JPS6333286B2 - - Google Patents
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- JPS6333286B2 JPS6333286B2 JP54150961A JP15096179A JPS6333286B2 JP S6333286 B2 JPS6333286 B2 JP S6333286B2 JP 54150961 A JP54150961 A JP 54150961A JP 15096179 A JP15096179 A JP 15096179A JP S6333286 B2 JPS6333286 B2 JP S6333286B2
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 73
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020598 Co Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002519 Co-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は磁気記録媒体に関し、更に詳しくは、
金属薄膜形の磁気記録媒体、例えば磁気テープ、
磁気ドラム、磁気デイスク、磁気シート等の、特
に機械的強度と耐食性との改良に関する。 現在実用化されている磁気記録媒体の大勢は、
塗布形のものが主である。この塗布形の磁気記録
媒体は、針状γ−Fe2O3、Coドープ型γ−
Fe2O3、あるいはFe3O4等の粉体、そして最近で
はFe、Fe−Co等の合金粉を、有機物質の結合剤
中に混合分散して、有機物フイルム等の基材上に
塗布・乾燥してなるものである。 しかし、近年、磁気記録媒体の高記録密度化の
要請に沿い、金属薄膜形の磁気記録媒体の開発研
究が盛んに行われている。この金属薄膜形の磁気
記録媒体は、真空蒸着、スパツタ、マグネトロン
高速スパツタ、イオンプレーテイング等の蒸着
や、電気メツキ、無電解メツキ等の鍍金により、
非磁性の基材上に、強磁性金属薄膜磁性層を形成
してなるものである。このような金属薄膜形の磁
気記録媒体は、その記録密度が向上するだけでな
く、残留磁気特性も大きく、しかも磁性層の厚み
が薄いため電磁変換特性における厚み損失も低減
する等の種々のすぐれた特性を兼ね具えており、
将来の磁気記録媒体の主流となると考えられてい
るものである。 しかしながら、現段階では残念ながら、この分
野での実用化研究の蓄積が未だ不十分であること
に起因して、このような金属薄膜形の磁気記録媒
体は、その機械的強度が十分でなく、このため、
磁気ヘツドと接触走行せしめて使用するに際し、
摩耗強度が十分大きくなく、耐摩耗性が不十分で
あり、その結果、寿命が短かく、又その長期使用
に従い、再生出力が大幅に減少し、実用に耐える
には至つていない。又、金属薄膜磁性層の耐食性
が低く、化学的に劣悪な雰囲気、例えばきわめて
高い高温高湿下等において長期間保存したような
場合、経時に従い、その特性、特に再生出力特性
が著しく劣化し、この意味でも実用上不十分であ
る。 本発明は、このような実状に鑑みなされたもの
であつて、その機械的強度と、耐食性とがきわめ
てすぐれた金属薄膜形の磁気記録媒体を提供する
ことを主たる目的とする。 本発明者は、このような目的につき鋭意研究を
行つた結果、金属薄膜磁性層に、Sbを添加含有
せしめたとき、このような目的が実現することを
見出し、本発明をなすに至つたものである。 すなわち本発明は、金属薄膜磁性層を有する磁
気記録媒体において、Coを含有する金属薄膜磁
性層に、Sbを含有せしめたことにある。 本発明において、Sbを含有せしめる金属薄膜
磁性層としては、磁気特性の点から、Coを含む
ものとされ、特に、Co、Co−Fe、Co−Ni、Co
−Ni−Feを主体に構成される場合により好まし
い結果を得る。なお、このような鉄族金属からな
る磁性層には、概ね10重量％以下の範囲で、Ｖ、
Si、Cu、Sn、Zn、Ｐ等が含まれていてもよい。
又、このような金属薄膜磁性層は、基材上に、公
知の場合と同様1μｍ以下程度の薄膜として形成
せしめればよい。 本発明において、このような組成からなる金属
薄膜磁性層中には、Sbが添加含有せしめられる。
Sbの添加量は、用いる磁気記録媒体の用途およ
び機能に応じ適宜変更可能であるが、一般に、
0.1〜10重量％が最適範囲である。通常の場合、
0.1重量％未満では耐摩耗性、耐食性の向上に実
効がなく、10重量％より大では、抗磁力の低下や
最大飽和磁化の低下を招くからである。 本発明の磁気記録媒体は、以上のようにSbを
含有する金属薄膜磁性層を基材上に有するもので
ある。この場合、基材としては、非磁性のものを
用いればよく、磁気テープ、磁気ドラム、磁気デ
イスク、磁気シート等の用いる用途に従い、公知
の種々の材料および形状からなるものを用いれば
よい。従つて、ポリエステル、ポリイミド等の有
機分子材料や、アルミニウム、亜鉛等の非磁性金
属材料等のフイルム、ドラム、シート等はいずれ
も使用可能である。 このような本発明の磁気記録媒体は、通常以下
のようにして製造される。先ず、Coを含有する
所定の金属薄膜磁性層用の強磁性合金に、Sbを
含有せしめ、磁性層用合金母材料を作成する。次
いで、所定の基材を用意し、この磁性層用合金母
材料を用い、公知のRFスパツタ、DCスパツタ、
マグネトロン高速スパツタ、イオンプレーテイン
グ、平行蒸着、斜め蒸着法等により、磁性層薄膜
を基材上に形成すればよい。 本発明によれば、金属薄膜磁性層がCoおよび
Sbを含有するので、磁気記録媒体として最とも
重要であると考えられる機械的強度、すなわち耐
摩耗強度が、従来のものと比べ、格段と向上し、
その耐摩耗性は1.5〜２倍程度向上するものであ
り、又その耐食性も格段と向上する。 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。 実施例 Co80wt％とNi20wt％とからなる組成の合金に
Sbを5wt％添加した試料母合金を調製し、蒸発用
母材とした。次いで、この蒸発用母材を用い、真
空蒸着法により、5μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に被膜形成を行つた。この場
合、ポリエチレンテレフタレートフイルムは連続
的に走行せしめ、蒸発源からの蒸気流のフイルム
入射角を75゜とし、いわゆる斜め蒸着を行つた。
一方、真空蒸着の条件としては、間接抵抗加熱方
式を用い、40mmφのアルミ製ルツボ内にタングス
テン巻線を施し、更にこの巻線の内側にアルミ製
容器を配し、巻線に5KWの交流電流を通じ、2.0
×10-6Torr台の真空度で蒸発を行つた。 このようにして、膜厚2200Åの金属薄膜を上記
フイルム上に形成して、本発明の磁気テープＡを
作成した。この磁気テープＡの磁性層金属薄膜の
組成を化学分析により定量したところ、重量比
で、Co77−Ni19−Sb4の組成を有することが確認
された。 これに対し、比較のため、試料母合金にSbを
添加含有せしめずに、上記と全く同様に斜め真空
蒸着を行い、重量比で、Co80−Ni20で構成され
る、2000Å厚の金属薄膜磁性層をポリエチレンテ
レフタレートフイルム上に有する磁気テープＢを
作成した。 このように作成した本発明および比較用の２種
の磁気テープＡ、Ｂにつき、それぞれの磁気特
性、すなわち抗磁力Hc、最大磁束密度Bm、お
よび残留磁束密度BrとBmの比Br／Bmを測定し
たところ、下記表１に示される結果を得た。
金属薄膜形の磁気記録媒体、例えば磁気テープ、
磁気ドラム、磁気デイスク、磁気シート等の、特
に機械的強度と耐食性との改良に関する。 現在実用化されている磁気記録媒体の大勢は、
塗布形のものが主である。この塗布形の磁気記録
媒体は、針状γ−Fe2O3、Coドープ型γ−
Fe2O3、あるいはFe3O4等の粉体、そして最近で
はFe、Fe−Co等の合金粉を、有機物質の結合剤
中に混合分散して、有機物フイルム等の基材上に
塗布・乾燥してなるものである。 しかし、近年、磁気記録媒体の高記録密度化の
要請に沿い、金属薄膜形の磁気記録媒体の開発研
究が盛んに行われている。この金属薄膜形の磁気
記録媒体は、真空蒸着、スパツタ、マグネトロン
高速スパツタ、イオンプレーテイング等の蒸着
や、電気メツキ、無電解メツキ等の鍍金により、
非磁性の基材上に、強磁性金属薄膜磁性層を形成
してなるものである。このような金属薄膜形の磁
気記録媒体は、その記録密度が向上するだけでな
く、残留磁気特性も大きく、しかも磁性層の厚み
が薄いため電磁変換特性における厚み損失も低減
する等の種々のすぐれた特性を兼ね具えており、
将来の磁気記録媒体の主流となると考えられてい
るものである。 しかしながら、現段階では残念ながら、この分
野での実用化研究の蓄積が未だ不十分であること
に起因して、このような金属薄膜形の磁気記録媒
体は、その機械的強度が十分でなく、このため、
磁気ヘツドと接触走行せしめて使用するに際し、
摩耗強度が十分大きくなく、耐摩耗性が不十分で
あり、その結果、寿命が短かく、又その長期使用
に従い、再生出力が大幅に減少し、実用に耐える
には至つていない。又、金属薄膜磁性層の耐食性
が低く、化学的に劣悪な雰囲気、例えばきわめて
高い高温高湿下等において長期間保存したような
場合、経時に従い、その特性、特に再生出力特性
が著しく劣化し、この意味でも実用上不十分であ
る。 本発明は、このような実状に鑑みなされたもの
であつて、その機械的強度と、耐食性とがきわめ
てすぐれた金属薄膜形の磁気記録媒体を提供する
ことを主たる目的とする。 本発明者は、このような目的につき鋭意研究を
行つた結果、金属薄膜磁性層に、Sbを添加含有
せしめたとき、このような目的が実現することを
見出し、本発明をなすに至つたものである。 すなわち本発明は、金属薄膜磁性層を有する磁
気記録媒体において、Coを含有する金属薄膜磁
性層に、Sbを含有せしめたことにある。 本発明において、Sbを含有せしめる金属薄膜
磁性層としては、磁気特性の点から、Coを含む
ものとされ、特に、Co、Co−Fe、Co−Ni、Co
−Ni−Feを主体に構成される場合により好まし
い結果を得る。なお、このような鉄族金属からな
る磁性層には、概ね10重量％以下の範囲で、Ｖ、
Si、Cu、Sn、Zn、Ｐ等が含まれていてもよい。
又、このような金属薄膜磁性層は、基材上に、公
知の場合と同様1μｍ以下程度の薄膜として形成
せしめればよい。 本発明において、このような組成からなる金属
薄膜磁性層中には、Sbが添加含有せしめられる。
Sbの添加量は、用いる磁気記録媒体の用途およ
び機能に応じ適宜変更可能であるが、一般に、
0.1〜10重量％が最適範囲である。通常の場合、
0.1重量％未満では耐摩耗性、耐食性の向上に実
効がなく、10重量％より大では、抗磁力の低下や
最大飽和磁化の低下を招くからである。 本発明の磁気記録媒体は、以上のようにSbを
含有する金属薄膜磁性層を基材上に有するもので
ある。この場合、基材としては、非磁性のものを
用いればよく、磁気テープ、磁気ドラム、磁気デ
イスク、磁気シート等の用いる用途に従い、公知
の種々の材料および形状からなるものを用いれば
よい。従つて、ポリエステル、ポリイミド等の有
機分子材料や、アルミニウム、亜鉛等の非磁性金
属材料等のフイルム、ドラム、シート等はいずれ
も使用可能である。 このような本発明の磁気記録媒体は、通常以下
のようにして製造される。先ず、Coを含有する
所定の金属薄膜磁性層用の強磁性合金に、Sbを
含有せしめ、磁性層用合金母材料を作成する。次
いで、所定の基材を用意し、この磁性層用合金母
材料を用い、公知のRFスパツタ、DCスパツタ、
マグネトロン高速スパツタ、イオンプレーテイン
グ、平行蒸着、斜め蒸着法等により、磁性層薄膜
を基材上に形成すればよい。 本発明によれば、金属薄膜磁性層がCoおよび
Sbを含有するので、磁気記録媒体として最とも
重要であると考えられる機械的強度、すなわち耐
摩耗強度が、従来のものと比べ、格段と向上し、
その耐摩耗性は1.5〜２倍程度向上するものであ
り、又その耐食性も格段と向上する。 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。 実施例 Co80wt％とNi20wt％とからなる組成の合金に
Sbを5wt％添加した試料母合金を調製し、蒸発用
母材とした。次いで、この蒸発用母材を用い、真
空蒸着法により、5μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に被膜形成を行つた。この場
合、ポリエチレンテレフタレートフイルムは連続
的に走行せしめ、蒸発源からの蒸気流のフイルム
入射角を75゜とし、いわゆる斜め蒸着を行つた。
一方、真空蒸着の条件としては、間接抵抗加熱方
式を用い、40mmφのアルミ製ルツボ内にタングス
テン巻線を施し、更にこの巻線の内側にアルミ製
容器を配し、巻線に5KWの交流電流を通じ、2.0
×10-6Torr台の真空度で蒸発を行つた。 このようにして、膜厚2200Åの金属薄膜を上記
フイルム上に形成して、本発明の磁気テープＡを
作成した。この磁気テープＡの磁性層金属薄膜の
組成を化学分析により定量したところ、重量比
で、Co77−Ni19−Sb4の組成を有することが確認
された。 これに対し、比較のため、試料母合金にSbを
添加含有せしめずに、上記と全く同様に斜め真空
蒸着を行い、重量比で、Co80−Ni20で構成され
る、2000Å厚の金属薄膜磁性層をポリエチレンテ
レフタレートフイルム上に有する磁気テープＢを
作成した。 このように作成した本発明および比較用の２種
の磁気テープＡ、Ｂにつき、それぞれの磁気特
性、すなわち抗磁力Hc、最大磁束密度Bm、お
よび残留磁束密度BrとBmの比Br／Bmを測定し
たところ、下記表１に示される結果を得た。
【表】
次いで、これら２種の磁気テープＡ、Ｂを用
い、摩耗強度試験と耐食性試験とを行つた。 この場合、摩耗強度試験は以下のように行つ
た。すなるち、記録再生ヘツドとしてフエライト
ヘツドを用い、磁気テープに20ｇの荷重をかけ、
4.7cm／secの走行速度でフエライトヘツドと接触
走行させ、記録周波数1KHz、試験温度60℃にて、
繰返し走行回数に対する再生出力変化率を測定し
た。結果を第１図に示す。第１図において、曲線
ａが本発明の磁気テープＡ、曲線ｂが比較用の
Sbを含まない磁性層を有する磁気テープＢにお
ける結果である。 他方、耐食性試験としては、本発明および比較
用の磁気テープＡ、Ｂを80℃、90％相対湿度の下
で放置し、放置経時後の再生出力変化率を上記と
同様に測定した。放置日数に対し、再生出力変化
率をプロツトしたものを第２図に示す。この場
合、曲線ａが前記同様本発明の磁気テープＡ、曲
線ｂが比較用のSbを含まない磁性層を有する磁
気テープＢにおける結果がある。 上記表１、ならびに第１図および第２図に示さ
れる結果から、Sbを磁性層中に含有する本発明
の磁気テープＡは、Sbを含有しない比較用の磁
気テープＢと比較して、その静磁気特性はほぼ同
等であるが、その耐摩耗強度が格段と向上し、し
かもその耐食性も格段と向上していることがわか
る。
い、摩耗強度試験と耐食性試験とを行つた。 この場合、摩耗強度試験は以下のように行つ
た。すなるち、記録再生ヘツドとしてフエライト
ヘツドを用い、磁気テープに20ｇの荷重をかけ、
4.7cm／secの走行速度でフエライトヘツドと接触
走行させ、記録周波数1KHz、試験温度60℃にて、
繰返し走行回数に対する再生出力変化率を測定し
た。結果を第１図に示す。第１図において、曲線
ａが本発明の磁気テープＡ、曲線ｂが比較用の
Sbを含まない磁性層を有する磁気テープＢにお
ける結果である。 他方、耐食性試験としては、本発明および比較
用の磁気テープＡ、Ｂを80℃、90％相対湿度の下
で放置し、放置経時後の再生出力変化率を上記と
同様に測定した。放置日数に対し、再生出力変化
率をプロツトしたものを第２図に示す。この場
合、曲線ａが前記同様本発明の磁気テープＡ、曲
線ｂが比較用のSbを含まない磁性層を有する磁
気テープＢにおける結果がある。 上記表１、ならびに第１図および第２図に示さ
れる結果から、Sbを磁性層中に含有する本発明
の磁気テープＡは、Sbを含有しない比較用の磁
気テープＢと比較して、その静磁気特性はほぼ同
等であるが、その耐摩耗強度が格段と向上し、し
かもその耐食性も格段と向上していることがわか
る。
第１図および第２図は本発明の効果を説明する
ための線図であり、第１図が実施例における走行
回数に対する再生出力変化率の変化、第２図が実
施例における放置日数に対する再生出力変化率の
変化を示すものであり、両図中、曲線ａが本発明
の磁気記録媒体、曲線ｂが磁性層にSbを含有し
ない比較用の磁気記録媒体における結果である。
ための線図であり、第１図が実施例における走行
回数に対する再生出力変化率の変化、第２図が実
施例における放置日数に対する再生出力変化率の
変化を示すものであり、両図中、曲線ａが本発明
の磁気記録媒体、曲線ｂが磁性層にSbを含有し
ない比較用の磁気記録媒体における結果である。
Claims (1)
- １ 金属薄膜磁性層を有する磁気記録媒体におい
て、上記金属薄膜磁性層がCoおよびSbを含有す
ることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15096179A JPS5673411A (en) | 1979-11-20 | 1979-11-20 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15096179A JPS5673411A (en) | 1979-11-20 | 1979-11-20 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5673411A JPS5673411A (en) | 1981-06-18 |
| JPS6333286B2 true JPS6333286B2 (ja) | 1988-07-05 |
Family
ID=15508210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15096179A Granted JPS5673411A (en) | 1979-11-20 | 1979-11-20 | Magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5673411A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58212116A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-09 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS58212118A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-09 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| KR870011582A (ko) * | 1986-05-27 | 1987-12-24 | 시노하라 아끼라 | 자기 기록 매체 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50145207A (ja) * | 1974-05-13 | 1975-11-21 |
-
1979
- 1979-11-20 JP JP15096179A patent/JPS5673411A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50145207A (ja) * | 1974-05-13 | 1975-11-21 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5673411A (en) | 1981-06-18 |
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