JPH02226515A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH02226515A JPH02226515A JP1045397A JP4539789A JPH02226515A JP H02226515 A JPH02226515 A JP H02226515A JP 1045397 A JP1045397 A JP 1045397A JP 4539789 A JP4539789 A JP 4539789A JP H02226515 A JPH02226515 A JP H02226515A
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- magnetic
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/672—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having different compositions in a plurality of magnetic layers, e.g. layer compositions having differing elemental components or differing proportions of elements
-
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録装置等に用いられる磁気ディスク等
の磁気記録媒体に係り、特に高記録密度に適し、かつ耐
食性に優れた磁気記録媒体に関する。
の磁気記録媒体に係り、特に高記録密度に適し、かつ耐
食性に優れた磁気記録媒体に関する。
従来、高記録密度用の磁気記録媒体として、スパッタリ
ング法、メツキ法、蒸着法等で形成した金属磁性薄膜を
用いた薄膜磁気記録媒体が提案されている。これらの薄
膜磁気記録媒体は、γ−Ｆｅ２０．とバインダーからな
るいわゆる塗布型磁気記録媒体に比較し、磁性膜の厚さ
を容易に薄くし得ること、磁性膜中の磁性含率を向上し
得ること等から優れた磁気的特性を示す。最近、さらに
高記録密度、高信頼性の要求が高まるにつれ、優れた磁
気特性を維持しつつ、高い耐食性を持つ磁気記録媒体が
提案され、例えば特開昭６３−２９３１７には、磁性膜
としてＣｏとＮｉの他にＺｒを、またはさら、にＴｉ、
Ｃｒ、Ｎｂ等を加えた材料を用いた磁気記録媒体が開示
されている。
ング法、メツキ法、蒸着法等で形成した金属磁性薄膜を
用いた薄膜磁気記録媒体が提案されている。これらの薄
膜磁気記録媒体は、γ−Ｆｅ２０．とバインダーからな
るいわゆる塗布型磁気記録媒体に比較し、磁性膜の厚さ
を容易に薄くし得ること、磁性膜中の磁性含率を向上し
得ること等から優れた磁気的特性を示す。最近、さらに
高記録密度、高信頼性の要求が高まるにつれ、優れた磁
気特性を維持しつつ、高い耐食性を持つ磁気記録媒体が
提案され、例えば特開昭６３−２９３１７には、磁性膜
としてＣｏとＮｉの他にＺｒを、またはさら、にＴｉ、
Ｃｒ、Ｎｂ等を加えた材料を用いた磁気記録媒体が開示
されている。
上記従来技術は、高保磁力化した磁気記録媒体で問題と
なる重ね書き特性（オーバーライド特性）について配慮
されておらず、高い記録密度の要求を満たすには至らな
いという問題があった。
なる重ね書き特性（オーバーライド特性）について配慮
されておらず、高い記録密度の要求を満たすには至らな
いという問題があった。
本発明の目的は、高記録密度で良好な重ね書き特性が得
られる磁気記録媒体を提供することにある。
られる磁気記録媒体を提供することにある。
上記目的は、（１）非磁性基板上にＣｏとＮｉを主成分
とする磁性層を有する磁気記録媒体において、上記磁性
層の膜厚方向の表面に近い程その組成のＮｉ含有量が高
いことを特徴とする磁気記録媒体、（２）上記磁性層の
表面に近い部分のＮｉ含有量は、２０〜５０原子％であ
ることを特徴とする上記１記載の磁気記録媒体、（３）
上記磁性層の表面に近い部分は、Ｃｏ及びＮｉ並びにＺ
ｒ、 Ｔｉ。
とする磁性層を有する磁気記録媒体において、上記磁性
層の膜厚方向の表面に近い程その組成のＮｉ含有量が高
いことを特徴とする磁気記録媒体、（２）上記磁性層の
表面に近い部分のＮｉ含有量は、２０〜５０原子％であ
ることを特徴とする上記１記載の磁気記録媒体、（３）
上記磁性層の表面に近い部分は、Ｃｏ及びＮｉ並びにＺ
ｒ、 Ｔｉ。
Ｐｔ、Ｒｕ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｐｄからな
る群から選ばれた少なくとも一種の他の元素からなる組
成であることを特徴とする上記１記載の磁気記録媒体に
よって達成される。
る群から選ばれた少なくとも一種の他の元素からなる組
成であることを特徴とする上記１記載の磁気記録媒体に
よって達成される。
本発明において、磁性層の表面層、すなわち磁気ヘッド
との対向面側は、記録密度を高める上で保磁力を高くす
る。それ故、この部分は、Ｎｉの含有量が２０〜５０ａ
ｔ％であることが好ましい。さらにこの表面層は、耐食
性に優れた組成とすることが好ましい。このような組成
としてＧｏ及びＮｉ並びにＺｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｔ
ａ、Ｒｈ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｐｄからなる群から選ばれ
た少なくとも一種の他の元素からなる組成がある。この
場合、Ｃ。
との対向面側は、記録密度を高める上で保磁力を高くす
る。それ故、この部分は、Ｎｉの含有量が２０〜５０ａ
ｔ％であることが好ましい。さらにこの表面層は、耐食
性に優れた組成とすることが好ましい。このような組成
としてＧｏ及びＮｉ並びにＺｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｔ
ａ、Ｒｈ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｐｄからなる群から選ばれ
た少なくとも一種の他の元素からなる組成がある。この
場合、Ｃ。
の量は３０〜６０ａｔ％の範囲であることが好ましく、
Ｎｉの量は２０〜５０ａｔ％の範囲であることが好まし
く、他の元素の量は０．１〜２０ａｔ％の範囲であるこ
とが好ましい。さらにＮｉと他の元素の合計の量は、飽
和磁化の点で４０〜７０ａｔ％の範囲であることが好ま
しい。
Ｎｉの量は２０〜５０ａｔ％の範囲であることが好まし
く、他の元素の量は０．１〜２０ａｔ％の範囲であるこ
とが好ましい。さらにＮｉと他の元素の合計の量は、飽
和磁化の点で４０〜７０ａｔ％の範囲であることが好ま
しい。
この表面層の厚みは５ｎｍ以上であることが好ましく、
Ｉｏｎｓ以上であることがより好ましい。
Ｉｏｎｓ以上であることがより好ましい。
磁性層の表面層より内側の下層部分は、ＣｏとＮ１を主
成分とする組成であればよく、ＣｏとＮｉのみからなる
組成でもよい。ＣｏとＮｉのみからなる組成であるとき
は、Ｃｏの量は３０〜８０ａｔ％の範囲であることが好
ましい。またＣｏとＮｉの他に。
成分とする組成であればよく、ＣｏとＮｉのみからなる
組成でもよい。ＣｏとＮｉのみからなる組成であるとき
は、Ｃｏの量は３０〜８０ａｔ％の範囲であることが好
ましい。またＣｏとＮｉの他に。
前記のＺｒ等の他の元素を含むものであってもよい。こ
の場合、各元素の量は前記の範囲であることが好ましい
。
の場合、各元素の量は前記の範囲であることが好ましい
。
下層部分は、一つの均一な組成の層でなくて、二層以上
の複数の層であってもよい。また上記表面層をも含めて
各層の境界が明確に分かれている必要はなく、磁性膜全
体として膜厚方向に組成が変化していてもよい。
の複数の層であってもよい。また上記表面層をも含めて
各層の境界が明確に分かれている必要はなく、磁性膜全
体として膜厚方向に組成が変化していてもよい。
磁性膜全体の膜厚は、ｌＯ〜１１００ｎの範囲が好まし
い。ｌＯｎｍ未満では磁気記録媒体としての効果が小さ
く、ｆｏｏｎｍを越えると高密度記録に適さなくなる。
い。ｌＯｎｍ未満では磁気記録媒体としての効果が小さ
く、ｆｏｏｎｍを越えると高密度記録に適さなくなる。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と磁性層との間に
Ｃｒ、Ｍｏ、ＷやＣｒ−Ｔｉ、 Ｃｒ−Ｃ，ｉ等のＣｒ
合金の中間層を設けることができる。この中間層につい
ては、例えば特開昭６３−２９３１７その他に記載され
ており、それらの中間層を本発明に用いることができる
。この中間層は厚さが１０〜７００ｎ論程度であること
が好ましい。
Ｃｒ、Ｍｏ、ＷやＣｒ−Ｔｉ、 Ｃｒ−Ｃ，ｉ等のＣｒ
合金の中間層を設けることができる。この中間層につい
ては、例えば特開昭６３−２９３１７その他に記載され
ており、それらの中間層を本発明に用いることができる
。この中間層は厚さが１０〜７００ｎ論程度であること
が好ましい。
一般に金属薄膜を磁性層とする磁気記録媒体は。
耐摺動信頼性の向上等の目的で、磁性層の表面にカーボ
ン等からなる非磁性保護膜を設ける。本発明の磁気記録
媒体においても、このような非磁性保護膜を設けること
が好ましい。非磁性保護膜は厚さが１０〜１１００ｎで
あることが好ましい。１１００ｎを超えるとスペーシン
グ損失が大きくなり、記録再生特性上好ましくない。
ン等からなる非磁性保護膜を設ける。本発明の磁気記録
媒体においても、このような非磁性保護膜を設けること
が好ましい。非磁性保護膜は厚さが１０〜１１００ｎで
あることが好ましい。１１００ｎを超えるとスペーシン
グ損失が大きくなり、記録再生特性上好ましくない。
さらにまた一般の磁気記録媒体は、６！ｉ性膜上又は上
記非磁性保護膜上にフッ素化ポリエーテル等の潤滑剤を
塗布して用いることが多い。本発明の磁気記録媒体もこ
のような潤滑剤を塗布して用いることができる。潤滑剤
の厚みは１〜３０ｎｍの範囲であることが好ましい。
記非磁性保護膜上にフッ素化ポリエーテル等の潤滑剤を
塗布して用いることが多い。本発明の磁気記録媒体もこ
のような潤滑剤を塗布して用いることができる。潤滑剤
の厚みは１〜３０ｎｍの範囲であることが好ましい。
磁気記録媒体において、記録密度を高める一つの方法と
しては磁性膜を高保磁力化することである。しかし、磁
気ヘッドの書込み能力（起磁力）不足から、高保磁力化
を図っても重ね書き特性が劣化する０通常、磁気ヘッド
の起磁力は、ギヤップ近傍で高く、遠ざかるに従い低下
することから。
しては磁性膜を高保磁力化することである。しかし、磁
気ヘッドの書込み能力（起磁力）不足から、高保磁力化
を図っても重ね書き特性が劣化する０通常、磁気ヘッド
の起磁力は、ギヤップ近傍で高く、遠ざかるに従い低下
することから。
磁気記録媒体の表面層は記録し易く、下層は記録し難く
なる。これが重ね書き特性劣化の原因であると考えられ
る。そのため、磁気記録媒体の膜厚方向に保磁力を制御
し、表面層は保磁力が高く。
なる。これが重ね書き特性劣化の原因であると考えられ
る。そのため、磁気記録媒体の膜厚方向に保磁力を制御
し、表面層は保磁力が高く。
下層は保磁力を低くすることにより、重ね書き特性を良
好ならしめることができる。
好ならしめることができる。
以下１本発明の一実施例を第１図を用いて説明する。
実施例 １
第１図は、本発明の磁気記録媒体の断面模式図である。
Ｎ１−ＰめっきＡＱ合金基板１１上に非磁性下地［１２
，１２′ が形成され、さらに下部磁性層１３．１３′
、中間磁性層１４．１４′、上部磁性／！１５．１５′
、非磁性保護層１６．１６′が形成されている。
，１２′ が形成され、さらに下部磁性層１３．１３′
、中間磁性層１４．１４′、上部磁性／！１５．１５′
、非磁性保護層１６．１６′が形成されている。
以下、この磁気記録媒体の製造方法を示す。中心線平均
面粗さが１０重ｍとなるように円周方向表面に凹凸を設
けた直径１３０ａｅφのＮ１−ＰめっきＡＱ合金基板１
１上に、Ａｒガス圧１０ｍＴｏｒｒ、基板温度１００℃
、投入電力３ Ｗ／ａｄのＤＣマグネトロン法により、
非磁性下地層１２．１２′ として膜厚２５０ｎｍのＣ
ｒ層を形成し、同じガス圧、同じ基板温度で投入電力０
．５Ｗ／ａ１のＤＣマグネトロン法により、組成Ｃｏ□
、Ｎｉ２２Ｚｒ、 （数値は原子％、以下同じ）のター
ゲットを用いて下部磁性層１３．１３’ を、次にＣｏ
ｓ ７Ｎ １２ ？ Ｚ ｒａのターゲットを用いて中
間磁性層１４．１４’ を１次にＣｏ、、 Ｎｉ、、
Ｚｒ、のターゲットを用いて上部磁性層１５．１５′
をそれぞれ膜厚２０ｎｍで形成した。その後同じ条件の
ＤＣマグネトロン法でＣを膜厚３０ｎ＠で形成し非磁性
保護膜１６．１６′とし、磁気記録媒体とした。
面粗さが１０重ｍとなるように円周方向表面に凹凸を設
けた直径１３０ａｅφのＮ１−ＰめっきＡＱ合金基板１
１上に、Ａｒガス圧１０ｍＴｏｒｒ、基板温度１００℃
、投入電力３ Ｗ／ａｄのＤＣマグネトロン法により、
非磁性下地層１２．１２′ として膜厚２５０ｎｍのＣ
ｒ層を形成し、同じガス圧、同じ基板温度で投入電力０
．５Ｗ／ａ１のＤＣマグネトロン法により、組成Ｃｏ□
、Ｎｉ２２Ｚｒ、 （数値は原子％、以下同じ）のター
ゲットを用いて下部磁性層１３．１３’ を、次にＣｏ
ｓ ７Ｎ １２ ？ Ｚ ｒａのターゲットを用いて中
間磁性層１４．１４’ を１次にＣｏ、、 Ｎｉ、、
Ｚｒ、のターゲットを用いて上部磁性層１５．１５′
をそれぞれ膜厚２０ｎｍで形成した。その後同じ条件の
ＤＣマグネトロン法でＣを膜厚３０ｎ＠で形成し非磁性
保護膜１６．１６′とし、磁気記録媒体とした。
また、比較のため、同じ条件で、Ｃｏ７□Ｎｉ２□Ｚｒ
Ｇ、 Ｃｏ１７Ｎｉｚｔ Ｚｒｓ及びＣ０６９Ｎ ｉ３
５ Ｚ ｒｓのそれぞれのターゲットのみを用いてそれ
ぞれ６０重ｍの単層の磁性層を形成した３種の磁気記録
媒体を製造した。なお、非磁性下地層、非磁性保護膜は
前記と同様に形成した。
Ｇ、 Ｃｏ１７Ｎｉｚｔ Ｚｒｓ及びＣ０６９Ｎ ｉ３
５ Ｚ ｒｓのそれぞれのターゲットのみを用いてそれ
ぞれ６０重ｍの単層の磁性層を形成した３種の磁気記録
媒体を製造した。なお、非磁性下地層、非磁性保護膜は
前記と同様に形成した。
これらの磁気特性をメタルインギャップ型磁気ヘッド（
Ｍ Ｉ Ｇヘッド）で比較評価した結果を第２図に示す
、比較例の単層の磁性層の場合、磁性膜のＮｉ組成が増
すことにより保磁力が向上し、Ｓ／Ｎ比も向上するが１
重ね書き特性は劣イビしている。本実施例の場合、Ｓ／
Ｎ比がＮｉ組成約３３ａｔ％相当の磁性膜の特性を有し
、かつ重ね書き特性はＮｉ組成約２５ａｔ％相当の磁性
膜の特性が認められた。
Ｍ Ｉ Ｇヘッド）で比較評価した結果を第２図に示す
、比較例の単層の磁性層の場合、磁性膜のＮｉ組成が増
すことにより保磁力が向上し、Ｓ／Ｎ比も向上するが１
重ね書き特性は劣イビしている。本実施例の場合、Ｓ／
Ｎ比がＮｉ組成約３３ａｔ％相当の磁性膜の特性を有し
、かつ重ね書き特性はＮｉ組成約２５ａｔ％相当の磁性
膜の特性が認められた。
実施例 ２〜９
実施例１と同様にして種々の組成の磁性層を有する磁気
記録媒体を製造した。なお、ＤＣマグネトロンの条件は
、Ａｒガス圧１５ ｍ Ｔｏｒｒ、投入電力Ｉ Ｗ／ａ
Ｊ、基板温度１５０℃である。また非磁性下地層である
Ｃｒの膜厚は３００重ｍ、非磁性保護膜であるＣの膜厚
は３５ｎｓ＋とした。各磁性層の厚みは実施例１と同じ
＜ ２０重ｍである。各磁性層の組成を表１に、得られ
た磁気記録媒体の磁気特性を表２に示す。
記録媒体を製造した。なお、ＤＣマグネトロンの条件は
、Ａｒガス圧１５ ｍ Ｔｏｒｒ、投入電力Ｉ Ｗ／ａ
Ｊ、基板温度１５０℃である。また非磁性下地層である
Ｃｒの膜厚は３００重ｍ、非磁性保護膜であるＣの膜厚
は３５ｎｓ＋とした。各磁性層の厚みは実施例１と同じ
＜ ２０重ｍである。各磁性層の組成を表１に、得られ
た磁気記録媒体の磁気特性を表２に示す。
以下余白
ａ
上部磁性層
Ｃｏ６，Ｎｉ４．Ｚｒ５
Ｃｏ、、 Ｎｉ、、 Ｔａ５
Ｃｏ、５Ｎｉ４゜Ｔｉ。
ＣｏおＮｉ４．Ｈｆ。
Ｃｏ、５Ｎｉ４゜Ｎｂ。
Ｃｏ、、Ｎｉ、、Ｒｕ５
Ｃｏｓ、Ｎｉ、、）Ｒｈ５
Ｃｏ５５ Ｎ １３ ｓ Ｐ ｔｚ 。
歯
Ｈｅ（Ｏｓ）
表 １
中間磁性層
Ｃｏ、ｓＮｉ、、Ｚｒ。
Ｃｏ、、Ｎｉ３．Ｔａ。
Ｃｏ、、 Ｎｉ、、 Ｔｉ。
Ｃｏ５５Ｎｉ、、Ｈｆ５
ＣｏＧ、Ｎ’、。Ｎｂ５
Ｃｏ、ｓ Ｎｉ３． Ｒｕｇ
Ｃｏ、、Ｎ’、。Ｒｈ。
Ｃｏ、ｓＮｉ３．Ｐｔ□。
表 ２
８／Ｎ（ｄＢ）
下部磁性層
Ｃｏ、。Ｎｉ２． Ｃｒ、。
Ｃｏ７ｏ Ｎｉ２６ Ｃｒ、。
Ｃｏｖ。Ｎ’２゜Ｃｒ１゜
Ｃｏ、、 Ｎ ２． Ｃｒ１゜
Ｃｏ、、Ｎｉ２゜ＣｒＬ。
Ｃｏ７． Ｎ ’２． Ｃｒ、、。
Ｃｏ、ｏＮ’、。Ｃｒ、。
Ｃｏ、、 Ｎｉ２． Ｃｒ、。
０／Ｗ（ｄＢ）
実施例 ｌＯ〜１８
種々の組成の２層の磁性層を有する磁気記録媒体を、実
施例１と同様の方法で製造した。なお、ＤＣマグネトロ
ンの条件は、Ａｒガス７ｍＴｏｒｒ、投入電力２ Ｗ／
ｃｕｔ、基板温度２００℃である。各磁性層の厚みはそ
れぞれ３０ｎｍ、非磁性下地層であるＣｒの膜厚は４０
０ｎｍ、非磁性保護膜であるＣの膜厚は４０ｎｍとした
。各磁性層の組成を表３に、得られた磁気記録媒体の磁
気特性を表４に示す。
施例１と同様の方法で製造した。なお、ＤＣマグネトロ
ンの条件は、Ａｒガス７ｍＴｏｒｒ、投入電力２ Ｗ／
ｃｕｔ、基板温度２００℃である。各磁性層の厚みはそ
れぞれ３０ｎｍ、非磁性下地層であるＣｒの膜厚は４０
０ｎｍ、非磁性保護膜であるＣの膜厚は４０ｎｍとした
。各磁性層の組成を表３に、得られた磁気記録媒体の磁
気特性を表４に示す。
表 ３
Ｎａ 上部磁性層 下部磁性層Ｃｏ４ｓＮ
’ｓｏ ｚ ｒ。
’ｓｏ ｚ ｒ。
Ｃｏ、５Ｎ’、。Ｃｒ。
Ｃｏ、。Ｎ ’、。Ｚ ｒ、 Ｃｒｓ
Ｃｏｓｏ Ｎ’４． Ｔｉ、 Ｃｒ５
Ｃｏ５５Ｎ’、、 Ｚｒ。
Ｃｏｓａ Ｎ １４ｓＺ ｒ。
Ｃｏ５１．Ｎｊ４５ＺｒＳ
Ｃｏ、。Ｎ ’、。Ｚ ｒ、 Ｐ ｔ。
Ｃｏ、。Ｎｉ、、Ｚｒ５Ｃｒ。
Ｃｏ、ｏＮ 、。Ｃｒ１゜
Ｃｏ’ｌｌＩ Ｎ ’ａｏ Ｃｒ、。
Ｃｏ□Ｉ、Ｎｉ、。Ｃｒ、。
Ｃｏｖ。Ｎ’、ｏＣｒ、。
Ｃｏ７．Ｎ’、。
ＣｏいＮｏ、。Ｐｔ。
Ｃｏ７．Ｎ’、、Ｃｒｉ。
Ｃｏ、、Ｎ’、ｆｌＣｒ２゜
Ｃｏ７．Ｎｉ、、Ｃｒ、。
以下余白
Ｉ１
表 ４
Ｈｅ（Ｏｅ） Ｓ／Ｎ（ｄＢ）
０／Ｗ（ｄＢ）
なお、Ｖ、Ｐｄ等の元素を用いたときも、はぼ同様の効
果が得られた。
果が得られた。
本発明によれば、磁気記録媒体の磁性膜の膜厚方向に保
磁力を制御することにより、表層の保磁力を高くでき、
高Ｓ／Ｎ比であると共に、良好な重ね書き特性を有する
磁気記録媒体を得ることができた。
磁力を制御することにより、表層の保磁力を高くでき、
高Ｓ／Ｎ比であると共に、良好な重ね書き特性を有する
磁気記録媒体を得ることができた。
第１図は、本発明の磁気記録媒体の断面模式図、第２図
は、本発明を説明するための磁気記録媒体の磁気特性を
示す図である。 １１・・・Ｎ１−ＰめっきＡｆ１合金基板１２．１２′
・・・非磁性下地層
は、本発明を説明するための磁気記録媒体の磁気特性を
示す図である。 １１・・・Ｎ１−ＰめっきＡｆ１合金基板１２．１２′
・・・非磁性下地層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上にＣｏとＮｉを主成分とする磁性層を
有する磁気記録媒体において、上記磁性層の膜厚方向の
表面に近い程その組成のＮｉ含有量が高いことを特徴と
する磁気記録媒体。 ２、上記磁性層の表面に近い部分のＮｉ含有量は、２０
〜５０原子％であることを特徴とする請求項１記載の磁
気記録媒体。 ３、上記磁性層の表面に近い部分は、Ｃｏ及びＮｉ並び
にＺｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｔａ、Ｒｈ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃ
ｒ、Ｐｄからなる群から選ばれた少なくとも一種の他の
元素からなる組成であることを特徴とする請求項１記載
の磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1045397A JPH02226515A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 磁気記録媒体 |
| US07/484,526 US5158833A (en) | 1989-02-28 | 1990-02-26 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1045397A JPH02226515A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02226515A true JPH02226515A (ja) | 1990-09-10 |
Family
ID=12718126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1045397A Pending JPH02226515A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5158833A (ja) |
| JP (1) | JPH02226515A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5552236A (en) * | 1992-03-16 | 1996-09-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Organic magnetic film and method of manufacturing the same |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6292229A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-04-27 | Waseda Univ | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6313118A (ja) * | 1986-03-28 | 1988-01-20 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63201912A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-22 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5819474A (ja) * | 1981-07-27 | 1983-02-04 | Victor Co Of Japan Ltd | 機能性メツキ膜の製法 |
| JPS59119532A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| US4889767A (en) * | 1986-04-23 | 1989-12-26 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| DE3850824T2 (de) * | 1987-08-06 | 1995-01-19 | Sumitomo Metal Mining Co | Magnetplatte für waagerechte Aufnahme. |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP1045397A patent/JPH02226515A/ja active Pending
-
1990
- 1990-02-26 US US07/484,526 patent/US5158833A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6292229A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-04-27 | Waseda Univ | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6313118A (ja) * | 1986-03-28 | 1988-01-20 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63201912A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-22 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5158833A (en) | 1992-10-27 |
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