JPS5819474A - 機能性メツキ膜の製法 - Google Patents
機能性メツキ膜の製法Info
- Publication number
- JPS5819474A JPS5819474A JP56116474A JP11647481A JPS5819474A JP S5819474 A JPS5819474 A JP S5819474A JP 56116474 A JP56116474 A JP 56116474A JP 11647481 A JP11647481 A JP 11647481A JP S5819474 A JPS5819474 A JP S5819474A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- plated
- thickness
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 41
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 22
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 241000016649 Copaifera officinalis Species 0.000 description 1
- 239000004859 Copal Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/672—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having different compositions in a plurality of magnetic layers, e.g. layer compositions having differing elemental components or differing proportions of elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8416—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers coating a support with a magnetic layer by precipitation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
- Y10S428/9265—Special properties
- Y10S428/928—Magnetic property
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12556—Organic component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12556—Organic component
- Y10T428/12569—Synthetic resin
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12931—Co-, Fe-, or Ni-base components, alternative to each other
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は機能性メッキ膜の製法に係り、ペース上に形成
するメッキ層を、第１段階では蒸着法を用い、第２段階
で湿式法を用いて形成することにより、メッキ層の一輪
磁気異方性定数を大きくでき、しかもメッキ膜の形成が
極めて簡単で低】ストなものとなる機能性メッキ膜の製
法を提供することを目的とする。
するメッキ層を、第１段階では蒸着法を用い、第２段階
で湿式法を用いて形成することにより、メッキ層の一輪
磁気異方性定数を大きくでき、しかもメッキ膜の形成が
極めて簡単で低】ストなものとなる機能性メッキ膜の製
法を提供することを目的とする。
例えば、コパル）等の磁性材料を用い九薄ａｍ磁性体に
おいて、コパルＦ薄膜層の形成手段としては、電気メツ
キ法又は無電解メッキ法等の湿式法と、蒸着法、スパッ
タリング法又はイオンプレーテインダ法等の乾式法とが
あり、それぞれ次のような特徴がある。例えば、湿式法
においては。
おいて、コパルＦ薄膜層の形成手段としては、電気メツ
キ法又は無電解メッキ法等の湿式法と、蒸着法、スパッ
タリング法又はイオンプレーテインダ法等の乾式法とが
あり、それぞれ次のような特徴がある。例えば、湿式法
においては。
薄膜磁性層の磁気特性の再現性が良好であり、又薄膜型
磁性体の保磁力（−）は約１５０００・位のものも得ら
れ、かつＨ＠分布も良好であり、すなわ−ち磁化曲線に
おいてＨｅ近傍でのｍｓが残留磁化量と交わる点の磁場
をＨとすると １−Ｂ＊が比’ Ｈｅ 較的大きいといった特長があり、従って湿式法によって
薄膜磁性層の形成された薄膜型磁性体は記録再生媒体に
用いると感度が良好なものとなり。
磁性体の保磁力（−）は約１５０００・位のものも得ら
れ、かつＨ＠分布も良好であり、すなわ−ち磁化曲線に
おいてＨｅ近傍でのｍｓが残留磁化量と交わる点の磁場
をＨとすると １−Ｂ＊が比’ Ｈｅ 較的大きいといった特長があり、従って湿式法によって
薄膜磁性層の形成された薄膜型磁性体は記録再生媒体に
用いると感度が良好なものとなり。
さらには湿式法は、例えば蒸着法等による場合と興なり
、薄膜磁性層の形成に際して磁性材料の無駄がなく、さ
らには薄膜磁性層がある程度の厚みを有する薄膜型磁性
体を簡単に作れるといった利点があるものの、湿式法に
よって形成した薄膜型磁性体は、薄膜磁性層が＃面内に
おいて等方性のものであるので角型比（Ｒｓ ）、は小
さいといった欠点を有している。これに対して、乾式法
、特に斜蒸着法によって形成された薄ｊＩＩ７Ｉ磁性体
は、−軸磁気員方性を付与できるのでＲｓは比較的大き
いものとなり、又Ｈｅを８００００・程度まで大きくで
きるといった利点があるものの、蒸着法は、ベース上に
蒸着する例えばコバルトの蒸着量が蒸発源の量に対して
少なく、従って蒸発物質に無駄の多いものとなり、生産
フストが高いものにつき、さらにはＨｅ分布が大きいの
で８ が悪く、従って蒸着法によって作られ九薄膜型磁
性体を記録再生媒体に用いると感度は悪く、又充分な出
力を得る為に蒸着薄膜磁性層の厚さを大きくすると磁気
特性が低下し、特にＲｓが悪くなるといつぇ欠点がある
。又、このような単なる斜蒸着法の欠点をある程度解決
、すなわち生産性の向上を図るものとして、例えばロー
ラーに巻き付けたベースフィルム上にまず高入射角度で
斜蒸着を行ない、その後ローラーの回転により低入射角
度で斜蒸着を行なうといった方法が提案されているが、
この方法によっても生産性はそれ程向上するものでもな
く、又低角変成分がはいるので一軸磁気異方性定数（Ｋ
ｕ ）は小さくなり、磁化容易軸が膜面と角度をもち、
かつ８＊が悪くなり、さらには低角度成分の増大による
Ｈ＠低下を少なくしようとして、例えば微量の酸素ガス
中で蒸着を行なうと飽和磁化量が減少してしまうといっ
た欠点がある。
、薄膜磁性層の形成に際して磁性材料の無駄がなく、さ
らには薄膜磁性層がある程度の厚みを有する薄膜型磁性
体を簡単に作れるといった利点があるものの、湿式法に
よって形成した薄膜型磁性体は、薄膜磁性層が＃面内に
おいて等方性のものであるので角型比（Ｒｓ ）、は小
さいといった欠点を有している。これに対して、乾式法
、特に斜蒸着法によって形成された薄ｊＩＩ７Ｉ磁性体
は、−軸磁気員方性を付与できるのでＲｓは比較的大き
いものとなり、又Ｈｅを８００００・程度まで大きくで
きるといった利点があるものの、蒸着法は、ベース上に
蒸着する例えばコバルトの蒸着量が蒸発源の量に対して
少なく、従って蒸発物質に無駄の多いものとなり、生産
フストが高いものにつき、さらにはＨｅ分布が大きいの
で８ が悪く、従って蒸着法によって作られ九薄膜型磁
性体を記録再生媒体に用いると感度は悪く、又充分な出
力を得る為に蒸着薄膜磁性層の厚さを大きくすると磁気
特性が低下し、特にＲｓが悪くなるといつぇ欠点がある
。又、このような単なる斜蒸着法の欠点をある程度解決
、すなわち生産性の向上を図るものとして、例えばロー
ラーに巻き付けたベースフィルム上にまず高入射角度で
斜蒸着を行ない、その後ローラーの回転により低入射角
度で斜蒸着を行なうといった方法が提案されているが、
この方法によっても生産性はそれ程向上するものでもな
く、又低角変成分がはいるので一軸磁気異方性定数（Ｋ
ｕ ）は小さくなり、磁化容易軸が膜面と角度をもち、
かつ８＊が悪くなり、さらには低角度成分の増大による
Ｈ＠低下を少なくしようとして、例えば微量の酸素ガス
中で蒸着を行なうと飽和磁化量が減少してしまうといっ
た欠点がある。
本発明は上記欠点を除去したものであり、以下その実施
例について説明する。
例について説明する。
例えば、ポリエステル、ポリイミド等の有機高分子膜、
又はガラスあるいはＮ１−Ｐ合金又はＮ１−Ｗ−Ｐ合金
等をメッキしたアルミニウム等の基板上に、まずコバル
ト又はコバルト合金の蒸着展層を蒸着法特に斜蒸着法に
よって形成する。この蒸着に際しては蒸着膜厚に特別の
条件はないが、約６Ａ厚位の厚みがないと、すなわち斜
蒸着膜厚が薄すぎると、斜蒸着膜が結晶構造をとること
ができず、膜厚すぎる場合には生産性の低下といつ九問
題が生じるので、蒸着膜厚は約５〜６０００人といった
範囲のものが望ましい。尚、このような所定の厚みに形
成された斜蒸着膜は入射方向と平行に磁化容易軸が発生
するので、本発明を実施したものを例えば磁気記録媒体
として用いる場合には磁気記録する方向と同一方向に蒸
着の入射方向を設定して行なうことが望ましい。
又はガラスあるいはＮ１−Ｐ合金又はＮ１−Ｗ−Ｐ合金
等をメッキしたアルミニウム等の基板上に、まずコバル
ト又はコバルト合金の蒸着展層を蒸着法特に斜蒸着法に
よって形成する。この蒸着に際しては蒸着膜厚に特別の
条件はないが、約６Ａ厚位の厚みがないと、すなわち斜
蒸着膜厚が薄すぎると、斜蒸着膜が結晶構造をとること
ができず、膜厚すぎる場合には生産性の低下といつ九問
題が生じるので、蒸着膜厚は約５〜６０００人といった
範囲のものが望ましい。尚、このような所定の厚みに形
成された斜蒸着膜は入射方向と平行に磁化容易軸が発生
するので、本発明を実施したものを例えば磁気記録媒体
として用いる場合には磁気記録する方向と同一方向に蒸
着の入射方向を設定して行なうことが望ましい。
次に、所定厚の蒸着膜が形成された後、通常の湿式メッ
キ法によってコバルト又はコバルト合金層を蒸着膜上に
所定厚形成する。尚、本発明の実施によって得たものを
磁気記録媒体として用いる場合には、このメッキ磁性展
層が記録再生に必要な磁気特性、例えばＨａ及び残留磁
束が所望のものとなるように例えば約５００Ｘ以上ある
ことが望ましい。
キ法によってコバルト又はコバルト合金層を蒸着膜上に
所定厚形成する。尚、本発明の実施によって得たものを
磁気記録媒体として用いる場合には、このメッキ磁性展
層が記録再生に必要な磁気特性、例えばＨａ及び残留磁
束が所望のものとなるように例えば約５００Ｘ以上ある
ことが望ましい。
本発明についてさらに具体的に説明すると、例えば約０
．２膜厚の銅板も通常の研磨機によって表面研磨した後
、前処理として電解洗浄、及び酸中和処理を行ない、さ
らに無電解ニッケルメツ中を行ない、銅板表面に約α２
〜α６μｍ厚のニッケルメッキ膜を形成して、基板を構
成する０ 次に、この基板を、真空蒸着装置内に置き、真空度約１
０ ”” 〜ｊ Ｏ−’ｔｏｒｒ 、入射角度約０〜８
０°の条件で蒸着を行ない、基板上にコバルトを電子ビ
ーム加熱により蒸着して、約１００ＯＡ厚以下の蒸着膜
を形成する。
．２膜厚の銅板も通常の研磨機によって表面研磨した後
、前処理として電解洗浄、及び酸中和処理を行ない、さ
らに無電解ニッケルメツ中を行ない、銅板表面に約α２
〜α６μｍ厚のニッケルメッキ膜を形成して、基板を構
成する０ 次に、この基板を、真空蒸着装置内に置き、真空度約１
０ ”” 〜ｊ Ｏ−’ｔｏｒｒ 、入射角度約０〜８
０°の条件で蒸着を行ない、基板上にコバルトを電子ビ
ーム加熱により蒸着して、約１００ＯＡ厚以下の蒸着膜
を形成する。
蒸着膜の形成後、基板を蒸着装置より取り出し、蒸着膜
の形成された基板を、例えばＮ１−Ｃ・−Ｐの電気メッ
キ浴、又はＣ＠−Ｐの電気メッキ浴、あるいはＣ（１−
Ｐの無電解メッキ洛中に浸漬し、通常の湿式メッキ法に
より蒸着膜上に所定厚の湿式メッキ膜層を形成する。
の形成された基板を、例えばＮ１−Ｃ・−Ｐの電気メッ
キ浴、又はＣ＠−Ｐの電気メッキ浴、あるいはＣ（１−
Ｐの無電解メッキ洛中に浸漬し、通常の湿式メッキ法に
より蒸着膜上に所定厚の湿式メッキ膜層を形成する。
次に、比較例１として、表面研磨した圧延銅板を通常の
電解洗浄及び酸中和処理した後、無電解ニッケルメッキ
を行ないそして充分な水洗いをした後、Ｎ１−Ｃ・−Ｐ
の電気メッキ浴性浸漬し、約α１２μｍ厚のメッキ膜を
形成した薄膜型磁性体、又比較例２として、表面研磨し
た圧延鋼板を通常の電解゛洗浄及び酸中和処理し大径、
無電解ニッケルメッキを行ない、そして充分に水洗いし
た後、Ｃｏ−Ｐの電気メツキ洛中に浸漬し、約αγ２μ
ｍ厚のメッキ膜を形成した薄膜型磁性体、比較例８とし
て、表面研磨した圧延銅板を通常の電解洗浄及び酸中和
処理した後、無電解ニッケルメッキを行ないそして充分
な水洗いをした後、無電解Ｃ・−Ｐメツキ浴中に浸漬し
、約α６１声臘厚のメッキ族を形成した薄膜型磁性体、
及び比較例４として、表面研磨した圧延銅板を通常の電
解洗浄及び酸中和感理した後、無電解ニッケルメッキを
行なった基板を真空蒸着装置内に置き、真空度１〜１０
Ｘ １０−“ｔｏｒｒ 、入射角度７０ の条件で電
子ビーム加熱によリフパルトを蒸発させ、約α６１声臘
厚の斜蒸着膜を形成した薄膜型磁性体を形成する。
電解洗浄及び酸中和処理した後、無電解ニッケルメッキ
を行ないそして充分な水洗いをした後、Ｎ１−Ｃ・−Ｐ
の電気メッキ浴性浸漬し、約α１２μｍ厚のメッキ膜を
形成した薄膜型磁性体、又比較例２として、表面研磨し
た圧延鋼板を通常の電解゛洗浄及び酸中和処理し大径、
無電解ニッケルメッキを行ない、そして充分に水洗いし
た後、Ｃｏ−Ｐの電気メツキ洛中に浸漬し、約αγ２μ
ｍ厚のメッキ膜を形成した薄膜型磁性体、比較例８とし
て、表面研磨した圧延銅板を通常の電解洗浄及び酸中和
処理した後、無電解ニッケルメッキを行ないそして充分
な水洗いをした後、無電解Ｃ・−Ｐメツキ浴中に浸漬し
、約α６１声臘厚のメッキ族を形成した薄膜型磁性体、
及び比較例４として、表面研磨した圧延銅板を通常の電
解洗浄及び酸中和感理した後、無電解ニッケルメッキを
行なった基板を真空蒸着装置内に置き、真空度１〜１０
Ｘ １０−“ｔｏｒｒ 、入射角度７０ の条件で電
子ビーム加熱によリフパルトを蒸発させ、約α６１声臘
厚の斜蒸着膜を形成した薄膜型磁性体を形成する。
上記実施例及び比較例１．２，１．４で得た薄膜型磁性
体の特性について、その磁気特性を求めると表に示す通
りである。
体の特性について、その磁気特性を求めると表に示す通
りである。
これらの結果より明らかなように、まず蒸着法特に斜蒸
着法により、次いで湿式法によって薄膜磁性層を積重形
成した薄膜磁性体は、Ｈ＠、残留磁束密度（Ｂｒ）、Ｈ
＠の大きなものとなり、その磁気特性は優れたものであ
り、又薄膜磁性層が斜蒸着法による蒸着原子の入射方向
と同方向に磁化容易軸を持ち、そして本発明を実施した
ものを記録媒体として用いる場合には磁化容易軸が記録
方向と平行となるようにしておくと、面記録密度の向上
に有利なものとなり、 ８７’Ｎは著しく向上し、高密
度記録に適しえものとなり、又Ｋｖｘは約１０’・ｒｇ
／ｅ＠といったように大きなものであり、さらにはＳ″
は従来のものに比べて著しく大きく、従って記録再生媒
体として用いると感度は優れたものとなる。尚、従来の
メッキ法による薄膜磁性層は、例えば膜厚がα２６ｐｗ
ａでＨｅは約６０００・、 Ｒｓは約α６６であり、膜
厚が増加すると例えば膜厚が２．６ＪＩＩＩ＆となると
Ｒｓは約α４６といったようにその磁気特性が低下する
のに対し、本発明による薄膜磁性層は、膜厚が約α８９
１１１１でＨｅは約γ５００・、Ｒｍは約α８９であり
、膜厚が増加しても、例えば膜厚が約Ｌ６βｍとなって
もＲｓは約αＢ８といったようにその磁気特性はそれ程
低下しない。又、本発明による薄膜磁性層は、湿式法に
よって形成される膜厚の変化によってはに１Ｋにそれ程
差がないものでもある。
着法により、次いで湿式法によって薄膜磁性層を積重形
成した薄膜磁性体は、Ｈ＠、残留磁束密度（Ｂｒ）、Ｈ
＠の大きなものとなり、その磁気特性は優れたものであ
り、又薄膜磁性層が斜蒸着法による蒸着原子の入射方向
と同方向に磁化容易軸を持ち、そして本発明を実施した
ものを記録媒体として用いる場合には磁化容易軸が記録
方向と平行となるようにしておくと、面記録密度の向上
に有利なものとなり、 ８７’Ｎは著しく向上し、高密
度記録に適しえものとなり、又Ｋｖｘは約１０’・ｒｇ
／ｅ＠といったように大きなものであり、さらにはＳ″
は従来のものに比べて著しく大きく、従って記録再生媒
体として用いると感度は優れたものとなる。尚、従来の
メッキ法による薄膜磁性層は、例えば膜厚がα２６ｐｗ
ａでＨｅは約６０００・、 Ｒｓは約α６６であり、膜
厚が増加すると例えば膜厚が２．６ＪＩＩＩ＆となると
Ｒｓは約α４６といったようにその磁気特性が低下する
のに対し、本発明による薄膜磁性層は、膜厚が約α８９
１１１１でＨｅは約γ５００・、Ｒｍは約α８９であり
、膜厚が増加しても、例えば膜厚が約Ｌ６βｍとなって
もＲｓは約αＢ８といったようにその磁気特性はそれ程
低下しない。又、本発明による薄膜磁性層は、湿式法に
よって形成される膜厚の変化によってはに１Ｋにそれ程
差がないものでもある。
上述の如く、本発明に係る機能性メッキ族の製法は、蒸
着法によって形成したコバルト又はその合金層上に、湿
式法によって】バルト又はその合金層を形成するので、
所望の膜厚のものがスピーディに形成でき、その作業性
はよく、かつ所望の膜厚のもののうち蒸着法によって形
成する部分は一部分にすぎないので蒸着に際して失なわ
れる蒸着原子の損失量はそれだけ少なく、又湿式法によ
って形成する部分では失なわれるフパルト量は蒸着法に
比べれば格段に少なく、従ってそれだけフバルＦ量等の
損失が少ないのでメッキ膜の形成に際して無駄の少ない
ものとなり、さらには第１段階で蒸着法によってコパル
シ等の層を形成しているのでメッキ膜はＫｖａの大きな
ものとなり、又蒸着法の後湿式法によってメッキ膜を形
成するのでＢｒ％Ｒｓ及びＳの大きなものとなる等の特
長を有する。
着法によって形成したコバルト又はその合金層上に、湿
式法によって】バルト又はその合金層を形成するので、
所望の膜厚のものがスピーディに形成でき、その作業性
はよく、かつ所望の膜厚のもののうち蒸着法によって形
成する部分は一部分にすぎないので蒸着に際して失なわ
れる蒸着原子の損失量はそれだけ少なく、又湿式法によ
って形成する部分では失なわれるフパルト量は蒸着法に
比べれば格段に少なく、従ってそれだけフバルＦ量等の
損失が少ないのでメッキ膜の形成に際して無駄の少ない
ものとなり、さらには第１段階で蒸着法によってコパル
シ等の層を形成しているのでメッキ膜はＫｖａの大きな
ものとなり、又蒸着法の後湿式法によってメッキ膜を形
成するのでＢｒ％Ｒｓ及びＳの大きなものとなる等の特
長を有する。
特許出願人 日本ビクター株式金社
、−礎・７゛。
〆 、
代理人宇高克−私、７１
手続補正書く自発）
昭和５６年σ月３日
特許庁長官殿
ｌ、事件の表示
特願昭５６−１１ ｆ３４ ’７４号
２、発明の名称
機能性メッキ膜の製法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
日本ビクター株式会社
４、代理人
発明の詳細な説明の欄
６、補正の内容
Claims (1)
- 蒸着法によって形成したツパルＦ又はその合金層上に、
湿式法によってコバルト又はその合金層を形成すること
を特徴とする機能性メッキ膜の製法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56116474A JPS5819474A (ja) | 1981-07-27 | 1981-07-27 | 機能性メツキ膜の製法 |
| US06/401,967 US4587178A (en) | 1981-07-27 | 1982-07-26 | Magnetic recording medium |
| DE3228044A DE3228044C2 (de) | 1981-07-27 | 1982-07-27 | Magnetisches Aufzeichnungsmaterial |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56116474A JPS5819474A (ja) | 1981-07-27 | 1981-07-27 | 機能性メツキ膜の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5819474A true JPS5819474A (ja) | 1983-02-04 |
Family
ID=14687991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56116474A Pending JPS5819474A (ja) | 1981-07-27 | 1981-07-27 | 機能性メツキ膜の製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4587178A (ja) |
| JP (1) | JPS5819474A (ja) |
| DE (1) | DE3228044C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62240772A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 耐食性部材の製造方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5930230A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-17 | Sony Corp | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS59177726A (ja) * | 1983-03-28 | 1984-10-08 | Toshiba Corp | 垂直磁気デイスク記録媒体 |
| JPS6021508A (ja) * | 1983-07-16 | 1985-02-02 | Alps Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| EP0140513A1 (en) * | 1983-08-24 | 1985-05-08 | International Business Machines Corporation | Thin film magnetic recording structures |
| JPS60261022A (ja) * | 1984-06-07 | 1985-12-24 | C Uyemura & Co Ltd | 磁気記録体の製造方法 |
| JPS6339131A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-19 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| KR920008222B1 (ko) * | 1987-05-12 | 1992-09-25 | 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 | 자기기록매체 및 그 제조방법 및 제조장치 |
| JPH02226515A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-10 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5132859A (en) * | 1990-08-23 | 1992-07-21 | International Business Machines Corporation | Thin film structures for magnetic recording heads |
| AU2003240813A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-23 | Seagate Technology Llc | Intermediate layer for perpendicular magnetic recording media |
| US10784045B2 (en) | 2015-09-15 | 2020-09-22 | International Business Machines Corporation | Laminated magnetic materials for on-chip magnetic inductors/transformers |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4926756A (ja) * | 1972-07-06 | 1974-03-09 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5891B2 (ja) * | 1977-09-30 | 1983-01-05 | 俊一 岩崎 | 磁気記録媒体 |
| JPS56134317A (en) * | 1980-03-25 | 1981-10-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
-
1981
- 1981-07-27 JP JP56116474A patent/JPS5819474A/ja active Pending
-
1982
- 1982-07-26 US US06/401,967 patent/US4587178A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-07-27 DE DE3228044A patent/DE3228044C2/de not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4926756A (ja) * | 1972-07-06 | 1974-03-09 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62240772A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 耐食性部材の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3228044C2 (de) | 1984-12-06 |
| US4587178A (en) | 1986-05-06 |
| DE3228044A1 (de) | 1983-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69012259T2 (de) | Magnetische Aufzeichnungsplatte mit einem dünnen Film aus einer Metallegierung. | |
| JPS5819474A (ja) | 機能性メツキ膜の製法 | |
| JPS60214417A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| DE2435887A1 (de) | Geraet zur herstellung von magnetischen aufzeichnungsmedien | |
| DE2435901A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines magnetaufzeichnungsmaterials | |
| US4150172A (en) | Method for producing a square loop magnetic media for very high density recording | |
| JPS6012690B2 (ja) | 磁気記録媒体の製法 | |
| US4002546A (en) | Method for producing a magnetic recording medium | |
| US4663193A (en) | Process for manufacturing magnetic recording medium | |
| US4645690A (en) | Method of manufacturing a magnetic media | |
| JPH0766034A (ja) | 軟磁性材料膜及びその製造方法 | |
| JPH0251463B2 (ja) | ||
| US3905776A (en) | Method of making a thin, ferro-magnetic memory layer and article made thereby | |
| JPS60138736A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS624774B2 (ja) | ||
| JP2650282B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| Hoshi et al. | Dependence of magnetic properties of Co‐Pt films on sputtering conditions | |
| JPS61246914A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0567323A (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0372611A (ja) | 無電解めっき軟磁性薄膜 | |
| JPS592232A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPS592231A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPH01102724A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| Zhihui et al. | Microstructure of electroless Co alloy films for perpendicular magnetic recording | |
| JPH0354723A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 |