノイズ特性に
すぐれた金属薄膜型磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1147638A JP2527617B2 (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1147638A JP2527617B2 (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0312814A true JPH0312814A (ja) | 1991-01-21 |
JP2527617B2 JP2527617B2 (ja) | 1996-08-28 |
Family
ID=15434863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1147638A Expired - Lifetime JP2527617B2 (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2527617B2 (ja) |
-
1989
- 1989-06-09 JP JP1147638A patent/JP2527617B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2527617B2 (ja) | 1996-08-28 |
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